JP2000000534A - Water cleaning treatment system - Google Patents
Water cleaning treatment systemInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は機械加工部品、食器
等の洗浄処理システムに関し、特に、水系の洗浄処理シ
ステムに係わる。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning system for machined parts, tableware and the like, and more particularly to a water-based cleaning system.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、IC基盤等の洗浄処理システムに
おいて、フロン洗浄の代替として超純水による洗浄が知
られている。2. Description of the Related Art Conventionally, in a cleaning processing system for an IC substrate or the like, cleaning with ultrapure water has been known as an alternative to chlorofluorocarbon cleaning.
【0003】また、例えば、切削等により得た機械加工
部品の洗浄、あるいは、食器等の洗浄においては、水道
水をそのまま使用しているのが一般的である。[0003] For example, in washing machined parts obtained by cutting or the like, or in washing dishes and the like, tap water is generally used as it is.
【0004】近年、特に、機械加工部品洗浄は、トリク
ロロエタン全廃に伴う代替洗浄において、水系洗浄では
ウォーターマーク(乾燥後に残る水滴の痕)が残るとい
う理由から石油系洗浄剤が使用され始めている。In recent years, petroleum-based cleaning agents have begun to be used, particularly in machine-machined parts cleaning, as an alternative cleaning accompanying the total elimination of trichloroethane, since water-based cleaning (a mark of water droplets remaining after drying) remains in water-based cleaning.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、石油系
洗浄剤の使用は毒性の問題のみならず、爆発、火災の危
険性を有している。However, the use of petroleum-based cleaning agents has not only toxicity problems but also explosion and fire risks.
【0006】本発明は上記点に鑑みなされたもので、水
系洗浄で有りながらウォーターマーク残りを著しく改善
した水系洗浄処理システムを提供する事にある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a water-based cleaning treatment system which is a water-based cleaning and has markedly improved the remaining watermark.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の目的は下記する
構成によって達成できる。The object of the present invention can be achieved by the following constitution.
【0008】(1)機械加工部品、食器等の洗浄対象物
を洗浄剤により洗浄する洗浄工程と、洗浄後の前記洗浄
対象物から前記洗浄剤を水で洗い流す洗浄剤除去工程
と、前記洗浄剤除去後の前記洗浄対象物を乾燥させる乾
燥工程とを有する水系洗浄処理システムにおいて、前記
洗浄工程および/または前記洗浄剤除去工程における排
水またはタンク水を蒸発濃縮蒸留装置で処理して蒸留水
とし、当該蒸留水を前記洗浄剤除去工程の洗浄水として
使用するように構成した事を特徴とする水系洗浄処理シ
ステム。(1) A washing step of washing an object to be washed such as a machined part or tableware with a washing agent, a washing agent removing step of washing the washing object with water from the washed object to be washed, and the washing agent A water-based cleaning treatment system having a drying step of drying the object to be cleaned after the removal, wherein wastewater or tank water in the cleaning step and / or the cleaning agent removing step is treated with an evaporative concentration distillation apparatus to form distilled water, A water-based cleaning treatment system, wherein the distilled water is used as cleaning water in the cleaning agent removing step.
【0009】(2)前記洗浄剤除去工程で使用する洗浄
水は全量が蒸留水である事を特徴とする前記(1)に記
載の水系洗浄処理システム。(2) The water-based cleaning treatment system according to (1), wherein the entire amount of the cleaning water used in the cleaning agent removing step is distilled water.
【0010】(3)前記洗浄工程は100℃以上の水蒸
気による洗浄工程を有しており、前記水蒸気は前記蒸留
水を加熱して発生させる構成を有する事を特徴とする前
記(1)に記載の水系洗浄処理システム。(3) The cleaning process according to (1), wherein the cleaning process includes a cleaning process using steam at 100 ° C. or higher, and the steam is generated by heating the distilled water. Water-based cleaning treatment system.
【0011】(4)前記蒸発濃縮蒸留装置は、圧縮機、
放熱手段、膨張弁またはキャピラリーチューブおよび吸
熱手段を順次に接続し、熱媒体を密閉したヒートポンプ
回路の前記放熱手段を洗浄濃縮水の加熱手段として使用
し、前記吸熱手段を、前記洗浄濃縮水から発生する蒸気
を冷却液化する冷却手段として使用し、前記加熱手段と
前記冷却手段とを連通状態とする連通容器と、前記連通
容器を減圧する減圧手段を設けた構成の減圧間接ヒート
ポンプ減圧方式の蒸発濃縮蒸留装置である事を特徴とす
る前記(1)に記載の水系洗浄処理システム。(4) The evaporative concentration distillation apparatus includes a compressor,
A heat radiating means, an expansion valve or a capillary tube and a heat absorbing means are sequentially connected, and the heat radiating means of a heat pump circuit in which a heat medium is sealed is used as a heating means for washing concentrated water, and the heat absorbing means is generated from the washing concentrated water. Evaporating and concentrating by a decompression indirect heat pump decompression method, comprising: a communication vessel that is used as a cooling means for cooling and liquefying the steam to be cooled, and is provided with a communication vessel that makes the heating means and the cooling means communicate with each other, and a pressure reducing means that decompresses the communication vessel. The water-based cleaning treatment system according to the above (1), which is a distillation device.
【0012】(5)前記放熱手段を前記洗浄工程および
/または洗浄剤除去工程における水の加温に使用するよ
うに構成した事を特徴とする前記(4)に記載の水系洗
浄処理システム。(5) The water-based cleaning system according to (4), wherein the heat radiating means is used for heating water in the cleaning step and / or the cleaning agent removing step.
