FR2796388A1 - surface treatment for aerospace applications, etc includes changing surface roughness measured perpendicular and in plane of surface before applying adhesive or decorative material - Google Patents

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Abstract

Treatment of a surface prior to applying an adhesive or decorative material includes changing its roughness measured perpendicular to and in the plane of the surface. An Independent claim is included for the following: (a) A system for performing as above. Preferred Features: The treatment produces peaks and troughs having a desired heightand depth and a desired spatial distribution. The treatment is by photoablation using a patterned mask or by producing moire fringes on the surface. Alternatively, the treatment is by electro-erosion. Alternatively, where the material being treated is amorphous silicon, the treatment is by total or partial crystallisation of the surface.

Description

"Procédé et systèmes de préparation de surfaces avant dépôt d'un produit adhésif ou décoratif" DESCRIPTION La présente invention concerne un procédé pour préparer des surfaces avant dépôt d'un produit adhésif ou décoratif. Elle vise également des systèmes pour la mise en #uvre de ce procédé. The present invention relates to a method for preparing surfaces prior to deposition of an adhesive or decorative product. It also aims systems for the implementation of this method.

I1 existe une demande croissante, notamment dans l'industrie aéronautique et dans de nombreux autres secteurs industriels, pour des techniques de collage à haute performance sur des matériaux de haute technologie tels que des matériaux à base de fibre de carbone ou des alliages légers. Si des techniques de collage désormais éprouvées satisfont déjà une grande partie des besoins industriels, il n'en demeure pas moins que la demande de performances toujours plus élevées suscite, d'une part, des travaux de recherche visant à mieux comprendre les mécanismes physico-chimiques mis en #uvre dans les procédés de collage et, d'autre part, des travaux de développement visant à proposer de nouvelles techniques de collage et de préparation des surfaces à coller. There is a growing demand, particularly in the aeronautical industry and many other industrial sectors, for high performance bonding techniques on high technology materials such as carbon fiber materials or light alloys. Although now-proven gluing techniques already satisfy a large part of the industrial needs, the fact remains that the demand for ever higher performances is leading, on the one hand, to research work aiming to better understand the physical mechanisms involved. used in bonding processes and, secondly, development work aimed at proposing new techniques for bonding and preparing surfaces to be bonded.

Pour expliquer les performances des collages, des travaux récents [1] ont mis en évidence un effet ventouse créé par de minuscules bulles enfermées entre la surface des objets et la colle. La rugosité d'un matériau dur se traduit, à une échelle microscopique, par une alternance de montagnes et de vallées dont la différence d'altitude est de l'ordre du um, la distance entre deux pics ne dépassant pas la dizaine de um. Un film d'adhésif présente lui aussi une rugosité avec des ondulations plus amples, hautes de 5um et espacées de 100pm. Ces travaux montrent que l'interaction entre la rugosité d'une surface à l'échelle du micron et un effet de ventouse peut conduire à des énergies bien plus élevées que les énergies thermodynamiques de surface. En ce qui concerne la préparation des surfaces avant collage, il existe déjà des procédés de préparation pour le collage de composites époxy-carbone comprenant un nettoyage par solvant et une abrasion manuelle. To explain the performance of collages, recent work [1] has highlighted a suction effect created by tiny bubbles enclosed between the surface of objects and glue. The roughness of a hard material is translated, on a microscopic scale, by an alternation of mountains and valleys whose difference in altitude is of the order of the um, the distance between two peaks not exceeding the tens of um. An adhesive film also has a roughness with wider corrugations, 5um high and spaced 100pm apart. This work shows that the interaction between the surface roughness at the micron scale and the suction effect can lead to much higher energies than surface thermodynamic energies. With regard to the preparation of the surfaces before bonding, there are already preparation methods for bonding epoxy-carbon composites comprising solvent cleaning and manual abrasion.

Par ailleurs, des travaux ont été réalisés sur la préparation des surfaces par interaction de faisceaux laser et sur les améliorations qualitatives obtenues sur les collages appliqués sur des surfaces ainsi traitées [2]. Ainsi, des traitements de surface ont été effectués au moyens d'un laser de longueur d'onde de 248 urn utilisé en mode impulsionnel à une fréquence variant de 1 à 200 Hz. Le traitement d'une surface est effectué en cumulant un nombre prédéterminé de tirs, puis en déplaçant d'une largeur de faisceau l'échantillon traité. Il est à noter que d'autres types de laser peuvent être utilisés pour réaliser des opérations semblables. In addition, work has been carried out on the preparation of surfaces by interaction of laser beams and on the qualitative improvements obtained on the collages applied to surfaces thus treated [2]. Thus, surface treatments were carried out by means of a 248 nm wavelength laser used in pulsed mode at a frequency ranging from 1 to 200 Hz. The treatment of a surface is performed by adding a predetermined number firing, then moving the processed sample by a beamwidth. It should be noted that other types of laser can be used to perform similar operations.

C'est dans ce contexte que se situe l'invention dont l'objectif est de présenter un nouveau concept de préparation de surface avant dépôt d'un produit adhésif ou décoratif, qui contribue à de meilleures performances que celles obtenues avec les procédés de préparation actuels, en s'appuyant sur les résultats les plus récents en matière de compréhension des mécanismes physiques tout en proposant une approche résolument nouvelle en matière d'industrialisation de la préparation des surfaces. It is in this context that the invention is located, the objective of which is to present a new concept of surface preparation before depositing an adhesive or decorative product, which contributes to better performances than those obtained with the preparation processes. based on the most recent results in terms of understanding physical mechanisms while proposing a new approach to the industrialization of surface preparation.

