FR3066624B1 - Procede de lithographie par nanoimpression utilisant une etape d'autoguidage - Google Patents
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Abstract
L'invention a pour objet général un procédé de lithographie par nanoimpression permettant de réaliser un alignement de haute précision par autoguidage de tout ou partie des motifs d'un moule structuré (6) et d'un substrat structuré (1). Ce procédé de lithographie par nano-impression comprend les étapes suivantes séquentiellement : - Fabriquer un moule (6) contenant des structures (7), appelé moule structuré, - Fabriquer un substrat (1) contenant des structures d'alignement (3), appelé substrat structuré, - Recouvrir ledit substrat structuré par un matériau polymérisable à l'état liquide ou un film thermodurcissable, - Pré-aligner sans contact ledit moule structuré avec ledit substrat structuré, - Laminer ledit moule structuré sur le substrat structuré, - Polymériser le matériau polymérisable pour former des motifs répliquant en négatif les motifs (7) du moule, - Séparer le moule structuré du substrat structuré sur lequel sont déposés les motifs répliqués. Le procédé est caractérisé en ce que tout ou partie des motifs (7) du moule structuré et des structures (3) du substrat structuré sont dimensionnées de telle sorte que lors de l'étape de lamination, il y ait imbrication de tout ou partie desdites structures afin d'obtenir un alignement de précision.
Description
Procédé de lithographie par nano-impression utilisant une étape d'autoguidage
ETAT DE LA TECHNIQUE
On connaît dans l'état de l'art une technique dite de l'UV-NIL (acronyme en anglais de « Ultra-Violet Nano Imprint Lithography ») qui a été a été proposée en 1996. Le principe de l'UV-NIL réside dans l'utilisation d'un moule structuré transparent aux UV et d'une résine photo-polymérisable sous UV et très fluide à température ambiante. Du fait de sa fluidité, la résine remplit les cavités dudit moule même lorsqu'une faible pression est appliquée en face arrière du moule. La résine est ensuite exposée à un rayonnement UV au travers dudit moule, ce qui entraîne sa polymérisation par des réactions chimiques successives, et par voie de conséquence sa solidification. Ledit moule et ledit substrat peuvent alors être séparés. D'autres techniques de nano-impression existent, parmi elles la nanoimpression thermique. La nano-impression thermique utilise un moule structuré présentant des structures gravées sur sa face active et un substrat recouvert d'un film de polymère thermoplastique ou thermodurcissable. Le moule structuré et le substrat sont chauffés à une température supérieure à la transition vitreuse du polymère afin de transformer ce dernier à l'état liquide. Le moule structuré est ensuite pressé dans le film polymère, qui en remplit les cavités. Enfin, le moule structuré et le substrat sont refroidis à une température inférieure à la température de transition vitreuse, puis séparés. Cette technique, par sa nature même, présente de nombreux inconvénients : résistance insuffisante du moule à la dilatation, temps de cycle long, fortes pressions appliquées aux matériaux rendant la séparation des éléments difficile.
Le principal avantage de la nano-impression UV comparée aux autres techniques de nano-impression réside dans le fait qu'elle n'est pas limitée par des phénomènes de diffraction des rayonnements UV au travers d'un masque, mais elle est uniquement limitée par la résolution des structures présentes sur le moule structuré transparent. La qualité de la nano-impression est donc directement liée à la qualité du moule.
Mais la problématique de la précision d'alignement ainsi que sa répétabilité et reproductibilité entre un moule structuré et un substrat structuré lors de l'utilisation du procédé de nano-impression reste un défi majeur, quelles que soient les techniques connues. Un alignement d'un moule structuré et d'un substrat structuré est réalisé selon les techniques de la lithographie optique conventionnelle en fixant un espace entre le moule structuré et le substrat structuré. On appelle "lamination" l'étape de mise en contact du moule avec le substrat grâce à une pression appliquée sur le moule. Pendant le procédé de lamination, ledit alignement peut soit être maintenu, soit fortement dégradé.
Dans le cas où il est maintenu, la précision de cet alignement n'excède pas 2 à 3 pm.