【0013】(6)前記蒸発濃縮蒸留装置の洗浄水に対
する加熱蒸発部は2段階以上に分割してあり、洗浄濃縮
水は1段目から2段目以降へ移送手段により移動させ、
前記1段目で1/3以下の容量まで濃縮する構成を有す
る事を特徴とする前記(1)または前記(4)に記載の
水系洗浄処理システム。(6) The heating and evaporating section for the washing water in the evaporating and concentrating distillation apparatus is divided into two or more stages, and the washing and condensed water is moved from the first stage to the second and subsequent stages by the transfer means,
The water-based cleaning treatment system according to the above (1) or (4), wherein the first stage has a configuration for concentrating to a volume of 1/3 or less.
【0014】(7)最終段において濃縮物をカートリッ
ジ内で濃縮するように構成した事を特徴とする前記
(6)に記載の水系洗浄処理システム。(7) The water-based cleaning treatment system according to (6), wherein the concentrate is concentrated in the cartridge in the final stage.
【0015】(8)前記カートリッジは前記システムに
対して着脱可能に構成した事を特徴とする前記(7)に
記載の水系洗浄処理システム。(8) The aqueous cleaning system according to (7), wherein the cartridge is configured to be detachable from the system.
【0016】(9)機械加工部品、食器等の洗浄対象物
を洗浄剤により洗浄する洗浄工程と、洗浄後の前記洗浄
対象物から前記洗浄剤を水で洗い流す洗浄剤除去工程
と、前記洗浄剤除去後の前記洗浄対象物を乾燥させる乾
燥工程とを有し、前記洗浄工程および/または前記洗浄
剤除去工程における排水を蒸発濃縮蒸留装置で処理して
蒸留水とし、当該蒸留水を前記洗浄剤除去工程の洗浄水
として使用するように構成するとともに、前記洗浄工程
および/または洗浄剤除去工程における水の流れ方式を
カウンタカレント方式とした事を特徴とする水系洗浄処
理システム。(9) A washing step of washing an object to be washed such as a machined part or tableware with a washing agent, a washing agent removing step of washing the washing object with water from the washed object to be washed, and the washing agent A drying step of drying the object to be cleaned after the removal, wherein waste water in the cleaning step and / or the cleaning agent removing step is treated with an evaporative concentration distillation apparatus to obtain distilled water, and the distilled water is used as the cleaning agent. A water-based cleaning treatment system configured to be used as cleaning water in a removing step, and wherein a water flow method in the cleaning step and / or the cleaning agent removing step is a counter current method.
【0017】(10)前記洗浄工程および前記洗浄剤除
去工程に使用する水は、前記蒸発濃縮蒸留装置から得ら
れる蒸留水である事を特徴とする前記(1)または前記
(9)に記載の水系洗浄処理システム。(10) The water according to (1) or (9), wherein the water used in the washing step and the detergent removing step is distilled water obtained from the evaporative concentration distillation apparatus. Water-based cleaning treatment system.
【0018】(11)使用する蒸留水が不足した場合、
前記洗浄工程および洗浄剤除去工程からの排水を一時的
に貯留する排水溜タンクに給水を行うように構成した事
を特徴とする前記(1)または前記(9)に記載の水系
洗浄処理システム。(11) When distilled water to be used is insufficient,
The water-based cleaning system according to (1) or (9), wherein water is supplied to a drainage tank that temporarily stores wastewater from the cleaning step and the cleaning agent removing step.
【0019】(12)蒸留水を貯留するタンクに殺菌手
段を設けた事を特徴とする前記(1)または前記(9)
に記載の水系洗浄処理システム。(12) The above (1) or (9), wherein a sterilizing means is provided in a tank for storing distilled water.
2. The water-based cleaning treatment system according to item 1.
【0020】(13)機械加工部品、食器等の洗浄対象
物を洗浄剤により洗浄する洗浄工程と、洗浄後の前記洗
浄対象物から前記洗浄剤を水で洗い流す洗浄剤除去工程
と、前記洗浄剤除去後の前記洗浄対象物を乾燥させる乾
燥工程とを有する水系洗浄処理システムにおいて、純水
製造装置を設け、当該純水製造装置からの純水を前記洗
浄剤除去工程における洗浄水として使用するとともに、
前記純水を少なくとも50℃以上に加熱して給水および
/または前記乾燥工程直前の洗浄水温度を50℃以上に
加熱するように構成した事を特徴とする水系洗浄処理シ
ステム。(13) a washing step of washing an object to be washed such as a machined part or tableware with a washing agent, a washing agent removing step of washing the washing object with water from the washed object after washing, and the washing agent A water-based cleaning treatment system having a drying step of drying the object to be cleaned after the removal, wherein a pure water producing apparatus is provided, and pure water from the pure water producing apparatus is used as cleaning water in the cleaning agent removing step. ,
A water-based cleaning treatment system, wherein the pure water is heated to at least 50 ° C. to supply water and / or the cleaning water temperature immediately before the drying step is heated to 50 ° C. or more.
【0021】(14)前記純水製造装置は、RO膜濾過
方式、加熱蒸留方式またはイオン交換樹脂方式からなる
事を特徴とする前記(13)に記載の水系洗浄処理シス
テム。(14) The water-based cleaning treatment system according to the above (13), wherein the pure water producing apparatus is an RO membrane filtration system, a heating distillation system or an ion exchange resin system.
【0022】[0022]
【発明の実施の形態】本発明に係わる実施の形態の一例
を図面に基づいて説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
【0023】図1は水系洗浄処理システム(以下、洗浄
システムと略称する)全体を示す概念図である。FIG. 1 is a conceptual diagram showing the entire water-based cleaning processing system (hereinafter simply referred to as a cleaning system).