On atteint les objectifs précités avec un procédé pour préparer une surface avant dépôt d'un produit adhésif ou décoratif, caractérisé en ce qu'il comporte un traitement de cette surface pour en adapter la rugosité au produit adhésif ou décoratif à appliquer, en termes de profondeur perpendiculairement à ladite surface et de distribution spatiale dans le plan de ladite surface. The aforementioned objectives are achieved with a method for preparing a surface before depositing an adhesive or decorative product, characterized in that it comprises a treatment of this surface to adapt the roughness to the adhesive or decorative product to be applied, in terms of depth perpendicular to said surface and spatial distribution in the plane of said surface.

On dispose ainsi d'un procédé de préparation particulièrement efficace, procurant en pratique une répétabilité des phénomènes escomptés et donc une industrialisation du process, et une diminution des contraintes liées à la préparation des surfaces avant collage. En outre, ce procédé permet d'améliorer l'économie industrielle du collage, car il peut être mis en #uvre sur des surfaces de collage délimitées à l'intérieur de surfaces plus grandes. This provides a particularly efficient preparation process, providing in practice a repeatability of the expected phenomena and thus an industrialization of the process, and a reduction in the constraints related to the preparation of surfaces before bonding. In addition, this method makes it possible to improve the industrial economy of gluing, since it can be used on bonded surfaces bounded within larger surfaces.

Il est à noter qu'il existe depuis longtemps des techniques de préparation de surface avant collage, mettant en #uvre des moyens mécaniques visant à modifier la rugosité de la surface à traiter. La maîtrise du résultat est liée à la qualification des abrasifs, la durée des frottements, et à la pression exercée pendant les opérations. On peut citer, à titre d'exemple, le nettoyage, à la râpe, d'une chambre à air de bicyclette après crevaison, avant mise en place d'une rustine. Mais ces techniques de préparation mécanique ne permettent pas d'obtenir une distribution spatiale prédéterminée visant à adapter la rugosité à la colle de vulcanisation. It should be noted that there have long been techniques for surface preparation before bonding, using mechanical means to modify the roughness of the surface to be treated. The control of the result is related to the qualification of the abrasives, the duration of the friction, and to the pressure exerted during the operations. By way of example, the rasp cleaning of a bicycle inner tube after a puncture may be mentioned before a patch is put in place. However, these mechanical preparation techniques do not make it possible to obtain a predetermined spatial distribution aimed at adapting the roughness to the vulcanization glue.

Un mode particulièrement avantageux de mise en #uvre du procédé de préparation selon l'invention consiste par exemple en l'utilisation de moyens optiques pour adapter la rugosité de la surface du matériau à préparer. A particularly advantageous mode of implementation of the preparation method according to the invention consists for example in the use of optical means to adjust the roughness of the surface of the material to be prepared.

Dans un premier exemple de réalisation correspondant à ce mode optique, on met en jeu un phénomène connu d'ablation et on suppose une gestion de la distribution spatiale de l'énergie. I1 est à noter que la profondeur de l'ablation est directement liée à la différence d'énergie par élément de surface entre les points les plus illuminés et les points les moins illuminés. A titre indicatif, on peut obtenir une ablation de 0,1 pm par tir laser. In a first exemplary embodiment corresponding to this optical mode, a known ablation phenomenon is put into play and management of the spatial distribution of the energy is assumed. It should be noted that the depth of ablation is directly related to the difference in energy per surface element between the most illuminated points and the least illuminated points. As an indication, a ablation of 0.1 μm can be obtained by laser firing.

La gestion de la distribution spatiale d'énergie peut aussi mettre en #uvre une méthode de granularité laser, désignée aussi par le terme "Speckle", dans laquelle le faisceau d'un laser non monochromatique présente des interférences sur les surfaces qu'il éclaire. Le pas des interférences est directement lié à la distance surface- laser et peut être déterminé par une projection directe du faisceau, avec réglage des distances, ou par une combinaison optique le modifiant. Ces interférences modulent naturellement l'énergie surfacique à l'intérieur de la zone éclairée. Cette modulation, couplée à la durée cumulée d'éclairement, permet de contrôler la profondeur de la photoablation. A titre indicatif, on peut obtenir un pas transverse entre O,Olpm et lmm. The management of the spatial distribution of energy can also implement a method of laser granularity, also referred to as "Speckle", in which the beam of a non-monochromatic laser interferes with the surfaces it illuminates. . The pitch of the interferences is directly related to the laser surface distance and can be determined by a direct projection of the beam, with adjustment of the distances, or by an optical combination modifying it. These interferences naturally modulate the surface energy within the illuminated area. This modulation, coupled with the cumulative duration of illumination, makes it possible to control the depth of photoablation. As an indication, we can obtain a transverse pitch between O, Olpm and lmm.

Pour palier le caractère aléatoire de la répartition des "montagnes" et des "vallées" sur la surface traitée obtenue par mise en #uvre de la méthode de granularité laser, le procédé de préparation selon l'invention peut inclure une maîtrise de la localisation des "montagnes" et "vallées" en scannant le faisceau laser focalisé sur la surface ou à très proche distance, à l'aide de moyens mécaniques (miroirs déflecteurs par exemple) ou de moyens optoélectroniques (modulateurs à cristaux ou cuves opto- acoustiques par exemple). La valeur de l'énergie du faisceau peut alors être couplée à la déflexion du faisceau. Il est à noter que les techniques de stéréolithographie entrent dans ce cadre. Le pas transverse correspondant à ces techniques est en pratique supérieur à 0,1 um. To overcome the randomness of the distribution of "mountains" and "valleys" on the treated surface obtained by implementing the laser granularity method, the preparation method according to the invention may include a control of the location of the "mountains" and "valleys" by scanning the focused laser beam on the surface or at very close distance, using mechanical means (eg deflecting mirrors) or optoelectronic means (crystal modulators or opto-acoustic tanks, for example) ). The value of the energy of the beam can then be coupled to the deflection of the beam. It should be noted that stereolithography techniques fall within this framework. The transverse pitch corresponding to these techniques is in practice greater than 0.1 μm.

