HU198971B - Equipment for electrochemical cleaning of materials, mainly wires used in welding - Google Patents

Description

Berendezés hegesztés során alkalmazott anyagok, elsősorban huzalok elektrokémiai tisztítására, amelyben a tisztítandó huzal haladási irányában egymást követően bipoláris elektrolitikus kavilációs kezelő blokk és a megtisztított huzalt mosó és szárító készülékek vannak elrendezve, ahol a bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző blokk egymás mögött elrendezett katódszekciót és anódszekciót tartalmaz. A találmány szerinti berendezés elsősorban hegesztésre és bevonathegesztésre alkalmazott hozzú anyagok, szalagok, csíkok elektrokémiai tisztítására alkalmazható előnyösen, amelyek például porkohászati huzal előállításánál kerülnek alkalmazásra, valamint más, hegesztésnél alkalmazott anyagok tisztítására szolgál. Leghatásosabban a találmány szerinti bejelentés acélhuzal tisztítására alkalmazható, amely üzembiztonsági fontosságú hegesztett szerkezetekben, például az atomerőmű építés és energetikai gépgyártás területén kerül alkalmazásra.

Hegesztőhuzal nagyjóságú tisztítása különösen napjainkban a precíziós hegesztett szerkezetek előállítási feltételeként, elsősorban atomerőművek és más energetikai központokban került napirendre, ahol nagyszámú olyan hegesztési varratot kell létrehozni, amelyek részben minőségük függvényében igen hosszadalmasan, időigényes műveletek sokaságával hozhatók csak létre.

Egy hegesztési művelet technológiai jellemzőinek javulása, így az ív stabil fennmaradása, az ömledék kismértékű szétfröccsenése, egyenletes hegesztőhuzal előtolás a hegesztőberendezés vezetőcsatornáin keresztül stb. ismert módon nagymértékben függ a hegesztésnél használt huzal felületi tulajdonságaitól.

A különböző felületi szennyeződések jelenléte a hegesztőhuzalon, mint például technológiai kenő és konzerváló anyagok, zsírok, oxidok, rozsda nyomai vagy egybefüggő felületei elégtelen hegesztéstechnológiai huzaltulajdonságokat okoznak, ami jelentősen csökkenti a hegesztett kötés minőségét, csökkenti a teljesítményt és zavarja az automatikus és félautomatikus hegesztőberendezések munkaritmusát, jelentősen lerontja azok üzemeltetési feltételeit és egyes esetekben egyszerűen lehetetlenné teszi az adott huzal alkalmazását az üzembiztonságtechnikailag különösen jelentős szerkezetek hegesztésénél.

Mindez arra kényszeríti a különböző hegesztéseket elvégző s. mélyeket, illetve hegesztőberendezések gyártóit és felhasználóit, hogy igen munkaintenzfv és kevésbé hatékony módon mechanikai megmunkálással igyekezzenek a felhasználandó hegesztőhuzal felületi szennyeződéseit eltüntetni, amely módszerek közül az alábbiak terjedtek el a legszélesebb körben:

- A hegesztésre felhasznált huzal felületét filcből álló lapátkerekekkel ásványi összetevők és szóda poralakú hulladék közegében lecsiszolják;

- Speciális reagensek, így fémsörét, homok és más csiszoló anyag gömbsugarat és/vagy homoksugarat irányítanak közvetlenül a tisztítandó huzal felületére, így az említett anyagok közvetlenül ütésszerűen kerülnek érintkezésbe azzal;

— A fém felületi rétegét forgó mikroforgácsoló szerszámokkal, például tűmarokkal, acéldrótkefékkel távolítják el.

Meg kell jegyeznünk, hogy a mechanikai tisztítás meglévő eszközei olyan specifikus tulajdonságokkal rendelkeznek, amelyek a hegesztőhuzal felületi hibáihoz, így például karcolásokhoz, hajszálrepedésekhez, kitöredezésekhez, valamint az eredetileg körkeresztmetszetű huzal geometriai torzulásaihoz, így például körhagyóság, sokszögidomúság vezetnek.

A felsorolt paraméterek negatívan befolyásolják a hegesztőberendezések hegesztőcsatornáin keresztül a hegesztőhuzal egyenletes előtolását, rontják az áramhozzávezetést és a hegesztőberendezések árambevezető érintkezőinek növelt mértékű kopását idézik elő.

Ezen túlmenően a mechanikus huzaltisztítást végző berendezések — viszonylag alacsony tisztító hatásfokot biztosítanak, — a tisztítandó alapanyag igen nagyarányú kopását idézik elő, ami közvetett úton a technológiai folyamat költségeinek növeléséhez vezet, — szükségessé teszik a munkavégző szerszámok, például a filctörlő, sörét stb. gyakori cseréjét, ami alacsony gazdaságosságot biztosít a tisztítási műveletek, és rontja a plusz felszerelések miatt a berendezés hatásfokát, — a környezetet szennyezi a viszonylag magas porképződéssel, ami kedvezőtlen munkafeltételeket teremt a kezelő személyzet számára és járulékos levegőtisztító és portalanító berendezések felszerelését teszi szükségessé, — a mechanikai tisztítást közvetlenül a hegesztési művelet előtt kell elvégezi, mivel a jelenleg alkalmazott módszerekkel megtisztított hu-* zal igen gyorsan korrodál.

A különböző mechanikai tisztító eljárások további hátránya viszonylag alacsony teljesítményűek és az általuk behatárolt viszonylag szűk hegesztő huzal keresztmetszet választék, mivel az 1 — 2 mm átmérő alatti átmérőjű hegesztőhuzalok ilyen módszerrel történő tisztítása igen nehézkes adott körülmények között csaknem lehetetlen.

A mechanikai tisztítás igen nagy munkaigénye és csekély hatékonysága lényegesen megnöveli az üzemi költségeket, amelyek a precíziós hegesztőhuzalok megmunkálása során gyakran azok árának felét is elérhetik.

A fémtermékek előállítása című szakkönyv (Moszkva, Metallurgia kiadó 1977, 34. oldal) huzalok felületi előkezelésére alkalmas olyan berendezést ismertet, amely rézgálic és kénsav vizes oldatán átvezetett huzal kontaktrezezését végzi. A rezezés során a huzal felületéről a berendezés előbb eltávolítja a technológiai kenőanyagot, és a felvitt rézréteg javítja a huzal és a hegesztőberendezés árambevezetö érintkezői közötti jobb villamos érintkezést.