Il existe des systèmes de nano-impression permettant d'atteindre des résolutions plus importantes de l'ordre de la dizaine de nanomètres mais leur coût est alors multiplié par un facteur 100.
Le procédé selon l'invention vise au contraire à utiliser des systèmes de nano-impression utilisant des techniques d'alignement de la lithographie optique conventionnelle tout en augmentant la précision d'alignement d'un facteur 30.
BUT DE L’INVENTION L'invention a pour but de réaliser un alignement de haute précision entre un moule et un substrat structuré lors de l'étape de lamination du procédé de nanoimpression, mais pour un coût raisonnable.
OBJETS DE L'INVENTION
Dans la suite on adoptera les terminologies suivantes : - Les motifs de réplication font référence aux structures permettant la réplication en négatif des motifs souhaités. - Les motifs répliqués correspondent aux structures obtenues par le procédé de nano-impression et correspondant aux motifs que Ton souhaite reproduire. - Les structures de forme sont les structures présentes sur le substrat et faisant partie intégrante du produit final. - Le produit final est constitué du substrat, des structures de forme et des motifs répliqués. - Les motifs d'alignement du moule structuré représentent des structures additionnelles aux structures de réplication servant de guide à l'alignement de haute précision. - Les structures d'alignement du substrat structuré représentent des structures additionnelles aux structures de forme servant de guide à l'alignement de haute précision. - L'autoguidage correspond à l'imbrication de tout ou partie des motifs du moule structuré et des structures du substrat structuré. - Les marques de pré-alignement du moule structuré sont des motifs d'alignement du moule permettant de réaliser le pré-alignement du moule structuré et du substrat structuré. - Les marques de pré-alignement du substrat structuré sont des structures d'alignement du substrat permettant de réaliser le pré-alignement du moule structuré et du substrat structuré.
Selon le principe de l'invention, la précision recherchée est obtenue par un autoguidage de tout ou partie des structures du substrat structuré par rapport aux structures du moule structuré. L’invention a par conséquent pour objet un procédé de lithographie par nano-impression permettant de réaliser des motifs répliqués sur des structures d'un substrat, comportant des étapes consistant à: - fabriquer un moule comprenant un réseau de motifs d'autoguidage et des motifs de réplication, - fabriquer un substrat structuré comprenant des structures d'alignement, et des espaces inter-structures dimensionnés selon le réseau desdits motifs d'autoguidage, - recouvrir ledit substrat structuré par un matériau polymérisable, - pré-aligner sans contact les motifs d'autoguidage dudit moule avec les espaces inter-structures dudit substrat structuré, - laminer ledit moule sur le substrat structuré par mise en contact progressive entre eux, - polymériser ledit matériau polymérisable de façon à obtenir sur le substrat structuré des motifs répliqués issus des motifs de réplication du moule ; - séparer le moule structuré du substrat structuré, de façon à obtenir un substrat pourvu de motifs répliqués précisément alignés sur les structures du substrat, caractérisé en ce que lors de l'étape de lamination, un bord d'un motif d'autoguidage est mis en contact avec une des structures d'alignement du substrat de façon que ledit bord du motif d'autoguidage glisse progressivement le long du point de contact et positionne précisément les motifs d'autoguidage du moule entre des structures d'alignement du substrat.
Lors du procédé de nano-impression UV, une résine photosensible aux UV est éposée sur le substrat structuré, constituant l'étape de recouvrement du substrat, e moule structuré est pré-aligné sans contact avec le substrat structuré, par xemple par des techniques conventionnelles de la lithographie optique. Les motifs e réplication du moule structuré sont mises en contact avec ladite résine hotosensible par pression, constituant l'étape de lamination. Du fait de sa fluidité, la êsine remplit les cavités du moule structuré pour former les motifs répliqués. La âsine est ensuite exposée à un rayonnement UV à travers le moule structuré, ce qui ntraîne son durcissement, constituant l'étape de polymérisation. Le moule et le ubstrat peuvent alors être séparés, constituant l'étape de séparation.
Dans la suite du document, Ds représente la largeur de la structure du substrat (que cette structure soit une structure de forme ou une structure d'alignement), DM représente la largeur du motif répliqué (que cette structure soit un motif de réplication ou un motif d'alignement) par le moule et PA la précision d'alignement.
