ITMI20090933A1 - Apparato per la deposizione di film di rivestimento - Google Patents

Description

DESCRIZ IONE

APPARATO PER LA DEPOSIZIONE DI FILM DI RIVESTIMENTO

La presente invenzione ha per oggetto un apparato per la deposizione di film di rivestimento, del tipo precisato nel preambolo della prima rivendicazione.

Sono attualmente noti diversi procedimenti ed apparati per depositare film o rivestimenti su oggetti e manufatti vari.

In particolare sono noti i procedimenti galvanici ed i procedimenti in alto vuoto, quali i procedimenti CVD e PVD.

Nei procedimenti galvanici gli oggetti da rivestire sono disposti su appositi telai e immessi in un bagno galvanico, costituito da una soluzione acquosa in cui sono disciolte sostanze che aumentano la conducibilità elettrica e sono collegati ad un generatore di corrente in modo che gli stessi possano costituire un catodo per la reazione in seguito descritta.

Nello stesso bagno è inoltre posto un anodo in materiale particolare, prevalentemente nel materiale in cui si intende realizzare il rivestimento o film.

Quando il circuito elettrico tra anodo e catodo è chiuso, sul catodo si depositano, in seguito a reazioni di ossido-riduzione, atomi metallici provenienti dall’anodo che formano un film superficiale o rivestimento.

Il procedimento galvanico realizza film omogenei di spessori compresi fra centesimi e decine di micron e solitamente vengono sfruttati per proteggere strutture e manufatti metallici dalla corrosione e conferire caratteristiche estetiche particolari..

Sono inoltre noti procedimenti di deposizione di film sottili tramite procedimenti in alto vuoto, in particolare appartenenti alle famiglie PVD e/o CVD.

In tali processi i materiali che costituiscono i film sottili sono resi disponibili per mezzo di differenti tecnologie e sono quindi depositati in alto vuoto sulle superfici da rivestire.

In particolare, sono noti i processi denominati PVD (Physical Vapor Deposition).

Nei processi PVD, i materiali che devono costituire il film vengono resi disponibili all’interno del volume di una camera sotto vuoto nella quale sono posizionate le superfici da rivestire, ad esempio sotto forma di gas, vapori e/o particelle. Le superfici da rivestire sono generalmente fissate su telai posti in movimento, ad esempio in rotazione su appositi supporti, all’interno della stessa camera sotto vuoto.

Le particelle o simili presenti all’interno della camera entrano quindi in contatto con le superfici da rivestire sulle quali aderiscono.

Generalmente, per mezzo di tecniche PVD, è possibile depositare ad esempio metalli puri o in lega, Nitruri, Carbonitruri od Ossidi e altro.

Sono poi noti i procedimenti denominati CVD (Chemical Vapor Deposition), simili ai processi PVD.

Nei processi CVD sono utilizzati dei precursori chimici dei materiali che devono costituire il film, ossia dei materiali che successivamente a previste reazioni chimiche comporranno il film.

Tali materiali sono poi diffusi all’interno di una camera sotto vuoto nella quale sono poste le superfici da rivestire, preferibilmente in movimento.

Il precursore entra quindi in contatto con le superfici da rivestire sulle quali decompone dando luogo a un film con la composizione desiderata.

I detti procedimenti in alto vuoto conferiscono particolari proprietà estetiche e superficiali ai manufatti.

A causa delle differenti importanti proprietà che i procedimenti galvanici e i procedimenti in alto vuoto conferiscono ai film deposti su oggetti, i due procedimenti sono frequentemente combinati in successione.

In questi casi il procedimento galvanico viene usato per conferire resistenza alla corrosione, mentre il procedimento in alto vuoto, preferibilmente eseguito successivamente, conferisce importanti caratteristiche di superficie, quali, ad esempio, un pregevole aspetto estetico dovuto a particolari colorazioni ed una migliorata resistenza ad usura.

La tecnica nota sopra citata presenta alcuni importanti inconvenienti.

Infatti, per applicare entrambi i procedimenti, galvanico e in alto vuoto, sugli stessi elementi, è necessario un notevole ciclo di lavoro, in particolare da parte di operai specializzati.

