FR3010302A1

FR3010302A1 - METHOD FOR MANUFACTURING A DENTAL IMPLANT COMPRISING A LAYER OF AMORPHOUS MATERIAL AND DENTAL IMPLANT OBTAINED ACCORDING TO SAID METHOD

Info

Publication number: FR3010302A1
Application number: FR1358544A
Authority: FR
Inventors: Jean-Paul Davidas; Robert Fromental
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2013-09-06
Filing date: 2013-09-06
Publication date: 2015-03-13
Anticipated expiration: 2033-09-06
Also published as: FR3010302B1

Abstract

La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif d'implantologie dentaire comportant au moins un corps comportant une étape de dépôt d'au moins une couche (12) d'un matériau amorphe ; ledit procédé est remarquable en ce qu'il comporte au moins une étape de traitement de la surface du corps avant et/ou après l'étape de dépôt de la couche (12) de matériau amorphe. Un autre objet de l'invention concerne un dispositif d'implantologie dentaire comportant au moins un corps muni d'une couche (12) d'un matériau amorphe obtenu selon le procédé suivant l'invention ; ledit dispositif est remarquable en ce que la surface de la couche (12) amorphe comporte des micro-aspérités.The present invention relates to a method of manufacturing a dental implantology device comprising at least one body comprising a step of depositing at least one layer (12) of an amorphous material; said method is remarkable in that it comprises at least one step of treating the surface of the body before and / or after the step of depositing the layer (12) of amorphous material. Another subject of the invention relates to a dental implantology device comprising at least one body provided with a layer (12) of an amorphous material obtained according to the method according to the invention; said device is remarkable in that the surface of the amorphous layer (12) has micro-asperities.

Description

- 1 - PROCEDE DE FABRICATION D'UN IMPLANT DENTAIRE COMPORTANT UNE COUCHE DE MATERIAU AMORPHE ET IMPLANT DENTAIRE OBTENU SELON LEDIT PROCEDE DOMAINE TECHNIQUE La présente invention concerne le domaine des implants dentaires utilisés pour la mise en place d'une ou plusieurs prothèses dentaires venant remplacer une ou plusieurs dents manquantes afin de redonner au patient, partiellement ou totalement édenté, une fonction de mastication et/ou un confort buccal et/ou un meilleur aspect esthétique et/ou une meilleure occlusion dentaire. L'invention concerne plus particulièrement un implant dentaire procurant une meilleure ostéo-intégration.TECHNICAL FIELD The present invention relates to the field of dental implants used for the placement of one or more replacement dental prostheses. one or more missing teeth to restore to the patient, partially or totally edentulous, a chewing function and / or oral comfort and / or a better aesthetic appearance and / or better dental occlusion. The invention more particularly relates to a dental implant providing better osseointegration.

ART ANTERIEUR Un implant dentaire consiste usuellement en un corps principal d'ancrage dit douille, muni d'un filetage extérieur et d'un taraudage intérieur, destinée à prendre place dans le maxillaire et/ou la mandibule préalablement percé pour recevoir la douille.PRIOR ART A dental implant usually consists of a main body anchor said socket, provided with an external thread and an internal thread, intended to take place in the maxillary and / or the mandible previously pierced to receive the socket.

Le filetage extérieur est avantageusement auto-taraudant afin de permettre le vissage dans le puits de forage de la mâchoire prévu à cet effet, ledit filetage présentant un diamètre tout juste supérieur au diamètre du puits de forage. La douille comporte à son extrémité dite supérieure, en contact avec le milieu buccal après implantation, un col implantaire apte à recevoir un système prothétique, communément appelé faux moignon pour la réalisation d'une prothèse dentaire scellée, ledit faux moignon étant solidarisé à l'implant au moyen du taraudage de la douille, ou une connectique apte à recevoir une prothèse dentaire dite vissée.The external thread is advantageously self-tapping so as to allow screwing into the wellbore of the jaw provided for this purpose, said thread having a diameter just greater than the diameter of the wellbore. The socket has at its end said upper, in contact with the oral medium after implantation, an implant neck adapted to receive a prosthetic system, commonly called false stump for the realization of a sealed dental prosthesis, said false stump being secured to the implant by means of the tapping of the socket, or a connector adapted to receive a so-called screwed dental prosthesis.

