FR2512623A1 - Procede de fusion et/ou d'evaporation pulsee d'un materiau solide - Google Patents
Procede de fusion et/ou d'evaporation pulsee d'un materiau solide Download PDFInfo
- Publication number
- FR2512623A1 FR2512623A1 FR8117151A FR8117151A FR2512623A1 FR 2512623 A1 FR2512623 A1 FR 2512623A1 FR 8117151 A FR8117151 A FR 8117151A FR 8117151 A FR8117151 A FR 8117151A FR 2512623 A1 FR2512623 A1 FR 2512623A1
- Authority
- FR
- France
- Prior art keywords
- plasma
- electron plasma
- electrons
- enclosure
- electron
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 title claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title claims description 10
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 title description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 title description 2
- 230000004927 fusion Effects 0.000 title 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 title 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 title 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 title 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 33
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 8
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 4
- 230000009916 joint effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000000289 melt material Substances 0.000 description 1
- -1 metallold Substances 0.000 description 1
- 239000012768 molten material Substances 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32623—Mechanical discharge control means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3266—Magnetic control means
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8117151A FR2512623A1 (fr) | 1981-09-10 | 1981-09-10 | Procede de fusion et/ou d'evaporation pulsee d'un materiau solide |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8117151A FR2512623A1 (fr) | 1981-09-10 | 1981-09-10 | Procede de fusion et/ou d'evaporation pulsee d'un materiau solide |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FR2512623A1 true FR2512623A1 (fr) | 1983-03-11 |
| FR2512623B1 FR2512623B1 (enExample) | 1985-04-05 |
Family
ID=9262037
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FR8117151A Granted FR2512623A1 (fr) | 1981-09-10 | 1981-09-10 | Procede de fusion et/ou d'evaporation pulsee d'un materiau solide |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| FR (1) | FR2512623A1 (enExample) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2547692A1 (fr) * | 1983-06-15 | 1984-12-21 | Centre Nat Rech Scient | Procede et dispositif de production d'un plasma de grand volume homogene, de grande densite et de faible temperature electronique |
| EP0129490A1 (fr) * | 1983-06-15 | 1984-12-27 | Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) | Procédé et dispositif de production d'un plasma de grand volume homogène, de grande densité et de faible température électronique |
| FR2551581A1 (fr) * | 1983-09-07 | 1985-03-08 | Centre Nat Rech Scient | Procede et dispositif de traitement thermique de materiaux divers par un plasma homogene de grand volume |
| FR2553574A1 (fr) * | 1983-10-17 | 1985-04-19 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif de regulation d'un courant d'ions notamment metalliques fortement charges |
| DE3705666A1 (de) * | 1987-02-21 | 1988-09-01 | Leybold Ag | Einrichtung zum herstellen eines plasmas und zur behandlung von substraten darin |
| DE19513345A1 (de) * | 1995-04-08 | 1997-01-02 | Ehret Hans P | ECR-Ionenquelle |
| DE19933762A1 (de) * | 1999-07-19 | 2001-02-01 | Andrae Juergen | Gepulste magnetische Öffnung von Elektronen-Zyklotron-Resonanz-Jonenquellen zur Erzeugung kurzer, stromstarker Pulse hoch geladener Ionen oder von Elektronen |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB971687A (en) * | 1962-08-09 | 1964-09-30 | Atomic Energy Commission | Plasma generator |
| GB1093441A (en) * | 1964-05-13 | 1967-12-06 | British Titan Products | Production of titanium dioxide |
| FR2402301A1 (fr) * | 1977-09-02 | 1979-03-30 | Commissariat Energie Atomique | Appareil de micro-usinage par erosion ionique utilisant une source de plasma |
| FR2475798A1 (fr) * | 1980-02-13 | 1981-08-14 | Commissariat Energie Atomique | Procede et dispositif de production d'ions lourds fortement charges et une application mettant en oeuvre le procede |
-
1981
- 1981-09-10 FR FR8117151A patent/FR2512623A1/fr active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB971687A (en) * | 1962-08-09 | 1964-09-30 | Atomic Energy Commission | Plasma generator |
| GB1093441A (en) * | 1964-05-13 | 1967-12-06 | British Titan Products | Production of titanium dioxide |
| FR2402301A1 (fr) * | 1977-09-02 | 1979-03-30 | Commissariat Energie Atomique | Appareil de micro-usinage par erosion ionique utilisant une source de plasma |
| FR2475798A1 (fr) * | 1980-02-13 | 1981-08-14 | Commissariat Energie Atomique | Procede et dispositif de production d'ions lourds fortement charges et une application mettant en oeuvre le procede |