A rezezett hegesztőhuzal alkalmazása során nyert tapasztalatok alapján a kontaktrezező berendezésekkel kapcsolatosan az alábbi gondok,

HU 198971 Β kérdések merülnek fel:

— Azáltal, hogy a kontaktrezezés során nincs meg az acélhordozó (tehát az acélhuzal) és a felviendő rézréteg adhéziójának szükséges foka, a felvitt rézbevonat a hegesztőberendezés vezetőkeretein megroncsolődik és az így megroncsolódott, levált réz eltörni a hegesztőberendezés hegesztőhuzal számára kiképzett vezetőcsatornáit.

— A hegesztőhuzal a bevonat pórusossága, valamint a rézbevonat nem egybefüggő volta miatti galvanikus mikrosejtjei miatt a rézbevonat és az acélfelület között nem kielégítő huzalsiklási tulajdonságok jelentkeznek, amelyek a huzal pontszerű szélvágásához vezetnek;

— Megnövekednek az üzemeltetési költségek, amelyek azzal függnek össze, hogy bevonatként a viszonylag nem nagy mennyiségben előforduló és ezért drága réz kerül alkalmazásra.

Ezen kívül rezezett hegesztőhuzal előállítására korlátolt rézlartalmú — legfeljebb 0,1 — 0,15% réztartalmú acél alapanyagra van szükség. Ettől eltérve a rézmennyiség a hegesztési varratokon meghaladja a maximálisan megengedett mértéket, ami a precíziós gyártmányok, hegesztési varratainak fizikai, mechanikus tulajdonságát, különösen atomerőművi felszerelések varratainak a sugárzásállóságát lényegesen lerontja.

A Svarochnoje Proizvodstvo című szakfolyóirat (Moszkva, Maschinostrojenije kiadó, 1980. évi 8. szám 30-31. oldal) hegesztő és felhordó hegesztő huzalok elektrokémiai tisztítására alkalmas berendezést ismertet, amelynek a hegesztőhuzal bipoláris kezelésére alkalmas blokkja és az így kezelt huzalt vízzel mosó készüléke van. A bipoláris kezelést végző blokk egymás után elrendezett katódszekciót és anódszekciót tartalmaz.

A tisztítási művelet során a 0,5 m/perc állandó sebességgel haladó huzalt a következő összetételű elektrolitokban vezetik keresztül:

a) vizes konyhasóoldat (NaCl 25%-os oldata vízben);

b) kénsavazott króm-foszfor oldat a következő tömegszázalék összetételben: 60 H3 PO4, 20 H2S04, 5 Cr2O3, a maradék pedig H2O.

Ez utóbb említett berendezés kétségtelen előnyei közé tartozik a technológiai egységek kis száma és kis súlya, a huzalt továbbító kielégítően megbízható és egyszerű szállítórendszer.

A bipoláris kezelést végző blokk katódszekciójában az elektrolit huzalfelületen bekövetkező kavitációja következtében megtörténik a huzal felületéről az olajszennyeződések eltávolítása és az olajszennyeződés maradványok elszappanosítása.

Az anódszekcióban bekövetkezik a huzal felületén jelenlévő passziváló réteg lebomlása atomi oxigén képződése mellett. Ennek következtében huzalfelületen egyenletes oxidfilm alakul ki.

A megtisztított huzal felületén jelenlevő oxidfilm viszonylag alacsony minőségű hegesztési varratok készítését teszi lehetővé. Oxidfilmek a hegesztési varat szilárdsági és plasztikus tulajdonságaira és különösen annak fajlagos ütőmunkájára ható negatív befolyása abban áll, hogy az oxidban található oxigén az olvadékban történő feloldódása során az elemi szénnel, kénnel és atomi hidrogénnel gáz halmazállapotú reakcióterméket képez, amelyek aztán a varratban pórusok keletkezéséhez és a megfolyt fém hegesztőív zónából történő intenzív kifröccsenéséhez vezet. Épp ezekből az okokból kifolyólag van szükség oxid hegesztőhuzal felületén észlelt jelenléte esetén arra, hogy a hegesztési zónában (különösen üzembiztonsági szempontból fontos szerkezetek hegesztése során) drága elemeket — például titán, alumínium stb. detoxidáló szereket — vezessenek be járulékosan.

Ezen túlmenően az oxidréteg erősen megnöveli a hegesztőhuzal és az árambevezető fúvókák közötti átmeneti érintkezési ellenállást és a hegesztőberendezések elektromos áramot bevezető részeinek növelt mértékű kopását, elégését és elektromos erózióját vonja maga után.

Ennek következtében az áram hozzávezetése nem lesz zavarmentes, romlik az elektróda bevezetési pontossága a hegesztési zónába és romlanak a jó miőségi hegesztési varrat kialakulásának feltételei is.

Ezen kívül az elektrolit kénsavtartalma a huzaltisztítás során növeli a fém hidrogéntartalmát (páctörékenység), ami az aktív hidrogénképződés és az atomi hidrogén fémbe történő felvételének következménye, és a huzaltisztító eljárás alacsony hőmérséklete és a kénhidrogén oldatban való jelenléte révén különösen elősegített huzalhólyagossághoz vezet. Amennyiben a hidrogén a hegesztési ömledékben egyensúlyi állapotig feloldódik, az ömledék kristályosodása szerint kidiffundál abból, ami a hegesztési varrat nem egyformán tömör pórusainak kialakulását vonja maga után.

A konyhasóoldat elektrolitként történő alkalmazása csökkenti a huzal korrozióállóságát a konyhasónak a huzal felületére ható depassziváló hatása miatt, ami szükségessé teszi azt, hogy a sót a fém felületéről gondosan, lehetőleg teljes mértékben eltávolítsák.

A huzalnak az elektrokémai tisztítást követő vízzel történő lemosása nem igazán hatásos, mivel a konyhasót a fém felületről csak kémiai kezeléssel, például a huzal salétromsav és sósav keverékben történő derítésével hajtható végre. Azonkívül a konyhasó klórtartalmú anyagként a hegesztés során keletkező foszgén révén mérgezést is okozhat. Az elektrolitban található agresszív savkomponensek jelenléte előre meghatározza innak szükségességét, hogy az egész berendezés egyes szerkezeti elemeit, készülékegységeit korrózióálló anyagból alakítsák ki, amelyet a járulékos szellőztető berendezések és szennyvízsemlegesítő és tisztító berendezések felszerelése és üzembehelyezése kísér, melyekkel együtt sem biztosítható az ismertetett berendezés környezetbarát üzemelése, valamint a kezelő személyzet részére kötelező egészségügyi-higiéniai munkanormák betartása vagy betartatása.