La technique de projection d'image peut aussi être mise en ceuvre pour réaliser une distribution spatiale d'énergie sur la surface à préparer. Cette technique consiste à projeter sur l'échantillon à préparer une image contenant des informations de distribution surfacique de l'énergie. The image projection technique can also be implemented to achieve a spatial distribution of energy on the surface to be prepared. This technique consists in projecting on the sample to prepare an image containing information of surface distribution of the energy.

Dans un premier exemple de réalisation d'un procédé de préparation selon l'invention mettant en ceuvre une technique de projection d'image, on utilise une grille à deux dimensions, elle-même éclairée par un front d'onde à énergie constante ou variable. Ce front d'onde traverse la grille. On réalise une image de la grille sur la surface à traiter. On peut également prévoir que cette grille soit utilisée en réflexion. Dans une variante de ce premier exemple de réalisation, la grille image comporte des barreaux plus ou moins opaques, obtenus par exemples par une épaisseur variable de la grille objet, ou par un défaut de mise au point. In a first exemplary embodiment of a preparation method according to the invention implementing an image projection technique, a two-dimensional grid is used, itself illuminated by a constant or variable energy wavefront. . This wavefront crosses the grid. An image of the grid is made on the surface to be treated. It can also be provided that this grid is used in reflection. In a variant of this first exemplary embodiment, the image grid comprises more or less opaque bars, obtained for example by a variable thickness of the object grid, or by a focus defect.

Dans un second exemple de réalisation, la grille est avantageusement remplacée par un hologramme, la distribution spatiale des zones claires et des zones sombres étant plus aléatoire, les bords de zone moins abrupts. On peut en pratique atteindre 2000 traits par mm. In a second exemplary embodiment, the grid is advantageously replaced by a hologram, the spatial distribution of the light areas and dark areas being more random, the edges of the area less abrupt. In practice, it is possible to achieve 2000 lines per mm.

Dans un troisième exemple de réalisation, l'objet projeté sur la surface à préparer est l'image d'un verre dépoli absorbant à la longueur d'onde du faisceau lumineux. Un verre dépoli, du fait de sa structure, possède une distribution aléatoire de ses grains. Par projection de la surface du verre dépoli sur l'échantillon, on gère la géométrie des grains de l'échantillon dans le plan de sa surface. Par la transmission différentielle du verre dépoli entre ses parties creuses et ses parties pleines, couplée à la durée cumulée d'exposition, on gère la profondeur de modulation de l'échantillon. Il est à noter que, dans cet exemple de réalisation, il importe de réaliser un découplage entre d'une part, la fonction de support réalisée par le corps de ce verre et, d'autre part, la fonction de modulation réalisée par la couche mince superficielle de ce verre, qui présente l'effet de dépoli. Ainsi, une très faible épaisseur du verre de modulation rapportée à l'épaisseur globale de la pièce de verre est utilisée à des fins d'absorption. Le dépoli peut être obtenu soit par frottement, soit par sablage ou encore par une attaque chimique, notamment à base d'acide picrique. Selon une variante de cet exemple de réalisation, le verre dépoli est couplé avec un autre composant optique, collé ou non, ce qui permet d'augmenter ou de diminuer les effets du coefficient de transmission du verre optique. In a third embodiment, the object projected onto the surface to be prepared is the image of a ground glass absorbing at the wavelength of the light beam. A frosted glass, because of its structure, has a random distribution of its grains. By projecting the surface of the etched glass onto the sample, the geometry of the grains of the sample is managed in the plane of its surface. By the differential transmission of the frosted glass between its hollow parts and its solid parts, coupled with the cumulative duration of exposure, the depth of modulation of the sample is managed. It should be noted that, in this exemplary embodiment, it is important to perform a decoupling between, on the one hand, the support function performed by the body of this glass and, on the other hand, the modulation function performed by the layer. superficial thin of this glass, which has the effect of frosted. Thus, a very small thickness of the modulation glass relative to the overall thickness of the glass piece is used for absorption purposes. The frosted material can be obtained either by rubbing, or by sanding or else by a chemical etching, in particular based on picric acid. According to a variant of this embodiment, the ground glass is coupled with another optical component, glued or not, which makes it possible to increase or decrease the effects of the transmission coefficient of the optical glass.

Le matériau du verre dépoli peut être avantageusement choisi de façon à être adapté par sa nature et sa transmission aux effets d'absorption qu'on veut lui faire jouer. The material of the ground glass can be advantageously chosen so as to be adapted by its nature and its transmission to the absorption effects that it wants to play.

Dans le cadre du mode de réalisation optique, on peut aussi mettre en #uvre des techniques connues de moiré qui peuvent permettre de projeter de l'énergie à pas variable sur un échantillon. Une particularité de l'application de ces techniques de moiré à la préparation de surfaces avant collage réside dans le fait qu'un réseau linéaire projeté peut provoquer un effet différentiel de collage, selon les deux directions parallèle et perpendiculaire à la direction du réseau linéaire. In the context of the optical embodiment, it is also possible to use known moiré techniques which can make it possible to project variable-pitch energy onto a sample. A particularity of the application of these moiré techniques to the preparation of surfaces before bonding lies in the fact that a projected linear array can cause a differential bonding effect, in both directions parallel and perpendicular to the direction of the linear array.

