ITBO20060340A1

ITBO20060340A1 - Dispositivo e metodo per la realizzazione di un substrato strutturato su scala micrometrica o nanometrica

Info

Publication number: ITBO20060340A1
Application number: IT000340A
Authority: IT
Inventors: Fabio Biscarini; Massimiliano Cavallini; Gianluca Massaccesi; Francesco Cino Matacotta
Original assignee: Scriba Nanotecnologie Srl
Priority date: 2006-05-09
Filing date: 2006-05-09
Publication date: 2007-11-10
Also published as: EP2016462A1; JP2009536104A; WO2007129355A1; US20090080323A1

Description

DESCRIZIONE

La presente invenzione concerne un dispositivo ed un metodo per realizzare una morfologia spazialmente strutturata su scala micrometrica e nanometrica, definito da motivi e/o strutture di dimensioni micrometriche e/o nanometrìche, formate su un substrato, a seguito di un processo di modellatura.

Alcuni dei possibili campi di applicazione, sono ad esempio: dispositivi ottici, dispositivi per lo stoccaggio di informazione, incluso etichette contenenti una aita densità di informazione, sensori ed altro.

Stato dell’arte:

Attualmente, molti dei processi di micro e nano fabbricazione si basano sul modellamento della superficie di un materiale.

Molte delle fabbricazioni industriali in lavorazioni submicrometriche o nanometriche, utilizzano la litografia basata su fotoni, elettroni o altre particelle (tipicamente ioni).

Una delle fasi cruciali, nella litografia, prevede di depositare su un substrato una pellicola sottile o film e generarvi una maschera a contatto, in modo che, in lavorazioni successive, il modello della maschera possa essere trasferito, per rimozione del materiale di cui è definito il substrato, o per deposizione di un altro materiale, sul substrato.

La pellicola sottile deve essere superficialmente poco rugosa allo scopo di prevenire fenomeni di scatteraggio del raggio incidente con la conseguente perdita di risoluzione spaziale.

Un processo tipico e noto della litografia, in lavorazioni sub-micrometriche o nanometriche, per realizzare dettagli, consiste nel depositare un film a bassa rugosità su un supporto e, successivamente, esporre il film, con il relativo supporto, ad un fascio di particelle ad elevata energia quali elettroni, fotoni o ioni, eventualmente attraverso una maschera riportante un desiderato modello.

Altri tipi di litografia si basano sull'uso di fasci di particelle.

Il citato fascio di particelle cambia la struttura chimica della zona esposta del film mentre lascia inalterata la zona non esposta.

Immergendo substrato e film in uno sviluppatore, la zona di film esposta al fascio energetico, o, alternativamente, quella non esposta, viene rimossa, ottenendo un film che riproduce il modello, o il relativo negativo, tracciato nella citata maschera.

La risoluzione di stampa ottenibile in procedimenti litografici è limitata dalla lunghezza d'onda delle particelle utilizzate per l'incisione del film, dalle proprietà del film stesso e dal processo di sviluppo.

I metodi litografici basati su fasci di ioni o di elettroni, permettono un elevata risoluzione spaziale (decine di nanometri) ma sono metodi seriali, ovvero i motivi vengono scritti uno ad uno mediante il raggio di particelle o fotoni.

Queste tecniche sono limitate dalla velocità di scansione del fascio di particelle, di conseguenza, sono tecniche poco adatte sia ad una lavorazione su larga scala che ad una produzione elevata e comunque richiedono una fase di sviluppo.

Per ovviare ai citati inconvenienti, sono state sviluppate tecniche litografiche alternative che possiedono il requisito di essere parallele e, al tempo stesso, permettono di poter fabbricare dettagli di dimensioni sub-micrometriche e nanometriche su film in maniera semplice ed a basso costo.

Un esempio è riportato nel brevetto statunitense US 5,772,905 a nome S. Y.

Chou, il quale descrìve e propone un metodo litografico coniugante le convenzionali tecnologie litografiche con il meno costoso metodo, già noto con risoluzioni dell’ordine del millimetro, di stampa a pressione (goffratura) realizzando stampe in scale nanometriche o sub-micrometriche (nanogoffratura o nanoimprinting) di polimeri termoplastici.

Il citato brevetto statunitense descrive un approccio litografico a basso costo ma ad elevata risoluzione, che abbandona l'uso di fasci energetici o fasci di particelle.

La citata nanogoffratura prevede di porre uno stampo opportunamente sagomato sopra un film polimerico posto su un supporto rìgido ed applicare una pressione, eventualmente accompagnata da un opportuno riscaldamento del supporto stesso.