A 863 730 számú SU (szovjet) szerzői tanúsítvány olyan berendezést ismertet huzalok porko-31

HU 198971 Β hászati előállítására, amelyben elektrokémiai huzaltisztító berendezés található. Ez a berendezés bipoláris clektrolitikus kavitációs kezelést végző blokkot tartalmaz, amelynek egymás után elhelyezett katódszekciói és anódszekciói vannak. Elektrolitként 5 —7%-os vizes nátriumkarbonát oldatot alkalmaznak. Ezen kívül a berendezést az elektrokémiailag kezelt huzalt mosó és szárító készülékeket tartalmaz. A bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző blokk katódszekciójában az elektrolit huzalfelületen bekövetkező kavitációjának köszönhetően megtörténik az olajszennyeződések nagyrészének eltávolítása a huzal felületéről, valamint a maradék olajszenynyeződések elszappanosítása. Az anódszekcióban megtörténik a huzal felületén lévő passziváló réteg lerombolása, miközben atomi oxigén képződik. Eközben a huzal felületén ismét egyenletes oxidréteg keletkezik. Az elektrolitikus kavitációs kezelés a hegesztőhuzal felületnek például a mechanikai huzaltisztítással szemben lényegesen magasabb minőségű tulajdonságokat kölcsönöz.

Az elektrolitikus kavitációs eljárással kezelt felületű huzal korrózióállósága normál atmoszférikus körülmények között jobb, felületi jósága magasabb osztályba sorolható a kezelés során végbemenő polírozó hatás következtében, kétháromszor kevesebb maradékhidrogént tartalmaz és jelentősen csökkenti az elektródafém hegesztés során bekövetkező kifröccsenését.

Néhány felsorolt előnye ellenére az említett berendezés szintén nem képes megoldani a hegesztésnél alkalmazott huzalok kiváló minőségű tisztításának problémáját, így ezek a huzalok továbbra sem alkalmazhatók precíziós varratok előállításánál.

Üzembiztonsági fontosságú hegesztési varratok készítéséhez alkalmazott hegesztőhuzalok tisztítására a szóbanforgó berendezés azért nem alkalmas, mert a megtisztított termék felületén a tisztítás ellenére is marad egy olyan oxidmennyiség, amely elősegíti a hegesztési varratok pórusosságának kialakulását, és így a hegesztési varratok mechanikai és technológiai tulajdonságainak leromlását.

A találmánnyal célunk hegesztés során alkalmazott anyagok, elsősorban huzalok elektrokémiai tisztítására alkalmas berendezés létrehozása, amelyben olyan bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző blokk található a huzalkezelés ismert járulékos berendezéseivel együtt, amelyek lehetővé teszik, hogy a hegesztőhuzal kezelésének minőségét annyira megnöveljük, hogy az így kezelt huzalok precíziós gyártmányok hegesztésénél is felhaszálásra kerülhessenek.

A kitűzött feladat megoldása során hegesztés során alkalmazott anyagok, elsősorban huzalok elektrokémiai tisztítására alkalmas berendezésből indultunk ki, amelynek a tisztítandó huzal mozgásirányában egymást követően legalább egy bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző blokk és a tisztított huzalt mosó és szárító készülékek vannak, és ahol a bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző blokk egymás után elrendezett katódszekcióval és anódszekcióval rendelkezik, míg továbbfejlesztésünk értelmében az anódszekciót elektrolitikus plazmatron képezi, míg a tisztított huzalt mosó és szárító berendezések között kenőanyag védőbevonatot felhordó berendezés van beépítve.

Az elektrokémiai kezeléshez a jelen találmányban vizes nátriumszulfátoldatot alkalmazunk.

A bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végrehajtó blokk katódszekciójában lévő disszociált nátriumszulfáton áthaladó áram következtében az ottlévő huzal felületén lévő olajszennyeződés film robbanásszerűen szétrombolódik és eltávolítható az erőteljes hidrogénbuborék képződés következtében, valamint a folyamat az elektrolit kavitációjának számlájára írható hidrodinamikus volta miatt.

A hidrogén, amely flotációaktív hatóanyag, az olajat a katódszekció felső perifériális tartományába dotálja, ahol az kihabosodott termék alakjában egy állandó túlfolyón keresztül eltávozik.

Azáltal, hogy az anódszekció elektrolitikus plazmatronként van kiképezve, megtörténik benne a passziváló oxidfilm eltávolítása, amely a huzal felületén a katódos tisztítás után képződött.

A plazmatronban lejátszódó kisülési jelenségeket stabil gázréteg kialakulása kíséri a megmunkálandó huzal körül, ahol a gázréteget a különösen alkálifémek könnyen ionizálható atomjainak jelenlétében lejátszódó atomionizáció idézi elő.

A plazmatronban uralkodó magas hőmérséklet megakadályozza, hogy a gázburokban ballasztgázok, így nitrogén, hidrogéndioxid, oxigén, vízgőz keveredhessen a gázburokba és ennek következtében a termék felületén ismét valamilyen oxidfilm, jöhessen létre.

Az elektrolitikus plazmafolyamat az anódtartomány vizes nátriumszulfát oldatában a tisztítási zónában jelentkező feszültségpulzáció jellemzi, Ez a feszültségpulzáció hozza létre az oxidréteg teljes eltávolítását.

Ennek ellenére igen nehéz a huzalt olyan állapotban tartani, amilyen a kezelés végén fennáll, mivel a megtisztított huzal a levegőn gyorsan oxidálódik. A huzal mosását és szárítását végző berendezések között elhelyezett találmány szerinti berendezés adott kenőanyag védőbevonat huzalra való felhordásával lehetővé teszi a huzal tisztított állapotának tartós megtartását.

Ez a kenőanyag védőbevonat passziváló hatása következtében jelentős korrózió állóságot biztosít a huzalnak.

A fent ismertetett intézkedések eredményeként a hegesztőhuzal tisztítás minősége jelentősen nő és lehetővé válik az így megtisztított hegesztőhuzal precíciós termékek varratainál történő felhasználása. Az említett intézkedések javítják továbbá a hegesztőhuzal hegesztőberendezés vezetőcsatornáin történő áthaladását és csökkentik a hegesztő automaták előtolóművei által kifejtett húzóerőt is.

HU 198971Β

Azáltal, hogy a kenőanyag védőbevonatban kis mennyiségű alkálifémsó van jelen, végbemegy a huzal aktiválása, ami hozzájárul a hegesztési (v stabil égéséhez és fennmaradásához.

A találmány szerinti berendezés egy előnyös kiviteli alakja értelmében az elektrolitikus plazmatronnak az elektrolit bevezetésére és elvezetésére szolgáló nyílásokkal ellátott háza van, amelyen keresztül van a kezelendő huzal vezetve, és a ház két kerámialapot tartalmaz, melyek között keramikus hengeres palástövek vannak egymás után forgathatóan elrendezve.