On peut aussi prévoir, toujours dans le cadre de l'application des techniques de moiré, de superposer deux réseaux linéaires au moins, de directions différentes, ces directions pouvant éventuellement être orientables par rapport à l'échantillon. Le pas obtenu avec mise en #uvre d'une technique de moiré est en pratique supérieur à O,lum. It is also possible, in the context of the application of moiré techniques, to superimpose two linear arrays at least, of different directions, these directions possibly being adjustable with respect to the sample. The pitch obtained with the implementation of a moire technique is in practice greater than 0.0 lm.

Dans un second mode de mise en #uvre du procédé selon l'invention, on utilise, pour changer la rugosité de la surface d'un substrat tel que silicium amorphe, le phénomène de cristallisation totale ou partielle de cette surface obtenu sous l'effet d'un laser excimère. L'adaptation de la rugosité de surface est obtenue par des réglages du laser en intensité, éventuellement en durée et en nombre d'impulsions. Le taux de cristallisation et la profondeur de cristallisation sont en étroite corrélation avec les paramètres énergétiques. Le pas escompté avec cette technique est de l'ordre de O,lnm par grain. La cristallisation peut aussi bien, pour cet exemple et d'autres supports, être réalisée par des moyens chimiques ou physiques autres qu'optiques. In a second embodiment of the method according to the invention, the phenomenon of total or partial crystallization of this surface obtained under the effect is used to change the roughness of the surface of a substrate such as amorphous silicon. an excimer laser. The adaptation of the surface roughness is obtained by adjustments of the laser in intensity, possibly in duration and in number of pulses. The crystallization rate and the crystallization depth are closely correlated with the energy parameters. The step discounted with this technique is of the order of 0.1 μm per grain. Crystallization can also be carried out by chemical or physical means other than optical, for this example and other supports.

D'autres modes de mise en #uvre du procédé selon l'invention font appel à des techniques ponctuelles. Dans un premier exemple de réalisation, on utilise des lasers capables d'ablater ou de cristalliser une surface ou exploités pour le perçage de matériaux, pour piqueter la surface à coller. Le pas obtenu est en pratique inférieur à O,lum avec utilisation d'un objectif de microscope. Other embodiments of the method according to the invention make use of point techniques. In a first exemplary embodiment, lasers capable of ablating or crystallizing a surface or used for drilling materials are used to stitch the surface to be bonded. The step obtained is in practice less than 0.01 with the use of a microscope objective.

Ces lasers sont focalisés sur la surface ou à proche distance de celle-ci. L'énergie surfacique peut alors être considérablement supérieure à celle des faisceaux non ou peu focalisés. Ceci permet d'utiliser des lasers de faible énergie, mais demandant un fort taux de répétition pour couvrir des surfaces suffisantes dans des temps raisonnables. These lasers are focused on or near the surface. The surface energy can then be considerably greater than that of the beams with little or no focus. This allows the use of low energy lasers, but requiring a high repetition rate to cover sufficient surfaces in reasonable time.

Les impacts de faisceau dans la matière sont traités un à un, ou bien de façon matricielle, à répartition spatiale déterministe ou aléatoire, par division optique du faisceau initial. La matrice de faisceaux peut aussi être générée à partir d'une cavité laser multifaisceaux. The beam impacts in the material are treated one by one, or in a matrix manner, with deterministic or random spatial distribution, by optical division of the initial beam. The array of beams can also be generated from a multibeam laser cavity.

La distribution géométrique de la rugosité est obtenue par des moyens optiques classiques ou à fibres de guidage du ou des faisceaux, la profondeur de modulation par les effets conjugués de la densité d'énergie et de la durée cumulée d'éclairement. The geometric distribution of the roughness is obtained by conventional optical means or fiber guide beams or beams, the depth of modulation by the combined effects of the energy density and the cumulative duration of illumination.

Un troisième mode de mise en ceuvre du procédé de préparation selon l'invention consiste en l'utilisation de moyens mécaniques. A third mode of implementation of the preparation method according to the invention consists in the use of mechanical means.

Dans un premier exemple de réalisation, on utilise une technique d'emboutissage ou de poinçonnage. La surface à traiter subit un poinçonnage sous l'effet d'un poinçon ou d'une matrice. Le poinçon peut être un objet pointu déplacé point par point sur l'ensemble de la surface. on peut aussi utiliser une matrice permettant d'obtenir une surface présentant la rugosité demandée en une seule opération d'emboutissage, suivant par exemple une technique de réalisation d'un hologramme pressé, avec les modulations souhaitées tant en profondeur qu'en surface. In a first embodiment, a stamping or punching technique is used. The surface to be treated is punched under the effect of a punch or die. The punch can be a pointed object moved point by point across the entire surface. it is also possible to use a matrix making it possible to obtain a surface having the desired roughness in a single stamping operation, for example according to a technique for producing a pressed hologram, with the desired modulations both in depth and on the surface.

L'hologramme pressé peut comporter des détails au pas de 500 traits par mm et une profondeur jusqu'à 1 um. The pressed hologram may include details at a pitch of 500 lines per mm and a depth of up to 1 μm.

Dans un second exemple de réalisation, on met en oeuvre des techniques de projection mécanique, telles que le sablage, le microbillage, la projection d'amidon ou autres techniques équivalentes, déjà utilisées par ailleurs pour le décapage et le durcissement de surface. Ces techniques peuvent être avantageusement utilisées pour leurs performances de modulation de surface en vue de la préparation d'une surface avant collage ou décoration par apport d'un matériau adhésif ou décoratif. In a second exemplary embodiment, mechanical projection techniques are used, such as sandblasting, microbeading, starch spraying or other equivalent techniques already used elsewhere for stripping and surface hardening. These techniques can be advantageously used for their surface modulation performance for the preparation of a surface before bonding or decoration by providing an adhesive or decorative material.