| GB2069230A (en) * | 1980-02-13 | 1981-08-19 | Commissariat Energie Atomique | Process and apparatus for producing highly charged large ions and an application utilizing this process |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2547692A1 (fr) * | 1983-06-15 | 1984-12-21 | Centre Nat Rech Scient | Procede et dispositif de production d'un plasma de grand volume homogene, de grande densite et de faible temperature electronique |
| EP0129490A1 (fr) * | 1983-06-15 | 1984-12-27 | Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) | Procédé et dispositif de production d'un plasma de grand volume homogène, de grande densité et de faible température électronique |
| FR2551581A1 (fr) * | 1983-09-07 | 1985-03-08 | Centre Nat Rech Scient | Procede et dispositif de traitement thermique de materiaux divers par un plasma homogene de grand volume |
| FR2553574A1 (fr) * | 1983-10-17 | 1985-04-19 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif de regulation d'un courant d'ions notamment metalliques fortement charges |
| EP0142414A2 (fr) | 1983-10-17 | 1985-05-22 | Commissariat A L'energie Atomique | Source d'ions, notamment métalliques fortement chargés dont le courant d'ions est régulé |
| US4582997A (en) * | 1983-10-17 | 1986-04-15 | Commissariat A L'energie Atomique | Ionic current regulating device |
| EP0142414A3 (en) * | 1983-10-17 | 1986-06-04 | Commissariat A L'energie Atomique Etablissement De Caractere Scientifique Technique Et Industriel | Device for controlling a current of ions, in particular for highly charged metallic ions |
| DE3705666A1 (de) * | 1987-02-21 | 1988-09-01 | Leybold Ag | Einrichtung zum herstellen eines plasmas und zur behandlung von substraten darin |
| DE19513345A1 (de) * | 1995-04-08 | 1997-01-02 | Ehret Hans P | ECR-Ionenquelle |
| DE19513345C2 (de) * | 1995-04-08 | 2000-08-03 | Ehret Hans P | ECR-Ionenquelle |
| DE19933762A1 (de) * | 1999-07-19 | 2001-02-01 | Andrae Juergen | Gepulste magnetische Öffnung von Elektronen-Zyklotron-Resonanz-Jonenquellen zur Erzeugung kurzer, stromstarker Pulse hoch geladener Ionen oder von Elektronen |
| DE19933762C2 (de) * | 1999-07-19 | 2002-10-17 | Juergen Andrae | Gepulste magnetische Öffnung von Elektronen-Zyklotron-Resonanz-Jonenquellen zur Erzeugung kurzer, stromstarker Pulse hoch geladener Ionen oder von Elektronen |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2512623B1 (enExample) | 1985-04-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3601576A (en) | Method for boring workpieces by laser pulses | |
| EP0238397B1 (fr) | Source d'ions à résonance cyclotronique électronique à injection coaxiale d'ondes électromagnétiques | |
| EP1424120A1 (fr) | Procédé et installation de traitement de gaz perfluorés et hydrofluorocarbonés en vue de leur destruction | |
| FR2512623A1 (fr) | Procede de fusion et/ou d'evaporation pulsee d'un materiau solide | |
| FR2488367A1 (fr) | Valve de figeage comportant plusieurs dispositifs de chauffage et de refroidissement et procede de mise en oeuvre de cette valve | |
| CA2143435A1 (fr) | Appareil de depot chimique en phase vapeur active, par un plasma micro-ondes | |
| EP0815281B1 (fr) | Dispositif a microtete photo-ionique | |
| FR2639151A1 (fr) | Procedes et appareils pour engendrer rapidement de forts changements de polarisation dans des materiaux ferro-electriques | |
| JP2005251735A (ja) | プラズマに基づき軟x線放射線を発生するための方法および装置 | |
| WO1999003636A1 (fr) | Dispositif et procede de decoupe a distance etendue par laser, en mode impulsionnel | |
| FR2699934A1 (fr) | Procédé de contrôle de la concentration en métalloïde d'un dépôt réalisés par voie physique en phase vapeur réactive à l'aide d'un plasma froid de pulvérisation. | |
| EP0142414B1 (fr) | Source d'ions, notamment métalliques fortement chargés dont le courant d'ions est régulé | |
| EP0522986A1 (fr) | Dispositif et procédé de dépot de diamant par DCPV assisté par plasma microonde | |
| WO1992010325A1 (fr) | Ouverture d'un trou de coulee avec une torche a plasma | |
| RU2597447C2 (ru) | Лазерный способ получения функциональных покрытий | |
| FR2633377A1 (fr) | Procede et installation de fusion par micro-ondes d'un materiau corrosif a chaud | |
| EP0298833A1 (fr) | Procédé et dispositif de soudage électrique sous eau | |
| Schwirzke | Unipolar arcing, a basic laser damage mechanism | |
| Maeda et al. | Micro-machining using 1.55 µm band fiber pulse laser with 10kW peak power | |
| Madjid et al. | Shock wave and emission with sheet-like structure induced by Nd-YAG laser ablation at reduced pressure | |
| Yablonovitch | The Physics of Laser-Plasma Interaction in Gaseous Targets | |
| FR2545202A1 (fr) | Procede et dispositif de refroidissement d'un materiau et application a l'elaboration de materiaux refractaires par trempe | |
| WO1991015016A1 (fr) | Procede et dispositif pour produire de l'energie de fusion a partir d'une matiere fusible | |
| Honda et al. | Imaging a tunneling ionization front by using a schlieren method | |
| GALLI DE MAGISTRIS | Production of novel nanostructured targets for high-intensity laser-plasma interaction experiments |