Dans la suite du document, Hs représente la hauteur de la structure du substrat (que cette structure soit une structure de forme ou une structure d'alignement), HM représente la hauteur du motif répliqué (que cette structure soit un motif de réplication ou un motif d'alignement).
Selon l'invention, afin que lesdites structures de largeur Ds et DM puissent permettre un alignement de précision grâce à l'imbrication du moule structuré et du substrat structuré, les largeurs Ds et DM doivent satisfaire la condition suivante : Ds=Dm-PA.
Avantageusement, la largeur DM est inférieure à 1mm et la précision d'alignement est meilleure que 0,001Dm.
Avantageusement, les structures s'imbriquant respectent la condition suivante : Hs>0,1Hm.
Compte tenu des difficultés à restaurer ou à nettoyer les moules structurés, une couche anti-adhérente est de préférence déposée sur le moule structuré afin de limiter l'adhésion du matériau polymérisable déposé sur le substrat structuré avec le moule structuré. Dans d'autres modes de réalisation, les agents anti-adhérents peuvent directement être intégrés dans les matériaux composant le moule structuré ou éventuellement être intégrés au matériau polymérisable déposé sur le substrat structuré. L'autoguidage par les structures du substrat et les motifs du moule est réalisé pendant l'étape de lamination. La lamination se fait après une étape de préalignement, effectuée en superposant des marques d'alignement du moule structuré et des marques d'alignement du substrat structuré.
Avantageusement, la lamination s'effectue par pression progressive d'un bord à l'autre du moule structuré parallèlement à la direction principale des structures. La direction principale des structures est définie comme la direction majoritaire des structures. Dans le cas d'un réseau en bandes, la direction principale des structures est la direction parallèle aux bandes.
Selon un premier mode de réalisation de l'invention, l'autoguidage est réalisé par l'imbrication de tout ou partie des motifs de réplication et des structures de forme.
Selon un second mode de réalisation de l'invention, le moule structuré est composé de motifs de réplication et de motifs d'alignement, et le substrat structuré est composé de structures de forme et de structures d'alignement. De préférence, les structures d'alignement du substrat sont disposées uniquement sur les zones du substrat correspondant au début et à la fin de la lamination.
Les structures d'alignement du substrat sont par exemple des parallélépipèdes rectangles formant des créneaux de châteaux forts.
Avantageusement, au sein du moule structuré, les zones contenant les motifs de réplication sont dissociées spatialement des zones contenant les motifs d'alignement, et au sein du substrat structuré les zones contenant les structures de forme sont dissociées spatialement des zones contenant les structures d'alignement. L'autoguidage est alors réalisé soit uniquement par les zones contenant les structures d'alignement ou alternativement par les zones contenant les structures d'alignement et tout ou partie des structures formant le produit final.
Les structures d'alignement sont avantageusement agencées selon un mode de guidage de début et de fin appelé guidage « start & end » (S&E par abréviation). Le guidage S&E implique que le substrat est nécessairement structuré aux abords de son extrémité « start » et aux abords de son extrémité « end ». Lesdites extrémités « start » et « end » correspondent aussi idéalement au début et à la fin de la lamination. L'invention a également pour objet un dispositif photovoltaïque comportant un substrat pourvu de structures photovoltaïques séparées par des zones de transparence, et un ensemble de lentilles alignées avec lesdites structures photovoltaïques, caractérisé en ce qu'il est obtenu à l'aide du procédé tel que décrit précédemment.
DESCRIPTION DETAILLEE L'invention est maintenant décrite plus en détail à l'aide de la description des figures 1 à 5.
La figure IA est un schéma d'une vue en coupe transversale du substrat structuré.
La figure IB est un schéma d'une vue en coupe transversale du moule.
Les figures 2A à 2C sont des schémas correspondant aux positions respectives du moule et du substrat pendant trois étapes successives du procédé d'autoguidage selon l'invention.