A huzal kezelését az elektrolitikus plazmatrónban kisülési jelenségek kísérik.

Az elektrolitikus plazmatron előbb ismertetett kiviteli csökkenti a lökéshullámoknak a plazmatron belső felületére kifejtett hatását, amely optimális technológiai kezelési paraméterek megválasztását teszi lehetővé. Ez ismételten a huzal kezelési minőségének javulásához vezet és meghosszabbítja az elektrolitikus plazmatron élettartamát.

Fentieken túlmenően a palástövek hengeres alakja lehetővé teszi a plazmalronba vezetett elektrolitáram sebességének gyors csillapítását, valamint az elektrolit egyenletes eloszlását a plazmatron belsejében. Ez kizárja a turbulens elektrolitáramlások kialakulását és nagymértékben hozzájárul a szennyeződött elektrolitfrakció plazmatronból való hatékony eltávolításához. Ennek következtében gyorsan megtörténik az elektrolit cseréje, ami ugyancsak a huzalkezelési minőségét javítja.

A keramikus hengeres palástövek elforgatásának lehetősége lehetővé teszi az optimális elektrolitszint megválasztását és ezáltal gyors és pontos optimális kezelési módszer meghatározását. Ez különösen fontos olyan elektrolitikus plazmaeljárásoknál, amelyeknél az elektrolit szintje lényegesen befolyásolja a technológiai folyamatot.

Ugyancsak célszerű és előnyös a találmány szerinti berendezés olyan kiviteli alakja, amelynél minden egyes kerámia lapban legalább egy furat van kiképezve, amelybe olyan hüvely van behelyezve, amelyben excentrikusán kialakított huzalátvezető furat van kiképezve.

Az excentrikus hüvelyek alkalmazása egyszerűvé teszi a plazmatron beállítását és beigazítását a berendezés hossztengelyéhez és csökkenti a technológiai beállításhoz és beszabályozáshoz szükséges időt.

Ugyancsak előnyös a találmány értelmében, ha minden egyes kerámia lapban legalább egy olyan horony van bemunkálva, amelyben huzalátvezető vezetés van beültetve, amely felső részének a horonyból történő akadálytalan kihúzása érdekében osztottan van kialakítva.

A huzalátvezető vezetés osztott kialakítása lényegesen leegyszerűsíti a huzal bevezetésének folyamatát a plazmalronba, csökkenti a bevezetési műveletek által igénybevett időt és növeli a berendezés üzembiztonságát.

Célszerű továbbá a találmány szerinti berendezés olyan kiviteli alakja, amelynek értelmében a kerámialapok és a kerámia hegeres palástövek érintkezési tartományukban rugalmas tömítéseket befogadó gyűrűhornyokkal vannak ellátva.

A rugalmas tömítéseket befogadó gyűrűhornyok az elektrolitnak a plazmatronból történő kiszivárgásának meggátlására, valamint az elektrolitikus plazmakezelés során fellépő lökésszerű terhelések csillapítására szolgálnak.

Kívánatos, hogy a minden egyes kerámiahengeres palástövben kialakított huzalátvezető nyílás a palástöv akkora szektorára terjedten ki, amelynek ívhossza lényegében egyharmada az adott palástöv kerületi hosszának.

Az említett méretezés lehetővé teszi a technológiai folyamathoz szükséges elektrolitszint beállítását a plazmatronban és kedvező feltételeket teremt a szennyeződött és kihabosodott termékek eltávolításához, a plazmatron felső periférikus részéből, amelyek a huzal kezelése során keletkeznek.

Ha az említett szektor ívhossza kisebb, mint a paláslöv kerületi hosszának egyharmada, úgy az elektrolitszint megnő a plazmatronban, ami negatívan befolyásolja a huzalkezelés technológiai folyamatát.

Ha a szektor ívhossza nagyobb, mint a palástöv kerületi hosszának egyharmada, úgy az elektrolitszint a plazmatronban lesüllyed, amin ugyancsak negatívan befolyásolja a technológiai folyamat lezajlását.

Célszerű továbbá a találmány értelmében, ha a kenőanyag védőbevonatot felhordó berendezés védőbevonat kenőanyag fürdőből és a kenőanyag védőbevonatvisszavezető szivattyúból áll.

Az említett szerkezeti kialakítás kedvező feltételeket teremi a kenőanyag védőbevonat megújítása számára és stabilizálja a kenőanyag védőbevonat megbízható felhordását a kezelt huzalfelületre.

Előnyös továbbá, ha a huzalmosó berendezés legkevesebb két kamrát tartalmaz, amelyek egymás mögött vannak elrendezve, ahol a huzal haladási irányába nézve az első kamra mosóvízforrással, a második kamra pedig mosóvízforrással és sűrített levegő forrással áll összeköttetésben.

A második kamra jelenléte és kialakítása intenzívvé teszi a huzalfelület lemosását a salakszennyeződések és az elektrolitnyomok eltávolítására azáltal, hogy a sűrített levegő sugárral a mosóvizet örvénylő mozgásba hozza. További előnye, hogy a huzalfelület mosására felhasznált víz mennyisége is redukálódik.

Célszerű, ha a huzalszárító készülék legalább két pár görgőt tartalmaz, ahol minden egyes pár a görgő két oldalán, egymással szemben elhelyezett görgőből áll, amelyek őket villamosán hevítő áramforrással állnak kapcsolatban.

A huzalszárító készülék egyetlen kompakt építési egységként történő kialakításával és az alkalmazott villamos hővezetéses szárítással a huzalszárítás jó minősége és a fémbe diffundált hidrogén eltávolítása mellett annak a lehetőségét kínálja, hogy a berendezés méretei és súlya a szokásos nagyméretű, durva gőz- vagy gázműködésű léghevítőket tartalmazó szárítóberendezések el-51 hagyásával jelentősen csökkenthető.

Célszerű továbbá, ha a találmány értelmében a berendezés mechanikus huzaltisztftó készüléket tartalmaz, amely a bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző blokk előtt van a tisztítandó huzal mozgásirányában nézve elrendezve.

Ugyancsak célszerű és előnyös, ha a mechanikus huzaltisztftó készülék legalább kél fémfátyollal ellátott kefét tartalmaz, amelyek a huzal haladási irányával párhuzamosan forgathatóan vannak elrendezve, és hajtással összekötött tárcsából vannak összeépítve.