La stampa genera, sul film, una serie di rilievi e recessi, corrispondenti ai rispettivi recessi e rilievi del citato stampo.

Nella nanogoffratura la rugosità del film influenza la risoluzione ottenibile con questo metodo.

Una evoluzione della citata nanogoffratura, descrìtta ad esempio nel brevetto statunitense US 6,518,189 a nome S Y. Chou, prevede che a seguito della modellatura del polimero, le porzioni di film in corrispondenza dei recessi, vengono rimosse, mediante successivo sviluppo, ottenendo sul substrato un modello di film che rispecchia i recessi dello stampo.

Una ulteriore evoluzione della nanogoffratura, descritta ad esempio nel Brevetto statunitense US 6,818,139 a nome H.H. Lee, prevede il preventivo trattamento del polimero con un solvente allo scopo di rendere più facilmente stampabile lo strato di polimero.

Una ulteriore evoluzione della nanogoffratura, descritta ad esempio nella domanda di Brevetto statunitense US 20040192041 a nome J.-H Jeong, prevede il trattamento con raggi ultravioletti durante la fase di goffratura. Il detto irraggiamento può essere sia esteso su tutta la zona in stampa che spazialmente localizzato.

Una possibile alternativa alla nanogoffratura, descrìtta ad esempio nel brevetto statunitense US 6,342,178 a nome M. Yasuhiko, riguarda il processo di modellatura per replica: nel processo di replica, una soluzione nella quale è stato sciolto un polimero o altro materiale, viene depositata su uno stampo e, terminata l'evaporazione del solvente, il polimero solidifica e prende la forma dello stampo.

Altri documenti brevettuali riguardanti la fabbricazione su scala micrometrica o nanometrica, ad esempio il Brevetto US 6,375,870 (N.J. Visovsky et al) prevedono di ricavare su un supporto un film sottile morfologicamente strutturato, modellando, con i procedimenti noti di modellatura per replica dei motivi nanometrici su un substrato.

Altri processi, come ad esempio quello descritto nella domanda di brevetto internazionale PCT WO 2005078521 a nome M. Cavallini et al., prevedono la modellatura di una pellicola di una miscela ottenuta disperdendo nel supporto, ad esempio polimerico, un materiale ottenendo per successivo sviluppo una struttura chimica spazialmente definita alla microscala e/o alla nanoscala.

I maggiori svantaggi e inconvenienti delle soluzioni note e menzionate nei brevetti citati sono dovute alla necessità di effettuare una fase di sviluppo successiva alla fase di stampa. Detta fase di sviluppo comporta almeno un ulteriore fase di processo e necessita l'uso di reagenti chimici e/o sistemi di irradiazione.

Un’ulteriore svantaggio delle soluzioni note e menzionate nei brevetti citati riguarda i processi stessi in quanto i motivi nanostrutturati devono essere incisi nello stampo stesso.

Scopo della presente invenzione è quello di superare gli inconvenienti della tecnica nota sopracitati.

Ulteriore scopo è quello di ottenere un modello o pattern spazialmente strutturato di dimensione nanometrica e micrometrica sulla superficie di un substrato, caratterizzato dal fatto di essere ottenuto secondo il metodo descritto in segito.

Un altro scopo è quello di ottenere un elemento di memoria leggibile otticamente su un substrato, caratterizzato dal fatto di essere ottenuto secondo il metodo descritto, essendo che detto substrato è definito da un materiale con proprietà ottiche e/o spettroscopiche.

Innovazione:

Tutti i metodi citati per fabbricazioni industriali in lavorazioni submicrometriche o nanometriche realizzano i dispositivi e/o manufatti mediante fabbricazione o modellamento diretto dei motivi e utilizzano pellicole sottili a bassa rugosità superficiale.

Secondo la presente invenzione viene realizzato un metodo di fabbricazione per ottenere un prodotto definito da motivi rugosi di dimensione nanometrica e micrometrica sulla superficie di un substrato, caratterizato dal fatto di comprendere il ridurre la rugosità della superficie di detto substrato in zone definite del substrato medesimo.

