FR3095777A1 - Materiau multicouches pour filtrer les ultraviolets, composition le comprenant, procede de traitement de matieres keratiniques le mettant en œuvre, et procede de preparation du materiau - Google Patents
Materiau multicouches pour filtrer les ultraviolets, composition le comprenant, procede de traitement de matieres keratiniques le mettant en œuvre, et procede de preparation du materiau Download PDFInfo
- Publication number
- FR3095777A1 FR3095777A1 FR1904826A FR1904826A FR3095777A1 FR 3095777 A1 FR3095777 A1 FR 3095777A1 FR 1904826 A FR1904826 A FR 1904826A FR 1904826 A FR1904826 A FR 1904826A FR 3095777 A1 FR3095777 A1 FR 3095777A1
- Authority
- FR
- France
- Prior art keywords
- polymer
- thickness
- layers
- layer
- vinyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 248
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 66
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims abstract description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 238000001914 filtration Methods 0.000 title abstract description 24
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 215
- -1 sodium aluminum fluoride Chemical compound 0.000 claims description 80
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 49
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 31
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 25
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 25
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 21
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims description 20
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 20
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 20
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 19
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 18
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 18
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 17
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 16
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 15
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 108010076876 Keratins Proteins 0.000 claims description 14
- 102000011782 Keratins Human genes 0.000 claims description 14
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 13
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 13
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 13
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 12
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 10
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 10
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 10
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229920000856 Amylose Polymers 0.000 claims description 9
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 9
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 claims description 9
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 9
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 claims description 9
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 9
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 9
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 8
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 8
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 claims description 8
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 8
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 8
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 8
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims description 8
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N Indium phosphide Chemical compound [In]#P GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 claims description 7
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 claims description 7
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 claims description 7
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 7
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 7
- SKJCKYVIQGBWTN-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl) methanesulfonate Chemical compound CS(=O)(=O)OC1=CC=C(O)C=C1 SKJCKYVIQGBWTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N (fluoren-9-ylideneamino) n-naphthalen-1-ylcarbamate Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2C1=NOC(=O)NC1=CC=CC2=CC=CC=C12 PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- JMMZCWZIJXAGKW-UHFFFAOYSA-N 2-methylpent-2-ene Chemical compound CCC=C(C)C JMMZCWZIJXAGKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 229910016036 BaF 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 claims description 6
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 6
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 claims description 6
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004054 acenaphthylenyl group Chemical group C1(=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 claims description 6
- HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N acetnaphthylene Natural products C1=CC(C=C2)=C3C2=CC=CC3=C1 HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 6
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 claims description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 6
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010431 corundum Substances 0.000 claims description 6
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N gallium phosphide Chemical compound [Ga]#P HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 235000012245 magnesium oxide Nutrition 0.000 claims description 6
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims description 6
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 claims description 6
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 6
- 229920002587 poly(1,3-butadiene) polymer Polymers 0.000 claims description 6
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 claims description 6
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 6
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 claims description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 claims description 5
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 claims description 5
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 claims description 5
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 claims description 5
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 claims description 5
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 claims description 5
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 claims description 5
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 claims description 5
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 claims description 5
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 5
- 125000003161 (C1-C6) alkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000882 C2-C6 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 claims description 4
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- MDPILPRLPQYEEN-UHFFFAOYSA-N aluminium arsenide Chemical compound [As]#[Al] MDPILPRLPQYEEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000000181 anti-adherent effect Effects 0.000 claims description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 claims description 4
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 claims description 4
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 claims description 4
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 claims description 4
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 4
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- CBECDWUDYQOTSW-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbut-3-enal Chemical compound CCC(C=C)C=O CBECDWUDYQOTSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WDYVUKGVKRZQNM-UHFFFAOYSA-N 6-phosphonohexylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCCCCCP(O)(O)=O WDYVUKGVKRZQNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N Acrolein Chemical compound C=CC=O HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical compound C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 claims description 3
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 claims description 3
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 claims description 3
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910005542 GaSb Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 claims description 3
- 229920001732 Lignosulfonate Polymers 0.000 claims description 3
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 claims description 3
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 claims description 3
- 229920012266 Poly(ether sulfone) PES Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 claims description 3
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 claims description 3
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 claims description 3
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 claims description 3
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L barium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ba+2] OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- INLLPKCGLOXCIV-UHFFFAOYSA-N bromoethene Chemical compound BrC=C INLLPKCGLOXCIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 claims description 3
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 claims description 3
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 claims description 3
- 229940105329 carboxymethylcellulose Drugs 0.000 claims description 3
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 3
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QHZOMAXECYYXGP-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-2-enoic acid Chemical compound C=C.OC(=O)C=C QHZOMAXECYYXGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000005677 ethinylene group Chemical group [*:2]C#C[*:1] 0.000 claims description 3
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 claims description 3
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 claims description 3
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- VTGARNNDLOTBET-UHFFFAOYSA-N gallium antimonide Chemical compound [Sb]#[Ga] VTGARNNDLOTBET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 claims description 3
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 claims description 3
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 claims description 3
- 125000005456 glyceride group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 claims description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 claims description 3
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 claims description 3
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 claims description 3
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000002632 lipids Chemical class 0.000 claims description 3
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical class COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000010445 mica Substances 0.000 claims description 3
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 claims description 3
- HNHVTXYLRVGMHD-UHFFFAOYSA-N n-butyl isocyanate Chemical compound CCCCN=C=O HNHVTXYLRVGMHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N n-propyl vinyl ketone Natural products CCCC(=O)C=C JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 3
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 3
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 claims description 3
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 claims description 3
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002285 poly(styrene-co-acrylonitrile) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 claims description 3
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 claims description 3
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 claims description 3
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 claims description 3
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 claims description 3
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 claims description 3
- ODGAOXROABLFNM-UHFFFAOYSA-N polynoxylin Chemical compound O=C.NC(N)=O ODGAOXROABLFNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 claims description 3
- IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate Chemical compound CCC[O-] IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 3
- FVRNDBHWWSPNOM-UHFFFAOYSA-L strontium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Sr+2] FVRNDBHWWSPNOM-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910001637 strontium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 claims description 3
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- AFNRRBXCCXDRPS-UHFFFAOYSA-N tin(ii) sulfide Chemical compound [Sn]=S AFNRRBXCCXDRPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000004916 (C1-C6) alkylcarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- WSQZNZLOZXSBHA-UHFFFAOYSA-N 3,8-dioxabicyclo[8.2.2]tetradeca-1(12),10,13-triene-2,9-dione Chemical compound O=C1OCCCCOC(=O)C2=CC=C1C=C2 WSQZNZLOZXSBHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 claims description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 claims description 2
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 claims description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KXNLCSXBJCPWGL-UHFFFAOYSA-N [Ga].[As].[In] Chemical compound [Ga].[As].[In] KXNLCSXBJCPWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005193 alkenylcarbonyloxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229920013820 alkyl cellulose Polymers 0.000 claims description 2
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WBFMCDAQUDITAS-UHFFFAOYSA-N arsenic triselenide Chemical compound [Se]=[As][Se][As]=[Se] WBFMCDAQUDITAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010951 brass Substances 0.000 claims description 2
- 239000010974 bronze Substances 0.000 claims description 2
- WEUCVIBPSSMHJG-UHFFFAOYSA-N calcium titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ca+2].[Ti+4] WEUCVIBPSSMHJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 2
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 claims description 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 2
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 2
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 claims description 2
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(iv) oxide Chemical compound O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005027 hydroxyaryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 claims description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 2
- 239000011686 zinc sulphate Substances 0.000 claims description 2
- 235000009529 zinc sulphate Nutrition 0.000 claims description 2
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 claims 2
- AIILQGIZEDIJMU-UHFFFAOYSA-N [Se-2].[Se-2].[Al+3].[Cu+2] Chemical compound [Se-2].[Se-2].[Al+3].[Cu+2] AIILQGIZEDIJMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- FPHIOHCCQGUGKU-UHFFFAOYSA-L difluorolead Chemical compound F[Pb]F FPHIOHCCQGUGKU-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 abstract description 20
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 231
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 111
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 106
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 63
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 53
- PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 20
- 238000004422 calculation algorithm Methods 0.000 description 13
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 12
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 10
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 239000004904 UV filter Substances 0.000 description 9
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 8
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 8
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 7
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 230000002068 genetic effect Effects 0.000 description 4
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 4
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 230000003711 photoprotective effect Effects 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 3
- 230000037072 sun protection Effects 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 230000002354 daily effect Effects 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 2
- 239000002552 dosage form Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000004224 protection Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 239000000516 sunscreening agent Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 description 2
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N Ammonium acetate Chemical compound N.CC(O)=O USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 1
- MJPAHCZVKNYYOD-UHFFFAOYSA-K [Pb](F)F.[F-].[Na+] Chemical compound [Pb](F)F.[F-].[Na+] MJPAHCZVKNYYOD-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ZAKAOZUIEHSPGA-UHFFFAOYSA-N [Se].[Se].[Cu] Chemical compound [Se].[Se].[Cu] ZAKAOZUIEHSPGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGZICOVULPINFH-UHFFFAOYSA-N acetic acid;butanoic acid Chemical compound CC(O)=O.CCCC(O)=O UGZICOVULPINFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001253 acrylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000318 alkali metal phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013528 artificial neural network Methods 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- QSDQMOYYLXMEPS-UHFFFAOYSA-N dialuminium Chemical compound [Al]#[Al] QSDQMOYYLXMEPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003203 everyday effect Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 238000001033 granulometry Methods 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000009830 intercalation Methods 0.000 description 1
- 230000002687 intercalation Effects 0.000 description 1
- YAFKGUAJYKXPDI-UHFFFAOYSA-J lead tetrafluoride Chemical compound F[Pb](F)(F)F YAFKGUAJYKXPDI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000012417 linear regression Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000006194 liquid suspension Substances 0.000 description 1
- 238000010801 machine learning Methods 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 230000005226 mechanical processes and functions Effects 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 1
- 235000013336 milk Nutrition 0.000 description 1
- 239000008267 milk Substances 0.000 description 1
- 210000004080 milk Anatomy 0.000 description 1
- 229920005615 natural polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 1
- 239000000825 pharmaceutical preparation Substances 0.000 description 1
- 229940127557 pharmaceutical product Drugs 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000011197 physicochemical method Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000003223 protective agent Substances 0.000 description 1
- 238000001338 self-assembly Methods 0.000 description 1
- 230000035807 sensation Effects 0.000 description 1
- 230000037307 sensitive skin Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- 230000000475 sunscreen effect Effects 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000699 topical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000007704 wet chemistry method Methods 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/0015—Pigments exhibiting interference colours, e.g. transparent platelets of appropriate thinness or flaky substrates, e.g. mica, bearing appropriate thin transparent coatings
- C09C1/0024—Pigments exhibiting interference colours, e.g. transparent platelets of appropriate thinness or flaky substrates, e.g. mica, bearing appropriate thin transparent coatings comprising a stack of coating layers with alternating high and low refractive indices, wherein the first coating layer on the core surface has the high refractive index
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/02—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by special physical form
- A61K8/0241—Containing particulates characterized by their shape and/or structure
- A61K8/0245—Specific shapes or structures not provided for by any of the groups of A61K8/0241
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/02—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by special physical form
- A61K8/0241—Containing particulates characterized by their shape and/or structure
- A61K8/0254—Platelets; Flakes
- A61K8/0258—Layered structure
- A61K8/0266—Characterized by the sequence of layers
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/19—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing inorganic ingredients
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/19—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing inorganic ingredients
- A61K8/25—Silicon; Compounds thereof
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/19—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing inorganic ingredients
- A61K8/29—Titanium; Compounds thereof
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/0015—Pigments exhibiting interference colours, e.g. transparent platelets of appropriate thinness or flaky substrates, e.g. mica, bearing appropriate thin transparent coatings
- C09C1/0051—Pigments exhibiting interference colours, e.g. transparent platelets of appropriate thinness or flaky substrates, e.g. mica, bearing appropriate thin transparent coatings comprising a stack of coating layers with alternating low and high refractive indices, wherein the first coating layer on the core surface has the low refractive index
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K2800/00—Properties of cosmetic compositions or active ingredients thereof or formulation aids used therein and process related aspects
- A61K2800/40—Chemical, physico-chemical or functional or structural properties of particular ingredients
- A61K2800/41—Particular ingredients further characterized by their size
- A61K2800/412—Microsized, i.e. having sizes between 0.1 and 100 microns
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/80—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
- C01P2002/84—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70 by UV- or VIS- data
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C2220/00—Methods of preparing the interference pigments
- C09C2220/20—PVD, CVD methods or coating in a gas-phase using a fluidized bed
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Birds (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Dermatology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Geometry (AREA)
- Cosmetics (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
Abstract
Titre : MATERIAU MULTICOUCHES POUR FILTRER LES ULTRAVIOLETS, COMPOSITION LE COMPRENANT, PROCEDE DE TRAITEMENT DE MATIERES KERATINIQUES LE METTANT EN ŒUVRE, ET PROCEDE DE PREPARATION DU MATERIAU
L’invention a pour objets i) un matériau multicouches ; ii) un procédé de préparation desdits matériaux multicouches; iii) une composition cosmétique comprenant un ou plusieurs matériaux multicouches ; iv) un procédé de traitement des matières kératiniques notamment humaines telles que la peau ; v) l’utilisation de matériau multicouches pour filtrer les rayons ultraviolets (UV). Ledit matériau multicouches est à nombre de couches N impaires : ■ comprenant au moins trois couches dont chaque couche est constituée d’un matériau A ou d’un matériau B différent de A, lesdites couches A et B successives étant alternées et deux couches adjacentes étant d’indices de réfractions différents ; ■ pour lequel l’épaisseur de chaque couche obéit à la formule mathématique (I) suivante : [x / y / ( α x / y) a / x] Formule (I) dans laquelle :x est l’épaisseur de la couche interne et externe ; y est l’épaisseur de la couche adjacente à la couche interne αx ou externe x; α est un nombre entier ou fractionnaire et α = 2 +/- 0 à 15 %, de préférence α = 2 +/- 0 à 10 %, plus préférentiellement α = 2 +/- 0 à 5 %,les couches impaires intermédiaires (αx) sont d’épaisseur double +/- 0 à 15% de l'épaisseur desdites couches externes x ; eta représente un nombre entier supérieur ou égal à 0, lié au nombre de couches N alternée tel que a = (N-3)/2; Etant entendu que : ■ de préférence x est d’épaisseur différente de y ; ■ lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur x cela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; ■ lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur y cela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et■ lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur α x cela signifie que chaque couche a une épaisseur α x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5%.
Description
L’invention a pour objets i) un matériau multicouches de structure particulière à nombre de couches impaires comprenant au moins trois couches dont lesdites couches successives sont alternées et dans lesquelles les couches adjacentes sont d’indices de réfractions différents ii) un procédé de préparation dudit matériau multicouches ; iii) une composition notamment une composition cosmétique comprenant un ou plusieurs matériaux multicouches ; iv) un procédé de traitement des matières kératiniques notamment humaines telles que la peau mettant en œuvre au moins ledit matériau multicouche i) ou ladite composition iii) ; v) l’utilisation de matériau multicouches pour filtrer les rayons ultraviolets (UV).
Divers types de filtres UV sont connus dans l’état de la technique par exemple, des filtres UV inorganiques encore nommés filtres minéraux tels que le dioxyde de titane (TiO2) et l'oxyde de zinc (ZnO), des filtres UV organiques tels que les dérivés de benzophénone et les dérivés cinnamiques.
Sur les marchés de la protection solaire et de la photoprotection quotidienne, la photoprotection à partir de filtres UV minéraux est une attente très importante des consommateurs du monde entier. Beaucoup d'entre eux considèrent les écrans solaires minéraux plus sûrs pour les peaux sensibles. Le TiO2et le ZnO sont les agents de protection solaire minéraux les plus courants dans les produits de photoprotection minérale. Cependant, l'efficacité du TiO2et du ZnO est limitée, en particulier dans la gamme de longueurs d'onde UV-A (320 nm à 400 nm). En outre, pour atteindre des valeurs de facteurs de protection solaires (FPS) élevées (par exemple 50), de grandes quantités de filtres UV sont nécessaires, induisant des effets de blanchiment importants et/ou des sensations désagréables après application sur la peau. Ainsi il est recherché des matériaux (in)organiques capables de bloquer efficacement les rayons UV (c’est-à-dire des matériaux ayant une faible transmission des rayons UV), en particulier dans la gamme UVA, et comportant une transparence élevée à la lumière visible (c’est-à-dire des matériaux ayant une haute transmission des rayons entre 400 et 780 nm), et qui ne blanchit pas après application.
Parmi les filtres UV utilisés en cosmétique, il est connu d’utiliser des particules multicouches. Par exemple, le document japonais JP 3986304 décrit un pigment multicouche de protection contre les rayons ultraviolets. Le document WO 2014/150846 A1 évoque des applications cosmétiques pour des pigments réfléchissant les rayons UV sur substrat. Le document WO 2003/063616 A1 décrit l'utilisation de pigments multicouches à base de substrats et à base de minéraux en forme de plaque, pour la coloration de produits alimentaires et pharmaceutiques. Le document US 20050176850 A1 mentionne des Pigments interférentiels à base de revêtement de TiO2sur des flocons de substrat transparents, ledit substrat ayant une épaisseur comprise entre 20 nm et 2 µm.
En outre, le document JP-A-2003-171575 décrit un pigment interférentiel de protection contre les rayons UV à interférence stratifié, qui comprend un pigment lamellaire ou plus plat recouvert de couches alternées comportant au moins trois couches d'un oxyde métallique ayant un indice de réfraction élevé et d'un oxyde métallique ayant un faible indice de réfraction. Le document JP-A-2014-811 décrit un procédé de fabrication d'un film mince multicouche sans substrat.
Le document US 2006/0027140 décrit un pigment interférentiel multicouche comprenant un substrat en forme de plaquette ou lamellaire « platelet-shaped substrate » qui est constitué de couches successives alternées de matériaux à haut et bas indice de réfraction, ledit pigment d'interférence ayant une épaisseur totale ≤ 1 µm.
Cependant, ces filtres ne sont pas toujours satisfaisants en termes de filtration des rayons UV. Ils n’ont notamment pas un front de filtration très étroit et une région de transmittance élevée dans les longueurs d'onde visibles les rendant très transparents, i.e. ils n’ont pas de front de filtration « raide » entre la région de transmittance basse (UV) et la région de transmittance élevée.
Il est également recherché de nouveaux matériaux comprenant peu de couches pour diminuer les couts de fabrication tout en améliorant les propriétés de protection solaire notamment dans les UVA et UVB.
En outre, il existe un besoin de fournir un matériau filtrant les rayons UV conçu pour pouvoir filtrer uniquement une fraction des rayonnements lumineuxi.e. lumière cibletelle que la gamme des longueurs d’onde des rayonnements UV et lumière, tels que UVA et B.
Un des objectifs de la présente invention est de mettre à disposition un matériau filtrant les rayons UV capable de filtrer uniquement les rayons UV, intrinsèquement et/ou éventuellement après sa mise en œuvre.
Pour ce faire, le matériau a intrinsèquement un front de filtration très étroit et/ou à un front de filtration très étroit après sa mise en œuvre, et une plage de transmittance élevée notamment dans les longueurs d'onde visibles, au-delà du « cut-off »
Ainsi, un des objectifs de l’invention est de mettre à disposition un matériau filtrant les rayons UV capable de filtrer uniquement les rayons UV, intrinsèquement et/ou éventuellement après sa mise en œuvre.
Nous avons découvert que le matériau de l’invention possède notamment comme propriété optique remarquable un front de filtration étroit entre UV et le visible et une transmittance élevée dans le visible i.e comportant une pente de transmittance sur longueur d’onde est « raide », i.e. supérieure à 2,5*10-3, de préférence supérieure à 3*10-3, plus préférentiellement supérieure à 4*10-3.
L'invention a également pour objet l'utilisation d'au moins un matériau multicouche pour filtrer les rayons UV, pour protéger les matières kératiniques et en particulier la peau contre les rayons UV, en particulier dans la gamme UVA.
L’invention concerne également une composition en particulier une composition cosmétique pour les soins solaires, les soins de la peau, les soins capillaires et le maquillage.
L'invention concerne également le matériau multicouche lui-même.
