IT980926B - Procedimento per la produzione di un disegno di mascheramento su un substrato mediante esposizione ad un fascio elettronico - Google Patents

Procedimento per la produzione di un disegno di mascheramento su un substrato mediante esposizione ad un fascio elettronico

Info

Publication number
IT980926B
IT980926B IT6819373A IT6819373A IT980926B IT 980926 B IT980926 B IT 980926B IT 6819373 A IT6819373 A IT 6819373A IT 6819373 A IT6819373 A IT 6819373A IT 980926 B IT980926 B IT 980926B
Authority
IT
Italy
Prior art keywords
exposure
procedure
producing
substrate
electronic beam
Prior art date
Application number
IT6819373A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Western Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Western Electric Co filed Critical Western Electric Co
Application granted granted Critical
Publication of IT980926B publication Critical patent/IT980926B/it

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Electrophotography Using Other Than Carlson'S Method (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
IT6819373A 1972-05-01 1973-04-27 Procedimento per la produzione di un disegno di mascheramento su un substrato mediante esposizione ad un fascio elettronico IT980926B (it)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US24930872A 1972-05-01 1972-05-01

Publications (1)

Publication Number Publication Date
IT980926B true IT980926B (it) 1974-10-10

Family

ID=22942915

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
IT6819373A IT980926B (it) 1972-05-01 1973-04-27 Procedimento per la produzione di un disegno di mascheramento su un substrato mediante esposizione ad un fascio elettronico

Country Status (8)

Country Link
JP (1) JPS512375B2 (it)
BE (1) BE798860A (it)
DE (1) DE2321684C3 (it)
FR (1) FR2183020B1 (it)
GB (1) GB1403834A (it)
IT (1) IT980926B (it)
NL (1) NL154015B (it)
SE (1) SE391405B (it)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1421805A (en) * 1972-11-13 1976-01-21 Ibm Method of forming a positive resist
US3893127A (en) * 1973-09-27 1975-07-01 Rca Corp Electron beam recording media
US4289845A (en) * 1978-05-22 1981-09-15 Bell Telephone Laboratories, Inc. Fabrication based on radiation sensitive resists and related products
JPS59222928A (ja) * 1983-06-02 1984-12-14 Matsushita Electronics Corp マスク製作方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE2321684B1 (de) 1974-01-31
NL7305933A (it) 1973-11-05
NL154015B (nl) 1977-07-15
BE798860A (fr) 1973-08-16
FR2183020A1 (it) 1973-12-14
JPS4942352A (it) 1974-04-20
GB1403834A (en) 1975-08-28
SE391405B (sv) 1977-02-14
DE2321684A1 (de) 1973-11-15
JPS512375B2 (it) 1976-01-26
FR2183020B1 (it) 1976-11-12
DE2321684C3 (de) 1979-07-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE435170B (sv) Sett att bilda en metalloxidbeleggning pa ett substrat
IT993696B (it) Retino metallico di mascheratura per stampa serigrafica
SE7708870L (sv) Sett att framstella ett modifieringsmedel for elaster
SE7604863L (sv) Sett att framstella ett overdraget substrat
IT1047731B (it) Procedimento per la produzione di matrici da stampa planografica con raggi laser
IT1026287B (it) Lastra da stampa pre sensibilizzata con strato di maschera per la formazione di immasine mediante laser
IT1036326B (it) Fotomaschera per litografia parti colarmente per la produzione di microcircuiti a semiconduttori
IT1001432B (it) Procedimento per produrre n fosfonometilglicina
BE794849A (fr) Plaque de circuit imprime
IT1073888B (it) Apparecchio per generare suoni di mascheramento
IT1064451B (it) Procedimento per la fabbricazione di pannelli di circuiti stampati
SE385001B (sv) Sett att bilda ett vidheftande skikt av en lodlegering pa en metalliserad ytdel av en glasskiva
IT1003159B (it) Procedimento per realizzare un rivestimento di alluminio su un substrato di acciaio
IT1058510B (it) Procedimento per fabbricare un condensatore a strato sottile di tantalio
IT1073315B (it) Impianto elettronico per la sorveglianza della durata di un albero di un generatore a turbina
SE403523B (sv) Ljuskeslig platta for framstellning av en fotografisk mask
CA931007A (en) Process for producing photographic patterns on a substrate
IT980926B (it) Procedimento per la produzione di un disegno di mascheramento su un substrato mediante esposizione ad un fascio elettronico
BE776302A (fr) Masque photosensible
SE387209B (sv) Krets for generering av ett tag av periodiska utpulser
SU441724A3 (ru) Способ изготовления металлических электропроводящих фотоотпечатков
IT996349B (it) Dispositivo di produzione di luce mediante elettrolisi
IT999661B (it) Procedimento di incisione chimica particolarmente per la fabbricazione di circuiti a strato sottile
BR7307748D0 (pt) Metodo aperfeicoado para a fabricacao de equipamentos eletronicos
IT1086953B (it) Dispositivo di aggiustaggio di maschere di esposizione rispetto ad un disco di substrato