Il existe plusieurs procédures chirurgicales de mise en place des implants dentaires, la technique en deux temps chirurgicaux dite enfouie et la technique en un temps chirurgical dite non enfouie. - 2 - A chacune de ces techniques correspond un type d'implant. Selon la technique dite enfouie, le chirurgien après avoir ouvert la gencive du patient prépare le puits de forage, communément appelé lit de l'implant, dans le maxillaire ou la mandibule du patient. Le chirurgien place ensuite l'implant constitué d'une douille globalement cylindrique puis il referme par des points de suture la gencive au-dessus de l'implant. Cette étape d'enfouissement de l'implant sous la gencive consiste en une étape de mise en nourrice, pendant une durée comprise entre 3 à 6 mois, qui permet l'intégration de l'implant dans l'os. Après cette étape de 3 à 6 mois, une deuxième phase chirurgicale est nécessaire. Le chirurgien incise la gencive au-dessus de la partie supérieure de l'implant pour mettre en place soit une pièce de cicatrisation soit directement un faux moignon soit une connectique pour prothèse vissée. Cette phase de cicatrisation permet de préparer le contour des tissus gingivaux. Après cicatrisation, généralement après 15 jours à 1 mois, la prothèse définitive est mise en place soit par scellement sur le faux moignon vissé à l'extrémité supérieure de la douille soit par vissage sur la connectique prévue à cet effet. Cette technique chirurgicale, et les implants adaptés à cette technique, présentent l'inconvénient de nécessiter deux interventions chirurgicales et de grever considérablement le temps de mise en place de la prothèse dentaire définitive. De surcroît, un temps de reconstruction des maxillaires par greffe osseuse peut venir se grever à ce temps de mise en place de l'implant, une greffe osseuse pouvant être nécessaire si la zone d'implantation présente un os de volume insuffisant.There are several surgical procedures for implanting dental implants, the so-called buried two-stage surgical technique and the technique in a so-called non-buried surgical procedure. - 2 - Each of these techniques corresponds to one type of implant. According to the buried technique, the surgeon after opening the patient's gingiva prepares the wellbore, commonly called implant bed, in the maxillary or mandible of the patient. The surgeon then places the implant consisting of a generally cylindrical sleeve and then closes the gingiva over the implant with sutures. This step of burying the implant under the gum consists of a step of placing in a nurse, for a period of between 3 to 6 months, which allows the integration of the implant into the bone. After this step of 3 to 6 months, a second surgical phase is necessary. The surgeon incises the gingiva above the upper part of the implant to set up either a healing room or directly a false stump or a connector for screwed prosthesis. This healing phase makes it possible to prepare the contour of the gingival tissues. After healing, usually after 15 days to 1 month, the final prosthesis is put in place either by sealing on the abutment screwed to the upper end of the socket or by screwing on the connector provided for this purpose. This surgical technique, and the implants adapted to this technique, have the disadvantage of requiring two surgical procedures and significantly reduce the time of establishment of the final dental prosthesis. In addition, a time of reconstruction of the maxillary bone graft can come to burdens at this implant placement time, a bone graft may be necessary if the implantation area has a bone of insufficient volume.

Afin de remédier à cet inconvénient, la mise en place de l'implant peut se faire en un seul temps chirurgical par la technique dite non enfouie. En effet, des études ont montré que des implants mis en place en un temps chirurgical pouvaient s'implanter dans l'os de la mâchoire avec le même succès que les implants posés en technique enfouie.In order to remedy this disadvantage, the implantation of the implant can be done in a single surgical time by the so-called non-buried technique. Indeed, studies have shown that implants set up in a surgical time can be implanted in the jawbone with the same success as the implants placed in buried technique.