L’invention concerne aussi un mode de préparation particulier du matériau multicouche. L'invention concerne également un procédé d'application dudit matériau multicouche sur les matières kératiniques telles que la peau.
Le matériau multicouche de l’invention apporte une protection UV avec des propriétés de filtration UV élevée, une transparence exceptionnelle dans le domaine visible (400 à 780 nm) et une coupure bien définie « cut-off » intrinsèquement et/ou lors de sa mise en œuvre, dans différents modes d'application.
L’utilisation de tels matériaux multicouches de l’invention permet de mieux filtrer les UVA (320 nm à 400 nm), en particulier pour les UVA longs (340 nm à 400 nm) tout en maintenant une bonne transparence dans le domaine visible (400 nm à 780 nm). De plus, l'utilisation dudit matériau multicouche peut également permettre une bonne filtration des rayons UV-B (de 280 à 320 nm).
Au sens de la présente invention, et à moins qu’une indication différente ne soit donnée :
■l’expression «front de filtration» correspond à la gamme de longueur d’onde de la transition entre la valeur la plus basse et la valeur la plus haute de la transmittance (« cut-off transition range » ou « cut-off » en anglais) ;l’expression «longueur d’onde de coupure» (λc, cut-off en anglais), la valeur de la longueur d’onde au centre du front de filtration ;
■L’expression «pente de transmittance sur longueur d’onde» est définie comme suit : (Voir la figure 1)
■l’expression «au moins un» est équivalente à «un ou plusieurs» ; et
■l’expression «inclusivement» pour une gamme de concentrations signifie que les bornes de la gamme font partie de l’intervalle défini.
■Par «Alkyle» on entend un radical hydrocarboné, linéaire ou ramifié, saturé, comprenant entre 1 et 20 atomes de carbone, de préférence entre 1 et 6 atomes de carbone ;
■Par «Alkylène» on entend un radical hydrocarboné, linéaire ou ramifié, saturé, bivalent, comprenant de 1 à 20 atomes de carbone, de préférence entre 1 et 6 atomes de carbone,
■Par «Alkényle» on entend un radical hydrocarboné, linéaire ou ramifié, insaturé, comprenant entre 2 et 20 atomes de carbone, de préférence entre 2 et 6 atomes de carbone, et de 1 à 3 insaturations, conjuguées ou non conjuguées,
■Par «Aryle» on entend un radical carboné cyclique insaturé et aromatique, comprenant un ou plusieurs cycles dont au moins un des cycles est aromatique et comprenant de 5 à 10 atome de carbone, tel que phényle ;
■Par «Arylène» on entend un groupe aryle tel que défini précédemment divalent ;
■Par «(in)organique», on entend organique ou inorganique et de préférence inorganique ;
■Inorganique et minéral sont utilisés indifféremment
■l’expression «front de filtration» correspond à la gamme de longueur d’onde de la transition entre la valeur la plus basse et la valeur la plus haute de la transmittance (« cut-off transition range » ou « cut-off » en anglais) ;l’expression «longueur d’onde de coupure» (λc, cut-off en anglais), la valeur de la longueur d’onde au centre du front de filtration ;
■L’expression «pente de transmittance sur longueur d’onde» est définie comme suit :
■l’expression «au moins un» est équivalente à «un ou plusieurs» ; et
■l’expression «inclusivement» pour une gamme de concentrations signifie que les bornes de la gamme font partie de l’intervalle défini.
■Par «Alkyle» on entend un radical hydrocarboné, linéaire ou ramifié, saturé, comprenant entre 1 et 20 atomes de carbone, de préférence entre 1 et 6 atomes de carbone ;
■Par «Alkylène» on entend un radical hydrocarboné, linéaire ou ramifié, saturé, bivalent, comprenant de 1 à 20 atomes de carbone, de préférence entre 1 et 6 atomes de carbone,
■Par «Alkényle» on entend un radical hydrocarboné, linéaire ou ramifié, insaturé, comprenant entre 2 et 20 atomes de carbone, de préférence entre 2 et 6 atomes de carbone, et de 1 à 3 insaturations, conjuguées ou non conjuguées,
■Par «Aryle» on entend un radical carboné cyclique insaturé et aromatique, comprenant un ou plusieurs cycles dont au moins un des cycles est aromatique et comprenant de 5 à 10 atome de carbone, tel que phényle ;
■Par «Arylène» on entend un groupe aryle tel que défini précédemment divalent ;
■Par «(in)organique», on entend organique ou inorganique et de préférence inorganique ;
■Inorganique et minéral sont utilisés indifféremment
Matériau multicouches
Le premier objet de l’invention est un matériau multicouches à nombre de couches N impair :
■comprenant au moins trois couches (N supérieur ou égal à 3) dont chaque couche est constituée d’un matériau A ou d’un matériau B différent de A, lesdites couches A et B successives étant alternées et deux couches adjacentes étant d’indices de réfractions différents ;
■pour lequel l’épaisseur de chaque couche obéit à la formule mathématique(I)suivante :[x / y / ( α x / y) a / x]
Formule(I)dans laquelle :
xest l’épaisseur de la couche interne et externe ;
yest l’épaisseur de la couche adjacente à la couche interne αx ou externe x;
αest un nombre entier ou fractionnaire et α = 2 +/- 0 à 15 %, de préférence α = 2 +/- 0 à 10 %, plus préférentiellement α = 2 +/- 0 à 5 %,
les couches impaires intermédiaires (αx) sont d’épaisseur double +/- 0 à 15% de l'épaisseur desdites couches externes x ; et
areprésente un nombre entier supérieur ou égal à 0, lié au nombre de couches N alternée tel que a = (N-3)/2;
Etant entendu que :
de préférence x est d’épaisseur différente de y ;
lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5%.
■comprenant au moins trois couches (N supérieur ou égal à 3) dont chaque couche est constituée d’un matériau A ou d’un matériau B différent de A, lesdites couches A et B successives étant alternées et deux couches adjacentes étant d’indices de réfractions différents ;
■pour lequel l’épaisseur de chaque couche obéit à la formule mathématique(I)suivante :[x / y / ( α x / y) a / x]
Formule(I)dans laquelle :
xest l’épaisseur de la couche interne et externe ;
yest l’épaisseur de la couche adjacente à la couche interne αx ou externe x;
αest un nombre entier ou fractionnaire et α = 2 +/- 0 à 15 %, de préférence α = 2 +/- 0 à 10 %, plus préférentiellement α = 2 +/- 0 à 5 %,
les couches impaires intermédiaires (αx) sont d’épaisseur double +/- 0 à 15% de l'épaisseur desdites couches externes x ; et
areprésente un nombre entier supérieur ou égal à 0, lié au nombre de couches N alternée tel que a = (N-3)/2;
Etant entendu que :
de préférence x est d’épaisseur différente de y ;
lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5%.
Composition chimique des couches alternées superposées
Formes des composés constituant les couches superposées du matériau :
Le matériau multicouche est une superposition de couches différentes les unes des autres, chaque couche étant constituée d’un matériau A ou d’un matériau B différent de A, lesdites couches successives étant alternées et deux couches adjacentes étant d’indices de réfractions différents. Ainsi, si le composé multicouche comporte 3 couches, A peut constituer la couche externe et le matériau multicouche est représenté par l‘empilement A/B/A ou alors B peut constituer la couche externe et le matériau multicouche est représenté par l‘empilement B/A/B. De même, si le matériau multicouche comporte 5 couches, A peut constituer la couche externe et le matériau multicouche est représenté par l‘empilement A/B/A/B/A ou alors B peut constituer la couche externe et le matériau multicouche est représenté par l‘empilement B/A/B/A/B.
Les composés A et B sont des matériaux (in)organiques d’indices de réfraction différents. De préférence, la différence d’indice de réfraction entre le matériau A et le matériau B est d’au moins 0,3, en particulier cette différence est comprise entre 0,3 et 2, de préférence entre 0,4 et 2 et plus préférentiellement entre 0,5 et 1,8, encore plus préférentiellement entre 0,6 et 1,5 voire de manière encore plus préférée entre 0,7 et 1,3.
Selon une forme préférée de l’invention, les matériaux A et B sont des matériaux inorganiques.
Selon un mode de réalisation, la couche externe est une couche de plus faible indice de réfaction que la couche adjacente.
Selon un autre mode de réalisation, la couche externe est de plus haut indice de réfraction que la couche adjacente.
L’épaisseur de chaque couche est particulièrement comprise entre 5 et 500 nm et plus préférentiellement entre 10 à 200 nm.
L’empilement des différentes couches est tel que l’épaisseur de chaque couche obéit à formule mathématique (I) définie précédemment.
Le matériau (in)organique A (respectivement B) peut être constitué d’un unique composé pur ou d’un mélange de composés inorganiques, ou encore d’un mélange de composés organique et inorganiques, ou alors un mélange de composés organiques, étant entendu que A et B ont des indices de réfaction différents tel que décrit précédemment.
Selon une forme particulière de l’invention A et B sont différents et A et B sont indépendamment constitués d’un composé inorganique pur ou d’un mélange de composés inorganiques, étant entendu que A et B ont des indices de réfraction différents tel que décrit précédemment.
Selon une variante préférée de l’invention, A et B sont différents et A et B sont constitués d’un composé inorganique pur, étant entendu que A et B ont des indices de réfraction différents tel que décrit précédemment.
Lorsque les matériaux A et B sont constitués de matériaux inorganiques purs ou en mélange, ces composés inorganiques constituant A et B sont en particulier choisis parmi : le germanium (Ge), antimoniure de gallium (GaSb), le tellure (Te), l’arséniure d’indium (InAs), silicium (Si), l’arséniure de gallium (GaAs), le phosphure d’indium (InP), le phosphure de gallium (GaP), le graphite (C), le chrome (Cr), le tellurure de zinc (ZnTe), le sulfate de zinc (ZnSO4), le vanadium (V), le séléniure d’arsenic (As2Se3), le dioxyde de titane rutile (TiO2), le diséléniure de cuivre et d’aluminium (CuAlSe2), le titanate de calcium pérovskite (CaTiO3), le sulfure de d’étain (SnS), le séléniure de zinc (ZnSe), le dioxyde de titane anatase (TiO2), l’oxyde de cérium (CeO2), le nitrure de gallium (GaN), le tungstène (W), le manganèse (Mn), le dioxyde de titane notamment déposé sous vide (TiO2), le diamant (C), l’oxyde de niobium (Nb2O3), le pentoxyde de niobium (Nb2O5),l’oxyde de zirconium (ZrO2), le dioxyde de titane sol-gel (TiO2), le sulfure de zinc (ZnS), le nitrure de silicium (SiN), l’oxyde de zinc (ZnO), l’aluminium (Al), l’oxyde de hafnium (HfO2), l’oxyde d’aluminium corindon ou corindon (Al2O), l’oxyde d’aluminium (Al2O3), l’oxyde de yttrium (Y2O3), l’oxyde de magnésium périclase (MgO), le polysulfone, le fluorure de sodium aluminium (Na3AlF), le fluorure de plomb (PbF2), le mica , l’arséniure d’aluminium (AlAs), le chlorure de sodium (NaCl), le fluorure de sodium (NaF), la silice (SiO2), le fluorure de baryum (BaF2), le fluorure de potassium (KF), la silice déposée sous vide (SiO2), l’oxyde d’indium-étain (ITO), le fluorure de strontium (SrF2), le fluorure de calcium (CaF2), le fluorure de lithium (LiF), le fluorure de magnésium (MgF2).
Lorsque A et ou B contiennent des composés organiques, ceux-ci sont choisis parmile polystyrène (PS), le polycarbonate, l’urée formaldéhyde, les copolymères styrène-acrylonitrile, la polyéther sulfone (PES), le polychlorure de vinyle (PVC), les nylons polyamide notamment de type 6/6, les copolymères styrène butadiène, les nylons polyamide type II, les multipolymère acryliques tels que le polyméthacrylate de méthyle, les ionomères, le polyéthylène, le polybutylène, le polypropylène, le nitrate de cellulose, les homopolymères d’acétal tels que le polyformaldehyde, les polymères de méthylpentène, l’éthylcellulose, l’acétate butyrate de cellulose, le propionate de cellulose, l’acétate de cellulose, le chlorotrifluoro-éthylène (CTFE), le polytétrafluro-éthylène (PTFE), fluorcarbone ou polyfluorure de vinylidène (FEP).
Selon une forme préférée de l’invention, A et B sont constitués de matériaux inorganiques purs, ces composés inorganiques constituant A et B sont en particulier choisis parmi : le dioxyde de titane anatase (TiO2), le dioxyde de titane notamment déposé sous vide (TiO2), le dioxyde de titane sol-gel (TiO2), la silice (SiO2), la silice déposée sous vide (SiO2).
Indice de réfraction des composés constituant les couches superposées du matériau
Le matériau multicouche de l’invention est à nombre de couches (N) impaires et comprend au moins trois couches dont les couches successives sont alternées et dans lesquelles les couches sont constituées de composés (in)organiques d’indices de réfraction différents qui diffèrent de préférence d’au moins 0,3.
Les compositions chimiques des couches superposées peuvent être représentées de la manière suivante :x/y/α x/y/xoux/y/α x/y/xoux/y/α x/y/α x/y/xoux/y/α x/y/α x/y/xoux/y/α x/y/α x/y/xoux/y/α x/y/α x/y/α x/y/xoux/y/α x/y/α x/y/α x/y/xoux/y α x/y/α x/y/α x/y/xoux/y/α x/y/α x/y/α x/y/x... avecx,y, des couches d’indice de réfraction diffèrent constituées chacune de composés (in)organiques purs ou alors un mélange de composés (in)organiques et plus particulièrement de composés inorganiques purs. Toutes les couchesxpossèdent le même indice de réfraction entre elles, et toutes les couchesypossèdent le même indice de réfraction entre elles, et α xtel que défini précédemment.
Selon un mode de réalisation particulier les couches adjacentes sont telles qu’une couche est constituée de composé(s) (in)organique(s) d’indice de réfraction, et l’autre couche adjacente est constituée de composé(s) (in)organique(s) d’indice de réfraction plus faible i.e. la valeur d'indice de réfraction de la couche est supérieure à l'indice de réfraction de l’autre couche adjacente d’au moins 0,3.
En particulier la différence d’indice de réfraction entre les couches adjacentes est comprise inclusivement entre 0,3 et 2, de préférence entre 0,4 et 2, plus préférentiellement entre 0,5 et 1,8, encore plus préférentiellement entre 0,6 et 1.5 voire encore plus préférentiellement entre 0,7 et 1,3.
Liste des composés (in)organiques et exemples d’indices de réfractions constituant les couches superposées du matériau :
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention, les composés à haut indice de réfraction (ou indice de réfraction élevé i.e. à indice de réfraction supérieur ou égal à 1,7) sont en particulier des composés inorganiques et de préférence choisis parmi les germanium (formule : Ge; indice de réfraction : 4,0-5,0), antimoniure de gallium (GaSb; 4,5-5,0), tellure (Te; 4,6), arseniure d’indium (InAs; 4,0), silicium (Si; 3,97), arséniure de gallium (GaAs; 3,53), phosphure d’indium (InP; 3,5), phosphure de gallium (GaP; 3,31), graphite (C; 3,13), chrome (Cr; 3,0), tellurure de zinc, sulfate de zinc (ZnSO4; 3,0), (ZnTe; 3,0), vanadium (V; 3), sulfate de zinc (ZnSO4; 2,5-3,0), séléniure d’arsenic (As2Se3; 2,8), dioxyde de titane rutile (TiO2; 2,77), CuAlSe2(2,75), titanate de calcium perovskite (CaTiO3; 2,74), sulfure d’étain (SnS; 2,6), séléniure de zinc (ZnSe; 2,6), dioxyde de titane anatase (TiO2; 2,55), oxyde de cérium (CeO2; 2,53), nitrure de gallium (GaN; 2,5), tungstène (W; 2,5), manganèse (Mn; 2,5), le dioxyde de titane notamment déposé sous vide (TiO2; 2,5), diamant (2,42), oxyde de niobium (Nb2O3; 2,4), pentoxyde de niobium (Nb2O5; 2,4), oxyde de zirconium (ZrO2; 2,36), dioxyde de titane sol-gel (TiO2; 2,36), sulfure de zinc (ZnS; 2,3) nitrure de silicium (SiN; 2,1), oxyde de zinc (ZnO; 2,01), aluminium (Al; 2,0), oxyde de hafnium (HfO2; 1,9-2,0), oxyde d’aluminium corindon ou corundum (Al2O3; 1,76), oxyde d’aluminium (Al2O3; 1,75), oxyde de yttrium (Y2O3; 1,75), oxyde de magnésium périclase (MgO; 1,74).
Deux composés ou plus à haut indice de réfraction peuvent être utilisés en mélange, de préférence entre 2 et 5 composés, particulièrement 2.
De préférence les composés à haut indice de réfraction sont utilisés purs.
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention, les composés inorganiques à faible indice de réfraction i.e. à indice de réfraction inférieur à 1,7 sont choisis parmi : polysulfone (1,63), fluorure de sodium aluminium (Na3AlF6; 1,6), fluorure de plomb (PbF2; 1,6),mica (1,56), arséniure d’aluminium (AlAs; 1,56), chlorure de sodium (NaCl; 1,54), fluorure de sodium (NaF; 1,5), silice (SiO2; 1,5), fluorure de baryum (BaF2; 1,5), fluorure de potassium (KF; 1,5), silice déposée sous vide (SiO2; 1,46), oxyde d’indium-étain (ITO; 1,46), fluorure de lithium (LiF4; 1,45), fluorure de strontium (SrF2; 1,43), fluorure de calcium (CaF2; 1,43), fluorure de lithium (LiF; 1,39), fluorure de magnésium (MgF2; 1,38), et les composés organiques sont choisis parmi polyéther-imide (PEI; 1,6), polystyrène (PS; 1,6), PKFE (1,6), polycarbonate (1,58), urée formaldéhyde (1,54-1,58), copolymère de styrène-acrylonitrile (1,56), polyéther sulfone (PES; 1,55), polychlorure de vinyle (PVC, 1,55), nylons polyamide type 6/6 (1,53), styrène butadiène (1,52), nylons polyamide type II (1,52), multipolymère acryliques (1,52), ionomères (1,51), polyéthylène (1,5), polymétacrylate de méthyle (PMMA, 1,5), polybutylène (1,50), acétate de cellulose (1,46-1,50), polyallomère (PA; 1,49), polypropylène (1,49), nitrate de cellulose (1,49), homopolymère d’acétal (1,48), polymère de méthylpentène (1,48), éthylcellulose (1,47), acétate butyrate de cellulose (1,46), propionate de cellulose (1,46), acétate de cellulose (1,46), chlorotrifluoro-éthylène (CTFE; 1,42), polytétrafluro-éthylène (PTFE; 1,35), fluorcarbone ou polyfluorure de vinylidène (FEP; 1,34).
Deux composés ou plus à faible indice de réfraction peuvent être utilisés en mélange, de préférence entre 2 et 5 composés, plus préférentiellement 2.
De préférence les composés à faible indice de réfraction sont utilisés purs. Selon un mode de réalisation préféré de l’invention les composés à haut indice de réfraction sont choisis parmi les oxydes métalliques particulièrement les oxydes métalliques de métaux se trouvant dans le tableau périodique des éléments dans les colonnes IIIA, IVA, VA, IIIB et les lanthanides, plus particulièrement choisis parmi les oxydes métalliques suivants : TiO2, CeO2, Nb2O3, Nb2O5, HfO2, Al2O3, Y2O3, et ZrO2, plus préférentiellement TiO2, CeO2et encore plus préférentiellement TiO2.
Selon un mode de réalisation avantageux de l’invention les composés à faible indice de réfraction sont choisis parmi les oxydes métalliques et halogénures ; particulièrement les oxydes métalliques de métaux se trouvant dans le tableau périodique des éléments dans les colonnes IIA, IVB et VIIB, plus particulièrement les oxydes métalliques à faible indice de réfraction sont choisis parmi le SiO2, MgO, et ITO, et les fluorures notamment Na3AlF6, MgF2, PbF2, CaF2, KF, LiF,BaF2, NaF, et SrF2, et préférentiellement choisi parmi ITO, SiO2, et MgO, plus préférentiellement SiO2, ou MgO, encore plus préférentiellement SiO2.