È infatti necessario montare gli elementi o manufatti sui telai che sostengono gli elementi durante i procedimenti galvanici, successivamente smontarli e rimontarli sui telai che sostengono gli elementi durante i procedimenti in alto vuoto. È poi necessario disporre questi ultimi telai, con gli elementi da posizionare all’interno della camera in alto voto, e estrarre i telai a procedimento terminato per smontare infine gli elementi o manufatti.

Tali numerose operazioni rallentano notevolmente la produzione e aumentano i costi della stessa.

Inoltre, la manipolazione degli elementi ed, eventualmente, la loro prolungata esposizione all’atmosfera tra un processo e l‛altro che può causare fenomeni di ossidazione superficiale, possono determinare un aumento degli scarti, rendendo necessario un ulteriore processo intermedio di lavaggio o attivazione superficiale, che contribuisce a rallentare la produzione e ad elevarne i costi, senza contare un maggior inquinamento ambientale.

Per finire, tali lavorazioni implicano l’uso di supporti o telai di sostegno diversi per i processi galvanici e per i processi sotto vuoto, aumentando ulteriormente i costi produttivi.

Un’alternativa all’utilizzo in successione dei due procedimenti, consiste nella realizzazione di una cromatura tramite procedimento galvanico.

Tale cromatura è classicamente realizzata con bagni galvanici in cui è presente cromo esavalente e conferisce la tipica colorazione del cromo metallico e buone caratteristiche superficiali agli oggetti rivestiti.

Tuttavia tale cromatura con cromo esavalente comporta problemi di tossicità ed è conseguentemente progressivamente eliminata dai processi industriali.

Essa è in particolare sostituita con cromatura tramite cromo trivalente, che tuttavia presenta caratteristiche estetiche e superficiali peggiori della cromatura con cromo esavalente.

In questa situazione il compito tecnico alla base della presente invenzione è ideare un apparato di deposizione che consenta di realizzare film di rivestimento in grado di ovviare sostanzialmente agli inconvenienti citati.

Nell'ambito di detto compito tecnico è un importante scopo dell'invenzione un apparato per la deposizione di film di rivestimento che consenta di realizzare rapidamente film di rivestimento dotati dei vantaggi dei film ottenuti con procedimenti galvanici e procedimenti in alto vuoto combinati.

Un ulteriore importante scopo dell’invenzione è quello di ottenere un rivestimento superficiale che abbia le caratteristiche estetiche e superficiali della cromatura realizzata con cromo esavalente e non presenti i relativi inconvenienti di tossicità nelle lavorazioni.

Il compito tecnico e gli scopi specificati sono raggiunti da un apparato per la deposizione di film di rivestimento come rivendicato nella annessa Rivendicazione 1.

Esecuzioni preferite sono evidenziate nelle sottorivendicazioni.

Le caratteristiche ed i vantaggi dell’invenzione sono di seguito chiariti dalla descrizione dettagliata di una esecuzione preferita dell’invenzione, con riferimento agli uniti disegni, nei quali:

la Fig. 1 mostra in prospettiva un esempio minimale di apparato per la deposizione di film di rivestimento secondo l’invenzione;

la Fig. 2 illustra una prima porzione dell’apparato per la deposizione di film di rivestimento;

la Fig. 3 evidenzia una seconda porzione dell’apparato per la deposizione di film di rivestimento;

la Fig. 4 presenta una terza porzione dell’apparato per la deposizione di film di rivestimento;

la Fig. 5 è una quarta porzione dell’apparato per la deposizione di film di rivestimento;

la Fig. 6 riporta una quinta porzione dell’apparato per la deposizione di film di rivestimento; e

la Fig. 7 schematizza una sesta porzione dell’apparato per la deposizione di film di rivestimento;

la Fig. 8 è una ulteriore porzione dell’apparato per la deposizione di film di rivestimento;

la Fig. 9 schematizza un oggetto rivestito per mezzo dell’apparto secondo l’invenzione; e

la Fig. 10 mostra in prospettiva una variante dell’apparato per la deposizione di film di rivestimento secondo l’invenzione.

