FR2985440A1 - Dispositif et procede de recuperation de particules sans dispersion polluante - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (17)
- REVENDICATIONS1. Système de récupération (74) de paillettes (5) REVENDICATIONS1. Système de récupération (74) de paillettes (5) susceptibles de se charger électriquement, déposées uniformément et non adhérentes sur un substrat (3), caractérisé en ce qu'il comporte : - deux dispositifs électrostatiques (20, 21) contenant chacun au moins une surface conductrice (200, 210), placés en vis-à-vis et de part et d'autre d'un substrat (3) isolant recouvert de paillettes (5), le dispositif électrostatique (21) en vis-à-vis de la surface du substrat (3) n'entrant jamais au contact dudit substrat (3), - au moins un dispositif de charge (1) assurant la génération d'au moins un potentiel électrique variable sur chaque surface conductrice (200, 210), de manière à ce que les surfaces en regard de part et d'autre du substrat (3), sensiblement dans le plan du substrat (3), créent une alternance de la polarité électrique d'au moins une même zone (Z) de substrat (3) et/ou des paillettes (5) déposées sur cette zone (Z) de substrat (3), - an moins un dispositif de nettoyage (41) d'au moins une surface conductrice (210) du dispositif électrostatique (21), en déplacement relatif par rapport au dispositif électrostatique (21), - au moins un réservoir (4) de récupération des paillettes (5) sensibles aux champs électriques.
- 2. Système de récupération (74) selon la revendication 1, caractérisé en ce que le dispositif électrostatique en vis-à-vis des paillettes (5) déposées sur le substrat (3) est recouvert d'une couche isolante de l'électricité.
- 3. Système de récupération (74) selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que les deux dispositifs électrostatiques (20, 21) sont deux cylindres tournant en sens opposé, chacun comportant sur sa périphérie une pluralité de surfaces conductrices (200, 210) agencées parallèlement à l'axe de rotation du cylindre, deux surfaces conductrices (200, 210) adjacentes d'un même cylindre étant alimentées avec des potentiels électriques variables et étant séparées par une zone neutre (220), de façon que les surfaces conductrices (200, 210) en vis-à-vis de part et d'autre du substrat (3) créent au niveau d'au moins une zone (Z) du substrat (3) et/ou des paillettes (5) 5 déposées sur ladite zone (Z) du substrat (3) une alternance de polarités électriques, le substrat (3) étant entrainé par des moyens d'entrainement selon un cheminement passant entre deux cylindres (20, 21) en vis-à-vis de part et d'autre du cheminement du substrat (3) à une vitesse inférieure à la vitesse de rotation des cylindres.
- 4. Système de récupération (74) selon les revendications 1 à 3, caractérisé en ce que le champ électrique existant entre deux surfaces conductrices (200, 210) en vis-à-vis est compris entre 1 et 10 000 kV/m, et préférentiellement entre 20 et 2 000 kV/m.
- 5. Système de récupération (74) selon les revendications 1 à 4, caractérisé en ce que les dispositifs électrostatiques (20, 21) de part et d'autre du substrat (3) sont montés sur un dispositif permettant la variation de leur écartement, pour l'adapter à l'épaisseur du substrat (3).
- 6. Système de récupération (74) selon les revendications 1 à 5, caractérisé en ce que la fréquence d'un cycle de modification du potentiel 20 électrique sur les surfaces conductrices (200, 210) en regard est comprise entre 1 et 100 Hz.
- 7. Système de récupération (74) selon la revendication 1, caractérisé en ce que le substrat (3) peut être recouvert de façon continue ou discontinue d'un vernis liant au substrat (3) les paillettes (5) en contact avec le vernis, les paillettes (5) enlevées appartenant aux zones non recouvertes de vernis ou appartenant à la couche de paillettes (5) n'étant pas en contact avec le vernis.
- 8. Système de récupération (74) selon la revendication 1, caractérisé en ce que les paillettes (5) sensibles aux champs électriques sont obtenues suite au broyage ou à la granulation d'un film en matériau polymère et/ou plastique, métallisé ou non.
- 9. Système de récupération (74) selon la revendication 1, caractérisé en ce que les paillettes (5) sensibles aux champs électriques sont obtenues suite au broyage ou à la granulation d'un film métallique.
- 10. Système de récupération (74) selon les revendications 1 et 9, caractérisé en ce que les paillettes (5) sensibles aux champs électriques ont une taille comprise entre 10 et 1000 micromètres, et préférentiellement une taille comprise entre 30 et 100 micromètres.
- 11. Système de récupération (74) selon les revendications 1 et 8 à 10, caractérisé en ce que les paillettes (5) sensibles aux champs électriques sont io enrobées d'un liant activé par la chaleur.