Dans la technique dite non enfouie, le chirurgien met en place l'implant consistant en une douille globalement cylindrique, conique, ou cylindro-conique munie d'un filetage et à l'extrémité supérieure de laquelle est situé un col implantaire apte à recevoir le système prothétique. La mise en place de l'implant s'effectue soit en ouvrant la gencive - 3 - au-dessus de la zone d'implantation soit en passant directement au travers de la gencive suivant la technique dite transmuqueuse puis en pratiquant un puits implantaire à la profondeur choisie en fonction du volume osseux du patient, la longueur de l'implant déterminant la profondeur dudit puits implantaire. Dans le cas de la mise en place de l'implant par incision de la gencive, ladite gencive, après la mise en place de l'implant, est refermée autour du col implantaire solidaire du corps de la douille par des points de suture (technique dite à lambeau), le col implantaire restant en contact avec le milieu buccal. Dans la technique de la mise en place de l'implant par la technique transmuqueuse, il n'est pas nécessaire de suturer la gencive qui s'adapte parfaitement autour du col implantaire en contact avec le milieu buccal. Le col implantaire est fermé par une vis de couverture pendant la phase de cicatrisation osseuse et gingivale. Après cette phase de cicatrisation d'une durée comprise entre 3 et 6 mois, la vis de fermeture est retirée pour mettre en place le système prothétique sur le col implantaire, le système prothétique étant adapté au type de concept prothétique choisi par le chirurgien telle qu'une prothèse dentaire scellée sur un faux moignon ou une prothèse vissée sur une connectique adaptée. On observera que la vis de fermeture présente une hauteur adaptée à la hauteur gingivale, usuellement de l'ordre de 1 ,5 mm à 2 mm. De tels implants sont par exemple décrits dans les demandes de brevet français FR 2 747 031, FR 2 747 032 et FR 2 709 660.In the so-called non-buried technique, the surgeon sets up the implant consisting of a generally cylindrical, conical, or cylindro-conical socket provided with a thread and at the upper end of which is located an implant neck adapted to receive the prosthetic system. The implantation of the implant is carried out either by opening the gingiva - 3 - above the implantation area or by passing directly through the gingiva according to the so-called transmucosal technique then by practicing an implantary well at the depth chosen according to the patient's bone volume, the length of the implant determining the depth of said implant well. In the case of the placement of the implant by incision of the gum, said gingiva, after the introduction of the implant, is closed around the implantary neck secured to the body of the socket by stitches (technical said flap), the implant neck remaining in contact with the oral medium. In the technique of implantation of the implant by the transmucosal technique, it is not necessary to suture the gingiva which fits perfectly around the implant neck in contact with the oral medium. The implant collar is closed by a cover screw during the bone and gum healing phase. After this healing phase lasting between 3 and 6 months, the closure screw is removed to set up the prosthetic system on the implant neck, the prosthetic system being adapted to the type of prosthetic concept chosen by the surgeon such as a dental prosthesis sealed on a false stump or a prosthesis screwed on a suitable connector. It will be observed that the closure screw has a height adapted to the gingival height, usually of the order of 1, 5 mm to 2 mm. Such implants are described, for example, in French patent applications FR 2 747 031, FR 2 747 032 and FR 2 709 660.

Ces implants sont usuellement obtenus dans des métaux biocompatibles tels que du titane ou un alliage de titane par exemple ; Toutefois, ce type d'implant présente l'inconvénient de ne pas procurer une précharge suffisante lors du vissage. Afin de remédier à cet inconvénient, on a déjà imaginé de recouvrir le pas de vis d'un matériau présentant un coefficient de frottement bas tel que du carbone amorphe dit DLC selon l'acronyme anglo-saxon « Diamond Like Coating ». C'est le cas notamment de la demande de brevet international WO 2009/039254 qui décrit un système d'implant dentaire qui utilise une vis de butée améliorée avec des caractéristiques acceptables en termes de biocompatibilité, de corrosion, de force et de précharge. Certains modes de réalisation en particulier concernent un système d'implant dentaire qui présente un implant artificiel et une butée, qui sont fixés avec une vis formée à partir d'acier inoxydable, tel que l'acier inoxydable chirurgical 316L. Dans certains - 4 - modes de réalisation, la vis en acier inoxydable est recouverte d'un matériau malléable, tel que l'or, l'argent ou le polytétrafluoroéthylène, destiné à améliorer la précharge de la vis. En variante, la vis en acier inoxydable peut être recouverte d'un matériau plus dur, tel qu'un carbone amorphe (DLC), un diamant amorphe, un diamant cristallin, ou une combinaison de ceux-ci, qui présentent un coefficient de frottement bas, fournissant ainsi des propriétés de précharge améliorées. Toutefois, tous les implants dentaires de l'art antérieur présentent l'inconvénient de libérer des ions métalliques dans la bouche et/ou dans les tissus du patient, lesdits ions métalliques pouvant être néfastes pour la santé du patient. Afin de palier et inconvénient, on a déjà imaginé de recouvrir l'implant d'une couche amorphe permettant d'éviter la libération d'ions métalliques.These implants are usually obtained in biocompatible metals such as titanium or a titanium alloy for example; However, this type of implant has the disadvantage of not providing sufficient preload during screwing. To overcome this drawback, it has already been imagined to cover the thread of a material having a low coefficient of friction such as amorphous carbon said DLC according to the acronym "Diamond Like Coating". This is notably the case of the international patent application WO 2009/039254 which describes a dental implant system which uses an improved stop screw with acceptable characteristics in terms of biocompatibility, corrosion, force and preload. Some embodiments in particular relate to a dental implant system that has an artificial implant and a stopper, which are secured with a screw formed from stainless steel, such as surgical stainless steel 316L. In some embodiments, the stainless steel screw is covered with a malleable material, such as gold, silver, or polytetrafluoroethylene, for improving the preload of the screw. Alternatively, the stainless steel screw may be coated with a harder material, such as an amorphous carbon (DLC), an amorphous diamond, a crystalline diamond, or a combination thereof, which has a coefficient of friction low, thus providing improved preload properties. However, all dental implants of the prior art have the disadvantage of releasing metal ions in the mouth and / or tissues of the patient, said metal ions may be detrimental to the health of the patient. In order to overcome this problem, it has already been imagined to cover the implant with an amorphous layer that makes it possible to avoid the release of metal ions.