【0024】図中、1は洗浄システム全体、2は濃厚洗
浄剤投入部、3は前記濃厚洗浄剤投入部2から投入され
る洗浄剤を用いて機械加工部品または食器等の被洗浄物
(洗浄対象物)を洗浄するための洗浄槽である。In the figure, reference numeral 1 denotes the entire cleaning system, 2 denotes a concentrated cleaning agent charging section, and 3 denotes a cleaning object (cleaning) such as machined parts or tableware using the cleaning agent supplied from the concentrated cleaning agent charging section 2. This is a cleaning tank for cleaning the object.
【0025】また、4は複数の、例えば、3槽からなる
洗浄剤除去槽(以下、単に除去槽と言う)で、前記洗浄
槽3における洗浄工程で洗浄した被洗浄物の表面上に付
着している洗浄剤を洗い流すための洗浄剤除去工程を構
成する。Reference numeral 4 denotes a plurality of, for example, three cleaning agent removing tanks (hereinafter simply referred to as removing tanks) which adhere to the surface of the object to be cleaned which has been cleaned in the cleaning step in the cleaning tank 3. A cleaning agent removing step for washing away the cleaning agent that is present.
【0026】5は前記除去槽における洗浄剤除去後の被
洗浄物を乾燥するための乾燥室(乾燥部)であり、被洗
浄物に対する乾燥工程を構成する。Reference numeral 5 denotes a drying chamber (drying section) for drying the object to be cleaned after the cleaning agent has been removed in the removing tank, and constitutes a drying step for the object to be cleaned.
【0027】前記除去槽4内の矢印は水洗水の移動方向
を示す。The arrow in the removal tank 4 indicates the moving direction of the washing water.
【0028】即ち、前記洗浄槽3に対して一番遠い除去
槽4−3からオーバフローした水洗水は、真ん中の除去
槽4−2に入り、当該除去槽4−2からオーバフローし
た水洗水は前記洗浄槽3に一番近い除去槽4−1に入る
ように、実施の形態における除去槽4はいわゆるカウン
タカレント方式を採用している。That is, the washing water overflowing from the removal tank 4-3 farthest from the washing tank 3 enters the middle removal tank 4-2, and the washing water overflowing from the removal tank 4-2 is the above-mentioned washing water. The removal tank 4 in the embodiment employs a so-called counter current method so as to enter the removal tank 4-1 closest to the cleaning tank 3.
【0029】なお、前記除去槽4−1における水洗水の
一部は、ポンプP1により適宜のタイミングで適宜の量
だけ前記洗浄槽3に戻し、洗浄剤の希釈水として利用す
るようになっている。A part of the washing water in the removing tank 4-1 is returned to the washing tank 3 by a pump P1 at an appropriate timing and at an appropriate timing, and is used as dilution water for the cleaning agent. .
【0030】更に、前記除去槽4−1からオーバフロー
した水洗水と、前記洗浄槽3からのオーバフロー水は、
配管L1、L2を介して流し、排水タンク6に一時的に
貯留させるように構成してある。Further, the washing water overflowing from the removal tank 4-1 and the overflow water from the washing tank 3 are:
It is configured to flow through the pipes L1 and L2 and temporarily store it in the drainage tank 6.
【0031】7は蒸発濃縮蒸留装置で、前記排水タンク
6から配管L3を介して送り込まれる汚れた水洗水、洗
浄水を蒸発、凝縮して蒸留水と成すとともに、一部洗浄
剤等の不蒸発物を濃縮物とする機能を有する。Reference numeral 7 denotes an evaporating and concentrating distillation apparatus which evaporates and condenses contaminated washing water and washing water sent from the drainage tank 6 through a pipe L3 to form distilled water, and partially does not evaporate a cleaning agent or the like. It has the function of making the product a concentrate.
【0032】また、前記蒸発濃縮蒸留装置は、濃縮物の
取扱いを容易にすべく適宜の容器を備えている。Further, the evaporative concentration distillation apparatus is provided with an appropriate container to facilitate handling of the concentrate.
【0033】8は蒸留水タンクで、配管L4を介して前
記蒸発濃縮蒸留装置7から送られる蒸留水を貯留する。Reference numeral 8 denotes a distilled water tank for storing distilled water sent from the evaporative concentration distillation apparatus 7 through a pipe L4.
【0034】前記蒸留水タンク8に貯留してある蒸留水
は、システム制御されるポンプP2、配管L4を介して
送液し、前記乾燥室5の直前に設けてある前記除去槽4
−3に補充する。The distilled water stored in the distilled water tank 8 is sent through a system-controlled pump P2 and a pipe L4, and the removal tank 4 is provided immediately before the drying chamber 5.
Replenish to -3.
【0035】前記蒸留水タンク8および前記除去槽4−
3にあるH1およびH2はヒータであり、当該タンク8
内の蒸留水および槽4−3内の水洗水を50℃以上に加
熱するように適宜制御手段により制御している。The distilled water tank 8 and the removal tank 4-
H1 and H2 in FIG. 3 are heaters,
The distilled water in the tank and the washing water in the tank 4-3 are appropriately controlled by a control means so as to be heated to 50 ° C. or more.
【0036】前記ヒータは水の中の微生物を除去するた
めの殺菌手段として機能し、また、被洗浄物表面に残る
水滴量を減少させるためにも有用である。The heater functions as a sterilizing means for removing microorganisms in water, and is also useful for reducing the amount of water droplets remaining on the surface of the object to be cleaned.
【0037】洗浄システム全体は概略、上述の通りの構
成からなっており、被洗浄物は下記の如く洗浄される。The entire cleaning system has the above-described configuration, and the object to be cleaned is cleaned as follows.