Con riferimento alle Figure citate, l’apparato per la deposizione di film di rivestimento secondo l'invenzione è globalmente indicato con il numero 1.

Esso è atto a rivestire oggetti da rivestire 100 di un film di rivestimento 101, composti da almeno un film galvanico 102 e da almeno un film sottile 103, preferibilmente atto a costituire la superficie esterna degli oggetti 100.

In alternativa, il film sottile 103 è posto al di sotto del film galvanico 102 che costituisce la superficie esterna.

L’apparato 1 comprende un dispositivo per la deposizione di rivestimenti galvanici 2 ed almeno un dispositivo per la deposizione di rivestimenti in alto vuoto 3. I due detti dispositivi 2 e 3 sono posti in successione, in modo atto a realizzare un unico apparato di deposizione 1 atto a depositare film di rivestimento 101. In particolare, il dispositivo per la deposizione di rivestimenti galvanici 2 è atto a realizzare procedimenti galvanici che portano all’ottenimento di film galvanici 102 sugli oggetti da rivestire 100.

Come noto, i procedimenti galvanici comprendono una fase di immissione degli oggetti da rivestire 100 in un bagno galvanico 4, preferibilmente costituito da una soluzione acquosa in cui sono disciolte sostanze che ne aumentano la conducibilità elettrica.

Gli oggetti da rivestire 100 sono inoltre connessi ad una sorgente elettrica, attraverso connessioni elettriche 5 in seguito descritte, in modo che gli stessi oggetti 100 possano costituire un catodo per la reazione di ossido-riduzione che avviene nei procedimenti galvanici.

I procedimenti galvanici possono inoltre comprendere fasi di preparazione, di decapaggio e di pulizia degli oggetti 100 in appositi bagni di preparazione 6. Il dispositivo per la deposizione di rivestimenti galvanici 2 comprende quindi almeno una prima vasca 4a per il contenimento del bagno galvanico 4 e preferibilmente ulteriori vasche 6a per il contenimento dei bagni di preparazione 6. Le dette vasche 4a e 6a sono preferibilmente a parallelepipedo e presentano la faccia superiore libera, in modo che gli oggetti 100 siano inseribili attraverso la stessa.

Esso comprende inoltre mezzi di movimentazione 7 degli oggetti 100, quale in particolare un primo carrello 8 atto a traslare gli oggetti 100 in una prima direzione 2a orizzontale, in modo da consentire la traslazione degli oggetti 100 tra le vasche 4a e 6a, e in direzione verticale 2b, in modo atto a consentire l’immersione degli oggetti 100 nelle vasche 4a e 6a e l’estrazione degli stessi. Il carrello 8 comprende quindi, in particolare, una struttura esterna 8a, atta a traslare su rotaie 9 disposte in detta prima direzione 2a, e una struttura interna 8b, atta a traslare in direzione verticale 2b, indipendentemente dalla struttura esterna 8a.

La struttura interna 8b comprende in particolare due elementi di aggancio 8c, preferibilmente reciprocamente avvicinabili ed allontanabili.

Gli oggetti 100 sono inoltre posti su appositi telai 10, illustrati in particolare in Fig. 3.

Essi comprendono almeno una struttura di sostegno 11, includente una pluralità di agganci 11a per gli oggetti 100 e sviluppantesi preferibilmente in direzione di sviluppo prevalente 11d.

Le strutture di sostegno 11 possono essere presenti in numero variabile su ogni telaio 10, ad esempio in numero di tre, come illustrato in figura 3, e comprendono una prima porzione di connessione elettrica 5a, atta a connettere gli oggetti 100 con una sorgente di corrente elettrica e un rivestimento esterno isolante 11b, preferibilmente in materiale polimerico, atto ad impedire che la superficie esterna delle strutture di sostegno 11 sia rivestita nei procedimenti galvanici ed appositamente studiata per essere immessa nelle camere sottovuoto, senza danneggiarsi e senza provocare problemi di degasificazione.

Le strutture di sostegno 11 sono preferibilmente connesse a piattaforme mobili 12.

Tale connessione è presente nella parte superiore 11c delle strutture di sostegno. Tale parte superiore 11c non è immersa nei bagni e quindi non comprende necessariamente il rivestimento isolante 11b.