La presente invenzione concerne un dispositivo e metodo per realizzare una modellatura o pattern strutturato su un supporto in modo detto indiretto, ed in particolare, un metodo per realizzare una superficie, di morfologia spazialmente strutturata su scala micrometrica e nanometrica, definito da motivi e/o strutture di dimensioni micrometriche e/o nanometriche, formate su un substrato rugoso a seguito di un processo di smussamente o appiattimento di zone del substrato. Il dispositivo consta nel substrato modellato contenente zone spazialmente strutturate con diversa rugosità. Suddetto dispositivo, ad esempio, illuminato con luce bianca, e/o colorata, e/o ultravioletta, e/o radente esibisce un contrasto rilevabile otticamente. Detto contrasto è attribuibile alla differente rugosità e può essere sia otticamente positivo (zone più rugose appaiono più chiare rispetto alle altre) che otticamente negativo (zone più rugose appaiono più scure rispetto alle altre). Il tipo di contrasto dipende da come il dispositivo viene illuminato (ad esempio luce radente piuttosto che luce dall’alto).

Il contrasto può altresì essere rilevato con una qualsiasi tecnica sensibile alla variazione di rugosità superficiale. Sia tramite la misura di proprietà chimiche e/o fisiche direttamente correlate alla rugosità (esempio una misura, con qualsiasi tecnica, dell’area per unità di superficie) che tramite la misura di proprietà indirettamente correlate (esempio cambio di colore dovuto a fenomeni ottici e/o diffrattivi).

Dipendentemente dalle proprietà chimiche e/o fisiche del materiale detto dispositivo potrà quindi essere un componente elettronico (ad esempio usando un materiale del substrato conduttore, un elettrodo), un componente elettroottico (ad esempio usando un materiale del substrato elettro-attivo con proprietà spettroscopiche), un elemento di memoria ottico (ad esempio usando un materiale del substrato con proprietà ottiche e/o spettroscopiche), un elemento di memoria magnetico (ad esempio usando un materiale del substrato con proprietà magnetiche) o altro dispositivo.

Vantaggiosamente la nano- e/o micro-strutturazione dei prodotti del processo oggetto della presente invenzione è quella naturalmente o artificialmente presente sulla superficie del substrato, contrariamente a quello che avviene per esempio nei brevetti delle tecniche note sopra citati.

Le caratteristiche tecniche dell’invenzione, secondo i suddetti scopi, sono chiaramente riscontrabili dal contenuto delle rivendicazioni sotto riportate, ed i vantaggi della stessa risulteranno maggiormente evidenti nella descrizione dettagliata che segue, fatta con riferimento ai disegni e alle foto allegati, che ne rappresentano una preferita forma di realizzazione puramente esemplificativa e non limitativa, in cui:

Descrizione figure :

le figure 1a, 1b e 1c illustrano, in una vista laterale schematica in scala ingrandita, una sequenza di operazioni per modellare la superficie di un materiale mediante naturalmente rugoso mediante stampa a pressione, secondo l'invenzione in oggetto;

la figura 1d illustra, in una vista laterale schematica in scala ingrandita di una parte del dispositivo corrispondente;

le figure 2a, 2b e 2c illustrano, in una vista laterale schematica in scala ingrandita, una sequenza di operazioni per modellare la superficie di un materiale inizialmente modellato in maniera artificiale mediante stampa a pressione;

la figura 2d illustra, in una vista laterale schematica in scala ingrandita, ingrandita di una parte del dispositivo corrispondente;

La figura 3 mostra l'esempio di un dispositivo definito da una struttura interdigitata ottenuta smussando un substrato rugoso. In questo esempio le zone più rugose appaiono bianche . In questo esempio il contrasto ottico viene rilevato mediante un microscopio ottico ottenuto illuminando il dispositivo con luce radente.

In figura 4 è mostrato l'esempio di un dispositivo definito da una serie di quadrati disposti su una superficie. Il dispositivo è ottenuto smussando un substrato rugoso tranne che nelle zone in chiaro. In questo esempio il contrasto ottico viene rilevato mediante un microscopio ottico ottenuto illuminando il dispositivo con luce radente.

In figura 5 è mostrato, in scala ulteriormente ingrandita, il particolare di figura 4. In questo caso è visibile la rugosità superficiale è più alta in corrispondenza delle strutture quadrate. Tale rugosità è determinata da una serie di linee parallele spaziate di 1.5 micrometri e profonde 250 nanometri.

In figura 6 è mostrata una immagine fatta al microscopio a forza atomica dove si vede l’effetto topografico dell'appiattimento morfologico.

In figura 7 è mostrato l'esempio di un dispositivo definito da una serie di quadrati disposti su una superficie. Il dispositivo è ottenuto smussando un substrato rugoso tranne che nelle zone in scuro. In questo esempio il contrasto ottico viene rilevato mediante un microscopio ottico ottenuto illuminando il dispositivo con luce normale.

