FR2770453A1 - Procede de confection de masque de gravure par sablage et masque ainsi obtenu - Google Patents
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Abstract
- L'invention concerne un procédé de confection de masque de gravure par sablage et masque ainsi obtenu.- Le procédé comprend les étapes suivantes : application sur une feuille de papier (1) comportant sur l'une de ses faces une pellicule d'un agent hydrofuge (2), d'une solution (3) d'un matériau sensible photopolymère, ladite solution étant appliquée sur la face non-hydrofuge de ladite feuille de papier, et sur une épaisseur déterminée, réalisation sur un support mince translucide d'un positif (4) d'une représentation du motif à graver, application de ladite feuille ainsi revêtue (1 à 3), côté polymère, contre ledit positif (4), insolation (I) aux ultraviolets de l'ensemble feuille-positif (1 à 4), et dépouillement de la feuille après retrait du positif (4) pour l'élimination du matériau photopolymère non insolé (NI), en sorte de réaliser sur ladite feuille (1, 2), côté polymère (3), des manques (5) empêchant l'action abrasive du sablage.- Application à la gravure par sablage.
Description
PROCEDE DE CONFECTION DE MASQUE DE GRAVURE
PAR SABLAGE ET MASQUE AINSI OBTENU
La présente invention se rapporte à la gravure par sablage et vise plus particulièrement la réalisation de masques destinés à une telle gravure.
PAR SABLAGE ET MASQUE AINSI OBTENU
La présente invention se rapporte à la gravure par sablage et vise plus particulièrement la réalisation de masques destinés à une telle gravure.
Le sablage est communément employé, notamment en cristallerie, pour réaliser une gravure d'un motif décoratif et consiste à projeter à l'aide d'un jet d'air comprimé une substance abrasive, généralement du sable, sur un masque de gravure appliqué sur la surface à graver.
La réalisation de tels masques se fait la plupart du temps par découpage par ordinateur.
Cette manière de faire ne permet pas de reproduire des motifs fins et prend en outre beaucoup de temps car il faut écheniller le masque, c'est à dire enlever à la main toutes les parties détourées lors de la découpe du masque pour dégager les zones à graver.
Le but de l'invention est de proposer une technique de réalisation de masques à la fois plus rapide et meilleur marché et susceptible de reproduire avec beaucoup plus de finesse les motifs à graver.
A cet effet, I'invention a pour objet un procédé de confection de masque de gravure par sablage, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes
- application sur une feuille de papier comportant sur l'une de ses faces
une pellicule d'un agent hydrofuge d'une solution d'un matériau sensible
photopolymère, ladite solution étant appliquée sur la face non-hydrofuge
de ladite feuille de papier, et sur une épaisseur déterminée,
- réalisation sur un support mince translucide d'un positif d'une
représentation du motif à graver,
- application de ladite feuille ainsi revêtue, côté polymère, contre ledit
positif,
- insolation aux ultraviolets de l'ensemble feuilie-positif et
- dépouillement de la feuille après retrait du positif pour l'élimination du
matériau photopolymère non insolé, en sorte de réaliser sur ladite feuille,
côté polymère, des réserves empêchant l'action abrasive du sablage.
- application sur une feuille de papier comportant sur l'une de ses faces
une pellicule d'un agent hydrofuge d'une solution d'un matériau sensible
photopolymère, ladite solution étant appliquée sur la face non-hydrofuge
de ladite feuille de papier, et sur une épaisseur déterminée,
- réalisation sur un support mince translucide d'un positif d'une
représentation du motif à graver,
- application de ladite feuille ainsi revêtue, côté polymère, contre ledit
positif,
- insolation aux ultraviolets de l'ensemble feuilie-positif et
- dépouillement de la feuille après retrait du positif pour l'élimination du
matériau photopolymère non insolé, en sorte de réaliser sur ladite feuille,
côté polymère, des réserves empêchant l'action abrasive du sablage.
L'invention a également pour objet le masque obtenu conformément au procédé ci-dessus et constitué d'une feuille de papier résistant à l'eau, revêtu d'un côté d'une couche mince d'un matériau polymère, présentant des manques correspondant au motif à graver.