Le piattaforme mobili 12 sono atte ad essere movimentate, e a movimentare detta struttura di sostegno 11, relativamente al telaio 10, in particolare a ruotare in direzione parallela alla direzione di sviluppo prevalente 11d della struttura di sostegno 11.

Esse comprendono quindi un collegamento meccanico 13, quale una ruota dentata 13a, e collegamenti elettrici mobili 5b, in particolare striscianti, anch’essi parte delle connessioni elettriche 5 e connessi alle prime porzioni di collegamento elettrico 5a.

I collegamenti elettrici mobili 5b sono atti a connette elettricamente le piattaforme mobili 12 alla porzione fissa del telaio 10.

I telai 10 comprendono, poi, seconde porzioni di collegamenti elettrici 5c, connessi ai collegamenti elettrici mobili 5b, fissi rispetto agli stessi e comprendenti una porzione agganciabile 5d, atta ad essere agganciata ad un collegamento elettrico esterno, come in seguito specificato.

I telai 10 comprendono inoltre dei mezzi di connessione meccanica 14 atti a connettersi a collegamenti meccanici 13, preferibilmente costituiti da un albero 14a connesso ad una pluralità di viti senza fine 14b, atte ad ingranare con le dette ruote dentate 13a.

I telai 10 comprendono poi degli agganci meccanici 15, atti a vincolare il telaio 10 ad ulteriori elementi esterni posti in corrispondenza dei dispositivi 2 e 3. Essi sono preferibilmente elementi sagomati a cuneo in modo tale da consentire un auto-allineamento degli stessi, come illustrato in Fig. 3. Essi sono preferibilmente presenti in numero di sei, di cui due costituiscono le porzioni agganciabili 5d delle connessioni elettriche 5.

Infine, i telai 10 comprendono degli agganci mobili 16, atti a consentire la connessione meccanica del telaio 10 con la struttura interna 8b del carrello 8, ed in particolare agli elementi di aggancio 8c.

Allo scopo di alloggiare i telai 10, le vasche 4a e 6a, comprendono mezzi di supporto 17, illustrati singolarmente in Fig.8 e accoppiati ai telai 10 in Fig.3. Essi comprendono dei primi sostegni meccanici 18, controsagomati agli agganci meccanici 15 e atti a connettersi agli stessi, e delle porzioni fisse 5e delle connessioni elettriche 5, atte ad essere direttamente connesse alla rete elettrica o ad appositi convertitori connessi alla stessa.

Il dispositivo per la deposizione di rivestimenti in alto vuoto 3 è atto a eseguire procedimenti di rivestimento in alto vuoto, quali i noti procedimenti PVD e CVD, precedentemente descritti.

Tali procedimenti consentono la deposizione del film sottile 103 al di sopra del film galvanico 102 e atto a conferire particolari proprietà superficiali agli oggetti da rivestire 100, quali colore, proprietà tribologiche e simili.

In alternativa il dispositivo per la deposizione di rivestimenti in alto vuoto 3 è posto a monte del dispositivo per la deposizione di rivestimenti galvanici 2.

Il dispositivo 3 comprende quindi almeno una camera di deposizione 19, come illustrato in Fig. 4, atta ad essere posta in alto vuoto e comprendente appositi attacchi 20, per l‛inserimento di accessori quali ad esempio una pompa a vuoto o simile o per l‛inserimento dei materiali che formano le particelle che costituiscono il film sottile 103.

Possono essere previste più camere 19 per la realizzazione di più fasi del procedimento di deposizione in alto vuoto, in particolare due camere 19 poste in successione, od anche più dispositivi 3, atti a consentire la realizzazione di più procedimenti di deposizione in alto vuoto contemporaneamente, visto che questi possono essere più lenti dei procedimenti galvanici.

Le camere di deposizione 19 hanno preferibilmente una forma a parallelepipedo e comprendono una porta 21 costituita da una faccia apribile del detto parallelepipedo.

La porta 21 è preferibilmente costituita da un faccia laterale, come illustrato in Fig. 4.

La porta 21 comprende quindi mezzi di chiusura ed apertura 22 automatici e costituiti da pistoni elettrici o fluidodinamici.