Dans un quatrième mode de mise en #uvre du procédé selon l'invention, des techniques électriques sont utilisées, au nombre desquelles l'électroérosion qui permet d'obtenir en surface de certains matériaux une granularité utilisable dans la préparation de surface, et l'électrophorèse. In a fourth embodiment of the method according to the invention, electrical techniques are used, among which the electroerosion which makes it possible to obtain on the surface of certain materials a granularity that can be used in the surface preparation, and the electrophoresis.

Dans un cinquième mode de mise en oeuvre, on utilise des techniques chimiques pour obtenir une modulation en surface et en profondeur. In a fifth mode of implementation, chemical techniques are used to obtain a modulation at the surface and at depth.

Dans un premier exemple de réalisation mettant en ceuvre des techniques chimiques, on peut utiliser des produits actifs acides ou basiques qui sont appliqués sur la surface. Le pH du produit utilisé et la durée de l'interaction constituent des paramètres directeurs des résultats escomptés en termes de profondeur de vallée. A titre d'exemple, on peut envisager l'application d'acide picrique utilisé en miroiterie pour dépolir des verres. Dans un second exemple de réalisation, on met en ceuvre la technique dite des couches de Langmuir, dans laquelle on dépose un film monocouche ou multicouche dont les molécules sont orientées et distribuées. Les molécules utilisées présentent une longueur et un diamètre de quelques nanomètres. La rugosité de la surface traitée dépend de plusieurs paramètres au nombre desquels le caractère hydrophile ou hydrophobe, la grosseur des molécules formant le film, ainsi que la densité en nombre de molécules par unité de surface. In a first embodiment implementing chemical techniques, it is possible to use acidic or basic active products which are applied to the surface. The pH of the product used and the duration of the interaction are key parameters of the expected results in terms of valley depth. By way of example, it is possible to envisage the application of picric acid used in mirrors to polish glasses. In a second embodiment, the so-called Langmuir layer technique, in which a monolayer or multilayer film whose molecules are oriented and distributed is deposited. The molecules used have a length and a diameter of a few nanometers. The roughness of the treated surface depends on several parameters including the hydrophilic or hydrophobic character, the size of the molecules forming the film, as well as the density in number of molecules per unit area.

D'autres particularités et avantages de l'invention apparaîtront encore dans la description ci-après. Aux dessins annexés donnés à titre d'exemples non limitatifs: - la figure 1 illustre de façon schématique les étapes générales d'un processus de collage incluant un procédé selon l'invention ; - la figure 2 est une vue synoptique d'un système de préparation selon l'invention en mode optique, mettant en ceuvre une technique de photoablation ; - la figure 3 est une vue synoptique d'un premier exemple de réalisation du système de préparation selon l'invention de type optique illustré en figure 2, mettant en #uvre une technique de projection d'image ; - la figure 4 est une vue synoptique d'un second exemple de réalisation du système illustré en figure 2, mettant en #uvre une technique par moiré ; - la figure 5 est une vue synoptique d'un système de préparation selon l'invention du type à photocristallisation ; - la figure 6 est une vue synoptique d'un système de préparation selon l'invention du type ponctuel; et - la figure 7 est une vus synoptique des étapes essentielles du procédé de préparation selon l'invention, dans un mode de réalisation faisant intervenir des couches de Langmuir. Other features and advantages of the invention will become apparent in the description below. In the accompanying drawings given as non-limiting examples: FIG. 1 schematically illustrates the general steps of a bonding process including a method according to the invention; FIG. 2 is a synoptic view of a preparation system according to the invention in optical mode, implementing a photoablation technique; FIG. 3 is a synoptic view of a first exemplary embodiment of the preparation system according to the invention of the optical type illustrated in FIG. 2, implementing an image projection technique; FIG. 4 is a synoptic view of a second exemplary embodiment of the system illustrated in FIG. 2, implementing a moiré technique; FIG. 5 is a synoptic view of a preparation system according to the invention of the photocrystallization type; FIG. 6 is a synoptic view of a preparation system according to the invention of the point type; and FIG. 7 is a block diagram of the essential steps of the preparation process according to the invention, in one embodiment involving Langmuir layers.

On va tout d'abord décrire le principe général du procédé de préparation selon l'invention, en référence à la figure 1. On considère (1) un échantillon E de matériau à coller présenter une rugosité naturelle RN. On soumet (2) cet échantillon E à un équipement de traitement pour obtenir (3) sur la surface à coller une rugosité contrôlée RP présentant une profondeur prédéterminée P et une distribution spatiale des cavités ou mamelons déterminée selon une matrice ou une distribution aléatoire de traitement MT. On peut alors appliquer (4) une couche de colle C présentant une rugosité spécifique RC plus ample que celle du matériau à coller. Le pas L de la rugosité contrôlée à la surface du matériau préparé est en pratique inférieur ou très inférieur à la distance moyenne entre deux dépressions à la surface de la couche de colle. We will first describe the general principle of the preparation process according to the invention, with reference to Figure 1. Consider (1) a sample E of bonding material have a natural roughness RN. This sample E is subjected (2) to a treatment equipment for obtaining (3) on the surface to be bonded a controlled roughness RP having a predetermined depth P and a spatial distribution of the cavities or nipples determined according to a matrix or a random distribution of treatment MT. It is then possible to apply (4) a layer of adhesive C having a specific RC roughness greater than that of the material to be bonded. The pitch L of the controlled roughness at the surface of the prepared material is in practice less than or much less than the average distance between two depressions at the surface of the glue layer.