【0038】前記洗浄槽3に導入された被洗浄物は、洗
浄剤または洗浄剤を含む洗浄水との相対的移動等を介し
て、表面の汚れを落とされ、次いで洗浄剤除去工程とな
る除去槽4に搬入される。The object to be cleaned introduced into the cleaning tank 3 is cleaned of surface stains by relative movement with a cleaning agent or cleaning water containing the cleaning agent, and then removed in a cleaning agent removing step. It is carried into the tank 4.
【0039】そして、前記除去槽4−1〜4−3と槽を
変える毎に清浄な水洗水(蒸留水)に曝され、当該水洗
水との相対的移動を介して表面に付着している洗浄剤が
完全に拭われ、前記除去槽4−3から乾燥室に入る間で
100℃蒸気発生装置10からの蒸気(沸騰水が少量入
っていても良い)で洗浄する。Each time the tank is changed to the removal tanks 4-1 to 4-3, the tank is exposed to clean rinsing water (distilled water) and adheres to the surface through relative movement with the rinsing water. The cleaning agent is completely wiped, and is washed with steam (may contain a small amount of boiling water) from the steam generator 10 at 100 ° C. while entering the drying chamber from the removal tank 4-3.
【0040】その後、乾燥室における乾燥工程により表
面の水分を消失される。Thereafter, the moisture on the surface is eliminated by a drying step in a drying chamber.
【0041】前記洗浄処理が行われている間における洗
浄槽3および除去槽4からのオーバフローした水は排水
タンク6に溜められ、適宜、蒸発濃縮蒸留装置7に送液
されて蒸留水とされた後、前記除去槽4−3に回帰し、
この循環が繰り返される。The water overflowing from the washing tank 3 and the removing tank 4 during the above-mentioned washing treatment is stored in a drain tank 6 and is appropriately sent to an evaporating / concentrating / distilling apparatus 7 to be distilled water. Thereafter, returning to the removal tank 4-3,
This circulation is repeated.
【0042】すなわち、本システムで用いられる水は全
量、蒸留水である。That is, the total amount of water used in the present system is distilled water.
【0043】また、上記洗浄処理中も含めて、使用する
蒸留水が不足する場合には、蒸留水の循環流路からみ
て、前記蒸発濃縮蒸留装置7の手前に設けた排水タンク
6に、水道水等を補充する事により賄われる。If the amount of distilled water to be used is insufficient, including during the above-mentioned washing treatment, the drainage tank 6 provided in front of the evaporative concentration / distillation apparatus 7 is provided with a water supply, as viewed from the circulation path of the distilled water. It is covered by replenishing water.
【0044】即ち、前記補充された水道水は蒸発濃縮蒸
留装置7により、蒸留水とされた後、水洗水として使用
される。That is, the replenished tap water is converted into distilled water by the evaporating and concentrating distillation apparatus 7, and then used as washing water.
【0045】前記構成において、洗浄槽3の洗浄工程
は、100℃以上の水蒸気による洗浄工程を含むもので
あるが、ない工程も可能であり、また、前記除去槽4−
3を100℃蒸気洗浄専用とする事もできる。これは、
狭い部分の洗浄や被洗浄物表面上の油汚れを落とすのに
効能がある。In the above configuration, the cleaning step of the cleaning tank 3 includes a cleaning step using steam at 100 ° C. or higher.
3 can also be dedicated to 100 ° C steam cleaning. this is,
It is effective for cleaning narrow parts and removing oil stains on the surface of the object to be cleaned.
【0046】また、洗浄工程や洗浄剤除去工程で超音波
による洗浄を組み合わせる事も迅速処理が可能となるの
で好ましい。It is also preferable to combine ultrasonic cleaning in the cleaning step and the cleaning agent removing step, since rapid processing becomes possible.
【0047】図2は蒸発濃縮蒸留装置(純水製造装置)
7の内部構成を示す概略図である。FIG. 2 shows an evaporative concentration distillation apparatus (pure water production apparatus).
FIG. 7 is a schematic diagram showing an internal configuration of a seventh embodiment.
【0048】図において前記部材(手段)と同一の物に
ついては同一の参照数字を付した。In the figures, the same components as those described above (means) are denoted by the same reference numerals.
【0049】図中、700は円筒状の第1容器で、上部
はミストの混入を防止するミスト防止部材701を有
し、かつ、前記排水タンク6と配管L3を介して連通し
ている。In the figure, reference numeral 700 denotes a cylindrical first container, an upper portion of which has a mist preventing member 701 for preventing mist from entering, and is in communication with the drainage tank 6 via a pipe L3.
【0050】D1は前記配管L3に設けた第1電磁弁で
ある。D1 is a first solenoid valve provided in the pipe L3.
【0051】前記第1容器700の下部は配管703を
介して、箱状の濃縮物回収手段705内に設けられた濃
縮物回収袋(以下、単に回収袋と言う)707と連通し
ている。The lower part of the first container 700 communicates via a pipe 703 with a concentrate collecting bag (hereinafter simply referred to as a collecting bag) 707 provided in a box-shaped concentrate collecting means 705.
【0052】前記濃縮物回収手段705は、適宜の移動
手段により3段階の停止位置をもって上下移動するよう
になっており、また、前記回収袋707は濃縮物回収手
段705に対して着脱可能である。1000は低温ヒー
タを示す。The concentrate collecting means 705 is configured to move up and down at three stop positions by appropriate moving means, and the collecting bag 707 is detachable from the concentrate collecting means 705. . 1000 denotes a low-temperature heater.