Selon encore un autre mode de réalisation particulier de l’invention les couches adjacentes sont d’indice de réfraction élevés et la différence d’indice de réfraction entre les couches adjacentes est comprise inclusivement entre 0,3 et 2, de préférence entre 0,4 et 2, plus préférentiellement entre 0,5 et 1,8, encore plus préférentiellement entre 0,6 et 1,5 voire encore plus préférentiellement entre 0,7 et 1,3.
Selon encore une autre variante de l’invention les couches adjacentes sont de faible indice de réfraction et la différence d’indice de réfraction entre les couches adjacentes est comprise inclusivement entre 0,3 et 2, de préférence entre 0,4 et 2, plus préférentiellement entre 0,5 et 1,8, encore plus préférentiellement entre 0,6 et 1,5 voire encore plus préférentiellement entre 0,7 et 1,3.
Nombre de couches superposées du matériau N :
Le matériau multicouche de l’invention comprend au moins trois couches (N supérieur ou égal à 3). Selon un mode particulier de l’invention le nombre de couches N est impair et compris entre 3 et 17, plus particulièrement entre 3 et 13, encore plus particulièrement entre 3 et 9.
Épaisseur des couches du matériau :
Relations entre les couches du matériau de l’invention et l’épaisseur des couches
Le matériau multicouches de l’invention est un matériau à nombre de couches N impair :
■comprenant au moins trois couches (N supérieur ou égal à 3) dont chaque couche est constituée d’un matériau A ou d’un matériau B différent de A, lesdites couches A et B successives étant alternées et deux couches adjacentes étant d’indices de réfractions différents ;
■pour lequel l’épaisseur de chaque couche obéit à la formule mathématique(I)suivante :[x / y / ( α x / y) a / x]
Formule(I)dans laquelle :
xest l’épaisseur de la couche interne et externe ;
yest l’épaisseur de la couche adjacente à la couche interne αx ou externe x;
αest un nombre entier ou fractionnaire et α = 2 +/- 0 à 15 %, de préférence α = 2 +/- 0 à 10 %, plus préférentiellement α = 2 +/- 0 à 5 %,
les couches impaires intermédiaires (αx) sont d’épaisseur double +/- 0 à 15% de l'épaisseur desdites couches externes x ; et
areprésente un nombre entier supérieur ou égal à 0, lié au nombre de couches N alternée tel que a = (N-3)/2;
Etant entendu que :
de préférence x est d’épaisseur différente de y ;
lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5%.
■comprenant au moins trois couches (N supérieur ou égal à 3) dont chaque couche est constituée d’un matériau A ou d’un matériau B différent de A, lesdites couches A et B successives étant alternées et deux couches adjacentes étant d’indices de réfractions différents ;
■pour lequel l’épaisseur de chaque couche obéit à la formule mathématique(I)suivante :[x / y / ( α x / y) a / x]
Formule(I)dans laquelle :
xest l’épaisseur de la couche interne et externe ;
yest l’épaisseur de la couche adjacente à la couche interne αx ou externe x;
αest un nombre entier ou fractionnaire et α = 2 +/- 0 à 15 %, de préférence α = 2 +/- 0 à 10 %, plus préférentiellement α = 2 +/- 0 à 5 %,
les couches impaires intermédiaires (αx) sont d’épaisseur double +/- 0 à 15% de l'épaisseur desdites couches externes x ; et
areprésente un nombre entier supérieur ou égal à 0, lié au nombre de couches N alternée tel que a = (N-3)/2;
Etant entendu que :
de préférence x est d’épaisseur différente de y ;
lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5%.
Comme mentionné précédemment, les première et dernière couches peuvent être constituées soit de matériau A à indice de réfraction plus élevé que B, soit de matériau A à plus faible indice de réfraction que B.
De préférence, plus l’indice de réfraction est élevé, plus l’épaisseur des couches successives x ou y est faible et vice versa plus l’indice est faible, plus l’épaisseur des couches x ou y sera élevée.
De préférence l’épaisseurxest inférieure à l’épaisseury.
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention l’épaisseur maximale de chaque couche du matériau multicouche de l’invention est de 120 nm, plus particulièrement l’épaisseur maximale de chaque couche est de 100 nm. De préférence l’épaisseur x est y est comprise entre 5 et 60 nm, plus préférentiellement comprises entre 10 et 50 nm et encore plus préférentiellement comprises entre 20 et 40 nm.
Selon une variante avantageuse de l’invention, dans la formule mathématique(I), « a » est un nombre entier supérieur ou égal à 0 et compris entre 0 à 7, (0 ≤ a ≤ 7; donc 3 ≤ N ≤ 17). Plus préférentiellement, «a» est compris entre 0 à 5 (0 ≤ a ≤ 5; donc 3 ≤ N ≤ 13) et encore plus préférentiellement «a» est compris entre 0 à 3 ((0 ≤ a ≤ 3; donc 3 ≤ N ≤ 9). ).
De préférence le matériau multicouche de l’invention est à nombre de couches N compris entre 3 et 17 comme suit :
Dans le cas particulier où N = 3, la formule mathématique développée (I) devient :
[x / y / x]
Dans le cas particulier où N = 5, la formule mathématique développée (I) devient :
[x / y / α x / y / x]
Dans le cas particulier où N = 7, la formule mathématique développée (I) devient :
[x / y / α x / y / α x / y / x]
Dans le cas particulier où N = 9, la formule mathématique développée (I) devient :
[x / y / α x / y / α x / y / α x / y / x]
Dans le cas particulier ou N = 11, la formule mathématique développée (I) devient :
[x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / x]
Dans le cas particulier ou N = 13, la formule mathématique développée (I) devient :
[x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / x]
Dans le cas particulier ou N = 15, la formule mathématique développée (I) devient :
[x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / x]
Dans le cas particulier ou N = 17, la formule mathématique développée (I) devient :
[x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / x]
Etant entendu que pour chaque cas particulier :
de préférence x est d’épaisseur différente de y ;
lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5%.
De préférence le matériau multicouche de l’invention est à nombre de couches N compris entre 3 et 17 comme suit :
Dans le cas particulier où N = 3, la formule mathématique développée (I) devient :
[x / y / x]
Dans le cas particulier où N = 5, la formule mathématique développée (I) devient :
[x / y / α x / y / x]
Dans le cas particulier où N = 7, la formule mathématique développée (I) devient :
[x / y / α x / y / α x / y / x]
Dans le cas particulier où N = 9, la formule mathématique développée (I) devient :
[x / y / α x / y / α x / y / α x / y / x]
Dans le cas particulier ou N = 11, la formule mathématique développée (I) devient :
[x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / x]
Dans le cas particulier ou N = 13, la formule mathématique développée (I) devient :
[x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / x]
Dans le cas particulier ou N = 15, la formule mathématique développée (I) devient :
[x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / x]
Dans le cas particulier ou N = 17, la formule mathématique développée (I) devient :
[x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / x]
Etant entendu que pour chaque cas particulier :
de préférence x est d’épaisseur différente de y ;
lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5%.
Selon une forme préférée de l’invention, le matériau multicouche de l’invention est tel que :
■le nombre de couches N du matériau multicouche est tel que N est égal à 3, 5, 7, 9, 13 et 17 , et/ou
■A et B constituant chacune des couches alternées dudit matériau multicouche sont des matériaux inorganiques purs choisis parmi le dioxyde de titane anatase (TiO2), le dioxyde de titane notamment déposé sous vide (TiO2), le dioxyde de titane sol-gel (TiO2), la silice (SiO2), la silice déposée sous vide (SiO2), et/ou
■deux couches adjacentes d’indices de réfractions différents tels que la différence d’indice de réfraction entre le matériau A et le matériau B est comprise entre 0,3 et 2, de préférence entre 0,4 et 2 et plus préférentiellement entre 0,4 et 1,8, encore plus préférentiellement entre 0,6 et 1,5 voire de manière encore plus préférée entre 0,7 et 1,3 ; et/ou
■les épaisseurs de chacune des couches de matériau A et de matériau B sont inférieures à 100 nm ; et
■l’épaisseur de chaque couche obéit à la formule mathématique (I) telle que définie précédemment.
■le nombre de couches N du matériau multicouche est tel que N est égal à 3, 5, 7, 9, 13 et 17 , et/ou
■A et B constituant chacune des couches alternées dudit matériau multicouche sont des matériaux inorganiques purs choisis parmi le dioxyde de titane anatase (TiO2), le dioxyde de titane notamment déposé sous vide (TiO2), le dioxyde de titane sol-gel (TiO2), la silice (SiO2), la silice déposée sous vide (SiO2), et/ou
■deux couches adjacentes d’indices de réfractions différents tels que la différence d’indice de réfraction entre le matériau A et le matériau B est comprise entre 0,3 et 2, de préférence entre 0,4 et 2 et plus préférentiellement entre 0,4 et 1,8, encore plus préférentiellement entre 0,6 et 1,5 voire de manière encore plus préférée entre 0,7 et 1,3 ; et/ou
■les épaisseurs de chacune des couches de matériau A et de matériau B sont inférieures à 100 nm ; et
■l’épaisseur de chaque couche obéit à la formule mathématique (I) telle que définie précédemment.
Selon un premier mode de réalisation de cette forme préférée de l’invention, la couche externe est une couche de plus faible indice de réfaction que la couche adjacente.
Selon un second mode de réalisation de cette forme préférée de l’invention, la couche externe est de plus haut indice de réfraction que la couche adjacente.
Selon un mode de réalisation particulier, la composition chimique et l'épaisseur des matériaux multicouches de l’invention à N est égal à 3, 5, 7, 9, 13 et 17 couches sont mentionnées dans le tableau ci-dessous avec des épaisseurs pour chaque couche inférieures à 100 nm. Dans ces modes de réalisation préférés, le composé (in)organique à indice de réfraction élevé, en particulier inorganique est du TiO2et le composé (in)organique à plus faible indice de réfraction, en particulier également inorganique est du SiO2, avec des indices de réfraction respectifs de 2,5 et 1,5 à 440 nm. De préférence les couches externes des matériaux multicouches de l’invention sont constituées de composés (in)organiques, en particulier inorganiques, d’indice de réfraction le plus élevé.
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention les matériaux multicouches comportent entre 3 et 17 couches et sont tels que : Etant entendu que :
■de préférence x est d’épaisseur différente de y ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5%.
■de préférence x est d’épaisseur différente de y ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5%.
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention les matériaux multicouches sont tels que :
■A et B sont des matériaux inorganiques ou organiques, de préférence inorganiques, des couches adjacentes avec A possédant un indice de réfraction supérieur à celui du matériau B, la différence d’indice de réfraction entre les couches adjacentes étant de préférence comprise inclusivement entre 0,3 et 2, de préférence entre 0,4 et 2, plus préférentiellement entre 0,5 et 1,8, encore plus préférentiellement entre 0,6 et 1,5 voire encore plus préférentiellement entre 0,7 et 1,3 ; et
■ xetysont les épaisseurs des couches du matériau avecx<y, de préférence elles ont telles que 5 nm ≤x≤ 40 nm et 10 nm ≤y≤ 50 nm, plus préférentiellement 10 nm ≤x≤ 30 nm et 20 nm ≤y≤ 40 nm,
étant entendu que les épaisseurs de couchesxentres elles,α xentres elles etyentres elles sont identiques,αétant tel que défini précédemment.
■A et B sont des matériaux inorganiques ou organiques, de préférence inorganiques, des couches adjacentes avec A possédant un indice de réfraction supérieur à celui du matériau B, la différence d’indice de réfraction entre les couches adjacentes étant de préférence comprise inclusivement entre 0,3 et 2, de préférence entre 0,4 et 2, plus préférentiellement entre 0,5 et 1,8, encore plus préférentiellement entre 0,6 et 1,5 voire encore plus préférentiellement entre 0,7 et 1,3 ; et
■ xetysont les épaisseurs des couches du matériau avecx<y, de préférence elles ont telles que 5 nm ≤x≤ 40 nm et 10 nm ≤y≤ 50 nm, plus préférentiellement 10 nm ≤x≤ 30 nm et 20 nm ≤y≤ 40 nm,
étant entendu que les épaisseurs de couchesxentres elles,α xentres elles etyentres elles sont identiques,αétant tel que défini précédemment.
Selon un mode de réalisation préféré de l’invention les matériaux multicouches comportent entre 3 et 17 couches et sont tels que :
Matériaux multicouches dans lesquelsxetysont telles quex<y, et de préférence 5 nm ≤x≤ 40 nm et 10 nm ≤y≤ 50 nm et, plus préférentiellement 10 nm ≤x≤ 30 nm et 20 nm ≤y≤ 40 nm etx<y,
étant entendu que :
■de préférence x est d’épaisseur différente de y ;
■les épaisseurs de couches x entres elles,αx entres elles et y entres elles sont identiques,αétant tel que défini précédemment ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% .
étant entendu que :
■de préférence x est d’épaisseur différente de y ;
■les épaisseurs de couches x entres elles,αx entres elles et y entres elles sont identiques,αétant tel que défini précédemment ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% .
Selon un mode de réalisation encore plus préféré de l’invention les matériaux multicouches comportent entre 3 et 17 couches et sont tels que :
[Tableau 3] :
Etant entendu que :
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur21nm cela signifie que chaque couche a une épaisseur 21 nm +/- 0 à 3,15 nm, de préférence 21 nm +/- 0 à 2,1 nm, plus préférentiellement 21 nm +/- 0 à 1,05 nm ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur37nm cela signifie que chaque couche a une épaisseur 37 nm +/- 0 à 5,55 nm, de préférence 37 nm +/- 0 à 3,7 nm, plus préférentiellement 37 nm +/- 0 à 1,85 nm ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur42nm cela signifie que chaque couche a une épaisseur 42 nm +/- 0 à 6,3 nm, de préférence 42 nm +/- 0 à 4,2 nm, plus préférentiellement 42 nm +/- 0 à 2,1 nm.
[Tableau 3] :
Etant entendu que :
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur21nm cela signifie que chaque couche a une épaisseur 21 nm +/- 0 à 3,15 nm, de préférence 21 nm +/- 0 à 2,1 nm, plus préférentiellement 21 nm +/- 0 à 1,05 nm ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur37nm cela signifie que chaque couche a une épaisseur 37 nm +/- 0 à 5,55 nm, de préférence 37 nm +/- 0 à 3,7 nm, plus préférentiellement 37 nm +/- 0 à 1,85 nm ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur42nm cela signifie que chaque couche a une épaisseur 42 nm +/- 0 à 6,3 nm, de préférence 42 nm +/- 0 à 4,2 nm, plus préférentiellement 42 nm +/- 0 à 2,1 nm.
Selon un autre mode de réalisation particulier de l’invention les matériaux multicouches comportent entre 3 et 17 couches et sont tels que :
[Tableau 4] :
Matériaux multicouches dans lesquels :
■ AetBsont des matériaux inorganiques ou organiques, de préférence inorganiques des couches adjacentes avec A possédant un indice de réfraction supérieur à celui de B, la différence d’indice de réfraction entre les couches adjacentes étant de préférence comprise inclusivement entre 0,3 et 2, de préférence entre 0,4 et 2, plus préférentiellement entre 0,5 et 1,8, encore plus préférentiellement entre 0,6 et 1,5 voire encore plus préférentiellement entre 0,7 et 1,3 ; et
■ xetysont les épaisseurs des couches du matériau telles quex<y, et de préférence 41 nm ≤x≤ 200 nm et 51 nm ≤y≤ 250 nm etx<y, plus préférentiellement 80 nm ≤x≤ 120 nm et 90 nm ≤y≤ 130 nm,
étant entendu que :
■de préférencexest d’épaisseur différente dey; les épaisseurs de couchesxentres elles,α xentres elles etyentres elles sont identiques,αétant tel que défini précédemment ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5%.
[Tableau 4] :
Matériaux multicouches dans lesquels :
■ AetBsont des matériaux inorganiques ou organiques, de préférence inorganiques des couches adjacentes avec A possédant un indice de réfraction supérieur à celui de B, la différence d’indice de réfraction entre les couches adjacentes étant de préférence comprise inclusivement entre 0,3 et 2, de préférence entre 0,4 et 2, plus préférentiellement entre 0,5 et 1,8, encore plus préférentiellement entre 0,6 et 1,5 voire encore plus préférentiellement entre 0,7 et 1,3 ; et
■ xetysont les épaisseurs des couches du matériau telles quex<y, et de préférence 41 nm ≤x≤ 200 nm et 51 nm ≤y≤ 250 nm etx<y, plus préférentiellement 80 nm ≤x≤ 120 nm et 90 nm ≤y≤ 130 nm,
étant entendu que :
■de préférencexest d’épaisseur différente dey; les épaisseurs de couchesxentres elles,α xentres elles etyentres elles sont identiques,αétant tel que défini précédemment ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5%.
Selon un mode de réalisation préféré de l’invention les matériaux multicouches comportent entre 3 et 17 couches et sont tels que :
[Tableau 5] :
Matériaux multicouches dans lesquelsxetysont tels quex<y, et préférentiellement 41 nm ≤x≤ 200 nm et 51 nm ≤y≤ 250 nm etx<y, plus préférentiellement 80 nm ≤x≤ 120 nm et 90 nm ≤y≤ 130 nm,αétant tel que défini précédemment ;
Etant entendu que :
■de préférence x est d’épaisseur différente de y ;lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5%.
[Tableau 5] :
Matériaux multicouches dans lesquelsxetysont tels quex<y, et préférentiellement 41 nm ≤x≤ 200 nm et 51 nm ≤y≤ 250 nm etx<y, plus préférentiellement 80 nm ≤x≤ 120 nm et 90 nm ≤y≤ 130 nm,αétant tel que défini précédemment ;
Etant entendu que :
■de préférence x est d’épaisseur différente de y ;lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5%.
Selon un mode de réalisation encore plus préféré de l’invention les matériaux multicouches comportent entre 3 et 17 couches et sont tels que :
[Tableau 6] :
Etant entendu que :
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur105nm cela signifie que chaque couche a une épaisseur 105 nm +/- 0 à 15,75 nm, de préférence 105 nm +/- 0 à 10,5 nm, plus préférentiellement 105 nm +/- 0 à 5,25 nm ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur92nm cela signifie que chaque couche a une épaisseur 92 nm +/- 0 à 13,8 nm, de préférence 92 nm +/- 0 à 9,2 nm, plus préférentiellement 92 nm +/- 0 à 4,6 nm ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur184nm cela signifie que chaque couche a une épaisseur 184 nm +/- 0 à 27,6 nm, de préférence 184 nm +/- 0 à 18,4 nm, plus préférentiellement 184 nm +/- 0 à 9,2 nm.
[Tableau 6] :
Etant entendu que :
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur105nm cela signifie que chaque couche a une épaisseur 105 nm +/- 0 à 15,75 nm, de préférence 105 nm +/- 0 à 10,5 nm, plus préférentiellement 105 nm +/- 0 à 5,25 nm ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur92nm cela signifie que chaque couche a une épaisseur 92 nm +/- 0 à 13,8 nm, de préférence 92 nm +/- 0 à 9,2 nm, plus préférentiellement 92 nm +/- 0 à 4,6 nm ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur184nm cela signifie que chaque couche a une épaisseur 184 nm +/- 0 à 27,6 nm, de préférence 184 nm +/- 0 à 18,4 nm, plus préférentiellement 184 nm +/- 0 à 9,2 nm.
Dans ces modes de réalisations, la filtration UV, en particulier dans le domaine des UVA et des UVA longs, ainsi que la bonne transparence dans le domaine visible sont obtenues notamment avec l’utilisation de TiO2et SiO2.
Procédé de préparation des matériaux multicouches
L’invention concerne également un procédé de préparation des matériaux multicouches de l’invention.