Conformemente ai disegni allegati, con particolare riferimento alle figure 1 e 2, con 1 è indicato il substrato e con 1a una superficie dello stesso; sulla superficie 1a è definita una morfologia. Detta morfologia può essere costituita anche su una pellicola sottile posta sopra un supporto che può essere della stessa natura del supporto stesso che di diversa natura.

Nel seguito della presente trattazione, a puro titolo di esempio, faremo riferimento, senza per questo perdere di generalità, ad un substrato 1 definito da un polimero, in particolare da policarbonato.

Tale materiale viene preso ad esempio per la descrizione del metodo ma lo stesso può essere applicato ad una numerosa gamma di materiali e sustrati, incluse molecole biologiche come ad esempio biopolimeri, proteine e simili, copolimeri, materiali molecolari, metalli, semiconduttori, compositi, leghe od altri materiali; analogamente, faremo riferimento a scale spaziali micrometriche e nanometriche essendo questo il campo di maggiore interesse nell'applicazione della metodologia descritta, la quale rimane tuttavia valida ed efficace anche per dimensioni superiori.

Con particolare riferimento alle figure 1 a,b,c e 2a,b,c, il metodo prevede di utilizzare un materiale dotato di rugosità superficiale destinato alla formazione del dispositivo. Detta rugosità superficiale può essere la naturale rugosità della superficie del substrato (esempio fig.1) e può essere morfologicamente casuale (vedi figura 6) che artificiale ovvero ottenuta in modo altamente controllato tramite qualsiasi processo industriale, inclusi processi di stampaggio (esempio fig.2).

Dette superfici definite con rugosità artificiale, possono altresì essere costituite da reticoli ordinati con particolari proprietà ottiche, inclusi reticoli di diffrazione e/o reticoli olografici.

Successivamente, la superficie della del supporto, viene modellata, smussando e/o appiattendo porzioni della superficie stessa.

Secondo quanto illustrato nelle figure 1a, 1 b, 1 c, 2a, 2b e 2c la superficie del substrato può venire modellata a pressione con uno stampo, e/o a pressione assistita da un trattamento termico, e/o a pressione assistita da un trattamento chimico, e/o a pressione assistita da un irraggiamento con ioni e/o fotoni, e/o trattamenti fisici locali e/o trattamenti chimici locali.

In tutti i citati casi si tratta di metodologie note nella modellazione, ad esempio, dei polimeri e pertanto citate limitatamente alla comprensione del testo essendo applicate al substrato come fosse un polimero.

Con particolare riferimento alle figure 1a, 1 b, 1c, 2a, 2b e 2c, per realizzare la stampa a pressione, uno stampo strutturato in maniera tale che i motivi di interesse risultano come depressioni dello stampo, scavate sulla superficie (piatta) dello stampo stesso. Detto stampo viene posto in contatto con il substrato e viene premuto sulla stessa in maniera tale per cui le parti in rilievo, appiattiscono e/o smussano le corrispondenti porzioni della superficie del substrato; tale procedimento di stampa può venire effettuato previo riscaldamento del substrato, e/o previo trattamento chimico, e/o previo trattamento fisico, e/o previo irraggiamento con ioni e/o fotoni.

In figura 3 è illustrato l'esempio di un dispositivo definito da una struttura interdigitata ottenuta smussando un substrato rugoso tranne che nelle zone in chiaro. In questo esempio il contrasto ottico viene rilevato mediante un microscopio ottico ottenuto illuminando il dispositivo con luce radente.

In figura 4 è illustrato l'esempio di un dispositivo definito da una serie di quadrati disposti su una superficie. Il dispositivo è ottenuto smussando un substrato rugoso tranne che nelle zone in chiaro. In questo esempio il contrasto ottico viene rilevato mediante un microscopio ottico ottenuto illuminando il dispositivo con luce radente. Questo esempio costituisce un elemento di memoria dove i bit sono costituiti dai quadrati stampati.

In figura 5 è illustrato, in scala ulteriormente ingrandita, il particolare di figura 4. In questo caso è visibile la rugosità superficiale artificiale costituita da linee parallele spaziate di 1,5 micrometri e profonde 250 nanometri. Detta rugosità risulta quindi più alta in corrispondenza delle strutture quadrate.

In figura 6 è mostrata una immagine fatta al microscopio a forza atomica dove si vede l'effetto topografico deH'appiatimento morfologico su una superficie naturalmente (casualmente) rugosa.