De tels masques sont très faciles d'emploi, résistant et d'une bonne tenue à la manipulation et au stockage. Ils sont économiques à réaliser et permettent des reproductions très fines de toutes sortes de motifs y compris des clichés photographiques.
D'autres caractéristiques et avantages ressortiront de la description qui va suivre d'un mode de mise en oeuvre du procédé de l'invention, description donnée à titre d'exemple uniquement et en regard des dessins annexés sur lesquels
- Figure 1 est une vue en coupe schématique d'un sandwich constitué
d'une feuille de papier résistant à l'eau, d'un revêtement photopolymère
et d'un positif,
- Figure 2 représente l'assemblage de la figure 1 constituant le masque,
après insolation et enlèvement du positif, et
- Figure 3 représente le masque de la figure 2 en position sur une
surface en cours de gravure.
- Figure 1 est une vue en coupe schématique d'un sandwich constitué
d'une feuille de papier résistant à l'eau, d'un revêtement photopolymère
et d'un positif,
- Figure 2 représente l'assemblage de la figure 1 constituant le masque,
après insolation et enlèvement du positif, et
- Figure 3 représente le masque de la figure 2 en position sur une
surface en cours de gravure.
Pour la mise en oeuvre du procédé de l'invention, on utilise une feuille de papier résistant à l'eau 1, du commerce, telle que notamment une feuille de papier revêtue sur l'une de ses faces d'une pellicule hydrofuge 2.
Sur la face non hydrofuge de la feuille 1, est appliquée une couche mince 3 d'un matériau sensible photopolymère, formée à partir d'une solution du commerce, utilisée par exemple en sérigraphie. A titre d'exemple, le produit dénommé photopolymère T commercialisé sous la dénomination commerciale
TIFLEX par la société du même nom, convient tout à fait en application à la règle sur une épaisseur dépendant de la finesse de la gravure, par exemple entre 3 et 25 micromètres.
TIFLEX par la société du même nom, convient tout à fait en application à la règle sur une épaisseur dépendant de la finesse de la gravure, par exemple entre 3 et 25 micromètres.
Après application de la solution, on sèche, avant de placer sur le revêtement 3 un film positif 4 réalisé par ailleurs.
Ce film 4 est un support mince translucide portant une représentation en positif du motif à reproduire par gravure.
La représentation est par exemple une impression réalisée sur une imprimante.
On a symbolisé en M sur la figure 1 des éléments imprimés du motif représenté sur le film 4.
L'ensemble de la figure 1 est ensuite placé dans une unité d'insolation aux ultraviolets conventionnelle, par exemple une insoleuse à châssis de sérigraphie, pour y être insolé pendant un certain temps, par exemple 50 secondes.
En I, est symbolisé l'insolation.
Après insolation, le positif 4 est retiré et on procède au dépouillement de l'ensemble illustré en figure 2 et constitué de la feuille 1 revêtue, d'un côté, de sa pellicule hydrofuge 2 et, de l'autre côté, du film polymère 3.
Le dépouillement est un processus bien connu consistant à laver le film 3 à l'eau tiède et à haute pression, par exemple 2 bars et durant deux minutes afin d'éliminer les parties de polymères symbolisées en NI non insolées, c'est à dire celles se trouvant dans le cône d'ombre des motifs M sur la figure 1.
II se dégage ainsi dans la couche 3 des manques 5 entourés par des parties subsistantes, polymérisées, de la solution initialement appliquée (film 3) sur la feuille 1.
L'ensemble ainsi représenté sur la figure 2 constitue le masque 6 confectionné conformément au procédé de l'invention.
Ce masque 6 a une bonne stabilité dimensionnelle et une bonne tenue mécanique, permettant un stockage, un transport, une manipulation et une utilisation aisés.
Le motif (5) apparaît en négatif en transparence (I'oeil regardant du côté pellicule 2).
Lors de l'utilisation du masque 6, le côté polymère (3) est appliqué contre la surface 7 à graver, par exemple du verre. La fixation du masque est assurée soit par simple collage par capillarité, la feuille 1 étant au préalable humidifiée, soit par collage avec un adhésif approprié, selon la nature de la surface 7.