Amennyiben a kezelendő huzal felületén a szállításból és a raktározásból származó mechanikus szennyeződéseket, így rátapadt csomagolópapírt, szénport stb. tartalmaz, a plazmatronban végbemenő huzaltisztítás hatékonysága jelentősen csökken,

A mechanikus huzaltisztító készülék jelenléte, amelyet a fémfátyollal ellátott kefék jelentenek, lehetővé teszi az összes nagyobb mechanikai szennyeződés teljesérlékű eltávolítását a huzalfelületről. Ezután a huzalfelületen visszamaradó oxidrétegek és rozsda már eredményesen eltávolítható a plazmatronban.

A találmány szerinti berendezés szerkezeti kialakítása révén a hegesztésnél felhasznált huzal minősége az elektrokémiai tisztítás következtében lényegesen javul és lehetőséget teremt arra, hogy az így megtisztított huzalt precíziós gyártmányok hegesztései során precíziós varratok előállítására használják fel.

A találmányt az alábbiakban a rajz segítségével ismertetjük részletesebben, amelyen a huzalok elektrokémiai tisztítására alkalmas berendezés néhány példakánti kiviteli alakját tüntettük fel. A rajzon az

1. ábra a találmány szerinti berendezés egy lehetséges kiviteli alakjának vázlatos felépítése, a

2. ábrán a találmány szerinti plazmatron egy lehetséges kiviteli alakjának axonometrikus részábrázolása látható, a

3. ábra a 2. ábra III-III vonal mentén vett keresztmetszete, a

4. ábrán a találmány szerinti berendezés plazmatronjának egy további lehetséges kiviteli alakja látható axonometrikus rajzon részben kitörve, az

5. ábra a találmány szerinti berendezés egy részletének kinagyított vázlata, és a

6. ábrán az 5. ábra A jelű részletének megnövelt léptékű részlete látható.

A példaként bemutatott találmány szerinti berendezés 1. ábrán vázlatosan bemutatott felépítésben a következő részegységeket tartalmazza tisztítandó huzal haladási irányában nézve: Tisztítandó huzal kiinduló huzalt tartalmazó 1 lecsévélő berendezést, folyamatos technológiai műveletet biztosító 2 tompahegesztő berendezést, mechanikus huzaltisztító 3 készüléket bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést biztosító 4 blokkol, huzalmosó 5 készüléket, kenőanyag védőbevonatot felhordó 6 berendezést, huzalszárító 7 készüléket és 8 felcsévélő berendezést.

A bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző 4 blokk, a huzalmosó 5 készülék és a kenőanyag védőbevonatot felhordó 6 berendezés alatt 9 cirkulációs tartály van elhelyezve.

Ez a 9 cirkulációs tartály három 10, 11 és 12 szakaszra van osztva, amelyekben elektrolit, illetve víz, illetve kenőanyag védőbevonat található.

Az elektrolit bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző 4 blokkba történő bejuttatására a 9 cirkulációs tartály 10 szakasza 13 szivattyúval, továbbá az elektrolit elosztást végző 14 gyűjtőedénnyel, 15 lezáró és szabályozó armatúrával és 16 csővezetékekkel áll kapcsolatban.

A huzalmosó 5 készülékbe történő vízbevezetéshez a 9 cirkulációs tartály 11 szakasza 17 szivatytyúval és 18 csővezetékkel van összekötve.

A bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző 4 blokk egymás mögött elrendezett 19 katódszekciót és anódszekciót tartalmaz, mely utóbbi egyben 20 hivatkozási jelű elektrolitikus plazmatrónt alkotja.

Az elektrolitikus kavitációs kezelést végző 4 blokk táplálására 21 egyenáramú tápfeszültség szolgál.

A 19 katódszekció szolgál a tisztítandó huzal elektrolitikus kavitációs kezelésére, míg az anódszekció és a 20 plazmatron végzi a huzal elektrolitikus plazmakezelését, amely tökéletes oxidfilm eltávolítást biztosít a tisztítandó huzal felületéről.

Az elektrolitikus 20 plazmatron felépítése tetszőleges lehet, erre a célra bármilyen más ismert plazmatron konstrukció megfelel.

Az ismertetett példában az elektrolitikus 20 plazmatron a 2. ábrán látható módon elektrolit bevezetésre és elvezetésre szolgáló nyílásokkal ellátott 22 házat tartalmaz.

A 22 háznak két kerámia 23, 24 lapja van, amelyek között egymás után kerámia hengeres 25 palástövek vannak forgathatóan elrendezve.

A bemutatott esetben három 25 palástöv van a berendezésben kialakítva. A 25 palástövek száma természetesen tetszőleges lehet, a tisztítandó huzal mindenkori szükséges technológiai paramétereitől függ.

Minden egyes kerámia hengeres 25 palástövnek az elektrolit bevezetésére és elvezetésére szolgáló 26 nyílása van, amely a 3. ábrán látható jól.

A 26 nyílások egy-egy olyan szektort képeznek, melyek ívhossza lényegében a 25 palástöv kerületi hosszának egyharmadával azonos.

A 2. ábrán nyomonkövethető kerámia 23 lap és a 25 palástövek érintkezési helyükön rugalmas 28 tömítéseket befogadó 27 gyűrűhornyokkal rendelkeznek. Minden egyes kerámia 23 és 24 lap közepén 29 furat van kialakítva, amelybe 30 hüvely van forgathatóan behelyezve.

A bemutatott példában a kerémia 23 és 24 lapokon egy-egy furat van kiképezve. Természetesen minden egyes 23, 24 lapban kettő, három vagy több furat is kialakítható. A 29 furatok száma attól függ, hogy hány sorban van az elektrokémiai úton megtisztítandó huzal a találmány szerinti berendezésen átvezetve. A 30 hüvelynek

HU 198971 Β kezelendő huzalt átvezető 31 furata van, amely E excentricitással van a 30 hüvelyben kiképezve.

A kerámia 23, 24 lapok 29 furataiba helyezett 30 hüvelyek elforgatása révén végrehajtható a 20 plazmatron beállítása, amennyiben a 20 plazmatrón tengelyét a 30 hüvelyek excentrikus 31 furatainak beállításával hozzáigazítjuk a berendezés technológiai hossztengelyéhez.

A kerámia 23, 24 lapok négy 32 furatot tartalmaznak, amelyekben 33 csavaros kötőelemek vannak elhelyezve és 34 csavaranyával rögzítve, melyek segítségével a 25 palástövek egyetlen egységgé vannak összefogva.

A 20 plazmatronon belül az 1. ábrán látható módon 35 elektródák vannak felszerelve.

A bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző 4 blokk 19 katódszekciója tetszőleges ismert felépítésű lehet, azonban a bemutatott példában a berendezés gyártásának és összeszerelésének egyszerűsítése érdekében a 19 katódszekciót szerkezetileg hasonlóan ábrázoltuk, mint az előbb részletesen ismertetett felépítésű 20 plazmát ront.