C'est le cas notamment de la demande de brevet international WO 00/74637. En effet, ce document décrit un procédé de revêtement d'un implant dentaire, d'une structure supportée par un implant ou d'une pièce ou appareil métallique et de laboratoire dentaire se composant d'un alliage coulé de CoCr ou d'un autre métal ou alliage de métaux. Ce document décrit également un implant dentaire, une structure supportée par un implant ou une pièce ou appareil métallique et de laboratoire dentaire. Le revêtement consiste en un film DLC fabriqué, par exemple, selon un procédé de DCPV. Ce revêtement empêche le Co et le Cr ou autres ions de se dissoudre sous l'effet des conditions buccales. Toutefois, ce type d'implant présente l'inconvénient de ne pas procurer une ostéo- intégration suffisante de sorte que l'implant n'est pas stable au cours du temps. EXPOSE DE L'INVENTION L'un des buts de l'invention est donc de remédier à ces inconvénients en proposant un procédé de fabrication d'un implant dentaire et un implant dentaire obtenu selon le procédé de conception simple et peu onéreuse, empêchant la libération d'ions métalliques, présentant de très bonnes propriétés de biocompatibilité et d'hémocompatibilité, stable à long terme et procurant une excellente ostéo-intégration. - 5 - A cet effet et conformément à l'invention, il est proposé un procédé de fabrication d'un dispositif d'implantologie dentaire comportant au moins un corps comportant une étape de dépôt d'au moins une couche d'un matériau amorphe ; ledit procédé est remarquable en ce qu'il comporte au moins une étape de traitement de la surface du corps avant et/ou après l'étape de dépôt de la couche de matériau amorphe. De manière surprenante, le Déposant a constaté que le traitement de la surface du corps du dispositif d'implantologie dentaire de telle sorte que la surface de la couche de matériau amorphe présente des micro-aspérités permet d'améliorer sensiblement l'ostéo- intégration du dispositif d'implantologie. De préférence, le procédé comporte une première étape de traitement de la surface du corps du dispositif et une seconde étape de dépôt d'une couche d'un matériau amorphe sur ledit corps. Accessoirement, le procédé comporte une seconde étape de traitement de la surface de la couche de matériau amorphe déposée sur ledit corps.This is particularly the case of the international patent application WO 00/74637. Indeed, this document describes a method for coating a dental implant, a structure supported by an implant, or a dental laboratory or metal part or apparatus consisting of a cast CoCr alloy or another metal or alloy of metals. This document also discloses a dental implant, a structure supported by an implant or a metal or dental laboratory part or apparatus. The coating consists of a DLC film manufactured, for example, according to a DCPV method. This coating prevents Co and Cr or other ions from dissolving under the effect of oral conditions. However, this type of implant has the disadvantage of not providing sufficient osseointegration so that the implant is not stable over time. SUMMARY OF THE INVENTION One of the aims of the invention is thus to remedy these drawbacks by proposing a method of manufacturing a dental implant and a dental implant obtained according to the simple and inexpensive design method, preventing the release. of metal ions, with very good biocompatibility and haemocompatibility properties, stable in the long term and providing excellent osseointegration. For this purpose and in accordance with the invention, there is provided a method of manufacturing a dental implantology device comprising at least one body comprising a step of depositing at least one layer of an amorphous material; said method is remarkable in that it comprises at least one step of treating the surface of the body before and / or after the step of depositing the layer of amorphous material. Surprisingly, the Applicant has found that the treatment of the body surface of the dental implantology device so that the surface of the layer of amorphous material has micro-asperities substantially improves the osteointegration of the implant. implantology device. Preferably, the method comprises a first step of treating the surface of the body of the device and a second step of depositing a layer of an amorphous material on said body. Incidentally, the method comprises a second step of treating the surface of the layer of amorphous material deposited on said body.