Avant de mettre en œuvre ce procédé,
■on sélectionne les matériaux (in)organiques A et B et de préférence inorganiques, qui constitueront les N couches alternées de matériaux A et B de telle sorte que la différence d’indice de réfraction entre le matériau A et le matériau B est comprise entre 0,3 et 2, de préférence entre 0,4 et 2 et plus préférentiellement entre 0,4 et 1,8, encore plus préférentiellement entre 0,6 et 1,5 voire de manière encore plus préférée entre 0,7 et 1,3 ;
et
■éventuellement modéliser l’épaisseur des couches pour que le matériau multicouche obtenu présente les propriétés optiques souhaitées telles qu’une faible transmittance dans les UV et une forte transmittance dans le visible, avec un front de filtration le plus étroit possible caractérisé par une pente supérieure à 2,5. 10-3nm-1, de préférence supérieure à 3. 10-3nm-1, plus préférentiellement supérieure à 4. 10-3nm-1
Avant de mettre en œuvre ce procédé,
■on sélectionne les matériaux (in)organiques A et B et de préférence inorganiques, qui constitueront les N couches alternées de matériaux A et B de telle sorte que la différence d’indice de réfraction entre le matériau A et le matériau B est comprise entre 0,3 et 2, de préférence entre 0,4 et 2 et plus préférentiellement entre 0,4 et 1,8, encore plus préférentiellement entre 0,6 et 1,5 voire de manière encore plus préférée entre 0,7 et 1,3 ;
et
■éventuellement modéliser l’épaisseur des couches pour que le matériau multicouche obtenu présente les propriétés optiques souhaitées telles qu’une faible transmittance dans les UV et une forte transmittance dans le visible, avec un front de filtration le plus étroit possible caractérisé par une pente supérieure à 2,5. 10-3nm-1, de préférence supérieure à 3. 10-3nm-1, plus préférentiellement supérieure à 4. 10-3nm-1
Relation entre l'indice de réfraction et les épaisseurs des couches du matériau :
Les relations entre les indices de réfraction des matériaux A et B mis en œuvre et les épaisseurs des couches de chacun de ces matériaux définissent la « position de coupure » ou «cut-of position» du profil de transition de la transmission entre la gamme des longueurs d’onde des UVA (320 nm à 400 nm) et la gamme du visible (400 nm à 780 nm).
Il est possible de modéliser l’épaisseur des couches pour optimiser les propriétés optiques.
Les calculs liant les épaisseurs et l'indice de réfraction des composés (in)organiques A et B constituant les couches du matériau multicouche de l’invention aux propriétés optiques (Transmission, réflexion, absorption) peuvent être effectués, notamment via la « Méthode de matrice de transfert » ou « Transfer Matrix Method » ou à l’aide d’« Algorithmes FDTD » ou “FDTD algorithms”.
Transfer Matrix Method :
[1] P. Yeh, Optical Waves in Layered Media (Wiley, New York, 1988)
[2] Z. Knittl, Optics of Thin Films: An Optical Multilayer Theory (Wiley, London, 1976).
[3] O. S. Heavens, Optical Properties of Thin Films (Dover, New York, 1965)
[4] M. Claudia Troparevsky et. al., Transfer-matrix formalism for the calculation of optical response in multilayer systems: from coherent to incoherent interference. Optics Express vol. 18, Issue 24, pp. 24715-24721 (2010)
[1] P. Yeh, Optical Waves in Layered Media (Wiley, New York, 1988)
[2] Z. Knittl, Optics of Thin Films: An Optical Multilayer Theory (Wiley, London, 1976).
[3] O. S. Heavens, Optical Properties of Thin Films (Dover, New York, 1965)
[4] M. Claudia Troparevsky et. al., Transfer-matrix formalism for the calculation of optical response in multilayer systems: from coherent to incoherent interference. Optics Express vol. 18, Issue 24, pp. 24715-24721 (2010)
FDTD:
[1] Dennis M. Sullivan, Electromagnetic simulation using the FDTD method. New York: IEEE Press Series, (2000).
[2] Allen Taflove, Computational Electromagnetics: The Finite-Difference Time-Domain Method. Boston: Artech House, (2005).
[3] Stephen D. Gedney, Introduction to the Finite-Difference Time-Domain (FDTD) Method for Electromagnetics. Morgan & Claypool publishers, (2011).
[1] Dennis M. Sullivan, Electromagnetic simulation using the FDTD method. New York: IEEE Press Series, (2000).
[2] Allen Taflove, Computational Electromagnetics: The Finite-Difference Time-Domain Method. Boston: Artech House, (2005).
[3] Stephen D. Gedney, Introduction to the Finite-Difference Time-Domain (FDTD) Method for Electromagnetics. Morgan & Claypool publishers, (2011).
Ou via d’autres algorithmes dits « open source » qui sont disponibles par exemple à l’adresse https://fr.mathworks.com/matlabcentral/fileexchange/47637-transmittance-and-reflectance-spectra-of-multilayered-dielectric-stack-using-transfer-transfer-transfer-mansx-method.
Des algorithmes commerciaux peuvent également être utilisés comme par exemple:
http://www.lighttec.fr/optical-design-software/tfcalc/
https://www.lumerical.com/products/fdtd-solutions/
http://www.lighttec.fr/optical-design-software/tfcalc/
https://www.lumerical.com/products/fdtd-solutions/
Selon un mode particulier de l’invention, les calculs itératifs pour optimiser la position des «cut-off» sont effectués via des algorithmes d'optimisation tels qu'un « algorithme d'essaim de particules » ou « particle swarm algorithm », d’ « algorithmes génétiques » ou « genetic algorithms » en combinaison avec ou sans les algorithmes susmentionnés.
Références de ces algorithmes :
Particle swarm algorithm:
[1] Kennedy, J., and R. Eberhart. "Particle Swarm Optimization."Proceedings of the IEEE International Conference on Neural Networks.Perth, Australia, 1995, pp. 1942–1945.
[2] Mezura-Montes, E., and C. A. Coello Coello. "Constraint-handling in nature-inspired numerical optimization: Past, present and future."Swarm and Evolutionary Computation.2011, pp. 173–194.
[3] Pedersen, M. E. "Good Parameters for Particle Swarm Optimization." Luxembourg: Hvass Laboratories, 2010.
[1] Kennedy, J., and R. Eberhart. "Particle Swarm Optimization."Proceedings of the IEEE International Conference on Neural Networks.Perth, Australia, 1995, pp. 1942–1945.
[2] Mezura-Montes, E., and C. A. Coello Coello. "Constraint-handling in nature-inspired numerical optimization: Past, present and future."Swarm and Evolutionary Computation.2011, pp. 173–194.
[3] Pedersen, M. E. "Good Parameters for Particle Swarm Optimization." Luxembourg: Hvass Laboratories, 2010.
Genetic algorithm :
[1] Goldberg, David E.,Genetic Algorithms in Search, Optimization & Machine Learning, Addison-Wesley, 1989.
[2] A. R. Conn, N. I. M. Gould, and Ph. L. Toint. “A Globally Convergent Augmented Lagrangian Algorithm for Optimization with General Constraints and Simple Bounds”,SIAM Journal on Numerical Analysis, Volume 28, Number 2, pages 545–572, 1991.
[3] A. R. Conn, N. I. M. Gould, and Ph. L. Toint. “A Globally Convergent Augmented Lagrangian Barrier Algorithm for Optimization with General Inequality Constraints and Simple Bounds”,Mathematics of Computation, Volume 66, Number 217, pages 261–288, 1997.
[1] Goldberg, David E.,Genetic Algorithms in Search, Optimization & Machine Learning, Addison-Wesley, 1989.
[2] A. R. Conn, N. I. M. Gould, and Ph. L. Toint. “A Globally Convergent Augmented Lagrangian Algorithm for Optimization with General Constraints and Simple Bounds”,SIAM Journal on Numerical Analysis, Volume 28, Number 2, pages 545–572, 1991.
[3] A. R. Conn, N. I. M. Gould, and Ph. L. Toint. “A Globally Convergent Augmented Lagrangian Barrier Algorithm for Optimization with General Inequality Constraints and Simple Bounds”,Mathematics of Computation, Volume 66, Number 217, pages 261–288, 1997.
Lors de la modélisation, l'optimisation sur les épaisseurs des différentes couchesxetypour N<9 est de préférence effectuée sur un matériau à N’ couches comprenant au moins 9 couches, plus préférablement au moins 13 couches, encore plus préférablement au moins 15 couches.
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention l’optimisation est réalisée pour un matériau comprenant N couches, où N est inférieur à 9. Sa conception sera effectuée par les méthodes itératives citées antérieurement sur le principe suivant :
1. modélisation un matériau multicouches avec N’ couches, où N’>N ; N’ est défini au moins égal à 9, plus préférablement égal à 13, et encore plus préférablement égal à 15 ;
2. itération pour optimisation des valeursxetypour N’
N’ = [x / y / ( α x / y) a’ / x]
a'est défini comme un nombre entier supérieur ou égal à 0, α est tel que défini précédemment ;
3. utilisation des valeurs de x, αx, et y obtenus lors de la conception de N’ pour la conception du matériau multicouches à N couches sans optimisation ultérieure ;
N = [x / y / ( α x / y) a / x]
aest défini comme un nombre entier supérieur ou égal à 0 eta’>a, α est tel que défini précédemment.
1. modélisation un matériau multicouches avec N’ couches, où N’>N ; N’ est défini au moins égal à 9, plus préférablement égal à 13, et encore plus préférablement égal à 15 ;
2. itération pour optimisation des valeursxetypour N’
N’ = [x / y / ( α x / y) a’ / x]
a'est défini comme un nombre entier supérieur ou égal à 0, α est tel que défini précédemment ;
3. utilisation des valeurs de x, αx, et y obtenus lors de la conception de N’ pour la conception du matériau multicouches à N couches sans optimisation ultérieure ;
N = [x / y / ( α x / y) a / x]
aest défini comme un nombre entier supérieur ou égal à 0 eta’>a, α est tel que défini précédemment.
En suivant ces instructions de construction pour N<9, le cut-off de l'agent de protection à N couches peut éventuellement tomber en dehors de l'intervalle de coupure [380 nm – 420 nm], dans ces cas, la combinaison avec : soit un mode de préparation particulier de matériaux multicouches, soit avec des modes d'application spécifiques, ou une combinaison des deux, permettent d’assurer une coupure dans l'intervalle.
L’approche itérative peut également être combinée aux connaissances générales de l'homme du métier sur les matériaux multicouches ainsi que sur les procédés de fabrication utilisés et connus dans le domaine par l’homme du métier.
Un objet de l’invention est le procédé de préparation des matériaux multicouches tels que définis précédemment comprenant les étapes suivantes :
1. préparer un substrat et éventuellement appliquer sur le substrat; au moins une couche antiadhésive encore nommée une couche sacrificielle sur ledit substrat;
2. déposer un nombre N impair de couches alternées de matériaux A et B constitués de composés (in)organiques d'indice de réfraction élevé et plus faible, ou d’indice de réfraction faible et plus élevé, sur le substrat éventuellement recouvert de couche sacrificielle ;
3. détacher le matériau multicouche du substrat éventuellement recouvert de couche sacrificielle ;
4. si nécessaire, ajuster la taille du matériau multicouche pour obtenir des particules de matériau multicouche ; et
5. réaliser éventuellement un post-traitement suivi éventuellement d’un (ré)ajustement.
1. préparer un substrat et éventuellement appliquer sur le substrat; au moins une couche antiadhésive encore nommée une couche sacrificielle sur ledit substrat;
2. déposer un nombre N impair de couches alternées de matériaux A et B constitués de composés (in)organiques d'indice de réfraction élevé et plus faible, ou d’indice de réfraction faible et plus élevé, sur le substrat éventuellement recouvert de couche sacrificielle ;
3. détacher le matériau multicouche du substrat éventuellement recouvert de couche sacrificielle ;
4. si nécessaire, ajuster la taille du matériau multicouche pour obtenir des particules de matériau multicouche ; et
5. réaliser éventuellement un post-traitement suivi éventuellement d’un (ré)ajustement.
Par «substrat» on entend un support permettant d’appliquer les différentes couches successives de matériaux (in)organiques A et B d’indices de réfraction différents ce substrat peut être sous forme de plaques, de feuilles, tissés ou non tissées, métalliques, constitué de verre, de composé polymérique naturel ou non tel que les plastiques, non conducteurs ou (semi)-conducteurs. Ce substrat peut être plan ou non plan, arrondi, sphérique, de préférence plan.
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention le substrat est constitué de composé inorganique tel que le verre, le silicium, ou le quartz, de métal tel que l’aluminium ou de composé organique de préférence choisi parmi les polymère organiques suivants poly(méthacrylate de méthyle) (PMMA), le poly(téréphtalate d'éthylène) (PET), le polypropylène (PP), le polyéthylène (PE), le polychlorure de vinyle (PVC), le polyimide (PI), les nylons, les celluloses et leurs dérivés tel que le papier, le coton. Selon un mode de réalisation particulier le substrat est inorganique tel que le verre ou le quartz, de préférence le verre.
Les matériaux multicouches de l’invention peuvent également être fabriqués sur des substrats métalliques, des semi-conducteurs, ou des oxydes métalliques.
De préférence le procédé de fabrication des matériaux multicouches de l’invention comprend les étapes suivantes 1) la fourniture d'un substrat, 2) le dépôt d'une couche sacrificielle sur le substrat, puis 3) le dépôt successif de couches alternées de matériaux (in)organiques A et B en nombre impair sur la couche sacrificielle, puis 4) la couche sacrificielle est éliminée sélectivement en particulier par exposition à une solution chimique et 5) le matériau multicouche ainsi obtenu est éventuellement soumis à un traitement pour ajuster sa taille et/ou à un post-traitement.
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention, le procédé de préparation des matériaux multicouches met en œuvre une couche antiadhésive encore nommée sacrificielle.
Si le procédé met en œuvre l’application d’une couche sacrificielle ou antiadhésive alors le substrat doit être inerte vis-à-vis de ladite couche sacrificielle ou antiadhésive.
Particulièrement les composés utilisables dans la couche sacrificielle sont choisis parmi les polymères suivants : i) Polymère acénaphthylène/MMA; ii) polymère acénaphthylène/styrène/acrylique ; iii) polymère acrylique/butadiène/ styrène ; iv) polymère (acrylonitrile/ butadiène/styrène)amides ; v) polymère acrylimide/acide acrylique ; vi) polymère acétylène (faible poids moléculaire) ; vii) polymère acryliques ; viii) polymère acrylonitrile/butadiène (Caoutchouc) ; viii) Résines alkydes ; ix) Résines alkyles de préférence en (C1-C8)alkyle ; x) polymère alkylène glycols de préférence en (C1-C8)alkylène ; xi) polymère amide/imide ; xii) polymère acrylonitrile ; xiii) polymère acides acryliques ; xiv) polymère de propylate d'amylose ; xv) polymère d’acétate d'amylose ; xvi) polymère de butylate d'amylose ; xvii) polymère d’acrylonitrile/styrène ; xviii) polymère de butène-1 ; xix) caoutchouc de butyle; xx) polymère de méthacrylate de butyle ; xxi) polymère de téréphtalate de butylène ; xxii) polymère butadiène/acrylique ; xxiii) polymère d’acide/acrylonitrile isocyanate de butyle ; xxiv) polymère d’acétate de cellulose ; xxv) polymère de nitrate de cellulose ; xxvi) polymère polyéthylène halogéné notamment chloré (chloroprène) ; xxvii) polymère caprolactame ; xxviii) polymère carbonates ; xxix) polymère polybutadiène carboxylé ; xxx) polymère carboxy (C1-C6)alkylcellulose de préférence polymère de carboxy méthylcellulose ; xxxi) polymère cis-trans isoprène (de préférence cis isoprène) ; xxxii) polymère trinitrate de cellulose ; xxxiii) polymère de dextranes ; xxxiv) polymère de phtalate de dialkyle de préférence di(C1-C6)alkyle ; xxxv) polymère diméthylsiloxanes ; xxxvi) polymère de dodécylacrylate ; xxxvii) polymère de dioxalane ; xxxvii) polymère d’oxyde de (C2-C6)alkylène de préférence polymère d’oxyde d'éthylène ; xxxviii) polyéthers ; xxxix) polymère épichlorohydrane ; xxxx) résines époxy ; xxxxi) polymère acrylates de (C1-C6)alkyle de préférence acrylate d'éthyle ; xxxxii) polymère de (C2-C6)alkylène /(C1-C6)alkylcarbonyl(C2-C6)alkylènoxy, de préférence polymère d’éthylène/acétate de vinyle (EVA) ; xxxxiii) polymère de (C2-C6)alkylène/(C2-C6)alkylène de préférence polymère de éthylène / propylène ; xxxxiv) polymère de téréphtalate de (C2-C6)alkylène de préférence polytéréphtalate d'éthylène (PET) ; xxxxv) polymère (C2-C6)alkylène/ acide (C2-C6)alkénoïque ou ses sels d’agent alcalin, de métaux alcalins ou alcalino terreux, et ses esters de (C1-C6)alkyle, de préférence polymère d’éthylène / acide acrylique ou ses sels d’agent alcalin, de métaux alcalins ou alcalino terreux et ses esters de (C1-C6)alkyle ; xxxxvi) polymère (C2-C6)alkylène/(C2-C6)alkénoïque / (C2-C6)alkénylcarbonyloxy(C1-C6)alkyle, de préférence polymère d’éthylène/méthylacrylate ; xxxxvii) polymère d’éthylène/hexane-1 ; xxxxviii) polyesters ; xxxxix) polymère d’acides gras ; L) polymère d’alcool furfurylique ; Li) polymère gélatines ; Lii) polymère de glycérides ; Liii) polymère d’esters glycol/glycérine ; Liv) polyglycols ; Lv) polyisoprène ; Lvi) polyisobutylène ; Lvii) polyisocyanates ; Lviii) polyimides ; Lix) polymère d’acide imique ; Lx) polymère d’aryl(C2-C6)alkényl de préférence polymère d’isopropylidène-1,4-phénylène ; Lxi) sulfonates de lignine ; Lxii) polymère de lipides ; Lxiii) mélamines ; Lxiv) polymère d’acide (C2-C6)alkénoïque ou ses sels d’agent alcalin, de métaux alcalins ou alcalino terreux et ses esters de (C1-C6)alkyle, de préférence polymère de méthacrylate de méthyle ; Lxv) polyméthylacrylates ; Lxvi) polymère d’acide (C2-C6)alkénoïque ou ses sels d’agent alcalin, de métaux alcalins ou alcalino terreux et ses esters de (C1-C6)alkyle / aryl(C2-C6)alkényle, de préférence polymère de méthacrylate de méthyle / styrène ; Lxvii) polymère de méthylpentène ; Lxviii) polymère d’oxycarbonylarylène, de préférence polymère de oxycarbonyloxy-1,4-phénylène ; Lxix) polymère d’oxy(C1-C6)alkylène, de préférence polyoxypropylène ou polyoxyméthylène ; Lxxi) polymère d’ester d’acide (C2-C6)alkénoïque et de (C8-C20)alkanol, préférentielle polymère de méthacrylate d'octadécyle ; Lxxii) polymère de (C8-C20)alkényle ; Lxxiii) polymère de oxymaléoyloxy(C1-C8)alkylène, de préférence polymère d’oxymaléoyloxhexaméthylène ; Lxxiv) polymère de oxysuccinylox(C1-C8)alkylène, de préférence polymère de oxysuccinyloxhexaméthylène ; Lxxv) polyols ; Lxxvi) polymères d’hydroxyaryle, de préférence polymère phénoliques ; Lxxvi) résines de phénol formaldéhyde ; Lxxvii) polymère d’oxyarylène, de préférence polyoxyde de phénylène ; Lxxviii) polypropylène ; Lxxix) polyoxyde de (C1-C6)alkylène, de préférence polyoxyde de propylène ; Lxxx) polymère de propylène / butène-1 ; Lxxxi) polyacétate de vinyle ; Lxxxii) polymère d’alcool vinylique (PVA) ; Lxxxiii) polymère de butyral de vinyle ; Lxxxiv) polymère d’halogénure de vinyle notamment de chlorure de vinyle ou polymère de fluorure de vinyle ; Lxxxv) polymère d’éthers vinylméthyliques ; Lxxxvi) polymère d’halogénure de vinyle/vinyle notamment chlorure de vinyle / vinyle ; Lxxxvii) polymère d’acétate / acide maléique / alcool vinylique / acétate de vinyle ; Lxxxv) polyesters vinyliques ; Lxxxvi) polyvinylpyrrolidone / acétate de vinyle ; Lxxxvii) polymère d’acétate de vinyle / éthylène ; Lxxxix) polymère d’acétate de vinyle / éthylène / acrylate ; xC) polymère d’halogénure de vinyle notamment bromure de vinyle ; xCi) polymère de ferrocène vinylique ; xCii) polymère de vinyl carbazole ; xCiii) polymère de vinyl formaldéhyde ; xCiv) propionates de celluloses ; et xCv) les résines vinyliques.