A hegesztéstechnikai üzemeltetés sajátosságaitól függő számú, a berendezésen egyszerre átvezetett megtisztítandó huzal átmérője egyszerre akár egymástól eltérő lehet és széles tartományok között változhat. Ez viszont azzal jár, hogy a tisztítandó huzalt igen gyakran újra be kell fűzni a bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző 4 blokkba egy adott átmérőjű huzal másik átmérőjű huzalra történő átváltásakor. Ennek során a befőzési művelet időtartama és nehézségi foka bizonyos mértékben kihat a teljes találmány szerinti berendezés üzembiztonságára és hatékonyságára.

A bemutatott példában a találmány szeriuti berendezésnek csupán egyetlen bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző 4 blokkja van. Ezzel együtt két, három vagy több hasonló 4 blokk is elhelyezhető, ahol a 4 blokkok száma a kiindulási nyersanyagot alkotó kezelendő huzal szennyezettségi fokától és a tisztítására vonatkozó technológiai paraméterektől függ.

A huzal 4. ábrán bemutatott 36 plazmatronba történő könnyebb bevezetése érdekében a 36 plazmatron a feljebb leírttól kismértékben eltérő felépítésű is lehet. Ebbe az esetben minden egyes, a 4. ábrán bemutatott hengeres 25 palástöv hasonló felépítésű, mint a korábban ismertetett és a 2. ábrán bemutatott palástöv. A 36 plazmatron jellemző eltérése a két kerámia 37, 38 lap konstrukciójából fakad.

Az említett 37, 38 lapok mindegyikében felül nyitott 39 horony van bemunkálva, amelybe huzalátvezető 40 vezeték van beültetve. Ez a 40 vezeték felső részének a 39 horonyból történő szabad kihúzása érdekében osztottan van kivitelezve.

Az ismertetett példában a 37 és 38 lapokban egy-egy 39 horony van bemunkálva, azonban mindegyik 37, 38 lapban kettő, sőt több 39 horony is bemunkálható. A 39 hornyok száma attól függ, hogy egyidejűleg hány szál huzalt vezetünk keresztül a berendezésen az elektrokémiai tisztítás során.

A kerámia 25 palástövek által képzett egység ebben az esetben a rajzon közelebbről nem ábrázolt csavarkötéssel van összefogva, amely a kerámia 37, 28 lapok külső oldalán van rögzítve.

Jelen példában az elektrokémiai tisztítást végző berendezésnek az 1. ábrán látható 1 lecsévélő berendezése, 2 tompahegesztő berendezése és 8 felcsévélő berendezése van. Ezek felépítése a célnak megfelelő ismert, tetszőleges konstrukció lehet. Azon kívül a találmány más, közelebbről nem ismertetett kiviteli alakjánál az említett szerkezetekre nincs feltétlenül szükség, mivel a tisztítandó huzal más készülékekből vagy berendezésekből is bevezethető az elektrolitikus kavitációs kezelést végző 4 blokkba, majd a kezelés után ismert más készülékekkel vagy berendezésekkel elvezethető.

A 2 tompahegesztő berendezés mögött a tisztítandó huzal haladási irányában mechanikus huzaltisztító 3 készülék van elrendezve. A mechanikus huzaltisztító 3 készülék bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző 4 blokk előtti elhelyezeése azt a lehetőséget kínálja, hogy előbb eltávolíthatók a tisztítandó huzalról az összes viszonylag nagyobb mechanikus szennyeződések, majd ezek tökéletes eltávolítása után történik meg a huzal felületén visszamaradt oxidréteg és rozsda sikeres eltávolítása a 36 plazmatronban.

A mechanikus huzaltisztító 3 készüléknek az 5. ábrán bemutatott kiviteli alak szerint fémfátyolos 41 keféi vannak. Ezek a 41 kefék a tisztítandó huzal haladási irányával párhuzamosan, forgathatóan vannak felszerelve és több, a 6. ábrán közelebbről is látható 42 tárcsából állnak, amelyek az 5. ábrán feltünetett 43 hajtással állnak kapcsolatban. A 42 tárcsa csomag munkafelülete U-alakú 44 gyűrűhornyot képez a rajta áthaladó tisztítandó huzal számára.

A 6. ábrán bemutatott minden egyes 42 tárcsa olyan fémfátyollal van ellátva, amelyet a sugárirányú kiszakadás ellen 45 gyűrű biztosít. A fémfátylak vízszintes irányú eltolása ellen a fámfátylakat 46 hüvelyen keresztül 47 csavaranya biztosítja. Az ábrán látható módon az egyes 42 tárcsák tisztítandó huzallal bezárt a szöge nagyobb mint 90°. A 44 gyűrűhorony egybeesik a 42 tárcsákforgássíkjával, valamint a tisztítandó huzal haladási síkjával.

Az 1. ábrán látható bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző 4 blokk mögött huzalmosó 5 készülék van elrendezve. Ez az 5 készülék tetszőleges ismert, a célnak megfelelő felépítésű lehet. Jelen példában a huzalmosó 5 készülék két huzalmosó 48, 49 kamrát tartalmaz, amelynek egymás mögött vannak kialakítva. A tisztítandó huzal haladási irányában nézve első 48 kamra a 9 cirkulációs tartály 11 szakaszának vízforrásáVal áll kapcsolatban. A huzal haladási irányában nézve második 49 kamra 50, 51 csővezetékeken át a mindenkori vízforrással és sűrített levegő forrással áll összeköttetésben. A 49 kamra kialakítása intenzívebbé teszi a huzal felületi lemosását, a huzal felületére tapadt salakszenynyeződések és elektrolitnyomok lemosását azál-71 tál, hogy a sűrített levegő sugár a mosóvizet örvénylésbe hozza a 49 kamrában.

A huzalmosó 5 készülék mögött a megtisztított huzal korrózióvédelmének biztosítására kenőanyag védőbevonat felvitelére alkalmas 6 berendezés van elrendezve.

Ez a 6 berendezés is ismert, tetszőleges, a kitűzött célnak megfelelő felépítésű lehet. Jelen példában a kenőanyag védőbevonat felvitelére alkalmazott 6 berendezésnek 52 fürdője és bevonatot visszajuttató 53 szivattyúja van, amely 54 csővezetéken keresztül a 9 cirkulációs tartály 12 szakaszával áll összeköttetésben.