I telai 10 vengono inseriti all’interno delle camere 19 preferibilmente per mezzo di un secondo carrello 23 (Figg. 5 e 6), mobile su seconde rotaie 24, sviluppantesi nel piano orizzontale e in direzione preferibilmente perpendicolare alla prima direzione 2a.

Allo scopo di disporre i telai 10 sui secondi carrelli 23 l’apparato 1 comprende una stazione intermedia 25, adiacente ed esterna alla camera 19, comprenden te il secondo carrello 23 disposto su una prima porzione delle seconde rotaie 24.

Il secondo carrello 23 comprende dei secondi sostegni meccanici 26, controsagomati agli agganci meccanici 15 e atti a connettersi agli stessi, simili ai primi sostegni meccanici 18.

Esso comprende inoltre delle rotelle o supporti 27, atte ad essere disposte sulle seconde rotaie 24.

Il secondo carrello si vincola quindi solidalmente ai telai 10 e trasla con gli stessi sulle rotaie 24.

Queste ultime sono suddivise in più porzioni, ognuna all’interno di una singola camera 19 o sulla stazione intermedia 25, in modo tale che le porte 21 possano essere chiuse senza interferenza e che il carrello 23 possa muoversi da una porzione all’altra come illustrato in Fig.1.

Il carrello 23 è opportunamente movimentato tramite appositi elementi di spinta (non illustrati) che agiscono per esempio sugli agganci mobili 16. Esso può inoltre essere connesso mobilmente ad un motore rotazionale, a sua volta connesso ad una sorgente di energia elettrica, atto a ruotare l’albero 14a, preferibilmente disposto all’interno delle singole camere 19.

Il funzionamento di un apparato 1, sopra descritto in senso strutturale, è il seguente.

Gli oggetti 100 sono disposti sugli agganci 11a della struttura verticale 11, posta sul telaio 10.

Il telaio 10 è quindi posto sul primo carrello 8, che trasporta lo stesso telaio all’interno delle ulteriori vasche 6a, per la pulizia o decapaggio degli oggetti 100 ed all’interno della prima vasca 4a, nel bagno galvanico 4.

Il carrello 8 trasporta il telaio 10 agganciando gli agganci mobili 16 dello stesso tramite gli elementi di aggancio 8c e rilasciando gli stessi in corrispondenza dei mezzi di supporto 17 posti sulle vasche 4a e 6a.

Quando gli oggetti 100 sono all’interno del bagno galvanico 4 viene applicato un campo elettrico agli stessi per mezzo delle connessioni elettriche 5, così che gli stessi costituiscano un catodo per la reazione di ossido-riduzione che avviene nei procedimenti galvanici.

Nello stesso bagno galvanico 4 è inoltro posto un anodo, anch’esso connesso a una sorgente di corrente elettrica, dello stesso materiale con il quale si intende realizzare il film galvanico 102.

Quando anodo e catodo sono attivati elettricamente, sul catodo si depositano, in seguito a reazioni di ossido-riduzione, atomi metallici che formano i film galvanici 102 sugli oggetti 100.

Terminato il procedimento galvanico il primo carrello 8 trasporta il telaio 10 sulla stazione intermedia 25.

Il telaio 10 viene quindi vincolato solidalmente al secondo carrello 23 (Fig. 5) ed è quindi atto a scorrere sulle seconde rotaie 24.

La prima porta 21 viene quindi aperta e il telaio 10 vincolato al secondo carrello 23 viene convogliato, per mezzo dei detti elementi di spinta, all’interno della prima camera di deposizione 19.

La porta 21 viene quindi automaticamente chiusa tramite i mezzi di chiusura ed apertura 22 e la camera 19 è posta sotto vuoto.

Vengono quindi applicati i procedimenti in alto vuoto, quali i procedimenti PVD o CVD, e viene costituito il film sottile 103 al di sopra del film galvanico 102.

Durante i procedimenti in alto vuoto le strutture di sostegno 11 sono movimen tate intorno alle piattaforme mobili 12.