En particulier la couche sacrificielle est constituée des composés organiques choisis parmi les polymères solubles tels que les résines vinyliques (par exemple poly(acétate de vinyle), polymère d’alcool vinylique (PVA), polyvinylpyrrolidone (PVP), les résines acryliques et méthacryliques (acide polyacrylique (PAA), acide polyméthylacrylique (PMAA), polyacrylamide), le polyéthylèneglycol (PEG), la cellulose et ses dérivés, les (poly-oligo-mono-)saccharides , et les sels organiques.
La couche sacrificielle peut également être constituée de composés inorganiques, de métaux et/ou semi-conducteurs tels que l'aluminium, l'arséniure d'aluminium et de gallium, le trioxyde de dialuminium / alumine / saphir, l'antimoine, le bismuth, le laiton, le bronze, le carbone, le chrome, le cobalt, le cuivre, l'arséniure de gallium, le germanium, l’indium, arséniure d'indium gallium, phosphure d'indium gallium, phosphure d'indium, oxydes d'oxyde de phosphure d'indium, iridium, fer, plomb, magnésium, molybdène, nickel, niobium, étain, titane, tungstène, vanadium, zinc, alliages similaires, ainsi que les sels inorganiques.
Selon une autre variante le procédé de préparation consiste à déposer une couche sacrificielle sur le substrat, puis à déposer alternativement un nombre N de couches impaires de composés (in)organiques A et B à indice de réfraction élevé et indice de réfraction plus faible, sur ladite couche antiadhésive ou sacrificielle.
L'étape de dépôt peut être réalisée par des procédés bien connus pour le dépôt de films minces successifs. Ces procédés de dépôt peuvent inclure, sans s'y limiter, des procédés de dépôt en phase vapeur tels que le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) ou le dépôt physique en phase vapeur (PVD), ou des procédés chimiques humides tels que la précipitation ou la condensation sol-gel, ou le revêtement en voie humide utilisant un procédé au rouleau-rouleau (roll-to-roll), le dépôt à l’aide d’un rouleau, le dépôt par centrifugation (spin-coating), l’enduction par immersion et séchage (dip-coating). La plupart de ces procédés sont partiellement décrits dans le livre «Special Effect Pigments», Gerhard Pfaff, ISBN 9783866309050.
La séparation ou délamination du matériau multicouche du substrat ou de la couche sacrificielle peut être réalisée par dissolution, décomposition thermique, action mécanique, attaque chimique, irradiation ou une combinaison de ces opérations. Des procédés permettant de détacher le matériau multicouche du substrat ou de la couche sacrificielle peuvent être trouvés dans le document US 2012/0256333A1 «Procédé de fabrication d'un film mince multicouche autonome».
Selon un mode de réalisation du procédé de préparation, la couche sacrificielle et les différentes couches de matériaux (in)organiques A et B d’indice de réfraction élevé et d’indice de réfraction plus faible, sont exposées à une solution chimique aqueuse qui est soit un agent d'attaque alcalin i.e. une solution alcaline (pH> 7), ou un agent d'attaque acide i.e. une solution acide (pH < 7) ou un solvant aqueux ou organique. L'exposition du substrat, de la couche sacrificielle et du matériau multicouche de l’invention à une solution alcaline, ou à la solution acide ou à un solvant permet de dissoudre la couche sacrificielle, libérant ainsi le matériau multicouche de l’invention du substrat.
Selon une variante la solution chimique est un solvant organique ou minéral, qui dissout la couche sacrificielle, libérant ainsi le matériau multicouche du substrat.
Une fois libéré du substrat, le matériau multicouche de l’invention est alors dit « autonome » i.e. exempt de substrat et de couche sacrificielle ou antiadhésive.
Selon un mode de réalisation particulier du procédé de l’invention la couche sacrificielle est une couche métallique et/ou semi-conductrice telle que l'aluminium déposée en utilisant notamment une technique de dépôt sous vide. Le composé utile pour détruire ladite couche sacrificielle métallique est alors une solution alcaline qui va réagir spécifiquement sur ladite couche sacrificielle de manière à détacher le substrat du matériau multicouche de l’invention sans perturber les propriétés optiques de filtre UV. On peut citer pour rendre alcaline la solution, l’emploi d’agents alcalins notamment choisis parmi les hydroxydes de métaux alcalins ou alcalino-terreux tels que l’hydroxyde de sodium.
Selon un autre mode de réalisation particulier du procédé de l’invention la couche sacrificielle est organique, et plus particulièrement ladite couche est un polymère organique.
Selon ce mode de réalisation, la couche sacrificielle organique est séparée du matériau multicouche de l’invention par un solvant ou par une solution alcaline ou par une solution acide.
A titre d’exemples de couches sacrificielles organiques, on peut citer les composés suivants pour lesquels la nature du solvant ou de la solution alcaline ou de la solution acide à mettre en œuvre pour séparer ladite couche sacrificielle du matériau multicouche de l’invention est précisée :
i) Polymère acénaphthylène/MMA solvant organique pour dissoudre la couche sacrificielle (solv.) : tétrahydrofurane (THF), diméthylformamide (DMF) ; ii) polymère acénaphthylène/styrène/acrylique : solv. THF, DMF ; iii) polymère acrylique/butadiène/ styrène : solv. THF, DMF, diméthylsulfoxyde (DMSO) ; iv) polymère (acrylonitrile/ butadiène/styrène)amides : solv. DMF ; v) polymère acrylimide/acide acrylique : solv. H2O + acétate de métal alcalin + phosphate de métal alcalin, DMSO ; vi) polymère acétylène (faible poids moléculaire) : solv. toluène, 1,2,4-trichlorobenzène (TCB) ; vii) polymère acryliques : sol. Toluène, THF, DMF, DMSO ; viii) polymère acrylonitrile/butadiène (Caoutchouc) : solv. Toluène, DMF, TCB ; viii) Résines alkydes : solv. Toluène, THF, chloroforme, diméthylacétamide (DMAC) ; ix) Résines alkyles : solv. THF, chloroforme ; x) polymère alkylène glycols : solv. orthodiclorobenzène (ODCB), Toluène, THF, chloroforme ; xi) polymère amide/imide : solv. DMF, DMAC, DMSO, DMF + LiBr ; xii) polymère acrylonitrile : solv. DMF ; xiii) polymère acides acryliques : solv. H2O + acétate de sel alcalin, alcalino terreux ou d’ammonium (préférence 0,05 M) + de solvant organique protique polaire tel que le méthanol, (de préférence 2% en poids), à un pH de préférence compris entre 7 et 8 tel que. 7,2 (pouvant être ajusté avec un agent alcalin tel que NH4OH) ; xiv) polymère de propylate d'amylose : solv. THF ; xv) polymère d’acétate d'amylose : solv. THF ; xvi) polymère de butylate d'amylose : solv. THF ; xvii) polymère d’acrylonitrile/styrène : solv. THF ; xviii) butène-1 : solv. ODCB, toluène, TCB ; xix) caoutchouc de butyle : solv. ODCB, toluène, TCB ; xx) polymère de méthacrylate de butyle : solv. DMF ; xxi) polymère téréphalate de butylène : solv. m-crésol ; xxii) polymère butadiène/acrylique : solv. Toluène, DMF ; xxiii) polymère acide/acrylonitrile isocyanate de butyle : solv. THF ; xxiv) polymère d’acétate de cellulose : solv. THF, DMF ; xxv) polymère de nitrate de cellulose : solv. THF ; xxvi) polymère polyéthylène chloré (chloroprène) : solv. TCB ; xxvii) polymère caprolactame : solv. m-crésol, HFIP ; xxviii) polymère carbonates : ODCB, THF, TCB ; xxix) polymère polybutadiène carboxylé ; solv. THF ; xxx) polymère carboxy méthylcellulose : solv. H2O, DMF ; xxxi) polymère isoprène (préférence cis isoprène) : solv. THF ; xxxii) polymère trinitrate de cellulose : solv. THF ; xxxiii) polymère dextrans : solv. H2O, DMSO ; xxxiv) polymère de phtalate de dialkyle : solv. ODCB, toluène, chloroforme, TCB ; xxxv) polymère diméthylsiloxanes : solv. ODCB, toluène, TCB, chloroforme ; xxxvi) polymère de dodécylacrylate : solv. THF ; xxxvii) polymère de dioxalane : solv. THF ; xxxvii) polymère d’oxyde d'éthylène : solv. THF, DMF, H2O, TCB ; xxxviii) polyéthers : solv. toluène, THF, DMF ; xxxix) polymère epichlorohydran : solv. TCB ; xxxx) Résines époxy : solv. toluène, THF, chloroforme ; xxxxi) polymère acrylates d'éthyle : solv. ODCB, Toluène, DMF, m-crésol ; xxxxii) polymère éthylène/acétate de vinyle (EVA) : solv. TCB ; xxxxiii) polymère éthylène / propylène : solv. ODCB, TCB ; xxxxiv) polytéréphtalate d'éthylène (PET) : solv. m-crésol, HFIP ; xxxxv) polymère éthylène / acide acrylique (forme NA +) : solv. TCB ; xxxxvi) polymère éthylène/méthylacrylate : solv. TCB ; xxxxvii) polymère éthylène/hexane-1 ; solv. TCB ; xxxxviii) polyesters : solv. m-crésol, HFIP, TCB, toluène ; xxxxix) polymère d’acides gras, solv. ODCB, THF, chloroforme, TCB ; L) polymère d’alcool furfurylique : solv. ODCB, THF, chloroforme, TCB ; Li) polymère gélatines : solv. H2O, DMSO ; Lii) polymère de glycérides : solv. ODCB, THF, TCB ; Liii) polyesters glycol/glycérine : solv. DMF, DMF + 0,005% LiBr ; Liv) polyglycols : solv. ODCB, Toluène, THF, DMF, TCB ; Lv) polyisoprène : solv. : toluène, TCB ; Lvi) polyisobutylène : solv. toluène, THF ; Lvii) polyisocyanates : solv. Toluène, THF, DMF, chloroforme ; Lviii) polyimides : solv. DMAC, DMF ; Lix) polymère d’acide imique : solv. NMP ; Lx) polymère d’isopropylidène-1,4-phénylène : solv. THF ; Lxi) sulfonates de lignine : solv. H2O ; Lxii) polymère de lipides : solv. chlorure de méthylène, THF ; Lxiii) mélamines : solv. HFIP, m-crésol, TFA, TCB ; Lxiv) polymère de méthacrylate de méthyle : solv. Toluène, THF, DMF, m-crésol, DMAC ; Lxv) polyméthylacrylates : solv. TCB, DMF, THF ; Lxvi) polymère de méthacrylate de méthyle/styrène : solv. ODCB, toluène, THF, chloroforme ; Lxvii) polymère de méthylpentène : solv. TCB ; Lxviii) polymère de oxycarbonyloxy-1,4-phénylène : solv. THF ; Lxix) polyoxypropylène : solv. THF ; Lxx) polyoxyméthylène : solv. DMAC ; Lxxi) polyméthacrylate d'octadécyle : solv. DMF, DMSO à chaud (140 °C) ; Lxxii) polymère d’octadécylvinylique : solv. THF ; Lxxiii) polymère de oxymaléoyloxhexaméthylène : solv. THF ; Lxxiv) polymère de oxysuccinyloxy-hexaméthylène : solv. THF ; Lxxv) polyols : solv. THF, DMF ; Lxxvi) polymères phénoliques (notamment Novalacs): solv. THF, Chloroforme ; Lxxvi) résines de phénol formaldéhyde : solv. THF, TCB ; Lxxvii) polyoxyde de phénylène : solv. TCB ; Lxxviii) polypropylène : solv. ODCB, TCB ; Lxxix) polyoxyde de propylène : solv. THF, TCB ; Lxxx) polymère de propylène / butène-1 : solv. ODCB, TCB ; Lxxxi) polyacétate de vinyle : solv. ODCB, THF, DMF ; Lxxxii) polymère d’alcool vinylique : solv. H2O de préférence chaude (50 à 80 °C), DMF, DMSO ; Lxxxiii) polymère de butyral de vinyle : solv. THF, DMF; Lxxxiv) polymère d’halogénure de vinyle notamment de chlorure de vinyle : solv; Toluène, THF ; polymère de fluorure de vinyle ; solv. DMF ; Lxxxv) polymère d’éthers vinylméthyliques : solv. THF, DMF ; Lxxxvi) polymère d’halogénure de vinyle/vinyle notamment chlorure de vinyle / vinyle : solv. DMF ; Lxxxvii) polymère d’acétate / acide maléique / alcool vinylique / acétate de vinyle : solv. DMF, DMSO ; Lxxxv) polyesters vinyliques : solv. DMF, THF ; Lxxxvi) polyvinylpyrrolidone / acétate de vinyle : solv. DMF ; Lxxxvii) polymère d’acétate de vinyle / éthylène : solv. DMF ; Lxxxix) polymère d’acétate de vinyle / éthylène / acrylate : solv. DMF ; xC) polymère d’halogénure de vinyle notamment bromure de vinyle : solv. THF ; xCi) polymère de ferrocène vinylique : solv. THF ; xCii) polymère de vinyl carbazole : solv. THF ; xCiii) polymère de vinyl formaldéhyde : solv. THF ; xCiv) Propionates de celluloses : solv. Alcools et cétones en particulier les alcanols en C1-C6et cétone dialkylé en C1-C6 ;et xCv) les résines vinyliques, solv. acétone ou éthanol.
i) Polymère acénaphthylène/MMA solvant organique pour dissoudre la couche sacrificielle (solv.) : tétrahydrofurane (THF), diméthylformamide (DMF) ; ii) polymère acénaphthylène/styrène/acrylique : solv. THF, DMF ; iii) polymère acrylique/butadiène/ styrène : solv. THF, DMF, diméthylsulfoxyde (DMSO) ; iv) polymère (acrylonitrile/ butadiène/styrène)amides : solv. DMF ; v) polymère acrylimide/acide acrylique : solv. H2O + acétate de métal alcalin + phosphate de métal alcalin, DMSO ; vi) polymère acétylène (faible poids moléculaire) : solv. toluène, 1,2,4-trichlorobenzène (TCB) ; vii) polymère acryliques : sol. Toluène, THF, DMF, DMSO ; viii) polymère acrylonitrile/butadiène (Caoutchouc) : solv. Toluène, DMF, TCB ; viii) Résines alkydes : solv. Toluène, THF, chloroforme, diméthylacétamide (DMAC) ; ix) Résines alkyles : solv. THF, chloroforme ; x) polymère alkylène glycols : solv. orthodiclorobenzène (ODCB), Toluène, THF, chloroforme ; xi) polymère amide/imide : solv. DMF, DMAC, DMSO, DMF + LiBr ; xii) polymère acrylonitrile : solv. DMF ; xiii) polymère acides acryliques : solv. H2O + acétate de sel alcalin, alcalino terreux ou d’ammonium (préférence 0,05 M) + de solvant organique protique polaire tel que le méthanol, (de préférence 2% en poids), à un pH de préférence compris entre 7 et 8 tel que. 7,2 (pouvant être ajusté avec un agent alcalin tel que NH4OH) ; xiv) polymère de propylate d'amylose : solv. THF ; xv) polymère d’acétate d'amylose : solv. THF ; xvi) polymère de butylate d'amylose : solv. THF ; xvii) polymère d’acrylonitrile/styrène : solv. THF ; xviii) butène-1 : solv. ODCB, toluène, TCB ; xix) caoutchouc de butyle : solv. ODCB, toluène, TCB ; xx) polymère de méthacrylate de butyle : solv. DMF ; xxi) polymère téréphalate de butylène : solv. m-crésol ; xxii) polymère butadiène/acrylique : solv. Toluène, DMF ; xxiii) polymère acide/acrylonitrile isocyanate de butyle : solv. THF ; xxiv) polymère d’acétate de cellulose : solv. THF, DMF ; xxv) polymère de nitrate de cellulose : solv. THF ; xxvi) polymère polyéthylène chloré (chloroprène) : solv. TCB ; xxvii) polymère caprolactame : solv. m-crésol, HFIP ; xxviii) polymère carbonates : ODCB, THF, TCB ; xxix) polymère polybutadiène carboxylé ; solv. THF ; xxx) polymère carboxy méthylcellulose : solv. H2O, DMF ; xxxi) polymère isoprène (préférence cis isoprène) : solv. THF ; xxxii) polymère trinitrate de cellulose : solv. THF ; xxxiii) polymère dextrans : solv. H2O, DMSO ; xxxiv) polymère de phtalate de dialkyle : solv. ODCB, toluène, chloroforme, TCB ; xxxv) polymère diméthylsiloxanes : solv. ODCB, toluène, TCB, chloroforme ; xxxvi) polymère de dodécylacrylate : solv. THF ; xxxvii) polymère de dioxalane : solv. THF ; xxxvii) polymère d’oxyde d'éthylène : solv. THF, DMF, H2O, TCB ; xxxviii) polyéthers : solv. toluène, THF, DMF ; xxxix) polymère epichlorohydran : solv. TCB ; xxxx) Résines époxy : solv. toluène, THF, chloroforme ; xxxxi) polymère acrylates d'éthyle : solv. ODCB, Toluène, DMF, m-crésol ; xxxxii) polymère éthylène/acétate de vinyle (EVA) : solv. TCB ; xxxxiii) polymère éthylène / propylène : solv. ODCB, TCB ; xxxxiv) polytéréphtalate d'éthylène (PET) : solv. m-crésol, HFIP ; xxxxv) polymère éthylène / acide acrylique (forme NA +) : solv. TCB ; xxxxvi) polymère éthylène/méthylacrylate : solv. TCB ; xxxxvii) polymère éthylène/hexane-1 ; solv. TCB ; xxxxviii) polyesters : solv. m-crésol, HFIP, TCB, toluène ; xxxxix) polymère d’acides gras, solv. ODCB, THF, chloroforme, TCB ; L) polymère d’alcool furfurylique : solv. ODCB, THF, chloroforme, TCB ; Li) polymère gélatines : solv. H2O, DMSO ; Lii) polymère de glycérides : solv. ODCB, THF, TCB ; Liii) polyesters glycol/glycérine : solv. DMF, DMF + 0,005% LiBr ; Liv) polyglycols : solv. ODCB, Toluène, THF, DMF, TCB ; Lv) polyisoprène : solv. : toluène, TCB ; Lvi) polyisobutylène : solv. toluène, THF ; Lvii) polyisocyanates : solv. Toluène, THF, DMF, chloroforme ; Lviii) polyimides : solv. DMAC, DMF ; Lix) polymère d’acide imique : solv. NMP ; Lx) polymère d’isopropylidène-1,4-phénylène : solv. THF ; Lxi) sulfonates de lignine : solv. H2O ; Lxii) polymère de lipides : solv. chlorure de méthylène, THF ; Lxiii) mélamines : solv. HFIP, m-crésol, TFA, TCB ; Lxiv) polymère de méthacrylate de méthyle : solv. Toluène, THF, DMF, m-crésol, DMAC ; Lxv) polyméthylacrylates : solv. TCB, DMF, THF ; Lxvi) polymère de méthacrylate de méthyle/styrène : solv. ODCB, toluène, THF, chloroforme ; Lxvii) polymère de méthylpentène : solv. TCB ; Lxviii) polymère de oxycarbonyloxy-1,4-phénylène : solv. THF ; Lxix) polyoxypropylène : solv. THF ; Lxx) polyoxyméthylène : solv. DMAC ; Lxxi) polyméthacrylate d'octadécyle : solv. DMF, DMSO à chaud (140 °C) ; Lxxii) polymère d’octadécylvinylique : solv. THF ; Lxxiii) polymère de oxymaléoyloxhexaméthylène : solv. THF ; Lxxiv) polymère de oxysuccinyloxy-hexaméthylène : solv. THF ; Lxxv) polyols : solv. THF, DMF ; Lxxvi) polymères phénoliques (notamment Novalacs): solv. THF, Chloroforme ; Lxxvi) résines de phénol formaldéhyde : solv. THF, TCB ; Lxxvii) polyoxyde de phénylène : solv. TCB ; Lxxviii) polypropylène : solv. ODCB, TCB ; Lxxix) polyoxyde de propylène : solv. THF, TCB ; Lxxx) polymère de propylène / butène-1 : solv. ODCB, TCB ; Lxxxi) polyacétate de vinyle : solv. ODCB, THF, DMF ; Lxxxii) polymère d’alcool vinylique : solv. H2O de préférence chaude (50 à 80 °C), DMF, DMSO ; Lxxxiii) polymère de butyral de vinyle : solv. THF, DMF; Lxxxiv) polymère d’halogénure de vinyle notamment de chlorure de vinyle : solv; Toluène, THF ; polymère de fluorure de vinyle ; solv. DMF ; Lxxxv) polymère d’éthers vinylméthyliques : solv. THF, DMF ; Lxxxvi) polymère d’halogénure de vinyle/vinyle notamment chlorure de vinyle / vinyle : solv. DMF ; Lxxxvii) polymère d’acétate / acide maléique / alcool vinylique / acétate de vinyle : solv. DMF, DMSO ; Lxxxv) polyesters vinyliques : solv. DMF, THF ; Lxxxvi) polyvinylpyrrolidone / acétate de vinyle : solv. DMF ; Lxxxvii) polymère d’acétate de vinyle / éthylène : solv. DMF ; Lxxxix) polymère d’acétate de vinyle / éthylène / acrylate : solv. DMF ; xC) polymère d’halogénure de vinyle notamment bromure de vinyle : solv. THF ; xCi) polymère de ferrocène vinylique : solv. THF ; xCii) polymère de vinyl carbazole : solv. THF ; xCiii) polymère de vinyl formaldéhyde : solv. THF ; xCiv) Propionates de celluloses : solv. Alcools et cétones en particulier les alcanols en C1-C6et cétone dialkylé en C1-C6 ;et xCv) les résines vinyliques, solv. acétone ou éthanol.