A kenőanyag védőbevonatot a megtisztított huzalra felvivő 6 berendezés mögött huzalszárító 7 készülék van elrendezve. Ez a 7 készülék is ismert a kitűzött célnak megfelelő tetszőleges kialakítású készülék lehet. Jelen esetben a huzalszárító 7 készüléknek két pár 55 görgője van, amelyek egymással átellenben vannak a megtisztított huzal két oldalán elhelyezve. Az 55 görgők fűtőáramot szolgáltató 56 áramforrásra vannak csatlakoztatva. A mindenkori áramforrás csatlakozási lehetőségei szerint három, négy vagy akár több görgőpár is elhelyezhető a huzalszárító 7 készülékben.

Az eddig ismertetett jellemzők olyan elektrokémiai huzaltisztító berendezésre vonatkoznak, amelynél a huzal egy sorban kerül átvezetésre. Természetesen a berendezések megfelelő módosításával két, három vagy akár több huzal is átvezethető egyidejűleg a berendezésen, ami tovább növeli annak hatékonyságát.

A felépítésében ismertetett huzaltisztító berendezés a következőképpen működik:

A 9 cirkulációs tartály megfelelő 10, 11 és 12 szakaszaiba betöltjük a szükséges elektrolitot, vizet és a huzal védőbevonatát alkotó kenőanyagot. Elektrolitként 10, 12%-os és 50 — 60 °C hőmérsékletű vizes nátriumszulfát oldatot használunk. Azáltal, hogy a találmány szerinti berendezésben semleges elektrolitot alkalmazunk, elmarad a drága szennyvízsemlegesítő és szennyvíztisztító, valamint járulékos szellőztető berendezések telepítése és üzemeltetése és kedvező körülményeket teremtünk a környezetvédelem számára, egyben egyszerű módon biztosítjuk a kezelő személyzet számára is az előírt egészségügyi — higiéniai munkaelőírásokat.

Kenőanyag védőbevonatként olyan szappanemulziót használunk, amely lítium vagy káliumszappan 60 + - 5 J hőmérsékletű 1,5%-os vizesoldala.

A tisztításra kiszemelt huzaltekercset a berendezés 1 lecsévélő berendezésére helyezzük, majd bekapcsoljuk a 13, 17 és 54 szivattyúkat és megkezdjük az elektrolit, a víz és a kenőanyag-védőbevonat felszivatását és továbbítását. A 15 lezáró- és szabályozó armatúra segítségével, valamint az clektrolitelosztó 14 gyűjtőedénnyel beállítjuk az elektrolitbevezetés szükséges intenzitását a bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző 4 blokkba.

A 35 elektródákat rákapcsoljuk a 21 egyenáramú tápegység pozitív pólusára. Bekapcsoljuk a mechanikus huzaltisztító 3 készüléket, a huzalmosó 5 készüléket, a kenőanyag védőbevonatot felvivő 6 készüléket, a huzalszárító 7 bereadezést és a 8 fclcsévéiő berendezést.

Miután a teljes huzalmennyiséget megtisztítottuk, az 1 lecsévélő berendezésre új huzaltekercset helyezünk és a 2 tompahegesztő berendezés segítségével az előzőleg megtisztított huzal végét és az újonnan felhelyezett huzaltekercsről lesévéit huzal kezdetét összehegesztjük, ezzel a tisztítandó huzalt mintegy végtelenítjük. Ilyen módon lehetséges a megtisztított huzal tetszés szerinti hosszúsága kezelése a találmány szerinti berendezésben.

A huzal mechanikus huzaltisztító 3 készülékkel történő tisztítását az alábbi módon végezzük:

Bekapcsoljuk a 41 kefék 43 hajtását. A forgásba lendülő 41 kévék fémfátyluk révén a U-alakú 44 gyűrűhoronnyal körülveszik a huzalt és a 44 gyűrűhoronyban tovahaladó huzalról letisztítják a rátapadt durva mechanikus szennyeződéseket. A mechanikus huzaltisztító 3 készülék lehetővé teszi, hogy az összes nagyobb mechanikus szennyeződést eltávolíthassuk a huzal felületéről, amelynek során csupán az elektrokémiai tisztítás által könnyen legyőzhető oxidréteg és rozsda marad.

A fémfátylakkal ellátott 41 kefék találmány szerinti konstrukciója kizárja a tisztítandó huzal hosszirányára keresztben húzódó gyűrűalakú, csavaralakú, vagy más karcolásokat, mivel a fémfátyol a találmány szerinti 41 kefe konstrukcióban egyenletesen gördül le a haladó huzal mentén. A 42 tárcsa csomag elrendezés lehetővé teszi, hogy a huzal tisztítását annak teljes kerülete mentén egyidejűleg elvégezzük.

A bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző 4 blokkon áthaladó huzal két módon tisztul meg:

— a 19 katódszekcióban végbemenő elektrolitikus kavitációs eljárás révén, és — a 20 plazmatronban (anódszekcióban), végbemenő elektrolitikus plazmaeljárás révén.

A huzaltisztftás mindkét fenti módszert magában foglaló mechanizmusának lényege a következő. A 19 katódszekcióban lévő disszociált nátriumszulfáton átfolyó áram hatására robbanásszerűen szétroncsolódik a huzalfelületen jelen lévő olajszennyeződés és a szétroncsolt szennyeződés a kiadós hidrogénbuborék fejlődésének és az elektrolit kavitációja során fellépő hidrodinamikus jelenségeknek köszönhetően leválik. A flotációaktív szerként ható hidrogén az olajat a 19 katódszckció felső periférikus tartományába flotálja, ahol az kihabosodott végtermék alakjában túlfolyón keresztül távolítható el. Az olajszennyeződések eltávolítása mellett a 19 katódszekció betölti a 20 plazmatron vonatkozásában az árambevezető cella funkcióját is, ahol a 20 plazmatron fő feladata a katódos tisztítás után képződött passziváló oxidfilm eltávolítása a huzal felületéről.

Az elektrolitikus plazmakezelés folyamata az elektromos tér enerigájának a termék kezelési zónájában történő lokalizálása, valamint a fém-81

HU 198971 Β elektrolit elválasztási határán létrehozott impulzusszerű elektromos kisüléssel tűnik ki. A kisülési jelenségeket a termék körül keletkező gázréteg kíséri, amely az atomok ionizációja révén jön létre, különösen könnyen ionizálható alkálifém atomok jelenlétében. Az anódos folyamat 1200 ’C meghaladó magas hőmérsékletének köszönhetően az említett gázrétegben nem keletkezhetnek ballasztgázok, így nitrogén, széndioxid, oxigén és vízgőz, így a megtisztított huzal felületén ilyen oxidréteg sem alakulhat ki.

Az elektrolit ik us plazmakezelés sajátosságai olyan pozitív tulajdonságokat jelentenek, amelyek egybeesnek a hegesztőhuzal, különösen precíziós hegesztéseknél alkalmazott hegesztőhuzal minőségi követelményeivel.

