ITVI20110307A1 - Impianto del vuoto per essiccatoi di pelli a pianali multipli - Google Patents

Description

Descrizione

Il presente trovato riguarda un impianto del vuoto per essiccatoi di pelli a pianali multipli.

Come è ben noto, fra vari sistemi di asciugatura delle pelli conciate è diffuso quello cosiddetto “sottovuoto” dove le pelli vengono distese su dei ripiani riscaldati muniti di coperchi che, quando vengono richiusi, definiscono delle camere a tenuta a vuoto, con valori di vuoto fino al 98%, con pressioni residue fino a 1 mbar.

Nei comuni essiccatoi a“sottovuoto” il vuoto nelle camere avviene impiegando un sorgente costituita da una unica pompa a vuoto, di vario tipo (a palette, ad anello liquido, soffianti od altro) che, tramite un opportuno circuito valvolato, si collega con tutte le camere per portare la pressioni airintemo di dette camere, da quella ambiente a quella a regime.

Tale modo di operare, oltre che richiedere un pompa a vuoto di notevole grandezza, dovendo mantenere contemporaneamente a “regime di vuoto” tutti i pianali, comporta che, ad ogni apertura del coperchio, per l’operazione di carico/scarico delle pelli, è necessario scollegare la camera dalla sorgente di vuoto, che ritorna alla condizione di ambiente per poi riportarla, con la successiva chiusura del coperchio, nuovanìente alla condizione di vuoto a regime.

Tale fatto comporta che, ad ogni fase di chiusura del coperchio di un pianale, che di fatto si concretizza con raggiunta di un nuovo pianale in lavoro agli altri già a pressione ottimale, si manifesta l’effetto noto come “equilibrazione”, con conseguente perdita di carico.

Tale inconveniente operativo comporta che il valore della pressione nelle camere dei pianali che continuano a lavorare in regime di vuoto, subisce un repentino e brusco abbassamento, per poi risalire lentamente, in quanto tutti i pianali sono collegati alla stessa sorgente di vuoto.

Nello specifico, al momento dell’equilibrazione, l’abbassamento della pressione è immediata (brusco), mentre il processo di ripristino del grado di vuoto è, di contro, un processo lento e lungo, con conseguente allungamento del tempo di asciugatura.

Α1Γ atto pratico, questo ciclico “sbalzo” del valore della pressione comporta l’inconveniente, non trascurabile, di un danneggiamento delle pelli in lavorazione in quanto, sottoposte ad una essicazione intermittente, presentano, alla fine dell’operazione, delle zone discontinue di asciugatura, che ne compromettono la qualità, oltre che allungare notevolmente i tempi di asciugatura complessivi ed i relativi costi produttivi.

Allo stato attuale della tecnica sono note varie soluzioni costruttive e procedimenti di lavoro, utilizzanti il principio di asciugatura in “sottovuoto, che riducono tale inconveniente, senza però mai eliminarlo.

A titolo di esempio si cita il documento brevettuale n. VI93A000046, nel quale è prevista una sorgente di vuoto secondaria, atta a creare in un pianale alla volta, inizialmente a pressione ambiente, una depressione prossima a quella di regime; successivamente essa si collega con la sorgente di vuoto principale, quella collegata con tutti i pianali.

Tale soluzione costruttiva, anche se funzionale allo scopo, presenta però degli inconvenienti quali:

- la dipendenza di ogni pianale da entrambe le sorgenti di vuoto;

- elevati consumi elettrici;

- l’impossibilità di asciugare a bassa temperatura con la sola sorgente di vuoto secondaria.

Scopo del presente trovato è quello di realizzare un impianto del vuoto per essiccatoi di pelli che risulti privo degli inconvenienti manifestati dai prodotti consimili di tipo noto.

Specificatamente, scopo del trovato è la realizzazione di un impianto del vuoto, applicato su essiccatoi a pianali multipli, nel quale la fase ciclica di apertura/chiusura del coperchio di ogni pianale non influenzi assolutamente il valore del vuoto negli altri pianali in lavoro e non allunghi i tempi di asciugatura.

Tale scopo è raggiunto con la realizzazione in un impianto del vuoto che si caratterizza per il fatto di comprendere almeno due linee del vuoto, come vengono comunemente definiti i circuiti del vuoto che comprendono, oltre ad una o più “sorgenti del vuoto”, costituite da pompe primarie, non necessariamente con le stesse caratteristiche e proprietà di funzionamento, quali dry screw/ a vite o a secco e pompe ausiliare ad alto vuoto, quali root/ a lobi, le necessarie valvole di processo ed altri apparecchi accessori quali separatori di condensati, filtri per Paria, scaricatori di condensa e quant’altro è necessario per il funzionamento dell’essiccatoio e dove ogni linea del vuoto è collegata ad almeno due pianali.