On va maintenant décrire un premier mode de mise en #uvre du procédé de préparation selon l'invention, à partir de moyens optiques, en référence aux figures 2 à 4. Le principe général de ce mode optique, illustré par la figure 2, consiste en l'utilisation d'un faisceau généré par un équipement laser L, que l'on transfère par un système optique de transfert S vers un système optique MF de maîtrise du faisceau, appliquant un faisceau ainsi maîtrisé sur la surface d'un échantillon E à préparer dans le but d'obtenir une rugosité adaptée ou contrôlée RP par photoablation. We will now describe a first embodiment of the preparation method according to the invention, from optical means, with reference to FIGS. 2 to 4. The general principle of this optical mode, illustrated in FIG. using a beam generated by a laser equipment L, which is transferred by a transfer optical system S to a beam control optical system MF, applying a beam thus controlled on the surface of a sample E to be prepared in order to obtain a suitable or controlled roughness RP by photoablation.

Le système optique de maîtrise du faisceau peut être un système de projection d'image, en référence à la figure 3. Ce système de projection d'image SP comprend un dispositif EG d'éclairage, une grille GR et un dispositif CO de conjugaison optique de la grille avec l'échantillon E à préparer. On peut également prévoir un système optique de maîtrise du faisceau mettant en #uvre une méthode de moiré avec production d'interférences à partir de deux miroirs, comme l'illustre la figure 4. Le système SM de production d'interférences comprend en sortie d'un générateur laser L, une lentille L et deux miroirs M1, M2 décalés spatialement de façon à produire, sur la surface d'un échantillon E à traiter, un ensemble d'interférences contribuant à l'obtention d'une rugosité adaptée. The optical beam control system may be an image projection system, with reference to FIG. 3. This image projection system SP comprises an illumination device EG, a GR gate and a CO optical conjugation device. of the grid with sample E to prepare. It is also possible to provide a beam control optical system implementing a moiré method with interference generation from two mirrors, as illustrated in FIG. 4. The interference generation system SM comprises at the output of FIG. a laser generator L, a lens L and two mirrors M1, M2 spatially offset so as to produce, on the surface of a sample E to be treated, a set of interferences contributing to obtaining a suitable roughness.

L'adaptation de la rugosité à la surface d'un échantillon E de type substrat (par exemple en silicium amorphe) peut aussi être obtenue par photocristallisation au moyen d'un système d'homogénéisation de faisceau HF disposé entre le système optique de transfert S et l'échantillon à traiter, en référence à la figure 5. The adaptation of the roughness to the surface of a sample E of substrate type (for example in amorphous silicon) can also be obtained by photocrystallization by means of a HF beam homogenization system arranged between the optical transfer system S and the sample to be treated, with reference to FIG.

Dans le cas de l'utilisation de méthodes ponctuelles, le système de maîtrise du faisceau SC comprend, en référence à la figure 6, un dispositif optique GE de gestion de l'énergie du faisceau laser couplé à un dispositif optique GP de gestion de la position du faisceau laser qui est appliqué sur la surface de l'échantillon E à traiter. In the case of the use of point methods, the beam control system SC comprises, with reference to FIG. 6, an optical device GE for managing the energy of the laser beam coupled to an optical device GP for managing the beam. position of the laser beam which is applied to the surface of the sample E to be treated.

On va maintenant décrire un exemple de mise en #uvre d'une méthode de préparation chimique utilisant des couches de Langmuir, en référence à la figure 7. An example of the implementation of a chemical preparation method using Langmuir layers will now be described with reference to FIG.

On utilise (A) une cuve CU remplie d'un bain BA à la surface duquel flotte une couche de Langmuir CL. On plonge alors (B) un échantillon E à traiter dans la cuve CU. L'échantillon E traverse la couche CL et s'imprègne de cette couche en pénétrant dans le bain. (A) A CU filled with a BA bath is used on the surface of which floats a layer of Langmuir CL. A sample E to be treated is then immersed (B) in the tank CU. Sample E passes through the CL layer and becomes impregnated with this layer by penetrating the bath.

Lorsque l'échantillon E est retiré (C) du bain BA, il comporte alors sur sa surface une couche moléculaire CI dont la structure macroscopique est représentée schématiquement en (D). Cette couche moléculaire CI procure une rugosité qui peut être adaptée aux besoins du collage ou de la décoration de l'échantillon E. When the sample E is removed (C) from the bath BA, it then has on its surface a molecular layer CI whose macroscopic structure is shown schematically in (D). This CI molecular layer provides a roughness that can be adapted to the needs of the collage or the decoration of the sample E.

Grâce à la grande variété de méthodes possibles pour mettre en ceuvre le procédé de préparation selon l'invention, un choix technique significatif est offert à l'opérateur de ce procédé, qui devra être effectué en fonction des caractéristiques physiques du matériau à traiter, de sa géométrie et des dimensions propres de la zone de collage, et des caractéristiques du produit adhésif ou décoratif utilisé. Thanks to the wide variety of possible methods for implementing the preparation method according to the invention, a significant technical choice is offered to the operator of this process, which will have to be carried out according to the physical characteristics of the material to be treated, its geometry and its own dimensions of the bonding area, and the characteristics of the adhesive or decorative product used.

Ainsi, les méthodes optiques seront particulièrement favorables lorsqu'il s'agit de préparer une zone de collage très limitée au sein d'une pièce complexe, alors que la méthode chimique sera intéressante dans le cas où l'ensemble de la surface externe d'une pièce devra être traitée. Les méthodes électriques seront mises en #uvre pour le traitement de pièces en matériau électriquement conducteur. Thus, the optical methods will be particularly favorable when it comes to preparing a very limited bonding zone within a complex piece, whereas the chemical method will be interesting in the case where the entire external surface of a room will have to be treated. Electrical methods will be used for the treatment of parts made of electrically conductive material.