- 12. Procédé de récupération de paillettes sensibles aux champs électriques, déposées uniformément sur un substrat (3) comportant un motif imprimé réalisé avec un vernis visqueux humide, caractérisé en ce qu'il comporte : 15 a. une étape de charge des surfaces conductrices (200, 210) des dispositifs électrostatiques (20, 21), de manière à polariser une même zone (Z) de substrat (3) et/ou des paillettes (5) déposées sur ladite zone (Z), et à créer une différence de potentiel électrique entre au moins deux surfaces conductrices (200, 210) en regard 20 de part et d'autre du substrat (3), b. une étape de nettoyage des surfaces conductrices (210) du dispositif électrostatique (21) pour élimination des paillettes (5) attirées par les surfaces conductrices (210) du dispositif électrostatique (21) en vis-à-vis de la surface du substrat (3) 25 traitée par le dispositif, c. une étape de récupération dans un réservoir (4) des paillettes ayant adhéré sur les surfaces conductrices (210) du dispositif électrostatique (21) en vis-à-vis de la surface du substrat (3) traitée par le dispositif,d. une étape de charge des surfaces conductrices (200, 210) des dispositifs électrostatiques (20, 21), de manière à modifier les valeurs de potentiels électriques existant sur les surfaces conductrices (200, 210) en regard de part et d'autre du substrat (3), avec une vitesse de modification plus grande que la vitesse de déplacement du substrat (3), pour induire l'inversion de la polarité d'au moins une même zone (Z) du substrat (3) et/ou des paillettes (5) déposées sur ladite zone (Z), e. une étape de répétition cyclique des étapes b à d, jusqu'à récupération complète des paillettes (5) n'ayant pas adhéré sur la surface d'impression du substrat (3).
- 13. Procédé selon la revendication précédente, caractérisé en ce que le cycle d'inversion de la polarité électrique d'au moins une même zone (Z) de substrat (3) et/ou des paillettes (5) déposées sur ladite zone (Z) du substrat (3) est assurée par la rotation en sens opposé de deux cylindres positionnés de part et d'autre du substrat (3), chaque cylindre étant constitué d'une pluralité de surfaces conductrices (200, 210) sur sa périphérie, agencées parallèlement à l'axe de rotation du cylindre, deux surfaces conductrices (200, 210) adjacentes d'un même cylindre étant alimentées avec des potentiels variables et étant séparées par une zone neutre (220), de façon que les surfaces conductrices (200, 210) en vis-à-vis de part et d'autre du substrat (3) créent au niveau des paillettes (5) et/ou du substrat (3) une alternance de polarité électrique, le substrat (3) étant entrainé par des moyens d'entrainement selon un cheminement passant entre deux surfaces conductrices (200, 210) en vis-à-vis de part et d'autre du substrat (3) à une vitesse inférieure à la vitesse de rotation des cylindres.
- 14. Procédé selon la revendication précédente, caractérisé en ce que le rapport entre la vitesse absolue de rotation des cylindres (V2) et la vitesse de translation du substrat (V1) est supérieure ou égale à 27c/a, a étant l'angle d'un secteur angulaire dans lequel est compris au moins une surface conductrice (200, 210).
- 15. Machine numérique à jet de matière visqueuse pour pose d'un motif de matière visqueuse sur une face d'un substrat (3) en conformité avec une image digitale et comprenant un magasin d'entrée et un magasin de sortie, un moyen informatique (70) de gestion des opérations sur chacun des postes de travail, un moyen de déplacement du substrat entre les différents postes de travail un moyen de préhension et de transfert du substrat (3), du magasin d'entrée vers le moyen de déplacement et du moyen de déplacement vers le magasin de sortie, caractérisée en ce qu'elle comporte au moins : - un poste de lecture qui lit et détermine au moins une position du Io substrat et/ou de repères marqués sur le substrat, un poste de pose (72) du motif visqueux composé au moins d'une série de buses ou de têtes jet d'encre agencées selon une rampe, chaque buse ou tête jet d'encre étant pilotée séparément par des moyens de commandes, et alimentée par un réservoir contenant 15 du produit à viscosité moyenne ou importante à projeter sur le substrat pendant un déplacement relatif entre le substrat et le poste de pose, pour effectuer la pose du produit dans une zone déterminée du substrat, en conformité avec des informations mémorisées dans les moyens informatiques et reçues par les 20 moyens de commande, ces informations étant représentatives d'une image digitale souhaitée, un poste de pose (73) de paillettes (5) solides et sensibles aux champs électriques, pour recouvrir uniformément de paillettes (5) la totalité de la surface du substrat (3) recouverte du vernis encore 25 humide, et éventuellement les zones non recouvertes de vernis, - un poste équipé d'un système de récupération (74) selon une des revendications 1 à 11, - un poste de séchage (75) comportant un four de séchage à infra rouge ou UV ;le contrôle des moyens de commande du poste de pose en fonction de la position du substrat, du poste de lecture et du poste de séchage et/ou la gestion des informations captées aux différents postes de travail pour coordonner les opérations étant effectué par les moyens informatiques de gestion en fonction d'un fichier de programmation.
- 16. Machine selon la revendication 15, caractérisée en ce qu'un poste de nettoyage (76) de la surface d'impression du substrat (3) est intégré après le poste de séchage (75).
- 17. Machine selon les revendications 15 à 16, caractérisée en ce io qu'elle comporte un bac de récupération pour les paillettes (5) sensibles aux champs électriques échappées par débordement sur le substrat.
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