Il apparait en outre que l'élimination de la couche antiadhésive ou sacrificielle à l'aide d'une solution chimique pour libérer le matériau multicouche sans substrat n'affecte pas la couleur ni les propriétés optiques dudit matériau multicouche. Par exemple, la couleur visuelle, les propriétés d'absorption, les propriétés de réflexion, etc. du matériau multicouche restent identiques ou équivalentes à ce qu'elles étaient avant le retrait de la couche sacrificielle.
Selon un mode de réalisation particulier de préparation de matériaux multicouches comportant N couches, où N est inférieur à 17, plus préférentiellement N est inférieur à 13 et encore plus préférentiellement N est inférieur à 9, un post-traitement est réalisé après l’étape de délamination 3, et/ou après l’étape d’ajustement de taille 4.
Ce post-traitement consiste à empiler au moins deux particules de matériaux multicouches de composés (in)organiques à N couches, de préférence sous forme de particules plates, Cet empilement se fait dans l'axe d’alternance des couchesxety.
On peut citer notamment les procédés de post-traitement suivants:
■procédés thermiques (séchage, frittage, atomisation, calcination),
■procédés mécaniques (compression, centrifugation, mécanofusion, granulation)
■procédés promus par des méthodes physico-chimiques pour l'auto-assemblage, par exemple: ajustement du pH, optimisation des solvants (co-solvants), utilisation d'additifs.
■procédés chimiques tels que la réticulation par formation de liens covalents entre les matériaux multicouches unitaires dans le sens d’intercalation des couchesxety
■Ou une combinaison de deux ou plus des procédés mentionnés.
■procédés thermiques (séchage, frittage, atomisation, calcination),
■procédés mécaniques (compression, centrifugation, mécanofusion, granulation)
■procédés promus par des méthodes physico-chimiques pour l'auto-assemblage, par exemple: ajustement du pH, optimisation des solvants (co-solvants), utilisation d'additifs.
■procédés chimiques tels que la réticulation par formation de liens covalents entre les matériaux multicouches unitaires dans le sens d’intercalation des couchesxety
■Ou une combinaison de deux ou plus des procédés mentionnés.
Selon un mode de réalisation particulier, la préparation de matériaux multicouches de l’invention met en œuvre l’étape 4) qui consiste à ajuster la taille du matériau multicouche. Cette étape 4) consiste à réaliser un broyage et/ou un tamisage afin d’homogénéiser la distribution de taille des particules multicouches aux valeurs désirées
Le broyage est effectué pour obtenir des particules de taille inférieure à 1000 µm (D90 en volume), préférentiellement de taille inférieure à 700 nm (D90 en volume), et encore plus préférentiellement de taille inférieure à 400 nm (D90 en volume). Cette distribution de taille peut être déterminée en utilisant la granulométrie par diffraction laser, avec par exemple l’outil Master Sizer 2000 de Malvern Instruments Ltd.
Le tamisage est réalisé pour sélectionner des particules en fonction de leur taille et ainsi obtenir une meilleure homogénéité en taille des matériaux multicouches de l’invention. Par exemple, le tamisage peut être réalisé pour sélectionner les particules de taille comprise entre 20 et 400 µm.
La présente invention concerne également une utilisation cosmétique de matériau multicouche, en tant qu'ingrédient actif filtrant les rayons UV.
La présente invention concerne également une composition, en particulier une composition cosmétique à usage topique destinée à être appliquée sur les matières kératiniques, notamment humaines, en particulier la peau, les fibres kératiniques, en particulier cheveux, et ongles comprenant au moins un matériau multicouche de l’invention tel que défini précédemment.
Compositions de l’invention
Le matériau multicouche peut être sous forme sèche (poudre, flocons, plaques), en dispersion ou en suspension liquide ou en aérosol. Le matériau multicouche peut être utilisé tel quel ou mélangé avec d’autres ingrédients.
Un objet de l’invention est une composition comprenant un ou plusieurs matériaux multicouches tels que définis précédemment.
La composition de l’invention peut être sous diverses formes galéniques. Ainsi, la composition de l’invention peut être sous la forme d'une composition en poudre (pulvérulente) ou d'une composition liquide, ou sous la forme d’un lait, d’une crème, d’une pâte ou d'une composition pour aérosol.
Les compositions selon l’invention sont en particulier des compositions cosmétiques, i.e. le ou les matériaux multicouches de l’invention se trouvent dans un milieu cosmétique. On entend par «milieu cosmétique» un milieu approprié pour l’application sur des matières kératiniques, notamment humaines telles que la peau, ledit milieu cosmétique étant généralement constitué par de l'eau ou par un mélange d'eau et d’un ou plusieurs solvants organiques ou par un mélange de solvants organiques. De préférence la composition comprend de l’eau et dans une teneur comprise inclusivement notamment entre 5% et 95 % par rapport au poids total de la composition. Par «solvant organique», on entend une substance organique capable de dissoudre une autre substance sans la modifier chimiquement.
Les Solvants organiques:
A titre de solvant organique, on peut par exemple citer les alcanols inférieurs en C2-C6, tels que l'éthanol et l'isopropanol ; les polyols et éthers de polyols comme le 2-butoxyéthanol, le propylèneglycol, le monométhyléther de propylèneglycol, le monoéthyléther et le monométhyléther du diéthylèneglycol, ainsi que les alcools aromatiques comme l'alcool benzylique ou le phénoxyéthanol, et leurs mélanges.
Les solvants organiques sont présents dans des proportions de préférence comprise inclusivement entre 0,1 et 40 % en poids environ par rapport au poids total de la composition, et plus préférentiellement entre 1 et 30 % en poids environ et encore plus particulièrement compris inclusivement entre 5 % et 25 % en poids par rapport au poids total de la composition.
Les compositions de l’invention peuvent renfermer une phase grasse et être sous forme d’émulsions directes ou inverses.
Les compositions de l’invention contiennent entre 0,1 % et 40 % de matériaux muticouches, en particulier de 0,5 % à 20 %, et plus particulièrement de 1 % à 10%, et préférentiellement 1,5 % à 5 % en poids par rapport au poids total de la composition.
La concentration en matériaux multicouches dans la composition peut être ajustée en fonction du nombre de couches N constituant le ou les matériaux multicouches entrant dans la composition.
Les compositions de l’invention peuvent être utilisées en mono-application ou en multi-application. Lorsque les compositions de l’invention sont destinées à une multi-application, la teneur en matériau(x) multicouches est en général plus faible que dans les compositions destinées à une multi-application.
Par mono-application au sens de la présente invention, on entend une unique application de la composition, cette application pouvant être répétée plusieurs fois par jour, chaque application étant séparée de la suivante d’’une ou plusieurs heures, ou une application une fois chaque jour, en fonction du besoin.
Par multi-application au sens de la présente invention, on entend une application de la composition répétée plusieurs fois, en général de 2 à 5 fois, chaque application étant séparée de la suivante de quelques secondes à quelques minutes. Chaque multi-application peut être répétée plusieurs fois par jour, séparée de la suivante d’une ou plusieurs heures, ou chaque jour, en fonction du besoin.
Procédé d'application
Ledit matériau multicouche de l’invention est un agent de protection contre les UVA et B, il améliore notamment la filtration globale des UV tout en maintenant une bonne transmission globale dans le domaine du visible.
Il apparait que les matériaux multicouches de l’invention de par i) leurs conceptions spécifiques, ii) du choix de l’épaisseur de chaque couche, iii) de la composition chimique en composés organiques et/ou inorganiques, iv) du choix des composés organiques et/ou inorganiques à faible et à plus fort coefficient de diffraction, et iv) le mode de préparation approprié, et v) le mode d'application approprié permettent notamment à accéder à :
■des propriétés de filtres anti UV, en particulier dans la gamme des UVA (cut-off position λc) ;
■une amélioration de la transition de coupure de par une pente « raide » centrée sur λc; et
■une excellente transparence dans le domaine du visible (400 -780 nm).
Il apparait que les matériaux multicouches de l’invention de par i) leurs conceptions spécifiques, ii) du choix de l’épaisseur de chaque couche, iii) de la composition chimique en composés organiques et/ou inorganiques, iv) du choix des composés organiques et/ou inorganiques à faible et à plus fort coefficient de diffraction, et iv) le mode de préparation approprié, et v) le mode d'application approprié permettent notamment à accéder à :
■des propriétés de filtres anti UV, en particulier dans la gamme des UVA (cut-off position λc) ;
■une amélioration de la transition de coupure de par une pente « raide » centrée sur λc; et
■une excellente transparence dans le domaine du visible (400 -780 nm).
Les matériaux multicouches de l’invention sont utilisés dans les compositions cosmétiques, en particulier pour l'application sur les matières kératiniques, notamment humaine telle que la peau, à une concentration de préférence comprise entre 0,1 % et 40 % en poids par rapport au poids total de la composition les comprenant; plus préférentiellement comprise entre 0,5 % à 20 % en poids par rapport au poids total de la composition les comprenant.
Les concentrations en matériaux multicouches de l'invention peuvent être ajustées en fonction du nombre de couches N dudit matériau. La composition peut être sous n'importe quelle forme galénique.
Les matériaux de l’invention peuvent être appliqués sur les matières kératiniques soit en mono-application soit en multi-applications. Par exemple on peut appliquer une fois une composition cosmétique comprenant au moins un matériau multicouche selon l’invention.
Selon une autre variante le procédé d’application met en œuvre plusieurs applications successives sur les matières kératiniques d’une composition cosmétique comprenant au moins un matériau multicouche selon l’invention.
Il peut s’agir également de modes d’application liés, tels qu’une mono-application saturée i.e. la mono-application d’une composition cosmétique à forte concentration de matériaux multicouches selon l’invention ou alors à la multi-applications de composition cosmétique (moins concentrée) comprenant au moins un matériau multicouche selon l’invention. Dans le cas de multi-applications, plusieurs applications successives de compositions cosmétiques comprenant au moins un matériau multicouche de l’invention sont répétées avec ou sans délai entre les applications.
Un autre objet de l’invention est un procédé de traitement des matières kératiniques notamment humaines telles que la peau, par application sur lesdites matières d’une composition telle que définie précédemment, de préférence par de 1 à 5 applications successives, en laissant sécher entre les couches, la ou les applications étant pulvérisée ou non.
Selon un mode de réalisation de l’invention, la multi-application est réalisée sur les matières kératiniques avec une étape de séchage entre les applications successives des compositions cosmétiques comprenant au moins un matériau multicouche selon l’invention. L’étape de séchage entre les applications successives des compositions cosmétiques comprenant au moins un matériau multicouche selon l’invention peut se faire faire à l’air libre ou artificiellement avec par exemple un système de séchage à air chaux tel qu’un sèche-cheveux.
Selon un mode de réalisation préféré de l’invention le matériau multicouche se trouve sous forme de particule.
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention, le ou les matériaux multicouches de l’invention sont incorporés dans la composition cosmétique, les matériaux multicouches de l'invention et en particulier les particules peuvent être empilées selon des procédés spécifiques suivant l'axe d’alternance des couchesxetyavant ou après l’application selon les modes de préparation et les modes d’application spécifiques.
Les matériaux multicouches de l’invention, ainsi que la composition les comprenant et les modes d’application des matériaux multicouches de l’invention permettent notamment à améliorer l’état de dispersion et la couvrance des particules, et améliorer les propriétés de filtration UV, et/ou de transparence dans le visible et de cut-off UV→visible.
Un autre objet de l’invention est l’utilisation d’un ou plusieurs matériau multicouche tel que défini précédemment, comme filtre UVA et B pour protéger les matières kératiniques, notamment la peau.
Les exemples qui suivent servent à illustrer l’invention sans toutefois présenter un caractère limitatif.
EXEMPLES
Préparation des matériaux multicouches
Mesure des propriétés de filtre anti-UV des matériaux multicouches de l’invention et hors invention
Comparaison entre un matériau à 5 couches selon l’invention et hors invention
Deux échantillons à 5 couches ont été fabriqués par des méthodes classiques par dépôt sous vide (CVD / PVD, S5) sur des substrats en verre transparent de 9 x 9 cm. Une fine couche de polymère PVA hydrosoluble (JP-05® Japan Vam et Poval Co) a été appliquée sur la surface des plaques de verre en tant que couche antiadhésive (sacrificielle) avant le dépôt sous vide. Les matériaux multicouches ont été préparés par détachement des films susmentionnés du substrat de verre après immersion dans de l'eau chaude (50 ° C) pendant 6 heures. Les matériaux multicouches une fois détachés ont été récupérés par filtration et re-dispersés dans de l'eau désionisée. Le premier matériau multicouche ML1 est selon l’invention. Un deuxième matériau ML2 hors invention a été conçu comme comparatif.
Les épaisseurs détaillées et compositions de chaque couche sont rapportées dans le tableau suivant:
[Tableau 7] :
Les mesures de transmittance entre les matériaux à 5 couches ML1 et ML2 ont été effectuées comme suit:
[Tableau 7] :
Les mesures de transmittance entre les matériaux à 5 couches ML1 et ML2 ont été effectuées comme suit:
Application saturée :
Une goutte d'une dispersion de matériau multicouche à 1,7 % en poids dans de l'eau désionisée a été déposée sur un substrat de quartz. Après évaporation complète de l'eau, la mesure de la transmittance a été effectuée.
Applications multiples successives :
Un pinceau a été immergé dans la dispersion de matériaux multicouches (1,7% en poids), l'excès de matériaux multicouches a été éliminé avant de réaliser un revêtement continu sur le substrat de quartz. Après évaporation de l'eau dans les conditions de température ambiante (20 ° C), l'opération a été effectuée trois fois avec une mesure de la transmittance et une microscopie à chaque étape afin de voir l'influence de la couverture de surface et de la quantité de matériau sur les propriétés optiques.
Application par pulvérisation :
Afin de varier l’étude sur les applications du matériau multicouche, un revêtement par pulvérisation a été testé. Avant l’application du matériau sur le substrat, la taille de la ML1 était diminuée par un traitement à l’ultra turrax®, 5 min à 15 000 tr / min, donnant lieu à la sML1. La comparaison des tailles se trouve dans le tableau ci-dessous :
[Tableau 8] :
[Tableau 8] :
Les distributions granulométriques ont été déterminées par diffraction laser à l'aide d'un granulomètre Master Size 2000, Malvern Instruments Ltd. Cet analyseur granulométrique par diffraction laser utilise une lumière bleue (488,0 µm de longueur d'onde) et rouge (633,8 µm de longueur d'onde He-Ne).
Système de détection à double longueur d'onde et à lentille unique.
Un micro-pulvérisateur rechargeable Ecospray avec un réservoir de pression de gaz jetable a été utilisé pour appliquer une dispersion sML1 de composés inorganiques sur le substrat. L'application a été effectuée sur un substrat chaud afin d'accélérer l'évaporation de l'eau en maintenant une distance d'environ 25 cm entre le pulvérisateur et le substrat. Ce mode opératoire a été répété trois fois de plus, en attendant 5 minutes entre chaque application.
Performance optique des matériaux à 5 couches selon l’invention vs. hors invention
Les mesures de transmittance ont été effectuées avec un spectrophotomètre USB4000-UV-VIS (Ocean Optic) équipé d'une sphère d'intégration réflectance-transmittance (Oriel Instruments, modèle 70491). Les données de transmittance ont été enregistrées sur un substrat de quartz en tant que fond; son effet a été soustrait en utilisant du quartz non revêtu identique comme ébauche dans le faisceau double. La source de lumière a été établie entre 200 et 800 nm, DH-2000-BAL Ocean Optics.
Analyse de transmission :
[Tableau 9] :
[Tableau 9] :
Application saturée (goutte):
La transmission globale est plus élevée pour le matériau multicouche selon l’invention ML1, en particulier dans la gamme de longueurs d'onde bleue; 57% contre 39% pour le ML1 par rapport au comparatif ML2.
Le matériau multicouche selon l'invention ML1 fonctionne mieux en termes de capacité de protection contre les UV et de transparence visible globale que celle hors de l'invention ML2.
Multi applications, comparaison entre 1 application et 3 applications :
La transmission UV globale diminue fortement, notamment pour les UVA; la transmission passe de 50 % à 20 % (réduction d'un facteur 2,5) pour le matériau multicouche selon l’invention ML1 et de 25 à 13 % (réduction d'un facteur 1,9) pour le matériau comparatif ML2.
La transmission visible globale est significativement moins impactée pour le matériau multicouche de l’invention ML1 que pour le matériau multicouche comparatif ML2, notamment dans la gamme de longueurs d'onde bleue : la réduction de la transmission est de 1,3 pour ML1 par rapport à un facteur de 1,46 pour ML2.
Il suit que le matériau multicouche selon l’invention ML1 possède une meilleure capacité de protection contre les UV et de transparence visible globale que celle du matériau multicouche hors de l'invention ML2.
Application pulvérisée:
Il apparait que ML1, présente de bonnes propriétés de filtration UV ainsi qu’une transmission visible élevée.
Analyse de la pente de transmittance sur longueur d’onde:
Droites de transmitance sur longueur d’onde du matériau multicouche selon l’invention avec λ l’axe des longueurs d’onde (nm) et t l’axe de transmitance (nm-1) :
t = 0,0056 λ – 1,9155 (linéaire 1 goutte ML1)
t = 0,0034 λ – 0,7037 (linéaire 1 application ML1)
t = 0,0048 λ – 1,4557 (linéaire 2 applications ML1)
t = 0,0050 λ – 1,6315 (linéaire 3 applications ML1)
t = 0,0055 λ – 1,765 (linéaire 4 applications par pulvérisation ML1)
t = 0,0056 λ – 1,9155 (linéaire 1 goutte ML1)
t = 0,0034 λ – 0,7037 (linéaire 1 application ML1)
t = 0,0048 λ – 1,4557 (linéaire 2 applications ML1)
t = 0,0050 λ – 1,6315 (linéaire 3 applications ML1)
t = 0,0055 λ – 1,765 (linéaire 4 applications par pulvérisation ML1)
Droites de transmitance sur longueur d’onde du matériau multicouche hors invention :
t = 0,0021 λ – 0,5468 (linéaire 1 goutte ML2)
t = 0,0019 λ – 0,4012 (linéaire 1 application ML2)
t = 0,0017 λ – 0,3864 (linéaire 2 applications ML2)
t = 0,0017 λ – 0,4491 (linéaire 3 applications ML2)
[Tableau 10] :
t = 0,0021 λ – 0,5468 (linéaire 1 goutte ML2)
t = 0,0019 λ – 0,4012 (linéaire 1 application ML2)
t = 0,0017 λ – 0,3864 (linéaire 2 applications ML2)
t = 0,0017 λ – 0,4491 (linéaire 3 applications ML2)
[Tableau 10] :
La pente de la transmitance sur les longueurs d'onde UV et Visible est obtenue par régression linéaire ; elle est nettement supérieure pour le matériau multicouches selon l’invention ML1 que celui hors invention ML2 :
Plus de deux fois plus élevé pour ML1 dans l'application saturée et pour une application vs. ML2.