A huzalmosó 5 készülékben végbemenő elektrolitnyomlemosás a következőképpen zajlik le:

A fővezetékből tiszta víz áramlik az 50 csővezetéken át a huzal haladási irányában nézve második 49 kamrába, majd onnan a 9 cirkulációs tartály 11 szakaszába folyik le.

A mosás intenzívebbé tétele érdekében a 49 kamrába a vízzel egyidejűleg sűrített levegőt juttatunk az 51 csővezetéken át a sűrített levegőforrásból, ami előnyösen hozzájárul a víz örvénylő mozgásának kialakulásához.

A 49 kamrából kifolyó vizet all szakaszból 17 szivattyúval a 18 csővezetéken át a huzal haladási irányában nézve első 48 kamrába vezetjük. Ezáltal jelentősen redukálható a huzal mosásához elhasznált víz mennyisége.

A védőbevonatot alkotó szappanemulzió huzalfelületre történő felvitelét úgy biztosítjuk, hogy a huzal először a kenőanyag védőbevonatot felvivő 6 berendezés 52 fürdőjébe kerül, amelyben 53 szivattyú segítségével az 54 csővezetékkel rendszeresen szappanemulziót vezetünk a 9 cirkulációs tartály 12 szakaszából. A szappanemulziónak a megtisztított huzal felületére történő felvitelével a huzalt megvédjük a korróziótól, kizárjuk az egyes huzaltekercsek 8 felcsévélő berendezésen történő összetapadását és jelentősen csökkentjük azt az erőt, amely a tisztítandó huzalnak a hegesztőberendezés előtolóműve vezetőcsatornáin való áthúzásához szükséges. Ezenkívül a kisebb alkálifémsó mennyiség hozzájárul a huzal aktiválásához és a hegesztési ív stabil égéséhez is.

A huzalszárító 7 készülékben a rajta áthaladó huzal kenőanyag védőbevonatának felületi szárítása úgy történik, hogy a huzalt 200 - 250 ’C hőmérsékletre hevítjük azáltal, hogy elektromos áramot vezetünk át a huzalt megvezető, az 56 egyenfeszültségű áramforrással összekötött 55 görgőkön keresztül. A huzalszárító 7 berendezés elektromos hőátadást biztosító kompakt egységként történő kialakítása lehetővé teszi a jó minőségű huzalszárítás mellett a fémbe diffundált hidrogén eltávolítását, valamint a találmány szerinti berendezés méreteinek és súlyának csökkentését.

Az itt felsorolt munkafázisok után a megtisztított és kezelt huzalt a 8 felcsévélő berendezéssel fclcsévéljük, abonnal felhasználást helyére szállítható.

Claims (11)

1. Szabadalmi igénypontok

   1. Berendezés hegesztés során alkalmazott anyagok, elsősorban huzalok elektrokémiai tisztítására, amelyben a tisztítandó huzal haladási irányában legalább egy, egymás mögött elrendezett katódszekciót és anódszekciót tartalmazó bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző blokk, valamint huzalmosó készülék és huzalszárító készülék van elrendezve, azzal jellemezve, hogy az anódszekció elektrolitikus plazmatronként (20) van kialakítva, és a huzalmosó készülék (5) és a huzalszárító készülék (7) között kenőanyag védőbevonatot felhordó berendezés (6) van elrendezve.
2. 2. Az 1. igénypont szerinti berendezés, azzal jellemezve, hogy az elektrolitikus plazmatron (2) a kezelendő huzal által átjárt és elektrolit hozzávezető és elvezető nyílásokkal (6) ellátott házzal (22) rendelkezik, amely két kerámia lapot (23, 24, 37, 38) tartalmaz, amelyek között keramikus hengeres palástövek (25) vannak egymás mögött elforgathatóan elrendezve.
3. 3. A 2. igénypont szerinti berendezés, azzal jellemezve, hogy minden egyes kerámia lapban (23, 24) legalább egy furat (29) van kiképezve, amelybe olyan hüvely (30) van behelyezve, amelyben excentricitással (E) rendelkező huzalátvezető furat (31) van kiképezve.
4. 4. A 2. igénypont szerinti berendezés, azzal jellemezve, hogy minden egyes kerámia lapban (37, 38) legalább egy felül nyitott horony (39) van bemunkálva, amelybe huzalátvezető vezetés (40) van behelyezve, amely felső részének a horonyból (39) való szabad kihúzására osztottan van kialakítva.
5. 5. A 2. igénypont szerinti berendezés, azzal jellemezve, hogy a kerámialapok (23, 24, 37, 38) és a kerámia hengeres palástövek (25) érintkezési helyeiken rugalmas tömítést (28) befogadó gyűrűhoronyokkal (44) rendelkezik.
6. 6. A 2. igénypont szerinti berendezés, azzal jellemezve, hogy az elektrolit bevezető és elvezető nyílások (26) minden egyes kerámia hengeres palástövben (26) ki vannak képezve és olyan szektort alkotnak, melynek ívhossza lényegében palástöv (25) kerületi hosszának egyharmadával egyenlő.
7. 7. Az 1. igénypont szerinti berendezés, azzal jellemezve, hogy a kenőanyag védőbevonatot felhordó berendezés (6) kenőanyag fürdőt (53) és kenőanyag visszaszállító szivattyút (54) tartalmaz.
8. 8. Az 1. igénypont szerinti berendezés, azzal jellemezve, hogy a huzalmosó készüléknek (5) legalább két kamrája (49, 50) van, amelyek egymás mögött vannak elrendezve és a huzal haladási irányában nézve első kamra (49) vízforrással (18), a második kamra (50) pedig vízforrás és sűrített levegő forrás fővezetékeivel áll összeköttetésben.
9. 9. Az 1. igénypont szerinti berendezés, azzal jellemezve, hogy a huzalszárító készülék (7) legalább két pár görgőt (56) tartalmaz, amelyek párosával a huzal két oldalán, egymással átellenben vannak elrendezve és fűtőáramot szolgáltató áramforrásra vannak csatlakoztatva.
10. 10. Az 1. igénypont szerinti berendezés, azzal jellemezve, hogy mechanikus huzaltisztftó készüléke (3) van, amely a huzal haladási irányában nézve a bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző blokk (4) előtt van elrendezve.
11. 11. A 10. igénypont szerinti berendezés, azzal jellemezve, hogy a mechanikus huzaltisztító készüléknek (3) legalább két, fémfátyollal ellátott keféje (41) van, amelyek a huzal haladási irányával párhuzamosan forgathatóan vannak elhelyezve, és hajtással (43) összekapcsolt tárcsákból (42) vannak összeállítva.