Alternativement, le procédé comporte une première étape de dépôt d'une couche de matériau amorphe sur ledit corps et une seconde étape de traitement de la surface de la couche de matériau amorphe préalablement déposée sur ledit corps. De préférence, la couche de matériau amorphe est déposée sur une épaisseur comprise entre 0,1 et li.tm et elle consiste dans du carbone amorphe dit DLC. Ladite couche de carbone amorphe est déposée suivant un procédé de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma dit PACVD.Alternatively, the method comprises a first step of depositing a layer of amorphous material on said body and a second step of treating the surface of the layer of amorphous material previously deposited on said body. Preferably, the layer of amorphous material is deposited in a thickness of between 0.1 and 11 μm and consists of amorphous carbon known as DLC. Said amorphous carbon layer is deposited according to a plasma-enhanced chemical vapor deposition method known as PACVD.

Selon une variante d'exécution, la couche de carbone amorphe est déposée suivant un procédé de dépôt physique en phase vapeur d'un matériau cible, à l'état solide, dit PVD. - 6 - Ladite étape de traitement de surface consiste en une étape de sablage et/ou de sablage mordançage et/ou en en une étape de traitement chimique. Un autre objet de l'invention concerne un dispositif d'implantologie dentaire comportant au moins un corps muni d'une couche d'un matériau amorphe obtenu selon le procédé suivant l'invention remarquable en ce que la surface de la couche amorphe comporte des micro-aspérités. Ladite couche de matériau amorphe présente de préférence une épaisseur comprise entre 0,1 et lum et consiste dans du carbone amorphe dit DLC. DESCRIPTION SOMMAIRE DES FIGURES D'autres avantages et caractéristiques ressortiront mieux de la description qui va suivre de plusieurs variantes d'exécution, données à titre d'exemples non limitatifs, du procédé de fabrication d'un implant dentaire comportant une couche d'un matériau amorphe et de l'implant dentaire obtenu conforme à l'invention, en référence aux dessins annexés sur lesquels : - la figure 1 est une vue de côté de l'implant dentaire suivant l'invention, - la figure 2 est une vue en coupe d'un détail du corps de l'implant dentaire suivant l'invention. DESCRIPTION DETAILLEE DE L'INVENTION On décrira dans cet exemple particulier, un implant dentaire destiné à être utilisé pour la mise en place d'une ou plusieurs prothèses dentaires venant remplacer une ou plusieurs dents manquantes ; toutefois, il est bien évident que le procédé suivant l'invention pourra s'appliquer à tout dispositif d'implantologie dentaire tel qu'une bague de transfert, un porte-implant, un faux moignon et les différentes pièces d'un système de transfert bien connu de l'homme du métier sans pour autant sortir du cadre de l'invention. - 7 - Dans la suite de la description du procédé de fabrication d'un implant dentaire suivant l'invention, les mêmes références numériques désignent les mêmes éléments. Les différentes vues ne sont pas nécessairement tracées à l'échelle.According to an alternative embodiment, the amorphous carbon layer is deposited according to a method of physical vapor deposition of a target material, in the solid state, called PVD. Said surface treatment step consists of a step of sanding and / or sanding etching and / or a chemical treatment step. Another subject of the invention relates to a dental implantology device comprising at least one body provided with a layer of an amorphous material obtained according to the process according to the invention, which is remarkable in that the surface of the amorphous layer comprises micro -aspérités. Said layer of amorphous material preferably has a thickness of between 0.1 and lamb and consists of amorphous carbon known as DLC. SUMMARY DESCRIPTION OF THE FIGURES Other advantages and features will become more apparent from the following description of several variant embodiments, given as non-limiting examples, of the method of manufacturing a dental implant comprising a layer of a material. amorphous and dental implant obtained according to the invention, with reference to the accompanying drawings in which: - Figure 1 is a side view of the dental implant according to the invention - Figure 2 is a sectional view a detail of the body of the dental implant according to the invention. DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION In this particular example, a dental implant intended to be used for the placement of one or more dental prostheses replacing one or more missing teeth will be described in this particular example; however, it is obvious that the method according to the invention can be applied to any dental implantology device such as a transfer ring, an implant holder, a stub and the various parts of a transfer system well known to those skilled in the art without departing from the scope of the invention. In the following description of the method of manufacturing a dental implant according to the invention, the same reference numerals designate the same elements. Different views are not necessarily drawn to scale.