Infatti, nei detti procedimenti in alto vuoto, i materiali che devono costituire il film, o loro precursori, vengono resi disponibili all’interno del volume della camera 19 posta sotto vuoto, ad esempio sotto forma di gas, vapori e/o particelle. Le particelle o simili presenti all’interno della camera 19 entrano quindi in contatto con gli oggetti da rivestire 100 sui quali aderiscono in maniera uniforme se gli stessi oggetti sono posti in movimento, in particolare in movimento rotatorio, traslatorio o rototraslatorio.

Eventualmente il telaio 10 vincolato al secondo carrello 23 viene convogliato, per mezzo di ulteriori elementi di spinta, all’interno della seconda camera di deposizione 19, con un ulteriore movimento di apertura e chiusura della seconda porta 21.

L'invenzione consente importanti vantaggi.

Infatti, il dispositivo 1 consente di realizzare rapidamente film di rivestimento 101 composti da film galvanici 102 e da film sottili 103, come descritti, praticamente in maniera continua, grazie all’interfacciamento automatico 25 dell’impianto galvanico con l’impianto sottovuoto posto anch’esso in linea.

Il procedimento avviene rapidamente in particolare grazie all’importante fatto che un unico tipo di telai 10 è atto a sostenere gli oggetto 100 sia durante i procedimenti galvanici che durante i procedimenti in alto vuoto e grazie al fatto che i telai 10 sono rivestiti con materiali plastici che possano resistere sia all’immersione nei bagni galvanici sia alle condizioni di vuoto dei processi PVD e/o CVD.

È quindi possibile rivestire oggetti 100 con film 101 che hanno elevate proprietà di protezione dalla corrosione e opportune caratteristiche superficiali, quali una voluta colorazione e particolari proprietà tribologiche.

Al contempo è possibile ridurre notevolmente il numero degli scarti di produzione.

Il detto procedimento consente poi di sostituire parzialmente alcuni bagni galvanici ad elevato impatto ambientale, nocivi alla salute degli operatori e per l’ambiente, quali i bagni di cromatura che prevedono l’impiego di cromo esavalente, con cromo metallo depositato sotto vuoto e quindi esente da rischi.

In particolare è possibile realizzare un procedimento galvanico per la realizzazione di un film galvanico 102 in materiali di tipo tradizionale , in particolare in Nichel, e un successivo rivestimento in alto vuoto, in particolare in PVD, per la realizzazione di un film sottile103 costituente la superficie esterna degli oggetti in cromo puro o in composti del cromo.

Tale rivestimento in alto vuoto in crome è realizzato opportunamente con cromo puro al 99%, prodotto sicuro per l’ambiente ed i lavoratori.

Il detto procedimento conferisce caratteristiche estetiche e superficiali addirittura superiori rispetto alla cromatura galvanica realizzata con cromo esavalente e non presenta i relativi inconvenienti di tossicità nelle lavorazioni.

Esso è inoltre opportunamente effettuato tramite l’apparato 1 precedentemente descritto.

L'invenzione è suscettibile di varianti rientranti nell'ambito del concetto inventivo.

In particolare le camere di deposizione 19 possono avere un’apertura dall’alto, così che il primo carrello 8 possa trasportare gli oggetti 100 anche all’interno delle stesse camere 19 e non sia necessaria la stazione intermedia 25.

Inoltre, come illustrato in un secondo esempio illustrato in Fig. 10, i telai 10 comprendono strutture di sostegno 11 fisse rispetto al telaio 10.

In questo caso il telaio 10, preferibilmente, trasla all’interno delle camere di deposizione 19 non essendo necessario il movimento rotatorio e/o rototraslatorio. Le strutture di sostegno, in quest’ultimo caso, hanno preferibilmente forma quadra, come illustrato in Fig.10.

Tutti i dettagli sono sostituibili da elementi equivalenti ed i materiali, le forme e le dimensioni possono essere qualsiasi.