Les figures 3A, 3B, 3C, 3D, 3E, 3F correspondent aux étapes d'un procédé de nano impression visant à la fabrication de lentilles parfaitement alignées sur les structures en bandes photovoltaïques du substrat.
Les figures 4A, 4B, 4C, 4D représentent des schémas en vue de dessus de plusieurs types de substrats structurés.
Les figures ne sont pas à l'échelle, les épaisseurs relatives des différents composants étant volontairement exagérées pour mieux faire apparaître les structures.
Liste des repères utilisés sur les figures :
Liste des dimensions utilisées dans les figures :
On se réfère à la figure IA. Le substrat structuré (1) est composé d'un substrat (2) pourvu de structures (3). Tout ou partie de ces structures (3) sont des structures pour guider le moule (6). Les structures (3) sont définies par leur forme géométrique. Chaque structure présente une face (41) en contact avec le substrat
(2), appelée face arrière. La face opposée à la face arrière (41) est appelée face avant (42). Les structures (3) sont encore délimitées par des faces latérales (4). Dans le cas de structures (3) en forme de parallélépipèdes rectangles (exemple de la figure IA), on définit par face gauche (43), la face située en regard du bord gauche du substrat et la face droite (44), la face opposée à la face gauche. L'espace interstructures (5) est délimité par deux structures adjacentes (3' et 3"). La distance séparant deux structures (3) est notée L5. La structure (3) a une hauteur H3. La largeur de base L3 de la structure (3) est définie comme la largeur de la structure (3) en contact avec le substrat (2). Dans le cas d'un réseau régulier de structures, P3 représente le pas du réseau.
La figure IB est un schéma permettant d'expliciter les différentes parties du moule (6). Le moule comporte des motifs de réplication (9) et des motifs d'autoguidage (7). Les motifs de réplication (9) sont des zones d'espace vacant. Ils correspondent à l'image négative du motif répliqué (19) qui sera obtenu en fin de procédé (figure 3F). Les motifs d'autoguidage (7) du moule sont des motifs permettant une imbrication de précision avec les structures adjacentes (3' et 3") d'autoguidage du substrat. Par exemple pour permettre une imbrication des motifs d'autoguidage (7) dans les espaces inter-structures (5) de forme parallélépipédique de la figure IA, les motifs d'autoguidage (7) auront par exemple la forme de polyèdres avec une face arrière (81) rectangulaire de largeur L5, une face avant rectangulaire de largeur L7 inférieure à L5, une face latérale gauche (8') de même dimension que la face latérale droite (8"), et une hauteur H7 inférieure ou égale à la hauteur H3 des structures (3).). Les faces latérales (81, 8") des polyèdres présentent un angle i par rapport à la normale. Les dimensions des polyèdres du moule sont telles que abs(i)=abs(arctan((Ls - L7)/(2H7))), avec préférentiellement i>5°.
Les figures 2A à 2C sont des exemples explicitant les étapes du procédé d'autoguidage selon l'invention. Pour simplifier, la résine préalablement déposée sur le substrat (2) n'est pas représentée sur ces schémas.
Après avoir réalisé un pré-alignement du moule (6) et du substrat structuré (1), le moule (6) est progressivement mis en contact avec le substrat structuré (1) de gauche vers la droite, pendant l'étape de lamination. La figure 2A représente un schéma mettant en évidence la première zone de contact (10) entre le moule (6) et le substrat structuré (1). Dans le cas de structures (3) parallélépipédiques (exemple des figures 2A, 2B et 2C), les motifs d'autoguidage (7) sont avantageusement des trapèzes ou plus généralement des polyèdres à base rectangulaire tels que décrits dans la figure IB.
Pendant l'étape de lamination, la face gauche (89ou la face droite (8") du motif d'autoguidage (7) entre en contact avec la structure (39 et glisse le long de ce point de contact (10 ou 11) au fur et à mesure de la lamination, permettant l'autoguidage (Figure 2A). L'autoguidage prend alors fin lorsque les deux faces latérales gauche (8') et droite (8") sont en contact avec deux structures d'autoguidage adjacentes aux points de contact respectivement (10) et (11) (Figure 2B). Comme représenté en Figure 2C, la lamination peut éventuellement se poursuivre jusqu'à la mise en contact (12) de la face avant du motif d'autoguidage (7) et du substrat (2).