Esemplificando, impiegando due linee del vuoto, una prima linea è collegata al gruppo composto da tutti i pianali sovrapposti posizionati come dispari (primo, terzo, quinto), mentre la seconda linea del vuoto è collegata, al gruppo composto da tutti i pianali sovrapposti posizionati come pari (secondo, quarto, sesto).

Il trovato verrà meglio compreso nella realizzazione e nel funzionamento tramite le tavole di disegno allegate, dove:

- la fig. 1 rappresenta lo schema di impianto di cui al trovato, applicato ad un essiccatoio con quattro pianali, in fase di non funzionamento;

- la fig. 2 rappresenta il funzionamento dell’impianto di cui alla flg.l, con il funzionamento a regime di vuoto dei primi due pianali ed il terzo pianale in fase di aspirazione.

- la fig. 3 rappresenta il funzionamento dell’ impianto di cui alla fig.l, con il funzionamento a regime di vuoto dei primi tre pianali ed il quarto pianale in fase di aspirazione.

Come visibile in fig.l, l’impianto del vuoto per essiccatoi di pelli a pianali multipli, costituito da quattro pianali, indicati con i riferimenti PI, P2, P3 e P4, comprende due linee del vuoto, indicate con 1 e 2, dove la prima linea del vuoto I è collegata ai due pianali dispari PI e P3, intercettati tramite le valvole 3 e 5 e la seconda linea del vuoto 2 è collegata ai pianali pari P2 e P4, intercettati tramite le valvole 4 e 6.

L’impianto si completa con due linee del vuoto supplementari 7 e 8 le quali, tramite le valvole di intercettazione, rispettivamente, 9 e 10, pongono in collegamento, all’ occorrenza, due pianali, che si trovano nelle condizioni di funzionamento del vuoto a regime, collegati in fase di funzionamento normale l’uno alla linea del vuoto 1 e l’altro alla linea del vuoto 2.

II funzionamento dell’impianto di cui al trovato è esplicitato con le figg. 2 e 3, nelle quali si usa la convenzione di annerire le valvole di intercettazione che, nella fase descritta nella figura, risultano chiuse.

Come visibile nella fig. 2, i pianali PI e P2 funzionano a regime di vuoto, il pianale P3 è in fase di aspirazione, mentre il pianale P4 è aperto.

In tale situazione, per impedire che nella linea del vuoto 1 si generi una depressione, conseguente alla condizione di aspirazione del pianale P3, che va a compromettere il valore a regime del vuoto nel pianale PI, il trovato prevede che detto pianale PI possa continuare a funzionare a regime, isolandolo dalla linea 1, tramite la chiusura della valvola di intercettazione 3 e collegandolo, tramite la linea del vuoto supplementare 7, con l’apertura della valvola di intercettazione 9, alla linea del vuoto 2, che garantisce il funzionamento a regime di vuoto del pianale 2.

All’atto pratico, si sposta l’azione di aspirazione a regime del vuoto del pianale PI dalla prima linea 1 alla seconda linea 2, per il tempo necessario a portare a regime di vuoto nella linea 1, il pianale P3.

Analogamente, come visibile nella fig. 3, i pianali PI, P2 e P3 funzionano a regime di vuoto, mentre il pianale P4 è in fase di aspirazione.

In tale situazione, per impedire che nella linea del vuoto 2 si generi una depressione, conseguente alla condizione di aspirazione del pianale P4, che va a compromettere il valore a regime del vuoto nel pianale P2, il trovato prevede che detto pianale P2 possa continuare a funzionare a regime, isolandolo dalla linea 2, tramite la chiusura della valvola di intercettazione 4 e collegandolo, tramite la linea del vuoto supplementare 8, con l’apertura della valvola di intercettazione 10, alla linea del vuoto 1, che garantisce il funzionamento a regime di vuoto dei pianali PI e P3.

All’atto pratico, si sposta l’azione di aspirazione a regime del vuoto del pianale P2 dalla linea 2 alla linea 1 , per il tempo necessario a portare a regime di vuoto nella linea 2, il pianale P4.

In buona sostanza il funzionamento sopra descritto, relativo ad un impianto con quattro pianali, è estendibile ad impianti con cinque o più pianali, ripetendo la sequenza delle operazioni sopra descritte od altre sequenze, in funzione del numero e della posizione dei pianali, attivare e controllate tramite PLC.

Da quanto sopra esposto si evince che l’impianto secondo il trovato raggiunge gli scopi prefissati, in quanto permette in ogni pianale che la fase di aspirazione per portarlo a regime di vuoto non influenza gli altri pianali, che continuano regolarmente il loro funzionamento a regime di vuoto.

Ovviamente l’impianto di cui al trovato è suscettibile di modifiche e varianti, in particolare nel numero dei pianali, nel numero delle linee del vuoto e del loro collegamento ai pianali, purché il tutto rientri nel concetto inventivo espresso dalle seguenti rivendicazioni.