Le paramètre de pente augmente de manière significative avec le nombre d'applications pour ML1 contrairement à ML2. L'application pulvérisée améliore également le paramètre de pente.
La multi-application du matériau multicouches comparatif ML2 apporte peu d’amélioration en ce qui concerne le paramètre de pente.
Outre la transmittance élevée dans le visible, de pente de transmittance sur longueur d’onde élevée (supérieure à supérieure à 3*10-3), le matériau multicouche de l’invention possède comme autre propriété optique remarquable un front de filtration étroit entre UV et le visible.
Cut-off position
[Tableau 11] :
[Tableau 11] :
La position de coupure est bien définie dans le cas du matériau multicouche selon l’invention ML1 à 400 nm ± 10 nm, indépendamment du mode d’application. Inversement, dans le cas du matériau multicouche hors invention ML2, le décalage passe de 450 nm à 488 nm, ce qui montre une forte dépendance de la position du « cutt-off » en fonction du mode d’application pour le comparatif ML2.
Claims (19)
- Matériau multicouches à nombre de couches N impaires :
■comprenant au moins trois couches dont chaque couche est constituée d’un matériau A ou d’un matériau B différent de A, lesdites couches A et B successives étant alternées et deux couches adjacentes étant d’indices de réfractions différents ;
■pour lequel l’épaisseur de chaque couche obéit à la formule mathématique(I)suivante :[x / y / ( α x / y) a / x]
Formule(I)dans laquelle :
xest l’épaisseur de la couche interne et externe ;
yest l’épaisseur de la couche adjacente à la couche interne αx ou externe x;
αest un nombre entier ou fractionnaire et α = 2 +/- 0 à 15 %, de préférence α = 2 +/- 0 à 10 %, plus préférentiellement α = 2 +/- 0 à 5 %,
les couches impaires intermédiaires (αx) sont d’épaisseur double +/- 0 à 15% de l'épaisseur desdites couches externes x ; et
areprésente un nombre entier supérieur ou égal à 0, lié au nombre de couches N alternée tel que a = (N-3)/2;
Etant entendu que :
■de préférence x est d’épaisseur différente de y ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5%. - Matériau selon la revendication précédente exempt de substrat.
- Matériau selon une quelconque des revendications précédentes dans lequel les couches adjacentes x et y sont constituées de composés (in)organiques d’indices de réfraction différents qui diffèrent de préférence d’au moins 0,3, de préférence d’au moins 1 ; particulièrement qui diffère d’indice de réfraction compris inclusivement entre 0,3 et 2, de préférence entre 0,4 et 2, plus préférentiellement entre 0,5 et 1,8, encore plus préférentiellement entre 0,6 et 1,5 voire encore plus préférentiellement entre 0,7 et 1,3.
- Matériau selon une quelconque des revendications précédentes dans lequel les matériaux A et B sont constitués de matériaux inorganiques purs ou en mélange, ces composés inorganiques constituant A et B sont en particulier choisis parmi : le germanium (Ge), l’antimoniure de gallium (GaSb), le tellure (Te), l’arseniure d’indium (InAs), silicium (Si), l’arséniure de gallium (GaAs), le phosphure d’indium (InP), le phosphure de gallium (GaP), le graphite (C), le chrome (Cr), le tellurure de zinc (ZnTe), le sulfate de zinc (ZnSO4), le vanadium (V), le séléniure d’arsenic (As2Se3), le dioxyde de titane rutile (TiO2), le diséléniure de cuivre et d’aluminium (CuAlSe2), le titanate de calcium perovskite (CaTiO3), le sulfure de d’étain (SnS), le séléniure de zinc (ZnSe), le dioxyde de titane anatase (TiO2), l’oxyde de cérium (CeO2), le gallium nitrure (GaN), le tungstène (W), le manganèse (Mn), le dioxyde de titane notamment déposé sous vide (TiO2), le diamant (C), l’oxyde de niobium (Nb2O3), le pentoxyde de niobium (Nb2O5), l’oxyde de zirconium (ZrO2), le dioxyde de titane sol-gel (TiO2), le sulfure de zinc (ZnS), le nitrure de silicium (SiN), l’oxyde de zinc (ZnO), l’aluminium (Al), l’oxyde de hafnium (HfO2), l’oxyde d’aluminium corindon ou corundum (Al2O), l’oxyde d’aluminium (Al2O3), l’oxyde de yttrium (Y2O3), l’oxyde de magnésium périclase (MgO), le polysulfone, le fluorure de sodium aluminium (Na3AlF), le fluorure de plomb (PbF2), le mica , l’arséniure d’aluminium (AlAs), le chlorure de sodium (NaCl), le fluorure de sodium (NaF), la silice (SiO2), le fluorure de baryum (BaF2), le fluorure de potassium (KF), la silice déposée sous vide (SiO2), l’oxyde d’indium-étain (ITO), le fluorure de strontium (SrF2), le fluorure de calcium (CaF2), le fluorure de lithium (LiF), le fluorure de magnésium (MgF2) ; particulièrement A et B sont constitués de matériaux inorganiques purs, ces composés inorganiques constituant A et B sont en particulier choisis parmi : le dioxyde de titane anatase (TiO2), le dioxyde de titane notamment déposé sous vide (TiO2), le dioxyde de titane sol-gel (TiO2), la silice (SiO2), la silice déposée sous vide (SiO2).
- Matériau selon une quelconque des revendications précédentes dans lequel les matériaux A et/ou B contiennent des composés organiques, ceux-ci sont choisis parmi la), le polystyrène (PS), le polycarbonate, l’urée formaldéhyde, les copolymères styrène-acrylonitrile, la polyéther sulfone (PES), le polychlorure de vinyle (PVC), les nylons polyamide notamment de type 6/6 , les copolymères styrène butadiène, les nylons polyamide type II, les multipolymère acryliques tels que le polyméthacrylate de méthyle, les ionomères, le polyéthylène, le polybutylène, le polypropylène, le nitrate de cellulose, les homopolymères d’acétal tels que le polyformaldehyde, les polymères de méthylpentène, l’éthylcellulose, l’acétate butyrate de cellulose , le propionate de cellulose, l’acétate de cellulose, le chlorotrifluoro-éthylène (CTFE), le polytétrafluro-éthylène (PTFE), fluorcarbone ou polyfluorure de vinylidène (FEP).
- Matériau selon une quelconque des revendications précédentes dans lequel les couches x sont constituées de composés à indice de réfraction plus élevé que y, en particulier des composés inorganiques et de préférence les oxydes métalliques de métaux se trouvant dans le tableau périodique des éléments dans les colonnes IIIA, IVA, VA, IIIB et les lanthanides, plus particulièrement choisis parmi les oxydes métalliques suivants : TiO2, CeO2, Nb2O3, Nb2O5, HfO2, Al2O3, Y2O3, et ZrO2, plus préférentiellement TiO2, CeO2et encore plus préférentiellement TiO2.
- Matériau selon une quelconque des revendications précédentes dans lequel les couches y sont constituées de composés à indice de réfraction plus faible que x,; préférentiellement sont choisis parmi les oxydes métalliques et halogénures ; particulièrement les oxydes métalliques de métaux se trouvant dans le tableau périodique des éléments dans les colonnes IIA, IVB et VIIB, plus particulièrement les oxydes métalliques à faible indice de réfraction sont choisis parmi le SiO2, MgO, et ITO, et les fluorures notamment Na3AlF6, MgF2, PbF2, CaF2, KF, LiF,BaF2, NaF, et SrF2, et préférentiellement choisi parmi ITO, SiO2, et MgO, plus préférentiellement SiO2, ou MgO, encore plus préférentiellement SiO2.
- Matériau selon une quelconque des revendications 1 à 5 dans lequel les couches y sont constituées de composés à indice de réfraction plus élevé que x, en particulier des composés inorganiques et de préférence sont choisis parmi les oxydes métalliques particulièrement les oxydes métalliques de métaux se trouvant dans le tableau périodique des éléments dans les colonnes IIIA, IVA, VA, IIIB et les lanthanides, plus particulièrement choisis parmi les oxydes métalliques suivants : TiO2, CeO2, Nb2O3, Nb2O5, HfO2, Al2O3, Y2O3, et ZrO2, plus préférentiellement TiO2, CeO2et encore plus préférentiellement TiO2.
- Matériau selon une quelconque des revendications 1 à 5 et 8 dans lequel les couches x sont constituées de composés à indice de réfraction plus faible que y, en particulier choisi parmi sont choisis parmi les oxydes métalliques et halogénures ; particulièrement les oxydes métalliques de métaux se trouvant dans le tableau périodique des éléments dans les colonnes IIA, IVB et VIIB, plus particulièrement les oxydes métalliques à faible indice de réfraction sont choisis parmi le SiO2, MgO, et ITO, et les fluorures notamment Na3AlF6, MgF2, PbF2, CaF2, KF, LiF,BaF2, NaF, et SrF2, et préférentiellement choisi parmi ITO, SiO2, et MgO, plus préférentiellement SiO2, ou MgO, encore plus préférentiellement SiO2.
- Matériau selon une quelconque des revendications précédentes dans lequel l’épaisseur maximale de chaque couche du matériau multicouche est de 120 nm, plus particulièrement l’épaisseur maximale de chaque couche est de 100 nm, de préférence l’épaisseur x est y est comprise entre 5 et 60 nm, plus préférentiellement comprises entre 10 et 50 nm et encore plus préférentiellement comprises entre 20 et 40 nm.
- Matériau selon une quelconque des revendications précédentes dans lequelava de 0 à 7, (0 ≤ a ≤ 7; 3 ≤ N ≤ 17) ; préférentiellement,ava de 0 à 5 (0 ≤ a ≤ 5; 3 ≤ N ≤ 13) et plus préférentiellementava de 0 à 3 ((0 ≤ a ≤ 3; 3 ≤ N ≤ 9) ; encore plus préférentiellement :
N = 3, de formule [x / y / x]
N = 5, la formule [x / y / α x / y / x]
N = 7, la formule [x / y / α x / y / α x / y / x]
N = 9, la formule [x / y / α x / y / α x / y / α x / y / x]
N = 11, la formule [x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / x]
N = 13, la formule [x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / x]
N = 15, la formule [x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / x]
N = 17, la formule [x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / α x / y / x]
Etant entendu que :
■de préférence x est d’épaisseur différente de y ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5%. - Matériau selon une quelconque des revendications précédentes qui comportent entre 3 et 17 couches et qui est tel que :
Etant entendu que :
■de préférence x est d’épaisseur différente de y ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;préférentiellement A et B sont des matériaux inorganiques, des couches adjacentes avec A possédant un indice de réfraction supérieur à celui du matériau B, la différence d’indice de réfraction entre les couches adjacentes étant particulièrement comprise inclusivement entre 0,3 et 2, plus particulièrement entre 0,4 et 2, préférentiellement entre 0,5 et 1,8, encore plus préférentiellement entre 0,6 et 1,5 et encore plus préférentiellement entre 0,7 et 1,3 ; et
xetysont les épaisseurs des couches du matériau avecx<y, de préférence elles ont telles que 5 nm ≤x≤ 40 nm et 10 nm ≤y≤ 50 nm, plus préférentiellement 10 nm ≤x≤ 30 nm et 20 nm ≤y≤ 40 nm,
étant entendu que les épaisseurs de couchesxentres elles,α xentres elles etyentres elles sont identiques,αétant tel que défini précédemment ;
plus préférentiellement les matériaux multicouches comportent entre 3 et 17 couches et sont tels que :
Matériaux multicouches dans lesquelsxetysont telles quex<y, et de préférence 5 nm ≤x≤ 40 nm et 10 nm ≤y≤ 50 nm et, plus préférentiellement 10 nm ≤x≤ 30 nm et 20 nm ≤y≤ 40 nm etx<y,
étant entendu que :
■de préférence x est d’épaisseur différente de y ;
les épaisseurs de couches x entres elles,αx entres elles et y entres elles sont identiques,αétant tel que défini précédemment ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
encore plus préférentiellement les matériaux multicouches comportent entre 3 et 17 couches et sont tels que :
Etant entendu que
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur21nm cela signifie que chaque couche a une épaisseur 21 nm +/- 0 à 3,15 nm, de préférence 21 nm +/- 0 à 2,1 nm, plus préférentiellement 21 nm +/- 0 à 1,05 nm ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur37nm cela signifie que chaque couche a une épaisseur 37 nm +/- 0 à 5,55 nm, de préférence 37 nm +/- 0 à 3,7 nm, plus préférentiellement 37 nm +/- 0 à 1,85 nm ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur42nm cela signifie que chaque couche a une épaisseur 42 nm +/- 0 à 6,3 nm, de préférence 42 nm +/- 0 à 4,2 nm, plus préférentiellement 42 nm +/- 0 à 2,1 nm. - Matériau selon une quelconque des revendications 1 à 11 qui comportent entre 3 et 17 couches et qui est tel que :
Matériaux multicouches dans lesquels :
AetBsont des matériaux inorganiques ou organiques, de préférence inorganiques des couches adjacentes avec A possédant un indice de réfraction supérieur à celui de B, la différence d’indice de réfraction entre les couches adjacentes étant de préférence comprise inclusivement entre 0,3 et 2, de préférence entre 0,4 et 2, plus préférentiellement entre 0,5 et 1,8, encore plus préférentiellement entre 0,6 et 1,5 voire encore plus préférentiellement entre 0,7 et 1,3 ; et
xetysont les épaisseurs des couches du matériau telles quex<y, et de préférence 41 nm ≤x≤ 200 nm et 51 nm ≤y≤ 250 nm etx<y, plus préférentiellement 80 nm ≤x≤ 120 nm et 90 nm ≤y≤ 130 nm,
étant entendu que :
■de préférence x est d’épaisseur différente de y ;les épaisseurs de couchesxentres elles,α xentres elles etyentres elles sont identiques,αétant tel que défini précédemment ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
de préférence les matériaux multicouches comportent entre 3 et 17 couches et sont tels que :
Matériaux multicouches dans lesquelsxetysont tels quex<y, et préférentiellement 41 nm ≤x≤ 200 nm et 51 nm ≤y≤ 250 nm etx<y, plus préférentiellement 80 nm ≤x≤ 120 nm et 90 nm ≤y≤ 130 nm,αétant tel que défini précédemment ;
Etant entendu que :
■de préférence x est d’épaisseur différente de y ;lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurxcela signifie que chaque couche a une épaisseur x +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurycela signifie que chaque couche a une épaisseur y +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseurα xcela signifie que chaque couche a une épaisseurαx +/- 0 à 15%, de préférence +/- 0 à 10%, plus préférentiellement +/- 0 à 5% ;
plus préférentiellement les matériaux multicouches comportent entre 3 et 17 couches et sont tels que :
Etant entendu que :
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur105nm cela signifie que chaque couche a une épaisseur 105 nm +/- 0 à 15,75 nm, de préférence 105 nm +/- 0 à 10,5 nm, plus préférentiellement 105 nm +/- 0 à 5,25 nm ;
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur92nm cela signifie que chaque couche a une épaisseur 92 nm +/- 0 à 13,8 nm, de préférence 92 nm +/- 0 à 9,2 nm, plus préférentiellement 92 nm +/- 0 à 4,6 nm ; et
■lorsque plusieurs couches sont d’épaisseur184nm cela signifie que chaque couche a une épaisseur 184 nm +/- 0 à 27,6 nm, de préférence 184 nm +/- 0 à 18,4 nm, plus préférentiellement 184 nm +/- 0 à 9,2 nm. - Procédé de fabrication de matériau selon une quelconque des revendications précédentes comprenant les étapes suivantes :
1. préparer un substrat et éventuellement appliquer sur le substrat; au moins une couche antiadhésive encore nommée une couche sacrificielle sur ledit substrat;
2. déposer un nombre N impair de couches alternées de matériaux A et B constitués de composés (in)organiques d'indice de réfraction élevé et plus faible, ou d’indice de réfraction faible et plus élevé, sur le substrat éventuellement recouvert de couche sacrificielle ;
3. détacher le matériau multicouche du substrat éventuellement recouvert de couche sacrificielle;
4. si nécessaire, ajuster la taille du matériau multicouche pour obtenir des particules de matériau multicouche ; et
5. réaliser éventuellement un post-traitement suivi éventuellement d’un (ré)ajustement. - Procédé selon la revendication précédente dans lequel le substrat est constitué de composé inorganique tel que le verre, le silicium, ou le quartz, de métal tel que l’aluminium ou de composé organique de préférence choisi parmi les polymère organiques suivants poly(méthacrylate de méthyle) (PMMA), le poly(téréphtalate d'éthylène) (ET), le polypropylène (PP), le polyéthylène (PE), le polychlorure de vinyle (PVC), le polyimide (PI), les nylons, les celluloses et leurs dérivés, le coton ; particulièrement le substrat est inorganique tel que le verre ou le quartz, de préférence le verre.