In figura 7 è illustrato l’esempio di un dispositivo definito da una serie di quadrati disposti su una superficie. Il dispositivo è ottenuto smussando un substrato rugoso tranne che nelle zone in scuro. In questo esempio il contrasto ottico viene rilevato mediante un microscopio ottico ottenuto illuminando il dispositivo con luce normale.

Vantaggiosamente, la fase di modellazione della superficie può avvenire in qualsiasi modo, ad esempio anche mediante una semplice incisione o un qualsiasi procedimento che produca sulla superficie appiattimenti della morfologia.

Con particolare riferimento alle figure 3, 4, 5 e 7 si osserva che in corrispondenza delle parti rugose, si osserva un forte contrasto rispetto alle zone smussate quando illuminate in luce radente.

Tale contrasto definisce, nel caso particolare un possibile elemento di memoria permanente.

In generale, risulta pertanto definito un metodo per organizzare in maniera spazialmente controllata su scala submicrometrica e/o nanometrica un substrato in modo che le proprietà morfologiche del materiale di cui è definito il substrato, definiscano le caratteristiche del prodotto ottenuto con tale procedimento.

La distribuzione spazialmente controllata delle strutture, rappresenta essa stessa un prodotto utile quale ad esempio un elemento di memoria ad alta densità leggibile otticamente, o una etichetta.

Vantaggiosamente, tale metodo può essere impiegato anche con supporti di natura organica, inorganica o biologica.

Tale metodo è altresì impiegabile con qualsiasi tipologia di materiale e supporto, per ottenere, senza perdere di generalità, altri dispositivi.

Formano oggetto della presente invenzione anche:

-un elemento di memoria leggibile otticamente, riscrivibile o non riscrivibile, ottenuto modellando un substrato definito da un materiale con proprietà ottiche in un pattern logico.

-un elemento di memoria leggibile magneticamente, riscrivibile o non riscrivibile, ottenuti con il sopradescritto metodo, ottenuto modellando un substrato definito da un materiale con proprietà magnetiche in un pattern logico.

-un pattern spazialmente strutturato ottenuto modellando un substrato definito da un materiale con proprietà chimiche e/o fisiche che dipendono dalla rugosità della superficie.

L’invenzione raggiunge gli scopi prefissati e, in particolare, tale metodo consente di fabbricare direttamente motivi in un substrato senza dover ricorrere a processi litografici.

Tale metodo sfrutta in maniera nuova il processo di smussamento e appiattimento di asperità presenti su una superficie.

Il metodo come descritto, funziona su scala micrometrica e nanometrica e rientra a pieno titolo nel settore delle micro e nano-tecnologie.

L'invenzione così concepita è suscettibile di evidente applicazione industriale; può essere altresì oggetto di numerose modifiche e varianti tutte rientranti nell'ambito del concetto inventivo; tutti i dettagli possono essere sostituiti, inoltre, da elementi tecnicamente equivalenti.