【0053】前記配管703の途中には第2電動弁D2
を配設してあり、かつ、当該電動弁D2の上流(第1容
器に近い側)から、分岐した配管709を延設してあ
る。In the middle of the pipe 703, the second electric valve D2
And a branched pipe 709 extends from the upstream side (closer to the first container) of the motor-operated valve D2.
【0054】前記配管709の自由端側は前記第1容器
の内側上部に位置し、1つの循環路を形成している。P
3はポンプで、前記配管709上にある。The free end side of the pipe 709 is located at the upper part inside the first container and forms one circulation path. P
A pump 3 is provided on the pipe 709.
【0055】711は、一端が前記回収袋707に連通
し、他端が前記第1容器700の上方にある前記ミスト
防止部材701の外側周囲に設けた吸熱部715に連通
する配管である。Reference numeral 711 denotes a pipe having one end communicating with the collection bag 707 and the other end communicating with a heat absorbing portion 715 provided around the outside of the mist prevention member 701 above the first container 700.
【0056】前記ミスト防止部材701と吸熱部715
とを含む領域は容器状を呈しており、適宜の蓋部材によ
り、周囲に対して密閉状態に保ってある。The mist prevention member 701 and the heat absorbing portion 715
Is in a container shape, and is kept sealed with respect to the surroundings by an appropriate lid member.
【0057】前述の前記配管703および711と前記
回収袋707との連通は、実際には、濃縮物回収手段7
05の開口部(開放部)を密閉する蓋706を介して連
通している。The communication between the pipes 703 and 711 and the collecting bag 707 is actually performed by the concentrate collecting means 7.
05 is communicated via a lid 706 that seals the opening (opening).
【0058】前記吸熱部715は中空のリング状容器の
形態を有し、前記配管711が連通している位置とは位
相が180゜異なる位置に、突出した短管717を有す
る。The heat absorbing section 715 has the form of a hollow ring-shaped container, and has a protruding short pipe 717 at a position 180 ° out of phase with the position where the pipe 711 communicates.
【0059】前記短管717はアスピレータ720の1
つの口と連結(連通)している。The short pipe 717 is connected to one of the aspirators 720.
It is connected (communicated) with one mouth.
【0060】前記アスピレータ717の他の1つの口は
第2容器730に対して開放され、更に他の1つの口
は、前記第2容器730の底部に連結してある配管73
1と連結している。Another port of the aspirator 717 is open to the second container 730, and another port is a pipe 73 connected to the bottom of the second container 730.
It is connected to 1.
【0061】前記配管731上にあるP4はポンプであ
る。P4 on the pipe 731 is a pump.
【0062】また、前記第2容器730は別の配管L4
と連結し、当該配管L4の他端は前記蒸留水タンク8と
連結している。The second container 730 is connected to another pipe L4
The other end of the pipe L4 is connected to the distilled water tank 8.
【0063】前記蒸留水タンク8に連結する配管L5の
自由端は、図1に示すように前記除去槽4−3に対して
開放している。The free end of the pipe L5 connected to the distilled water tank 8 is open to the removal tank 4-3 as shown in FIG.
【0064】以上の構成は、処理される水の流路に関係
する。The above configuration relates to the flow path of the water to be treated.
【0065】次いで、ヒートポンプ回路について説明す
る。Next, the heat pump circuit will be described.
【0066】ヒートポンプ回路は、圧縮機900、ファ
ン911および熱媒体(冷媒)用フィン912を有する
放熱部(便宜上、放熱手段とも言う)910、前記第1
容器内に配設した放熱部(便宜上、放熱手段とも言う)
920、膨張弁またはキャピラリーチューブ930、お
よび、前記第2容器730内の吸熱冷却部714と前記
吸熱部(便宜上、吸熱手段とも言う)715を細い中空
のパイプ940で接続(連結)し、熱媒体を密閉すると
ともに当該熱媒体のループ状流路を形成した構成からな
る。The heat pump circuit includes a heat radiator (also referred to as a heat radiator for convenience) 910 having a compressor 900, a fan 911, and a heat medium (refrigerant) fin 912;
Heat dissipating part arranged in the container (for convenience, also called heat dissipating means)
920, an expansion valve or a capillary tube 930, and a heat absorbing / cooling unit 714 in the second container 730 and the heat absorbing unit (for convenience, also referred to as heat absorbing means) 715 are connected (connected) by a thin hollow pipe 940, and a heat medium And a loop-shaped flow path for the heat medium is formed.
【0067】990は臭気放出用のファンである。Reference numeral 990 denotes a fan for releasing odor.
【0068】なお、前記吸熱部715は、前述のように
中空のリング状容器の形態にあり、その中に、前記ルー
プ状流路を形成する前記パイプ940の一部を収納して
いる。The heat absorbing section 715 is in the form of a hollow ring-shaped container as described above, and accommodates a part of the pipe 940 forming the loop-shaped flow path therein.
【0069】このような構成において、前記洗浄処理が
進み前記電磁弁D1が開かれると、後述する減圧手段
(減圧作用)により、前記洗浄槽3あるいは排水タンク
6から前記第1容器700に汚れた溶剤を含む洗浄水等
(以下、汚れ水と言う)が入り込む。In such a configuration, when the cleaning process proceeds and the solenoid valve D1 is opened, the first container 700 is contaminated from the cleaning tank 3 or the drainage tank 6 by a pressure reducing means (pressure reducing action) described later. Wash water or the like containing a solvent (hereinafter referred to as dirty water) enters.
【0070】前記減圧手段は、前記アスピレータ72
0、第2容器730、当該第2容器内にある水を循環さ
せるためのポンプP3および循環路を構成する配管73
1により構成される。The pressure reducing means is provided with the aspirator 72.