- Procédé selon la revendication 11 ou 12 qui met en œuvre une couche antiadhésive ou sacrificielle, inerte vis-à-vis du substrat, particulièrement les composés utilisables dans la couche sacrificielle sont choisis parmi :
les polymères suivants : i) Polymère acénaphthylène/MMA solvant organique ; ii) polymère acénaphthylène/styrène/acrylique ; iii) polymère acrylique/butadiène/ styrène ; iv) polymère (acrylonitrile/ butadiène/styrène)amides ; v) polymère acrylimide/acide acrylique ; vi) polymère acétylène (faible poids moléculaire) ; vii) polymère acryliques ; viii) polymère acrylonitrile/butadiène (Caoutchouc) ; viii) Résines alkydes ; ix) Résines alkyles de préférence en (C1-C8)alkyle ; x) polymère alkylène glycols de préférence en (C1-C8)alkylène ; xi) polymère amide/imide ; xii) polymère acrylonitrile ; xiii) polymère acides acryliques ; xiv) polymère de propylate d'amylose ; xv) polymère d’acétate d'amylose ; xvi) polymère de butylate d'amylose ; xvii) polymère d’acrylonitrile/styrène ; xviii) polymère de butène-1 ; xix) caoutchouc de butyle; xx) polymère de méthacrylate de butyle ; xxi) polymère de téréphtalate de butylène ; xxii) polymère butadiène/acrylique ; xxiii) polymère d’acide/acrylonitrile isocyanate de butyle ; xxiv) polymère d’acétate de cellulose ; xxv) polymère de nitrate de cellulose ; xxvi) polymère polyéthylène halogéné notamment chloré (chloroprène) ; xxvii) polymère caprolactame ; xxviii) polymère carbonates ; xxix) polymère polybutadiène carboxylé ; xxx) polymère carboxy (C1-C6)alkylcellulose de préférence polymère de carboxy méthylcellulose ; xxxi) polymère cis-trans isoprène (de préférence cis isoprène) ; xxxii) polymère trinitrate de cellulose ; xxxiii) polymère de dextranes ; xxxiv) polymère de phtalate de dialkyle de préférence di(C1-C6)alkyle ; xxxv) polymère diméthylsiloxanes ; xxxvi) polymère de dodécylacrylate ; xxxvii) polymère de dioxalane ; xxxvii) polymère d’oxyde de (C2-C6)alkylène de préférence polymère d’oxyde d'éthylène ; xxxviii) polyéthers ; xxxix) polymère épichlorohydrane ; xxxx) résines époxy ; xxxxi) polymère acrylates de (C1-C6)alkyle de préférence acrylate d'éthyle ; xxxxii) polymère de (C2-C6)alkylène /(C1-C6)alkylcarbonyl(C2-C6)alkylènoxy, de préférence polymère d’éthylène/acétate de vinyle (EVA) ; xxxxiii) polymère de (C2-C6)alkylène/(C2-C6)alkylène de préférence polymère de éthylène / propylène ; xxxxiv) polymère de téréphtalate de (C2-C6)alkylène de préférence polytéréphtalate d'éthylène (PET) ; xxxxv) polymère (C2-C6)alkylène/ acide (C2-C6)alkénoïque ou ses sels d’agent alcalin, de métaux alcalins ou alcalino terreux, et ses esters de (C1-C6)alkyle, de préférence polymère d’éthylène / acide acrylique ou ses sels d’agent alcalin, de métaux alcalins ou alcalino terreux et ses esters de (C1-C6)alkyle ; xxxxvi) polymère (C2-C6)alkylène/(C2-C6)alkénoïque / (C2-C6)alkénylcarbonyloxy(C1-C6)alkyle, de préférence polymère d’éthylène/méthylacrylate ; xxxxvii) polymère d’éthylène/hexane-1 ; xxxxviii) polyesters ; xxxxix) polymère d’acides gras ; L) polymère d’alcool furfurylique ; Li) polymère gélatines ; Lii) polymère de glycérides ; Liii) polymère d’esters glycol/glycérine ; Liv) polyglycols ; Lv) polyisoprène ; Lvi) polyisobutylène ; Lvii) polyisocyanates ; Lviii) polyimides ; Lix) polymère d’acide imique ; Lx) polymère d’aryl(C2-C6)alkényl de préférence polymère d’isopropylidène-1,4-phénylène ; Lxi) sulfonates de lignine ; Lxii) polymère de lipides ; Lxiii) mélamines ; Lxiv) polymère d’acide (C2-C6)alkénoïque ou ses sels d’agent alcalin, de métaux alcalins ou alcalino terreux et ses esters de (C1-C6)alkyle, de préférence polymère de méthacrylate de méthyle ; Lxv) polyméthylacrylates ; Lxvi) polymère d’acide (C2-C6)alkénoïque ou ses sels d’agent alcalin, de métaux alcalins ou alcalino terreux et ses esters de (C1-C6)alkyle / aryl(C2-C6)alkényle, de préférence polymère de méthacrylate de méthyle / styrène ; Lxvii) polymère de méthylpentène ; Lxviii) polymère d’oxycarbonylarylène, de préférence polymère de oxycarbonyloxy-1,4-phénylène ; Lxix) polymère d’oxy(C1-C6)alkylène, de préférence polyoxypropylène ou polyoxyméthylène ; Lxxi) polymère d’ester d’acide (C2-C6)alkénoïque et de (C8-C20)alkanol, préférentielle polymère de méthacrylate d'octadécyle ; Lxxii) polymère de (C8-C20)alkényle ; Lxxiii) polymère de oxymaléoyloxy(C1-C8)alkylène, de préférence polymère d’oxymaléoyloxhexaméthylène ; Lxxiv) polymère de oxysuccinylox(C1-C8)alkylène, de préférence polymère de oxysuccinyloxhexaméthylène ; Lxxv) polyols ; Lxxvi) polymères d’hydroxyaryle, de préférence polymère phénoliques ; Lxxvi) résines de phénol formaldéhyde ; Lxxvii) polymère d’oxyarylène, de préférence polyoxyde de phénylène ; Lxxviii) polypropylène ; Lxxix) polyoxyde de (C1-C6)alkylène, de préférence polyoxyde de propylène ; Lxxx) polymère de propylène / butène-1 ; Lxxxi) polyacétate de vinyle ; Lxxxii) polymère d’alcool vinylique (PVA) ; Lxxxiii) polymère de butyral de vinyle ; Lxxxiv) polymère d’halogénure de vinyle notamment de chlorure de vinyle ou polymère de fluorure de vinyle ; Lxxxv) polymère d’éthers vinylméthyliques ; Lxxxvi) polymère d’halogénure de vinyle/vinyle notamment chlorure de vinyle / vinyle ; Lxxxvii) polymère d’acétate / acide maléique / alcool vinylique / acétate de vinyle ; Lxxxv) polyesters vinyliques ; Lxxxvi) polyvinylpyrrolidone / acétate de vinyle ; Lxxxvii) polymère d’acétate de vinyle / éthylène ; Lxxxix) polymère d’acétate de vinyle / éthylène / acrylate ; xC) polymère d’halogénure de vinyle notamment bromure de vinyle ; xCi) polymère de ferrocène vinylique ; xCii) polymère de vinyl carbazole ; xCiii) polymère de vinyl formaldéhyde ; xCiv) propionates de celluloses ; et xCv) les résines vinyliques; et
les composés inorganiques, de métaux et/ou semi-conducteurs tels que l'aluminium, l'arséniure d'aluminium et de gallium, le trioxyde d'aluminium / alumine / saphir, l'antimoine, le bismuth, le laiton, le bronze, le carbone, le chrome, le cobalt, le cuivre, l'arséniure de gallium, le germanium et le germanium. indium, arséniure d'indium gallium, phosphure d'indium gallium, phosphure d'indium, oxydes d'oxyde de phosphure d'indium, iridium, fer, plomb, magnésium, molybdène, nickel, niobium, étain, titane, tungstène, vanadium, zinc, ainsi que les sels inorganiques, de préférence aluminium. - Composition comprenant un ou plusieurs matériaux multicouches tels que définis dans une quelconque des revendications 1 à 13.
- Procédé de traitement des matières kératiniques notamment humaines telles que la peau, par application sur lesdites matières d’une composition telle que définie dans la revendication précédente, de préférence par de 1 à 5 applications successives, en laissant sécher entre les couches, la ou les applications étant pulvérisée ou non.
- Utilisation d’un ou plusieurs matériau multicouche tel que défini dans une quelconque des revendications 1 à 10, comme filtre UV A et B pour protéger les matières kératiniques, notamment la peau.
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1904826A FR3095777B1 (fr) | 2019-05-09 | 2019-05-09 | Materiau multicouches pour filtrer les ultraviolets, composition le comprenant, procede de traitement de matieres keratiniques le mettant en œuvre, et procede de preparation du materiau |
BR112021021594A BR112021021594A2 (pt) | 2019-05-09 | 2020-05-06 | Material de múltiplas camadas, processo para fabricar o material, composição, processo para tratar materiais de queratina e usos de um ou mais materiais de múltiplas camadas |
JP2021566036A JP2022532095A (ja) | 2019-05-09 | 2020-05-06 | 紫外線をスクリーニング除去するための多層材料、それを含む組成物、それを使用するケラチン材料の処理プロセス、及び材料の調製プロセス |
PCT/EP2020/062627 WO2020225328A1 (fr) | 2019-05-09 | 2020-05-06 | Matériau multicouche pour le criblage d'ultraviolets, composition le comprenant, méthode de traitement de matières kératiniques l'utilisant et procédé de préparation du matériau |
CN202080033768.2A CN113795555A (zh) | 2019-05-09 | 2020-05-06 | 遮蔽紫外线的多层材料、包含其的组合物、使用其处理角蛋白材料的方法、及制备所述材料的方法 |
EP20725674.4A EP3966288A1 (fr) | 2019-05-09 | 2020-05-06 | Matériau multicouche pour le criblage d'ultraviolets, composition le comprenant, méthode de traitement de matières kératiniques l'utilisant et procédé de préparation du matériau |
KR1020217036502A KR20210151158A (ko) | 2019-05-09 | 2020-05-06 | 자외선 스크리닝용 다층 재료, 이를 포함하는 조성물, 이를 사용하여 케라틴 물질을 처리하는 방법, 및 재료의 제조 방법 |
US17/607,926 US20220313566A1 (en) | 2019-05-09 | 2020-05-06 | Multilayer material for screening out ultraviolet, composition comprising same, process for treating keratin materials using same, and process for preparing the material |
JP2023174370A JP2023181222A (ja) | 2019-05-09 | 2023-10-06 | 紫外線をスクリーニング除去するための多層材料、それを含む組成物、それを使用するケラチン材料の処理プロセス、及び材料の調製プロセス |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1904826A FR3095777B1 (fr) | 2019-05-09 | 2019-05-09 | Materiau multicouches pour filtrer les ultraviolets, composition le comprenant, procede de traitement de matieres keratiniques le mettant en œuvre, et procede de preparation du materiau |
FR1904826 | 2019-05-09 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR3095777A1 true FR3095777A1 (fr) | 2020-11-13 |
FR3095777B1 FR3095777B1 (fr) | 2023-09-29 |
Family
ID=69190827
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR1904826A Active FR3095777B1 (fr) | 2019-05-09 | 2019-05-09 | Materiau multicouches pour filtrer les ultraviolets, composition le comprenant, procede de traitement de matieres keratiniques le mettant en œuvre, et procede de preparation du materiau |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220313566A1 (fr) |
EP (1) | EP3966288A1 (fr) |
JP (2) | JP2022532095A (fr) |
KR (1) | KR20210151158A (fr) |
CN (1) | CN113795555A (fr) |
BR (1) | BR112021021594A2 (fr) |
FR (1) | FR3095777B1 (fr) |
WO (1) | WO2020225328A1 (fr) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114917864B (zh) * | 2022-04-28 | 2023-06-09 | 滨州学院 | 一种空心气敏材料及其制备方法与应用 |
US20240034886A1 (en) * | 2022-07-27 | 2024-02-01 | Axalta Coating Systems Ip Co., Llc | Coating pigments and methods of making thereof |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003171575A (ja) | 2001-12-06 | 2003-06-20 | Nippon Shikizai Inc | 積層型干渉性紫外線遮蔽顔料及びそれを配合した化粧料 |
WO2003063616A1 (fr) | 2002-02-01 | 2003-08-07 | Merck Patent Gmbh | Utilisation de pigments multicouche dans le domaine alimentaire et pharmaceutique |
US20050176850A1 (en) | 2004-02-09 | 2005-08-11 | Christoph Schmidt | Interference pigments |
US20060027140A1 (en) | 2004-07-27 | 2006-02-09 | Kniess Helge B | Multilayered interference pigments |
WO2006042744A1 (fr) * | 2004-10-20 | 2006-04-27 | Merck Patent Gmbh | Coloration d'aliments pour animaux et de medicaments pour animaux |
WO2006063949A1 (fr) * | 2004-12-15 | 2006-06-22 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Procédé d’utilisation de dépôt par micro-ondes d’un oxyde métallique sur un substrat organique |
US20120256333A1 (en) | 2010-12-21 | 2012-10-11 | Toyota Motor Corporation | Process for manufacturing a stand-alone multilayer thin film |
JP2014000811A (ja) | 2012-06-20 | 2014-01-09 | Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America Inc | 独立多層薄フィルムの製造方法 |
US20140261084A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Basf Se | Uv reflecting pigments, and method of making and using the same |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4168986A (en) * | 1978-07-03 | 1979-09-25 | Polaroid Corporation | Method for preparing lamellar pigments |
CN1694928A (zh) * | 2002-10-08 | 2005-11-09 | 默克专利有限公司 | 非薄片涂层着色颜料及其生产方法和用途 |
EP1554352B1 (fr) * | 2002-10-16 | 2012-08-01 | Basf Se | Pigments reducteurs |
AU2006214582B2 (en) * | 2005-02-12 | 2012-05-10 | Basf Catalysts Llc | Transparent goniochromatic multilayer effect pigment |
CN101784616A (zh) * | 2007-08-20 | 2010-07-21 | 巴斯夫欧洲公司 | 制备包含掺有氮的碳涂层的薄片状颜料的方法 |
US8772371B2 (en) * | 2008-05-09 | 2014-07-08 | Basf Se | Pearlescent pigments coated with a metal oxide/hydroxide layer and an acrylic copolymer |
FR2938931B1 (fr) * | 2008-11-27 | 2011-03-18 | Essilor Int | Procede de fabrication d'un article d'optique a proprietes antireflets |
AU2012327193A1 (en) * | 2012-09-13 | 2014-03-27 | Eckart America Corporation | Methods for producing platelet materials |
WO2014149719A1 (fr) * | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Avon Products, Inc | Films cosmétiques à couches multiples |
ES2633025T3 (es) * | 2014-05-23 | 2017-09-18 | Merck Patent Gmbh | Procedimiento para el tratamiento con láser de recubrimientos |
FR3026008B1 (fr) * | 2014-09-19 | 2016-11-25 | Oreal | Composition a base de particules composites spheriques multicouches et d'un filtre uv |
-
2019
- 2019-05-09 FR FR1904826A patent/FR3095777B1/fr active Active
-
2020
- 2020-05-06 EP EP20725674.4A patent/EP3966288A1/fr active Pending
- 2020-05-06 JP JP2021566036A patent/JP2022532095A/ja active Pending
- 2020-05-06 BR BR112021021594A patent/BR112021021594A2/pt active Search and Examination
- 2020-05-06 KR KR1020217036502A patent/KR20210151158A/ko not_active Application Discontinuation
- 2020-05-06 WO PCT/EP2020/062627 patent/WO2020225328A1/fr unknown
- 2020-05-06 CN CN202080033768.2A patent/CN113795555A/zh active Pending
- 2020-05-06 US US17/607,926 patent/US20220313566A1/en active Pending
-
2023
- 2023-10-06 JP JP2023174370A patent/JP2023181222A/ja active Pending
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003171575A (ja) | 2001-12-06 | 2003-06-20 | Nippon Shikizai Inc | 積層型干渉性紫外線遮蔽顔料及びそれを配合した化粧料 |
JP3986304B2 (ja) | 2001-12-06 | 2007-10-03 | 株式会社日本色材工業研究所 | 積層型干渉性紫外線遮蔽顔料及びそれを配合した化粧料 |
WO2003063616A1 (fr) | 2002-02-01 | 2003-08-07 | Merck Patent Gmbh | Utilisation de pigments multicouche dans le domaine alimentaire et pharmaceutique |
US20050176850A1 (en) | 2004-02-09 | 2005-08-11 | Christoph Schmidt | Interference pigments |
US20060027140A1 (en) | 2004-07-27 | 2006-02-09 | Kniess Helge B | Multilayered interference pigments |
WO2006042744A1 (fr) * | 2004-10-20 | 2006-04-27 | Merck Patent Gmbh | Coloration d'aliments pour animaux et de medicaments pour animaux |
WO2006063949A1 (fr) * | 2004-12-15 | 2006-06-22 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Procédé d’utilisation de dépôt par micro-ondes d’un oxyde métallique sur un substrat organique |
US20120256333A1 (en) | 2010-12-21 | 2012-10-11 | Toyota Motor Corporation | Process for manufacturing a stand-alone multilayer thin film |
JP2014000811A (ja) | 2012-06-20 | 2014-01-09 | Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America Inc | 独立多層薄フィルムの製造方法 |
US20140261084A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Basf Se | Uv reflecting pigments, and method of making and using the same |
WO2014150846A1 (fr) | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Basf Se | Pigments réfléchissant les uv et leur procédé de fabrication et d'utilisation |
Non-Patent Citations (13)
Title |
---|
A. R. CONNN. I. M. GOULDPH. L. TOINT: "A Globally Convergent Augmented Lagrangian Algorithm for Optimization with General Constraints and Simple Bounds", SIAM JOURNAL ON NUMERICAL ANALYSIS, vol. 28, no. 2, 1991, pages 545 - 572 |
A. R. CONNN. I. M. GOULDPH. L. TOINT: "A Globally Convergent Augmented Lagrangian Barrier Algorithm for Optimization with General Inequality Constraints and Simple Bounds", MATHEMATICS OF COMPUTATION, vol. 66, no. 217, 1997, pages 261 - 288 |
ALLEN TAFLOVE: "Computational Electromagnetics: The Finite-Difference Time-Domain Method", 2005, ARTECH HOUSE |
DENNIS M. SULLIVAN: "Electromagnetic simulation using the FDTD method", 2000, IEEE PRESS SERIES |
GERHARD PFAFF, SPECIAL EFFECT PIGMENTS |
GOLDBERG, DAVID E.: "Genetic Algorithms in Search, Optimization & Machine Learning", 1989, ADDISON-WESLEY |
KENNEDY, J.R. EBERHART: "Particle Swarm Optimization", PROCEEDINGS OF THE IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON NEURAL NETWORKS. PERTH, AUSTRALIA, 1995, pages 1942 - 1945 |
M. CLAUDIA TROPAREVSKY: "Transfer-matrix formalism for the calculation of optical response in multilayer systems: from coherent to incohérent interference", OPTICS EXPRESS, vol. 18, no. 24, 2010, pages 24715 - 24721 |
MEZURA-MONTES, E.C. A. COELLO COELLO: "Constraint-handling in nature-inspired numerical optimization: Past, present and future", SWARM AND EVOLUTIONARY COMPUTATION, 2011, pages 173 - 194, XP055233677, DOI: 10.1016/j.swevo.2011.10.001 |
O. S. HEAVENS: "Optical Properties of Thin Films", 1965, DOVER |
P. YEH: "Optical Waves in Layered Media", 1988, WILEY |
PEDERSEN, M. E.: "Good Parameters for Particle Swarm Optimization", 2010, HVASS LABORATORIES |
Z. KNITTL: "Optics of Thin Films: An Optical Multilayer Theory", 1976, WILEY |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2022532095A (ja) | 2022-07-13 |
JP2023181222A (ja) | 2023-12-21 |
US20220313566A1 (en) | 2022-10-06 |
CN113795555A (zh) | 2021-12-14 |
FR3095777B1 (fr) | 2023-09-29 |
WO2020225328A1 (fr) | 2020-11-12 |
EP3966288A1 (fr) | 2022-03-16 |
BR112021021594A2 (pt) | 2022-01-04 |
KR20210151158A (ko) | 2021-12-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8446666B2 (en) | UV-reflective structural color | |
EP0708929B1 (fr) | Materiau composite a indice de refraction eleve, procede de fabrication de ce materiau composite et materiau optiquement actif comprenant ce materiau composite | |
Kurt et al. | Structural color via layer-by-layer deposition: layered nanoparticle arrays with near-UV and visible reflectivity bands | |
JP2023181222A (ja) | 紫外線をスクリーニング除去するための多層材料、それを含む組成物、それを使用するケラチン材料の処理プロセス、及び材料の調製プロセス | |
JP5774807B2 (ja) | 狭い帯域の全方向性反射体および構造色としてのそれらの使用 | |
US8749881B2 (en) | Narrow band omnidirectional reflectors and their use as structural colors | |
CA2279828C (fr) | Materiau polymerique inorganique a base d'oxyde de tantale, notamment a indice de refraction eleve, mecaniquement resistant a l'abrasion, son procede de fabrication, et materiau optique comprenant ce materiau | |
WO1994001598A1 (fr) | Procede de fabrication de couches minces presentant des proprietes optiques | |
CN109416421A (zh) | 红外线截止滤波器以及摄像光学系统 | |
FR2927005A1 (fr) | Materiau hybride organique-inorganique, couche mince optique de ce materiau, materiau optique les comprenant, et leur procede de fabrication | |
EP2550679B1 (fr) | Dispositifs photovoltaïques comportant une couche anti-reflet à base d'objets dispersés présentant des domaines d'indices de réfraction distincts | |
Dubey et al. | Reflectance modulation using SiO2/TiO2 multilayer structures prepared by sol-gel spin coating process for optical applications | |
EP0608375A1 (fr) | Miroir dielectrique interferentiel et procede de fabrication d'un tel miroir. | |
WO2021251309A1 (fr) | Film semi-conducteur, procédé de fabrication d'un film semi-conducteur, élément de détection de lumière et capteur d'image | |
Golabi et al. | Efficient colorful perovskite solar cells designed by 2D and 3D ordered titania inverse opals | |
EP2806293B1 (fr) | Procédé chimique en solution de formation d'un revêtement anti-buée et anti-réfléchissant avec une processabilité améliorée | |
EP2335096A1 (fr) | Revêtements anti-reflet comprenant des objets dispersés présentant deux domaines séparés ayant des indices de réfraction distincts | |
Dubey et al. | Engineering of Ultra-Violet reflectors by varying alternate layers of Titania/Silica for harmful UV-protection | |
Yepuri et al. | A Low-Cost Fabrication Approach of UV, VIS and NIR Dielectric Reflectors | |
US12029801B2 (en) | Sunscreen multilayer particle | |
Sood et al. | Development of large area nanostructure antireflection coatings for EO/IR sensor applications | |
WO2024121506A1 (fr) | Pigments interferentiels a base de sulfure de zinc, procede de synthese et composition cosmetique | |
FR3142668A1 (fr) | Pigments interférentiels à base de sulfure de zinc et leur procédé de synthèse | |
FR3142669A1 (fr) | Pigments interférentiels à base de sulfure de zinc et leur procédé de synthèse | |
FR3142670A1 (fr) | Pigments interférentiels dépourvus de dioxyde de titane |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PLFP | Fee payment |
Year of fee payment: 2 |
|
PLSC | Publication of the preliminary search report |
Effective date: 20201113 |
|
PLFP | Fee payment |
Year of fee payment: 3 |
|
PLFP | Fee payment |
Year of fee payment: 4 |
|
PLFP | Fee payment |
Year of fee payment: 5 |
|
PLFP | Fee payment |
Year of fee payment: 6 |