Le procédé décrit plus haut peut par exemple être utilisé dans des applications nécessitant un alignement précis et régulier entre un substrat pourvu de structures et un moule. Par exemple, certaines technologies photovoltaïques permettent d'équiper des appareils pourvus d'un écran d'affichage comme les téléphones mobiles, avec un module photovoltaïque semi-transparent directement intégré à l'écran. Cette technologie combine des microbandes photovoltaïques avec un réseau de microlentilles afin de laisser apparaître l'image affichée. Afin de ne pas générer d'altération visuelle les microlentilles doivent être parfaitement alignées sur les microbandes photovoltaïques. Ce type d'application est schématisé en figure 3.
La figure 3A représente un substrat structuré (1) vu en coupe. Le substrat structuré (1) est composé d'un substrat (2) en verre et de structures photovoltaïques (3). Les structures photovoltaïques sont des microbandes photovoltaïques de pas constant P3, séparées par des espaces inter-structures (5) constituant les zones de transparence dudit dispositif. Dans cet exemple, l'ensemble des microbandes photovoltaïques sont des structures d'autoguidage comme expliqué plus haut.
La figure 3B est un schéma en coupe du substrat structuré (1) de la figure 3A, recouvert d'une résine photo-polymérisable (13). Avantageusement, la quantité de résine déposée correspond à la quantité de résine juste nécessaire pour remplir intégralement les espaces entre les motifs du moule, qui servent à la fabrication de lentilles optiques dans la présente application.
La figure 3C représente un schéma en coupe du moule (6). Le moule est constitué par les motifs de réplication (9) et les motifs d'autoguidage (7). Il est associé à une feuille plastique (14), par exemple en PVC (Polychlorure de Vinyle) transparent. Les motifs de réplication (9) sont l'image négative de lentilles paraboliques qui apparaîtront lors du démoulage.
La figure 3D représente un schéma explicitant le pré-alignement du substrat structuré (1) et du moule (6). Le substrat (1) et le moule (6) sont maintenus à distance par un système mécanique permettant de réaliser le pré-alignement sans contact. Un espace séparant ledit substrat (1) et ledit moule (6) est maintenu pendant toute la durée du pré-alignement. Le pré-alignement est réalisé en alignant des marques d'alignement (15) du moule (6) sur des marques d'alignement (16) du substrat structuré (1) grâce à un système d'alignement (17) conventionnel utilisé en lithographie optique et connu de l'homme du métier.
La lamination s'effectue alors par contact progressif réalisé par un rouleau de longueur supérieure à la largeur du moule structuré en commençant par un côté du moule structuré (appelé par la suite début de la lamination) et en appliquant progressivement une pression jusqu'au côté opposé (appelé par la suite fin de la lamination). Durant cette phase de lamination, les motifs d'autoguidage (7) viennent s'imbriquer et se centrer par autoguidage dans les espaces inter-structures (5). L'autoguidage prend fin lorsque les faces gauches et droites des motifs d'autoguidage sont en contact respectivement avec les faces droites et gauches des structures de guidage respectivement (37) et (3").
La figure 3E représente un schéma du résultat de la lamination. Les motifs de réplication (9) du moule sont comblés par la résine photo-polymérisable (13) pour former les motifs répliqués (19). La résine (13) est alors polymérisée sous rayonnement UV (18) à température ambiante.
La séparation du moule et du substrat s'effectue ensuite progressivement par traction mécanique du moule (6) sur un de ses côtés et jusqu'à l'obtention de la séparation totale par rapport au substrat.
La figure 3F représente un schéma du substrat moulé (1) issu de la séparation. Ce substrat pourvu de motifs répliqués (19) résulte du procédé de nanoimpression autoguidé selon la succession d'étapes qui ont été précédemment décrites. Dans l'exemple représenté, les motifs répliqués sont des lentilles paraboliques (19) issues du moulage. Elles sont donc parfaitement alignées sur les bandes photovoltaïques (3), conformément au but visé par le procédé selon l'invention. Il existe plusieurs agencements pour réaliser l'autoguidage lors du procédé de nano-impression selon l'invention. Avantageusement, l'ensemble des guidages devront présenter un guidage de début et de fin, nommé dans la suite du document par le terme guidage S&E (pour « Start & End » en terminologie anglo-saxonne).