0, a second container 730, a pump P3 for circulating water in the second container, and a pipe 73 constituting a circulation path
1.
【0071】すなわち、前記第2容器内の水はポンプP
3により汲み上げられ前記アスピレータ720を経て再
び第2容器に流れ込むようになっており、当該アスピレ
ータ720を通過する時の流速により、前記吸熱部71
5、前記濃縮物回収手段705およびミスト防止部材7
01を介して前記第1容器700内を減圧する。That is, the water in the second container is pump P
3 and flows into the second container again through the aspirator 720. The flow rate at the time of passing through the aspirator 720 causes the heat absorbing portion 71
5. Concentrate recovery means 705 and mist prevention member 7
The pressure in the first container 700 is reduced through 01.
【0072】第1容器700内に入り込んだ汚れ水は前
記ポンプP3により第1容器を含んで形成されるループ
を循環し、前記放熱手段920の加熱作用により水蒸気
を放出し、徐々に濃縮され、水蒸気はミスト防止部材7
01を通過して吸熱部715に至り、冷却されて蒸留水
となる。The contaminated water that has entered the first container 700 circulates through a loop formed by the pump P3 including the first container, releases steam by the heating action of the heat radiating means 920, and is gradually concentrated. Water vapor is a mist prevention member 7
01, reaches the heat absorbing section 715, is cooled and becomes distilled water.
【0073】そして、濃縮が進行すると前記電動弁D2
を開いて濃縮された汚れ水を濃縮物回収手段705の場
所に準備した回収袋707に排出する。When the concentration progresses, the electric valve D2
Is opened, and the concentrated contaminated water is discharged to the collection bag 707 prepared at the place of the concentrate collection means 705.
【0074】前記第1容器700で1/3以下に濃縮し
て、濃縮物回収手段705に排出する事が好ましく、よ
り好ましくは1/30以下である。It is preferable that the concentration is reduced to 1/3 or less in the first container 700 and discharged to the concentrate collecting means 705, more preferably 1/30 or less.
【0075】この濃縮度が低いと、乾固に負荷が掛か
り、低温ヒータ1000では不十分となる。低温ヒータ
での異常加熱を防止するためには1/3以下が好まし
い。When the concentration is low, a load is applied to dryness, and the low-temperature heater 1000 becomes insufficient. In order to prevent abnormal heating by the low-temperature heater, the ratio is preferably 1/3 or less.
【0076】前記回収袋707の濃縮液は低温ヒータ1
000で加熱されて水蒸気を放出し、乾固状態となる。
発生する水蒸気は配管711を通り、前記吸熱部715
で冷却されて蒸留水となる。The concentrated liquid in the collection bag 707 is supplied to the low-temperature heater 1
It is heated at 000 to release water vapor and become dry.
The generated water vapor passes through a pipe 711 and passes through the heat absorbing section 715.
To be distilled water.
【0077】前記の如く水蒸気分はミスト防止部材70
1および配管711を介して吸熱部に送られ、吸熱手段
715で凝縮されて蒸留水となり、前記アスピレータ7
20を通って前記第2容器730に回収される。As described above, the water vapor content is reduced by the mist prevention member 70.
1 and a pipe 711 to the heat absorbing section, where the water is condensed by the heat absorbing means 715 to become distilled water,
20 and is collected in the second container 730.
【0078】ヒートポンプを構成する因子である熱媒体
は、圧縮機900により高圧ガスとなって配管内を移送
され、前記放熱部910、前記第1容器内の放熱部92
0で放熱し液化され、キャピラリーチューブ930の部
分を通って減圧され低圧となり、前記第2容器730内
で水に使っている吸熱冷却部714および吸熱部715
で吸熱して低温ガスとなり、圧縮機900に戻る事を繰
り返す。The heat medium, which is a factor constituting the heat pump, is converted into a high-pressure gas by the compressor 900 and transferred through the pipe, where the heat radiating portion 910 and the heat radiating portion 92 in the first container are formed.
In the second container 730, the heat absorbing cooling unit 714 and the heat absorbing unit 715 are used for water in the second container 730.
, And repeats returning to the compressor 900.
【0079】前記第2容器730に貯まった蒸留水は適
宜の水位になると配管L4を介して蒸留水タンク8に回
収され、やがて、水洗水として前記除去槽に送り込まれ
る。When the distilled water stored in the second container 730 reaches an appropriate water level, the distilled water is collected in the distilled water tank 8 via the pipe L4, and is then sent to the removal tank as washing water.
【0080】上記の通り、本発明に係わる水洗水は全量
蒸留水で賄われる。As described above, the washing water according to the present invention is entirely covered with distilled water.
【0081】なお、前記において不蒸発物は回収袋70
7に蓄積し、徐々に濃縮物となる。In the above, the non-evaporable matter is collected in the collection bag 70.
7 and gradually become a concentrate.
【0082】前記濃縮物形成の過程で、前記濃縮物回収
手段705は適宜の移動手段により段階的に下方に移動
され、濃縮の度合いを増していき、適当なタイミングで
前記取り出される。取り出し時期等は、例えば、実験的
データ等から求められる。In the process of forming the concentrate, the concentrate collecting means 705 is moved downward step by step by a suitable moving means to increase the degree of concentration, and is taken out at an appropriate timing. The extraction time and the like are obtained from, for example, experimental data.
【0083】なお、純水製造装置は、加熱上流方式に限
らずRO膜濾過方式またはイオン交換樹脂方式でもよ
い。The apparatus for producing pure water is not limited to the upstream heating system, but may be an RO membrane filtration system or an ion exchange resin system.