Bien sûr, l'invention n'est pas limitée aux exemples qui viennent d'être décrits et de nombreux aménagements peuvent être apportés à ces exemples sans sortir du cadre de l'invention. Ainsi, de nombreuses variantes des systèmes optiques de maîtrise de faisceau décrits peuvent être envisagés. De même, la géométrie des profils de rugosité peut varier en fonction des caractéristiques des colles utilisées. Of course, the invention is not limited to the examples that have just been described and many adjustments can be made to these examples without departing from the scope of the invention. Thus, many variants of the described optical beam control systems can be envisaged. Likewise, the geometry of the roughness profiles can vary according to the characteristics of the glues used.

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Claims (31)

REVENDICATIONS 1. Procédé pour préparer une surface avant dépôt d'un produit adhésif ou décoratif, caractérisé en ce qu'il comporte un traitement de cette surface pour en adapter la rugosité au produit adhésif ou décoratif à déposer, notamment en termes de profondeur perpendiculairement à ladite surface et de distribution spatiale dans le plan de ladite surface.1. A process for preparing a surface before deposition of an adhesive or decorative product, characterized in that it comprises a treatment of this surface to adapt the roughness to the adhesive or decorative product to be deposited, especially in terms of depth perpendicular to said surface and spatial distribution in the plane of said surface. 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend en outre une gestion spatiale des interactions mises en #uvre dans ce traitement.2. Method according to claim 1, characterized in that it further comprises a spatial management of the interactions implemented in this treatment. 3. Procédé selon l'une des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que le traitement de la surface comprend une création dans une zone déterminée d'un ensemble de creux ou vallées et d'un ensemble de pics ou montagnes selon une distribution spatiale et une profondeur pics- creux prédéterminées.3. Method according to one of claims 1 or 2, characterized in that the treatment of the surface comprises a creation in a given area of a set of valleys or valleys and a set of peaks or mountains according to a spatial distribution and a predetermined depth-dip depth. 4. Procédé selon la revendication 3, caractérisé en ce que l'énergie mise en #uvre pour le traitement de la surface est appliquée sur ladite surface par voie optique, à partir de source de faisceau laser, et en ce que l'adaptation de la rugosité de ladite surface est obtenue par photoablation.4. Method according to claim 3, characterized in that the energy used for the treatment of the surface is applied to said surface optically from a laser beam source, and in that the adaptation of the roughness of said surface is obtained by photoablation. 5. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que le traitement de la surface comporte une projection directe d'un faisceau laser sur ladite surface de façon à produire des interférences par effet de granularité laser.5. Method according to claim 4, characterized in that the treatment of the surface comprises a direct projection of a laser beam on said surface so as to produce interference by laser granularity effect. 6. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que le traitement de la surface comporte un balayage de ladite surface avec un faisceau laser focalisé sur ladite surface ou à très proche distance de ladite surface.6. Method according to claim 4, characterized in that the treatment of the surface comprises a scanning of said surface with a laser beam focused on said surface or very close to said surface. 7. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que le traitement de la surface comporte une projection sur ladite surface d'une image produite par transmission et/ou réflexion d'un faisceau laser à travers un système optique de projection.7. Method according to claim 4, characterized in that the treatment of the surface comprises a projection on said surface of an image produced by transmission and / or reflection of a laser beam through a projection optical system. 8. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que le traitement de la surface comporte une application sur ladite surface d'un moiré produit par une méthode d'interférences à partir d'un faisceau laser.8. Method according to claim 4, characterized in that the treatment of the surface comprises an application on said surface of a moiré produced by a method of interference from a laser beam. 9. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, appliqué à un substrat, par exemple en silicium amorphe, caractérisé en ce que le traitement de surface induit une cristallisation totale ou partielle de la surface dudit substrat, par application d'un faisceau laser.9. Method according to one of claims 1 to 3, applied to a substrate, for example amorphous silicon, characterized in that the surface treatment induces a total or partial crystallization of the surface of said substrate, by application of a beam laser. 10. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce qu'il comprend un ensemble d'opérations ponctuelles d'impacts d'un faisceau laser en des points d'une surface à traiter.10. Method according to one of claims 1 to 3, characterized in that it comprises a set of point operations of impacts of a laser beam at points of a surface to be treated. 11. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que des impacts de faisceaux laser sont réalisés un à un en des points distincts de la surface.11. The method of claim 10, characterized in that laser beam impacts are made one by one at distinct points of the surface. 12. Procédé selon l'une des revendications 10 ou 11, caractérisé en ce que des impacts de faisceaux laser sont réalisés de façon matricielle ou aléatoire par division optique d'un faisceau laser initial.12. Method according to one of claims 10 or 11, characterized in that laser beam impacts are performed in a matrix or random manner by optical division of an initial laser beam. 13. Procédé selon l'une des revendications 10 à 12, caractérisé en ce que des impacts de faisceaux laser sont réalisés de façon matricielle ou aléatoire selon une matrice de faisceaux générée à partir d'une cavité laser multifaisceaux.13. Method according to one of claims 10 to 12, characterized in that laser beam impacts are performed in a matrix or random manner according to a beam matrix generated from a multibeam laser cavity. 14. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que l'adaptation de la rugosité d'une surface à traiter est obtenue par emboutissage de ladite surface au moyen d'une matrice ou outil d'emboutissage.14. Method according to one of claims 1 to 3, characterized in that the adaptation of the roughness of a surface to be treated is obtained by stamping said surface by means of a matrix or stamping tool. 15. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que l'adaptation de la rugosité d'une surface à traiter est obtenu par un déplacement point par point d'un poinçon sur l'ensemble de ladite surface.15. Method according to one of claims 1 to 3, characterized in that the adaptation of the roughness of a surface to be treated is obtained by a point by point movement of a punch on the whole of said surface. 16. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que le traitement de la surface comporte une électroérosion de ladite surface, opérée de façon à susciter une granularité sur ladite surface.16. Method according to one of claims 1 to 3, characterized in that the treatment of the surface comprises an electroerosion of said surface, operated so as to cause a granularity on said surface. 17. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que le traitement de la surface est réalisé par dépôt sur ladite surface d'un film monocouche ou multicouche dont les molécules sont orientées et distribuées de façon à procurer une rugosité adaptée au produit adhésif ou décoratif.17. Method according to one of claims 1 to 3, characterized in that the surface treatment is performed by depositing on said surface of a monolayer or multilayer film whose molecules are oriented and distributed so as to provide a suitable roughness adhesive or decorative product. 18. Procédé selon la revendication 17, caractérisé en ce que le dépôt du film monocouche ou multicouche est obtenu par mise en #uvre de la technique dite des couches de Langmuir.18. The method of claim 17, characterized in that the deposition of the monolayer or multilayer film is obtained by implementation of the so-called Langmuir layer technique. 19. Système pour préparer une surface avant dépôt d'un produit adhésif ou décoratif, mettant en ceuvre le procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il comprend des moyens pour adapter la rugosité de la surface au produit adhésif ou décoratif à déposer, notamment en termes de profondeur perpendiculairement à ladite surface et de distribution spatiale dans le plan de ladite surface.19. System for preparing a surface before depositing an adhesive or decorative product, implementing the method according to any one of the preceding claims, characterized in that it comprises means for adapting the roughness of the surface to the adhesive product. or decorative to deposit, in particular in terms of depth perpendicular to said surface and spatial distribution in the plane of said surface. 20. Système selon la revendication 19, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour gérer des interactions mises en ceuvre dans ce traitement.20. System according to claim 19, characterized in that it further comprises means for managing interactions implemented in this treatment. 21. Système selon la revendication 20, caractérisé en ce qu'il comprend des moyens pour générer un faisceau laser et des moyens pour maîtriser ce faisceau laser et l'appliquer sur la surface à préparer, pour une adaptation de la rugosité de ladite surface par photoablation.21. System according to claim 20, characterized in that it comprises means for generating a laser beam and means for controlling this laser beam and applying it to the surface to be prepared, for an adaptation of the roughness of said surface by photoablation. 22. Système selon la revendication 21, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour projeter directement le faisceau laser sur la surface à préparer.22. System according to claim 21, characterized in that it further comprises means for directly projecting the laser beam on the surface to be prepared. 23. Système selon la revendication 21, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour balayer la surface à préparer avec un faisceau laser focalisé sur ladite surface ou à très proche distance de celle-ci.23. System according to claim 21, characterized in that it further comprises means for scanning the surface to be prepared with a laser beam focused on said surface or at very close distance therefrom. 24. Système selon la revendication 21, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour projeter sur la surface à préparer une image produite par transmission et/ou réflexion d'un faisceau laser à travers une grille.24. System according to claim 21, characterized in that it further comprises means for projecting onto the surface to be prepared an image produced by transmission and / or reflection of a laser beam through a grid. 25. Système selon la revendication 21, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour produire sur la surface à préparer un jeu d'interférences par moiré à partir d'un faisceau laser.25. System according to claim 21, characterized in that it further comprises means for producing on the surface to be prepared a set of interference moire from a laser beam. 26. Système selon la revendication 21, adapté pour la préparation d'un substrat, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour appliquer sur la surface dudit substrat un faisceau laser réglé pour provoquer une cristallisation totale ou partielle de la surface dudit substrat.26. The system of claim 21, adapted for the preparation of a substrate, characterized in that it further comprises means for applying to the surface of said substrate a laser beam set to cause total or partial crystallization of the surface of said substrate. substrate. 27. Système selon l'une des revendications 19 ou 20, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour réaliser un ensemble d'impacts de faisceau laser. en des points d'une surface à traiter.27. System according to one of claims 19 or 20, characterized in that it further comprises means for producing a set of laser beam impacts. at points of a surface to be treated. 28. Système selon l'une des revendications 19 ou 20, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour emboutir une surface à préparer au moyen d'une matrice agencée de façon à obtenir une distribution spatiale et une profondeur prédéterminées de la rugosité de ladite surface.28. System according to one of claims 19 or 20, characterized in that it further comprises means for stamping a surface to be prepared by means of a matrix arranged to obtain a predetermined spatial distribution and depth of the roughness of said surface. 29. Système selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour réaliser une électroérosion de la surface à préparer.29. System according to any one of the preceding claims, characterized in that it further comprises means for performing electroerosion of the surface to be prepared. 30. Système selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour déposer sur la surface à traiter un film monocouche ou multicouche dont les molécules sont orientées et distribuées de façon à procurer une rugosité adaptée au produit adhésif ou décoratif.30. System according to any one of the preceding claims, characterized in that it further comprises means for depositing on the surface to be treated a monolayer or multilayer film whose molecules are oriented and distributed so as to provide a roughness adapted to adhesive or decorative product. 31. Système selon la revendication 30, caractérisé en ce que les moyens de dépôt mettent en #uvre la technique dite des couches de Langmuir.31. System according to claim 30, characterized in that the deposition means implement the so-called Langmuir layer technique.
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