Pour un guidage S&E, le substrat (1) est nécessairement structuré aux abords de son extrémité « start » (201) et aux abords de son extrémité « end » (202). Lesdites extrémités « start » et « end » correspondent aussi idéalement au début et à la fin de la lamination.
Ces agencements peuvent être regroupés en deux familles principales, le guidage fort, dans lequel les structures (3) du substrat sont réalisées pour permettre un guidage sans discontinuité de l'extrémité « start » (201) à l'extrémité « end » (202) du substrat. Pour un guidage faible, les structures (3) disposées sur le substrat sont discontinues, de sorte que l'autoguidage ne se réalise qu'au début et à la fin de la lamination.
Le guidage fort ou faible peut être complet, ou partiel.
Le guidage complet se caractérise par un maillage complet du substrat structuré par les structures qui le constituent. Un guidage qui n'est pas complet sera qualifié de partiel. La figure 4 donne des exemples.
La figure 4A représente un schéma en vue de dessus du substrat structuré pour obtenir un guidage fort complet. Les structures du substrat sont des structures rectangulaires (30). Ce type de guidage est nécessairement de type S&E puisque les structures (30) commencent à l'extrémité « start » du substrat et se terminent à l'extrémité « end » du substrat.
La figure 4B représente un schéma en vue de dessus du substrat structuré pour obtenir un guidage faible partiel. Ce type de guidage n'est pas de type S & E puisqu'il existe des zones de non guidage aux extrémités « start » (201) et « end » (202) du substrat.
La figure 4C représente un schéma d'une vue de dessus du substrat structuré pour obtenir un guidage fort partiel matérialisé par les structures d'autoguidage (231) du substrat de type S & E. Enfin, les différentes structures de guidage peuvent être combinés entre elles pour obtenir par exemple : - des guidages forts partiels associés à des guidages faibles complets, - ou des guidages forts partiels associés à des guidages faibles partiels.
La figure 4D représente un schéma d'une vue de dessus du substrat structuré pour obtenir un guidage fort partiel de type S & E associé à un guide faible partiel utilisant des structures de formes circulaires (21). Dans cet exemple, l'alignement de précision doit être effectué sur les structures circulaires (21), les autres structures (30) aux alentours de la zone centrale d'intérêt (20) étant de formes rectangulaires pour réaliser l'autoguidage. Le pré-alignement est réalisé grâce à des marques de pré-alignement (16) présentes sur le substrat structuré.
Avantageusement, le guidage S & E sera obtenu par des structures de forme rectangulaire permettant un bon guidage de début et de fin pour l'alignement global du moule structuré et du substrat structuré.
EXEMPLE DE MISE EN OEUVRE
Le procédé selon Tinvention peut notamment être utilisé pour fabriquer des lentilles alignées sur les structures de bandes photovoltaïques d'un substrat structuré.
Le substrat structuré est un module photovoltaïque à 50% de transparence obtenue par un procédé de lithographie optique conventionnelle. Le réseau dense de bandes photovoltaïques a un pas de 30 pm, ce qui signifie que la largeur d'une bande photovoltaïque est de 15 pm. L'épaisseur de la bande photovoltaïque est de 1,5 pm.
Le moule structuré est fabriqué selon les techniques usuelles de nanoimpression connues de l'homme du métier. Il est formé par une feuille de polychlorure de vinyle (PVC) d'une épaisseur de 125 pm et de l'image négative de lentilles d'une hauteur (h) de 30 pm et d'une base de largeur (I) de 15,5 pm. Afin d'assurer le démoulage complet du moule après réplication et polymérisation, les formulations de résines sont choisies de manière à diminuer au maximum l'adhérence entre les deux matériaux. Il s'agit dans ce cas d'un poly méthacrylate de méthyle (PMMA) pour le moule structuré et d'un polymère fluoré pour les motifs répliqués. La polymérisation est réalisée sous UV à 365 nm.