【0084】また、殺菌手段としては、前記の如く50
℃以上の加熱の他、オゾン吹き込み、UV照射または塩
素系や臭素系の殺菌剤を用いる事ができる。As the sterilizing means, as described above, 50
In addition to heating at a temperature of at least ° C, ozone blowing, UV irradiation, or a chlorine-based or bromine-based disinfectant can be used.
【0085】[0085]
【発明の効果】水系の洗浄処理であって、ウォーターマ
ークの発生が殆どなく、綺麗な洗浄仕上げが出来、安全
性も高い。As described above, the present invention is a water-based cleaning treatment, and almost no watermark is generated.
【0086】また、循環使用であるので使用する水の量
も少なくて済み、実質的に排水を出さない環境に優しい
システムを提供出来る。In addition, since the water is circulated, the amount of water to be used can be reduced, and an environmentally friendly system that does not substantially emit wastewater can be provided.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図1】水系洗浄処理システムの全体を示す概念図であ
る。FIG. 1 is a conceptual diagram showing the entire water-based cleaning treatment system.
【図2】蒸発濃縮蒸留装置7の内部構成を示す概略図で
ある。FIG. 2 is a schematic diagram showing the internal configuration of the evaporative concentration distillation apparatus 7.
1 水系洗浄処理システム全体 2 濃厚洗浄剤投入部 3 洗浄槽 4 洗浄剤除去槽 5 乾燥室 6 排水タンク 7 蒸発濃縮蒸留装置 8 蒸留水タンク 700 第1容器 705 濃縮物回収手段 707 濃縮物回収袋 703、709、711、731 配管 715 吸熱部 720 アスピレータ 730 第2容器 900 圧縮機 910、920 放熱部 930 キャピラリーチューブ 940 パイプ 990 臭気放出用ファン DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Whole washing | cleaning processing system 2 Thick detergent supply part 3 Cleaning tank 4 Detergent removal tank 5 Drying room 6 Drain tank 7 Evaporative concentration distillation apparatus 8 Distilled water tank 700 1st container 705 Concentrate collection means 707 Concentrate collection bag 703 , 709, 711, 731 Piping 715 Heat absorbing part 720 Aspirator 730 Second container 900 Compressor 910, 920 Heat releasing part 930 Capillary tube 940 Pipe 990 Odor releasing fan
Claims (14)
浄剤により洗浄する洗浄工程と、洗浄後の前記洗浄対象
物から前記洗浄剤を水で洗い流す洗浄剤除去工程と、前
記洗浄剤除去後の前記洗浄対象物を乾燥させる乾燥工程
とを有する水系洗浄処理システムにおいて、 前記洗浄工程および/または前記洗浄剤除去工程におけ
る排水またはタンク水を蒸発濃縮蒸留装置で処理して蒸
留水とし、当該蒸留水を前記洗浄剤除去工程の洗浄水と
して使用するように構成した事を特徴とする水系洗浄処
理システム。A cleaning step of cleaning an object to be cleaned such as a machined part or tableware with a cleaning agent, a cleaning agent removing step of washing the cleaning object with water from the cleaned cleaning object, and a cleaning agent removing step. A water-based cleaning treatment system having a drying step of drying the object to be cleaned later, wherein the wastewater or tank water in the cleaning step and / or the cleaning agent removing step is treated with an evaporative concentration distillation apparatus to obtain distilled water. A water-based cleaning treatment system, wherein distilled water is used as cleaning water in the cleaning agent removing step.
全量が蒸留水である事を特徴とする請求項1に記載の水
系洗浄処理システム。2. The water-based cleaning treatment system according to claim 1, wherein the entire amount of the cleaning water used in the cleaning agent removing step is distilled water.
よる洗浄工程を有しており、前記水蒸気は前記蒸留水を
加熱して発生させる構成を有する事を特徴とする請求項
1に記載の水系洗浄処理システム。3. The water system according to claim 1, wherein the cleaning step includes a cleaning step using steam at 100 ° C. or higher, and the steam has a configuration in which the distilled water is generated by heating the distilled water. Cleaning processing system.
手段、膨張弁またはキャピラリーチューブおよび吸熱手
段を順次に接続し、熱媒体を密閉したヒートポンプ回路
の前記放熱手段を洗浄濃縮水の加熱手段として使用し、
前記吸熱手段を、前記洗浄濃縮水から発生する蒸気を冷
却液化する冷却手段として使用し、前記加熱手段と前記
冷却手段とを連通状態とする連通容器と、前記連通容器
を減圧する減圧手段を設けた構成の減圧間接ヒートポン
プ減圧方式の蒸発濃縮蒸留装置である事を特徴とする請
求項1に記載の水系洗浄処理システム。4. The evaporating and concentrating distillation apparatus includes a compressor, a heat radiating means, an expansion valve or a capillary tube, and a heat absorbing means connected in order, and the heat radiating means of a heat pump circuit in which a heat medium is sealed is provided with a washing means for heating concentrated water Used as
The heat absorbing means is used as a cooling means for cooling and liquefying the steam generated from the washing concentrated water, and a communication container for making the heating means and the cooling means in communication with each other, and a pressure reducing means for reducing the pressure of the communication container are provided. The water-based cleaning treatment system according to claim 1, wherein the evaporative concentration distillation apparatus is a pressure-reduction indirect heat pump pressure-reduction-type distillation apparatus.
たは洗浄剤除去工程における水の加温に使用するように
構成した事を特徴とする請求項4に記載の水系洗浄処理
システム。5. The water-based cleaning system according to claim 4, wherein said heat radiating means is used for heating water in said cleaning step and / or cleaning agent removing step.