Claims (9)

1. RIVENDICAZIONI 1. IMPIANTO DEL VUOTO PER ESSICCATOI DI PELLI A PIANALI MULTIPLI, caraterizzato dal fato di prevedere almeno due linee del vuoto, con inserite le pompe primarie, non necessariamente aventi le stesse caratteristiche e proprietà di funzionamento, quali dry screw / a vite o a secco ed, eventualmente, anche delle pompe ausiliare ad alto vuoto, quali root/ a lobi, nonché delle valvole di processo ed altri apparecchi accessori, quali separatori di condensati, filtri per l’aria, scaricatori di condensa e quant’altro è necessario per il funzionamento dell’essiccatoio e dal fato che ogni singola linea del vuoto è collegata ad almeno due pianali.
2. 2. IMPIANTO DEL VUOTO PER ESSICCATOI DI PELLI A PIANALI MULTIPLI, secondo la rivendicazione 1, caratterizzato dal fatto di prevedere delle linee del vuoto supplementari le quali, tramite delle valvole di intercettazione, consentono a due pianali, che in fase di funzionamento normale sono collegati a due linee del vuoto distinte, all’ occorrenza, di poter funzionare, mantenendo le condizioni di vuoto a regime, collegati ad una stessa linea del vuoto.
3. 3. IMPIANTO DEL VUOTO PER ESSICCATOI DI PELLI A PIANALI MULTIPLI, secondo la rivendicazione 2, caratterizzato dal fatto di prevedere che, durante la fase di aspirazione del vuoto in un pianale (P) gli altri pianali, funzionanti a regime di vuoto, compresi nella medesima linea del vuoto, tramite delle linee del vuoto supplementari, vengono collegati, per il tempo necessario a portare a regime di vuoto il suddeto pianale (P), ad una diversa linea del vuoto .principale.
4. 4. IMPIANTO DEL VUOTO PER ESSICCATOI DI PELLI A PIANALI MULTIPLI, secondo le rivendicazione precedenti, caratterizzato dal fatto che una prima linea del vuoto è collegata al gruppo che comprende tutti i pianali sovrapposti posizionati come dispari (primo, terzo, quinto, ...) mentre la seconda linea del vuoto è collegata, al gruppo che comprende tutti i pianali sovrapposti posizionati come pari (secondo, quarto, sesto, ...).
5. 5. IMPIANTO DEL VUOTO PER ESSICCATOI DI PELLI A PIANALI MULTIPLI, secondo la rivendicazione 4, che comprende quattro pianali (PI, P2, P3, P4), caratterizzato dal fatto di comprendere due linee del vuoto (1, 2), dove la prima linea del vuoto (1) è collegata ai due pianali dispari (PI, P3), intercettati tramite le valvole (3, 5), mentre la seconda linea del vuoto (2) è collegata ai pianali pari (P2, P4), intercettati tramite delle valvole (4, 6) e con due linee del vuoto supplementari (7, 8) le quali, tramite delle valvole di intercettazione (9, 10), pongono in collegamento, all’ occorrenza, due pianali, che si trovano nelle condizioni di funzionamento del vuoto a regime, collegati l’uno alla prima linea del vuoto (1) e l’altro alla seconda linea del vuoto (2).
6. 6. IMPIANTO DEL VUOTO PER ESSICCATOI DI PELLI A PIANALI MULTIPLI, secondo la rivendicazione 5, caratterizzato dal fatto che quando i pianali (PI, P2) funzionano a regime di vuoto ed il pianale (P3) è in fase di aspirazione, il pianale (PI) continua a funzionare a regime, isolato dalla prima linea (1), tramite la chiusura della valvola di intercettazione (3) e collegato, tramite la linea del vuoto supplementare (7), con l’apertura della valvola di intercettazione (9), alla seconda linea del vuoto (2), che garantisce il funzionamento a regime di vuoto del pianale (2).
7. 7. IMPIANTO DEL VUOTO PER ESSICCATOI DI PELLI A PIANALI MULTIPLI, secondo la rivendicazione 5, caratterizzato dal fatto di prevedere che, quando i pianali (PI, P2, P3 ), funzionano a regime di vuoto mentre il pianale (P4) è in fase di aspirazione, il pianale (P2) continua a funzionare a regime, isolato dalla linea (2), tramite la chiusura della valvola di intercettazione (4) e collegato, tramite la linea del vuoto supplementare (8), con l’apertura della valvola di intercettazione (10), alla linea del vuoto (1), che garantisce il funzionamento a regime di vuoto dei pianali (1, 3).
8. 8. IMPIANTO DEL VUOTO PER ESSICCATOI DI PELLI A PIANALI MULTIPLI, secondo ima o più delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che le sequenze di collegamento dei pianali e le regolazioni delle linee del vuoto supplementari, in funzione del numero e della disposizione dei pianali, sono attivate e controllate tramite PLC.
9. 9. ESSICCATOIO DI PELLI A PIANALI MULTIPLI caratterizzato dal fatto di prevedere un impianto del vuoto secondo una o più delle rivendicazioni precedenti.