Claims

RIVENDICAZIONI 1. Metodo di fabbricazione per ottenere un prodotto definito da motivi rugosi di dimensione nanometrica e micrometrica sulla superficie di un substrato, caratterizato dal fatto di comprendere il ridurre la rugosità della superficie di detto substrato in zone definite del substrato medesimo.
2. Metodo secondo la rivendicazione 1, caratterizzato dal fatto che detta fase di ridurre comprende il livellare dette zone.
3. Metodo secondo la rivendicazione 1 o 2, caratterizzato dal fatto che detta fase di livellare comprende una fase di stampare detto substrato.
4. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti da 1 a 3, caratterizzato dal fatto che detta fase di livellare comprende una fase di modellare per replica detto substrato.
5. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 1 a 4, caratterizzato dal fatto di comprendere una fase di trattare chimicamente e/o tramite un qualsiasi trattamento fisico detto substrato.
6. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti da 1 a 5, caratterizzato dal fatto che detta fase di livellare comprende una fase di esporre detto substrato ad un solvente o ai vapori di detto solvente.
7. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti da 1 a 6, caratterizzato dal fatto che detta fase di ridurre la rugosità comprende una fase di scaldare detto substrato.
8. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti da 1 a 7, caratterizzato dal fatto che detta fase di ridurre la rugosità comprende una fase di incidere detto substrato.
9. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che detto substrato comprende un polimero o una miscela polimerica.
10. Metodo secondo la rivendicazione 9, caratterizzato dal fatto che detto polimero o miscela di polimeri comprende policarbonato.
11. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, in cui il materiale del substrato è scelto dal gruppo definito da polimeri solubili, o precursori capaci di polimerizzazione durante lo stampaggio (es. polianilina, polifenilenvinilene, poli-(3-alchil-tienile).
12. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che detto substrato comprende un copolimero.
13. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che detto substrato comprende una miscela di uno o più polimeri con altri materiali.
14. Metodo secondo la rivendicazione 13, caratterizzato dal fatto che almeno un materiale, miscelato con uno o più polimeri, sia fluorescente.
15. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che detto substrato comprende un materiale molecolare.
16. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che detto substrato comprende molecole biologiche.
17. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che detto substrato comprende un gel.
18. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che detto substrato è di natura organica.
19. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che detto substrato è di natura biologica.
20. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che detto substrato è definito da un materiale di natura inorganica.
21. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti da 1 a 20, caratterizzato dal fatto che detto substrato è definito da un materiale spazialmente strutturarle.
22. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti da 1 a 21, caratterizzato dal fatto che detto substrato è definito da un materiale conduttore e il prodotto ottenuto è un dispositivo elettronico, essendo conduttore.
23. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti da 1 a 22, caratterizzato dal fatto che detto substrato è definito da un materiale semiconduttore e il prodotto ottenuto è un dispositivo elettronico o optoelettronico.
24. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti da 1 a 23, caratterizzato dal fatto che detto substrato è definito da un materiale magnetico e il prodotto ottenuto è un elemento di memoria leggibile magneticamente.
25. Metodo secondo la rivendicazione 24, caratterizzato dal fatto che detto elemento di memoria leggibile magneticamente è riscrivibile, detto materiale magnetico essendo ferromagnetico.
26. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, caratterizzato dal fatto che, detto substrato è definito da un materiale otticamente attivo e il prodotto ottenuto è un elemento di memoria leggibile otticamente.
27. Metodo secondo la rivendicazione 26, caratterizzato dal fatto che detto elemento di memoria leggibile otticamente è riscrivibile.
28. Modello o pattern spazialmente strutturato, caratterizzato dal fatto di essere ottenuto secondo il metodo descritto in una qualsiasi delle precedenti rivendicazioni da 1 a 27, detto pattern essendo definito sul substrato.
29. Elemento di memoria leggibile otticamente, caratterizzato dal fatto di essere ottenuto secondo il metodo descritto in una qualsiasi delle rivendicazioni da 1 a 28, essendo che detto substrato è definito da un materiale con proprietà ottiche e/o spettroscopiche.
30. Elemento di memoria leggibile otticamente secondo la rivendicazione 29, caratterizzato dal fatto di essere riscrivibile.
31. Elemento di memoria leggibile magneticamente, caratterizzato dal fatto di essere ottenuto secondo il metodo descritto in una qualsiasi delle rivendicazioni da 1 a 30 essendo che detto substrato è definito da un materiale magnetico.
32. Elemento di memoria leggibile magneticamente, secondo la rivendicazione 31, caratterizzato dal fatto che, detto substrato è definito da un materiale ferromagnetico.
33. Elettrodo, caratterizzato dal fatto di essere ottenuto secondo il metodo descritto in una qualsiasi delle precedenti rivendicazioni da 1 a 32, essendo che detto substrato è definito da un materiale conduttore.
34. Elettrodo, caratterizzato dal fatto di essere ottenuto secondo il metodo descritto in una qualsiasi delle precedenti rivendicazioni da 1 a 33, essendo che detto substrato è definito da un materiale semiconduttore.
35. Elettrodo caratterizzato dal fatto di essere ottenuto secondo il metodo descritto in una qualsiasi delle precedenti rivendicazioni da 1 a 34, essendo che detto substrato è definito da un materiale conduttore a carattere metallico.
36. Metodo secondo le rivendicazioni precedenti da 1 a 27, caratterizzato dal fatto che il substrato sia definito da una pellicola di un materiale depositata su un supporto.
37. Metodo secondo le rivendicazioni precedenti da 1 a 27 e 36, caratterizzato dal fatto che il substrato sia morfologicamente strutturato in modo controllato.
38. Metodo secondo le rivendicazioni precedenti da 1 a 27 e da 36 a 37, caratterizzato dal fatto che la morfologia del substrato definisca un reticolo ordinato.
39. Metodo secondo le rivendicazioni precedenti da 1 a 27 e da 36 a 38, caratterizzato dal fatto che la morfologia del substrato definisca un reticolo olografico.