En référence à la figure 1, l'implant dentaire suivant l'invention est constitué d'un corps principal dit d'ancrage se présentant sous la forme d'une douille (1) globalement conique comprenant une première partie inférieure dite apicale (2) conique s'évasant depuis son extrémité apicale et une seconde partie supérieure dite basale (3) tronconique prolongeant la partie apicale (2) conique et rétrécissant depuis l'extrémité supérieure de la partie apicale (2) jusqu'à son extrémité supérieure. Cette douille (1) est, pour des raisons de clarté de la description, représentée verticalement et est destinée à prendre place dans le maxillaire et/ou la mandibule préalablement percé pour recevoir ladite douille (1). La partie apicale (2) conique de la douille (1) présente un filetage (4) et la partie supérieure (3) de ladite douille (1) présente une paroi latérale concave (5). De manière avantageuse, la douille (1) présente une extrémité inférieure (6) légèrement arrondie permettant son utilisation dans les techniques chirurgicales du 20 relèvement du plancher sinusal bien connu de l'Homme du Métier. Accessoirement, la douille (1) présente entre deux filets successifs du filetage (4) une paroi droite. De préférence, les parois de la douille (1) s'étendant entre deux filets successifs de la douille (1) sont cylindriques. Lesdits cylindres formant les parois de la 25 douille (1) s'étendant entre deux filets successifs présentent un diamètre décroissant depuis l'extrémité basale jusqu'à l'extrémité apicale de la douille (1). Par ailleurs, l'implant comporte un col implantaire (7) s'étendant depuis l'extrémité supérieure de la douille (1), la douille (1) et le col implantaire (7) étant obtenus d'un seul 30 tenant. Ce col implantaire (7) est issu de l'extrémité supérieure de la douille (1) en présentant une forme globalement conique, coaxiale à ladite douille (1), s'évasant depuis sa base, c'est-à-dire depuis l'extrémité supérieure de ladite douille (1). - 8 - Le col implantaire (7) comporte une première partie (10) dont la paroi externe s'évase depuis sa base en présentant une concavité orientée vers l'extérieur et une seconde partie (11) dont la paroi externe s'évase en présentant une convexité orientée vers l'extérieur. La paroi externe du col implantaire (7) présente un état de surface usiné globalement lisse ou non. Il est bien évident que le col implantaire (7) pourra présenter une forme quelconque et comporter une connectique quelconque, interne ou externe, telle qu'une connectique interne en forme d'hexagone par exemple, sans pour autant sortir du cadre de l'invention.Referring to Figure 1, the dental implant according to the invention consists of a main body said anchor being in the form of a sleeve (1) generally conical comprising a first lower end called apical (2) conical flaring from its apical end and a second so-called basal frustoconical upper portion (3) extending the conical apical portion (2) and narrowing from the upper end of the apical portion (2) to its upper end. This sleeve (1) is, for the sake of clarity of the description, shown vertically and is intended to take place in the maxilla and / or mandible previously pierced to receive said sleeve (1). The tapered apical portion (2) of the sleeve (1) has a thread (4) and the upper part (3) of said sleeve (1) has a concave side wall (5). Advantageously, the sleeve (1) has a slightly rounded lower end (6) allowing its use in surgical techniques of raising the sinus floor well known to those skilled in the art. Incidentally, the sleeve (1) has between two successive threads of the thread (4) a straight wall. Preferably, the walls of the sleeve (1) extending between two successive threads of the sleeve (1) are cylindrical. Said cylinders forming the walls of the sleeve (1) extending between two successive threads have a diameter decreasing from the basal end to the apical end of the sleeve (1). Furthermore, the implant comprises an implant neck (7) extending from the upper end of the sleeve (1), the sleeve (1) and the implant collar (7) being obtained in one piece. This implant neck (7) is derived from the upper end of the sleeve (1) having a generally conical shape, coaxial with said sleeve (1), flaring from its base, that is to say from upper end of said sleeve (1). The implant neck (7) has a first portion (10) whose outer wall flares out from its base with an outwardly directed concavity and a second portion (11) whose outer wall is flared out. having an outwardly convexity. The external wall of the implant neck (7) has a machined surface surface that is generally smooth or not. It is obvious that the implant collar (7) may have any shape and have any connection, internal or external, such as an internal connector in the form of hexagon for example, without departing from the scope of the invention .