Claims (14)

1. RIVENDICAZIONI 1. Apparato (1) per la deposizione di film di rivestimento (101) su oggetti da rivestire (100), comprendente: un dispositivo per la deposizione di rivestimenti galvanici (2) atto a depositare film galvanici (102), almeno un dispositivo per la deposizione di rivestimenti in alto vuoto (3), atto a depositare film sottili (103), caratterizzato dal fatto di comprendere almeno un telaio (10) atto a sostenere detti oggetti da rivestire (100), e dal fatto che detto telaio (10) è atto a essere posizionato sia su detto dispositivo per la deposizione di rivestimenti galvanici (2) che all’interno di detto dispositivo per la deposizione di rivestimenti in alto vuoto (3).
2. 2. Apparato (1) secondo la rivendicazione 1, in cui detto dispositivo per la deposizione di rivestimenti galvanici (2) e detto almeno un dispositivo per la deposizione di rivestimenti in alto vuoto (3) sono posti in successione.
3. 3. Apparato (1) secondo una o più delle rivendicazioni precedenti, in cui detti film galvanici (102) sono depositati su detti oggetti da rivestire (101) ed in cui detti film sottili (103) sono depositati su detti film galvanici (102).
4. 4. Apparato (1) secondo una o più delle rivendicazioni precedenti, in cui detto telaio (10) comprende almeno una struttura di sostegno (11), connessa ad una piattaforma mobile (12) atta ad essere movimentata solidalmente a detta struttura di sostegno (11) e relativamente al telaio (10).
5. 5. Apparato (1) secondo la rivendicazione 4, in cui detta struttura di sostegno (11) ha una direzione di sviluppo prevalente ed in cui detta piattaforma mobile (12) è atta a ruotare in direzione parallela a detta direzione di sviluppo prevalente (11d).
6. 6. Apparato (1) secondo la rivendicazione 4 o 5, in cui detta struttura di sostegno (11) comprende un rivestimento esterno isolante (11b) atto a resistere all’interno si di detto dispositivo per la deposizione di rivestimenti galvanici (2) sia di detto dispositivo per la deposizione di rivestimenti in alto vuoto (3).
7. 7. Apparato (1) secondo una o più delle rivendicazioni precedenti, in cui detto un dispositivo per la deposizione di rivestimenti galvanici (2) comprende almeno una vasca (4a, 6a) e un primo carrello (8) atto a traslare detto telaio (10) in una prima direzione (2a) orizzontale, in modo da consentire la traslazione di detto telaio (10) tra dette vasche (4a, 6a), e in direzione verticale (2b), in modo atto a consentire l’immersione almeno parziale e l’estrazione di detto telaio (10) da dette vasche (4a, 6e).
8. 8. Apparato (1) secondo una o più delle rivendicazioni precedenti, in cui detto dispositivo per la deposizione di rivestimenti in alto vuoto (3) comprende almeno una camera di deposizione (19) atta ad essere posta in alto vuoto.
9. 9. Apparato (1) secondo la rivendicazione 8, in cui detta camera di deposizione (19) ha una forma sostanzialmente a parallelepipedo e comprende una porta (21) costituita da una faccia apribile di detto parallelepipedo.
10. 10. Apparato (1) secondo la rivendicazione 8 o 9, comprendente un secondo carrello (23) vincolabile a detto telaio (10) e mobile su seconde rotaie (24), detto secondo carrello (23) essendo atto a consentire l’ingresso e l’uscita di detto telaio (10) in detta almeno una camera di deposizione (19).
11. 11. Apparato (1) secondo la rivendicazione 10, comprendente una stazione intermedia (25) adiacente ed esterna a detta almeno una camera di deposizione (19) e comprendente detto secondo carrello (23) disposto su una prima porzione di dette seconde rotaie (24).
12. 12. Procedimento di deposizione di film di rivestimento (101) su oggetti da rivestire (100), comprendente: una prima deposizione di un rivestimento galvanico e caratterizzato dal fatto di comprendere un successiva deposizione di un rivestimento in alto vuoto, per la realizzazione di un film sottile (103) costituente la superficie esterna di detti oggetti da rivestire (100) in cromo.
13. 13. Procedimento secondo la rivendicazione 12, in cui detta deposizione di un rivestimento in alto vuoto è realizzata con cromo puro al 99%.
14. 14. Procedimento secondo una o più delle rivendicazioni 12-13, in cui detta prima deposizione di detto rivestimento galvanico è realizzata in Nichel.