Enfin, on procède au sablage, à la manière connue, les jets de particules abrasives, symbolisés en J sur la figure 3, traversant aisément le film mince hydrofuge 2 et la feuille mince de papier 1, pour ensuite, soit atteindre la surface 7 au travers des manques 5 de la couche 3, soit rebondir élastiquement, en dehors desdits manques 5, sur les parties subsistantes de la couche 3 comme illustré en R, sans toucher la surface 7.
On reproduit ainsi en creux en 8 sur la surface 7 le motif positif délimité par les manques 5.
Le masque 6 ne sert qu'une fois, mais son coût de fabrication est bon marché.
Enfin, I'invention n'est évidemment pas limitée au mode de réalisation illustré et décrit ci-dessus, mais en couvre au contraire toutes les variantes, notamment en ce qui concerne la nature de la feuille résistante à l'eau 1, de la solution servant à la réalisation du revêtement polymère 3 et du positif 4.
Claims (2)
1. Procédé de confection de masque de gravure par sablage, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes
- application sur une feuille de papier (1) comportant sur l'une de ses
faces une pellicule d'un agent hydrofuge (2), d'une solution (3) d'un
matériau sensible photopolymère, ladite solution étant appliquée sur la
face non-hydrofuge de ladite feuille de papier, et sur une épaisseur
déterminée,
- réalisation sur un support mince translucide d'un positif (4) d'une
représentation du motif à graver,
- application de ladite feuille ainsi revêtue (1 à 3), côté polymère, contre
ledit positif (4),
- insolation (I) aux ultraviolets de l'ensemble feuille-positif (1 à 4), et
- dépouillement de la feuille après retrait du positif (4) pour l'élimination
du matériau photopolymère non insolé (nui), en sorte de réaliser sur ladite
feuille (1,2), côté polymère (3), des manques (5) empêchant l'action
abrasive du sablage.
2. Masque obtenu conformément au procédé de la revendication 1, constitué d'une feuille de papier résistant à l'eau (1,2), revêtu d'un côté d'une couche mince d'un matériau polymère (3), présentant des manques (5) correspondant au motif à graver.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9714068A FR2770453B1 (fr) | 1997-11-04 | 1997-11-04 | Procede de confection de masque de gravure par sablage et masque ainsi obtenu |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9714068A FR2770453B1 (fr) | 1997-11-04 | 1997-11-04 | Procede de confection de masque de gravure par sablage et masque ainsi obtenu |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FR2770453A1 true FR2770453A1 (fr) | 1999-05-07 |
| FR2770453B1 FR2770453B1 (fr) | 1999-12-17 |
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ID=9513193
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FR9714068A Expired - Fee Related FR2770453B1 (fr) | 1997-11-04 | 1997-11-04 | Procede de confection de masque de gravure par sablage et masque ainsi obtenu |
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|---|---|
| FR (1) | FR2770453B1 (fr) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4764449A (en) * | 1985-11-01 | 1988-08-16 | The Chromaline Corporation | Adherent sandblast photoresist laminate |
| EP0363111A2 (fr) * | 1988-10-01 | 1990-04-11 | James Hardie Engraving Limited | Réserves |
| US5370762A (en) * | 1992-02-11 | 1994-12-06 | Rayzist Photomask, Inc. | Use site production of sandblasting photomasks |
| US5629132A (en) * | 1991-03-28 | 1997-05-13 | Aicello Chemical Co., Ltd. | Method for engraving and/or etching with image-carrying mask and photo-sensitive laminate film for use in making the mask |
-
1997
- 1997-11-04 FR FR9714068A patent/FR2770453B1/fr not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4764449A (en) * | 1985-11-01 | 1988-08-16 | The Chromaline Corporation | Adherent sandblast photoresist laminate |
| EP0363111A2 (fr) * | 1988-10-01 | 1990-04-11 | James Hardie Engraving Limited | Réserves |
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| US5370762A (en) * | 1992-02-11 | 1994-12-06 | Rayzist Photomask, Inc. | Use site production of sandblasting photomasks |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2770453B1 (fr) | 1999-12-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| ST | Notification of lapse |