AVANTAGES DE L'INVENTION
Le procédé selon l'invention atteint les buts fixés. Il permet d'atteindre des précisions d'alignement de l'ordre de 100 nm entre les structures (3) du substrat et les motifs répliqués (19), augmentant ainsi d'un facteur 30 la précision obtenue par des techniques classiques d'alignement de nano-impression. Elle permet donc d'atteindre des précisions d'alignement équivalentes à celles obtenues par les techniques d'alignement de haute résolution de la micro-électronique, mais à moindre coût, notamment en divisant d'd'au moins un facteur 100 l'investissement en machines et en équipement.
Claims (12)
- REVENDICATIONS1 - Procédé de lithographie par nano-impression permettant de réaliser des motifs répliqués (19) sur des structures (3; 30) d'un substrat, comportant des étapes consistant à: - fabriquer un moule (6) comprenant un réseau de motifs d'autoguidage (7) et des motifs de réplication (9), - fabriquer un substrat structuré (1) comprenant des structures d’alignement (3; 30), et des espaces inter-structures (5) dimensionnés selon Se réseau desdits motifs d'autoguidage (7), - recouvrir ledit substrat structuré (1) par un matériau polymérisable (13), - pré-aligner sans contact les motifs d'autoguidage (7) dudit moule (6) avec les espaces inter-structures (5) dudit substrat structuré (1), - laminer ledit moule (6) sur 1e substrat structuré (1) par mise en contact progressive entre eux, - polymériser ledit matériau polymérisable de façon à obtenir sur 1e substrat structuré (1) des motifs répliqués (19) issus des motifs de réplication (9) du moule (6) ; - séparer le moule structuré (6) du substrat structuré (1), de façon à obtenir un substrat (1) pourvu de motifs répliqués (19) précisément alignés sur les structures (3;30) du substrat (1), caractérisé en ce que tors de S'étape de lamination, un bord (8’, 8”) d'un motif d'autoguidage (7) est mis en contact (10,11) avec une des structures d’alignement (3',3'Q du substrat (1) de façon que ledit bord (8‘, 8") du motif d'autoguidage (7) glisse progressivement le long du point de contact (10,11) et positionne précisément les motifs d’autoguidage (7) du moule entre des structures d'alignement (3;30) du substrat (1).
- 2 - Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que les structures (3;7) s’imbriquant pendant la (amination respectent la condition suivante : Ds=Dm-PA où Ds représente la largeur de la structure (3) du substrat (1), Dm représente la largeur du motif répliqué (19) par te moule structuré (6), et PA représente la précision d’alignement.
- 3 - Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que la largeur Dm du motif répliqué (19) sur te substrat (1) est inférieure ou égale à 1 mm,
- 4 - Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que la précision d'alignement PA est supérieure ou égale à 0,001Dm.
- 5 - Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que les structures s'imbriquant respectent la condition suivante : Hs est supérieure ou égale Ο,ΙχΗμ où Hs représente la hauteur de la structure (3) du substrat structuré (1) et Hm représente la largeur du motif répliqué (19) sur le substrat (1) par te moule structuré (6),
- 6 - Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que te moule structuré (6) est recouvert d'une couche antiadhésive.
- 7 - Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que le moule structuré (6) est composé d'un matériau incluant des agents anti adhérents.
- 8 - Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que te matériau (13) polymérisable à l'état liquide ou te film thermodurcissable contient des agents anti-adhérents.
- 9 - Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le pré-alignement s'effectue en superposant des marques d'alignement (15) du moule structuré (6) et des marques d’alignement (16) du substrat structuré (1).
- 10 - Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que ia lamination s'effectue par pression progressive d'un bord à l'autre du moule structuré (6), parallèlement à la direction principale de ses motifs (3)·
- 11 - Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que les structures d'alignement (3;30) du substrat (1) sont disposées uniquement sur les zones du substrat (1) correspondant au début et à la fin de la lamination.
- 12 - Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que Ses structures d'alignement (3; 30) du substrat (1) sont des parallélépipèdes rectangles formant des créneaux de châteaux forts.
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