Par ailleurs, il va de soi que l'implant pourra être constitué de deux parties sans sortir du cadre de l'invention. En référence à la figure 2, la douille (1) est recouverte d'une couche (12) d'un matériau amorphe sur une épaisseur comprise entre 0,1 et 11.1m. Ledit matériau consiste de préférence dans du carbone amorphe dit DLC selon l'acronyme anglo-saxon « Diamond Like Coating ». Ladite couche (12) de carbone amorphe est déposée suivant un procédé de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma dit PACVD selon l'acronyme anglo-saxon « Plasma Assited Chemical Vapour Deposition » ou selon un procédé de dépôt physique en phase vapeur d'un matériau cible, à l'état solide, dit PVD selon l'acronyme anglo-saxon « Physical Vapour Deposition ». Le procédé PVD comporte une première étape dans laquelle les implants dentaires sont positionnés sur des carrousels et sont mis en rotation, lesdits carrousels s'étendant dans une enceinte. L'enceinte est alors mise sous vide, c'est-à-dire à une pression comprise entre 10-4 et 10-5 mbar, puis les implants sont chauffés pour monter en température et la température est maintenue à une température sensiblement constante. Un décapage ionique est alors réalisé par un bombardement d'ions argon. Des cibles ou cathodes disposées dans l'enceinte sont alors évaporées sous l'effet d'arcs électriques de sorte que la vapeur métallique ionisée formée sous l'effet des arcs électriques métallise les implants qui sont polarisés. L'addition de gaz tel que l'azote (N2) par exemple permet de réaliser des nitrures de ces métaux qui peuvent consister dans du nitrure de titane (TiN), du nitrure de titane aluminium (TiAIN), du nitrue de chrome (CrN) ou similaire. Alternativement, l'activation des cathodes ou cibles peut se faire au moyen d'un bombardement des - 9 - cathodes par un plasma constitué du gaz d'argon ionisé, en lieu et place des arcs électriques, selon le procédé de dépôt PVD dit par « sputtering ». Le dépôt du carbone amorphe dit DLC pourra, par exemple, être réalisé selon le procédé décrit dans le brevet européen EP1720702 dans lequel deux couches d'un matériau amorphe sont déposées successivement. Avant et/ou après l'étape de dépôt de la couche (12) de matériau amorphe, le procédé comporte une étape de traitement de la surface du corps d'ancrage (1) et du col implantaire (7) de sorte que la couche (12) de matériau amorphe présente des micro- aspérités. Cette étape de traitement de surface consiste en une étape de sablage et/ou de sablage mordançage ou similaire. Ces micro-aspérités dans la couche (12) de matériau amorphe permettent d'améliorer sensiblement l'ostéo-intégration du dispositif d'implantologie.Moreover, it goes without saying that the implant may consist of two parts without departing from the scope of the invention. Referring to Figure 2, the sleeve (1) is covered with a layer (12) of an amorphous material to a thickness of between 0.1 and 11.1m. Said material is preferably in amorphous carbon called DLC according to the acronym "Diamond Like Coating". Said layer (12) of amorphous carbon is deposited according to a plasma-enhanced chemical vapor deposition process known as PACVD according to the acronym "Plasma Assited Chemical Vapor Deposition" or according to a physical vapor deposition method of a target material, in the solid state, called PVD according to the English acronym "Physical Vapor Deposition". The PVD method comprises a first step in which the dental implants are positioned on carousels and are rotated, said carousels extending into an enclosure. The enclosure is then placed under vacuum, that is to say at a pressure of between 10-4 and 10-5 mbar, then the implants are heated to increase in temperature and the temperature is maintained at a substantially constant temperature. Ion etching is then carried out by argon ion bombardment. Targets or cathodes disposed in the enclosure are then evaporated under the effect of electric arcs so that the ionized metal vapor formed under the effect of the electric arcs metallizes the implants which are polarized. The addition of gases such as nitrogen (N 2) for example makes it possible to produce nitrides of these metals which may consist of titanium nitride (TiN), aluminum titanium nitride (TiAlN), chromium nitride (CrN ) or similar. Alternatively, the activation of the cathodes or targets can be done by means of a bombardment of the cathodes by a plasma consisting of argon ionized gas, in place of the electric arcs, according to the PVD deposition process said by "Sputtering". The deposit of amorphous carbon known as DLC may, for example, be carried out according to the process described in European Patent EP1720702 in which two layers of an amorphous material are deposited successively. Before and / or after the step of depositing the layer (12) of amorphous material, the method comprises a step of treating the surface of the anchoring body (1) and the implant neck (7) so that the layer (12) amorphous material has micro-asperities. This surface treatment step consists of a sanding and / or sanding etching step or the like. These micro-asperities in the layer (12) of amorphous material make it possible to substantially improve the osseointegration of the implantology device.