加熱蒸発部は2段階以上に分割してあり、洗浄濃縮水は
1段目から2段目以降へ移送手段により移動させ、前記
1段目で1/3以下の容量まで濃縮する構成を有する事
を特徴とする請求項1または請求項4に記載の水系洗浄
処理システム。6. The heating and evaporating section for washing water of the evaporating and concentrating distillation apparatus is divided into two or more stages, and the washing and condensed water is moved from a first stage to a second stage and thereafter by a transfer means. 5. The water-based cleaning treatment system according to claim 1, wherein the water-based cleaning treatment system has a configuration for concentrating to a volume of 1/3 or less.
で濃縮するように構成した事を特徴とする請求項6に記
載の水系洗浄処理システム。7. The water-based cleaning treatment system according to claim 6, wherein the concentrate is concentrated in the cartridge in the final stage.
て着脱可能に構成した事を特徴とする請求項7に記載の
水系洗浄処理システム。8. The water-based cleaning treatment system according to claim 7, wherein the cartridge is configured to be detachable from the system.
浄剤により洗浄する洗浄工程と、洗浄後の前記洗浄対象
物から前記洗浄剤を水で洗い流す洗浄剤除去工程と、前
記洗浄剤除去後の前記洗浄対象物を乾燥させる乾燥工程
とを有し、 前記洗浄工程および/または前記洗浄剤除去工程におけ
る排水を蒸発濃縮蒸留装置で処理して蒸留水とし、当該
蒸留水を前記洗浄剤除去工程の洗浄水として使用するよ
うに構成するとともに、前記洗浄工程および/または洗
浄剤除去工程における水の流れ方式をカウンタカレント
方式とした事を特徴とする水系洗浄処理システム。9. A cleaning step of cleaning an object to be cleaned such as a machined part or tableware with a cleaning agent, a cleaning agent removing step of washing the cleaning object with water from the cleaned cleaning object, and removing the cleaning agent. A drying step of drying the object to be cleaned later, wherein the wastewater in the cleaning step and / or the cleaning agent removing step is treated with an evaporation-concentration distillation apparatus to obtain distilled water, and the distilled water is used to remove the cleaning agent. A water-based cleaning treatment system configured to be used as cleaning water in a process, and wherein a water flow system in the cleaning process and / or the cleaning agent removing process is a counter current system.
程に使用する水は、前記蒸発濃縮蒸留装置から得られる
蒸留水である事を特徴とする請求項1または請求項9に
記載の水系洗浄処理システム。10. The water-based cleaning treatment according to claim 1, wherein water used in the cleaning step and the cleaning agent removing step is distilled water obtained from the evaporative concentration distillation apparatus. system.
洗浄工程および洗浄剤除去工程からの排水を一時的に貯
留する排水溜タンクに給水を行うように構成した事を特
徴とする請求項1または請求項9に記載の水系洗浄処理
システム。11. The system according to claim 1, wherein when the amount of distilled water used is insufficient, water is supplied to a drainage tank for temporarily storing wastewater from the washing step and the detergent removing step. Alternatively, the aqueous cleaning treatment system according to claim 9.
設けた事を特徴とする請求項1または請求項9に記載の
水系洗浄処理システム。12. The water-based cleaning treatment system according to claim 1, wherein a sterilizing means is provided in a tank for storing the distilled water.
洗浄剤により洗浄する洗浄工程と、洗浄後の前記洗浄対
象物から前記洗浄剤を水で洗い流す洗浄剤除去工程と、
前記洗浄剤除去後の前記洗浄対象物を乾燥させる乾燥工
程とを有する水系洗浄処理システムにおいて、 純水製造装置を設け、当該純水製造装置からの純水を前
記洗浄剤除去工程における洗浄水として使用するととも
に、前記純水を少なくとも50℃以上に加熱して給水お
よび/または前記乾燥工程直前の洗浄水温度を50℃以
上に加熱するように構成した事を特徴とする水系洗浄処
理システム。13. A cleaning step of cleaning an object to be cleaned such as a machined part or tableware with a cleaning agent, a cleaning agent removing step of washing the cleaning object with water from the cleaned object to be cleaned,
A water-based cleaning treatment system having a drying step of drying the object to be cleaned after the cleaning agent is removed, wherein a pure water production device is provided, and pure water from the pure water production device is used as cleaning water in the cleaning agent removal process. A water-based cleaning treatment system for use, wherein the pure water is heated to at least 50 ° C. or more to supply water and / or the washing water temperature immediately before the drying step is heated to 50 ° C. or more.
式、加熱蒸留方式またはイオン交換樹脂方式からなる事
を特徴とする請求項13に記載の水系洗浄処理システ
ム。14. The water-based cleaning treatment system according to claim 13, wherein the pure water production apparatus is an RO membrane filtration system, a heating distillation system, or an ion exchange resin system.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16680798A JP2000000534A (en) | 1998-06-15 | 1998-06-15 | Water cleaning treatment system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16680798A JP2000000534A (en) | 1998-06-15 | 1998-06-15 | Water cleaning treatment system |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000000534A true JP2000000534A (en) | 2000-01-07 |
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ID=15838052
Family Applications (1)
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JP16680798A Pending JP2000000534A (en) | 1998-06-15 | 1998-06-15 | Water cleaning treatment system |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2000000534A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010131069A (en) * | 2008-12-02 | 2010-06-17 | Haruo Uehara | Washing system |
KR101431068B1 (en) | 2012-11-13 | 2014-08-22 | 김승원 | Multi washing apparatus |
-
1998
- 1998-06-15 JP JP16680798A patent/JP2000000534A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2010131069A (en) * | 2008-12-02 | 2010-06-17 | Haruo Uehara | Washing system |
KR101431068B1 (en) | 2012-11-13 | 2014-08-22 | 김승원 | Multi washing apparatus |
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