Il est bien évident que la couche (12) de carbone amorphe DLC pourra être déposée par tout autre procédé bien connu de l'homme du métier sans pour autant sortir du cadre de l'invention.It is obvious that the layer (12) of amorphous carbon DLC may be deposited by any other method well known to those skilled in the art without departing from the scope of the invention.

De plus, il est bien évident que le carbone amorphe pourra être substitué par tout autre matériau amorphe bien connu de l'homme du métier tel que de l'alumine amorphe ou de la céramique amorphe par exemple sans pour autant sortir du cadre de l'invention. Enfin, il est bien évident que les exemples que l'on vient de donner ne sont que des illustrations particulières et en aucun cas limitatif quant au domaine d'application de l'invention.In addition, it is obvious that the amorphous carbon may be substituted by any other amorphous material well known to those skilled in the art such as amorphous alumina or amorphous ceramic for example without departing from the scope of the invention. Finally, it is obvious that the examples which have just been given are only particular illustrations and in no way limiting as to the field of application of the invention.

Claims

CLAIMS1- A method of manufacturing a dental implantology device comprising at least one body comprising a step of depositing at least one layer (12) of an amorphous material, characterized in that it comprises at least one step of treatment of the body surface before and / or after the step of depositing the layer (12) of amorphous material so that the layer of amorphous material has micro-asperities.

2- A method of manufacturing a dental implantology device according to the preceding claim characterized in that it comprises a first step of treating the surface of the body of the device and a second step of depositing a layer (12) d an amorphous material on said body.

3 - A method of manufacturing a dental implantology device according to claim 2 characterized in that it comprises a second step of treating the surface of the layer (12) of amorphous material deposited on said body.

4- A method of manufacturing a dental implantology device according to claim 1 characterized in that it comprises a first step of depositing a layer (12) of amorphous material on said body and a second stage of treatment of the surface of the layer (12) of amorphous material previously deposited on said body.

5 - A method of manufacturing a dental implantology device according to any one of claims 1 to 4 characterized in that the layer (12) of amorphous material is deposited on a thickness between 0.1 and liam.

6. A method of manufacturing a dental implantology device according to any one of claims 1 to 5 characterized in that the amorphous material consists of amorphous carbon said DLC.

7- A method of manufacturing a dental implantology device according to claim 6 characterized in that the layer (12) of amorphous carbon is deposited according to a method of plasma-enhanced chemical vapor deposition said PACVD.-11

8- A method of manufacturing a dental implantology device according to claim 6 characterized in that the layer (12) of amorphous carbon is deposited according to a method of physical vapor deposition of a target material, in the state solid, 5 says PVD.

9- A method of manufacturing a dental implantology device according to any one of claims 1 to 8 characterized in that the surface treatment step consists of a sandblasting step and / or sanding etching. 10

10 - A method of manufacturing a dental implantology device according to any one of claims 1 to 8 characterized in that the surface treatment step consists of a chemical treatment step. 15

11 - Dental implantology device comprising at least one body provided with a layer of an amorphous material obtained according to the method according to any one of claims 1 to 10, characterized in that the surface of the amorphous layer (12) has micro-asperities. 20

12 - Dental implantology device according to claim 11 characterized in that the layer (12) of amorphous material has a thickness between 0.1 and liam.

13 - Dental implantology device according to any one of claims 11 or 12 characterized in that the layer (12) of amorphous material consists of amorphous carbon said DLC.

14 - Application of the dental implantology device according to any one of claims 11 to 13 to a dental implant comprising a central body said anchor 30 (1) of revolution adapted to be implanted in a hole made in a bone d ' a patient, and an implant collar (7) secured to the anchoring body adapted to receive a prosthetic system.