FR2511706A1 - Procede et dispositif d'electrodeposition - Google Patents

Abstract

PROCEDE ET DISPOSITIF D'ELECTRODEPOSITION UTILISANT UN RECIPIENT HERMETIQUE 2 POUR RECEVOIR UNE PIECE A TRAITER 1. UNE SOLUTION D'ELECTRODEPOSITION 3 CIRCULE DANS LA REGION D'UN INTERVALLE ENTRE UNE ANODE 10 ET UNE SURFACE CONDUCTRICE 4 SUR LA PIECE POUR PERMETTRE AU COURANT D'ELECTRODEPOSITION DE FORTE DENSITE DE COURANT EN PROVENANCE D'UNE SOURCE DE COURANT 24 D'ETRE APPLIQUE DANS L'INTERVALLE POUR EFFECTUER UN DEPOT ELECTRIQUE DE METAL DE LA SOLUTION AU MOINS DE FACON PREDOMINANTE SUR UNE ZONE LIMITEE DE LA SURFACE DE LA PIECE JUXTAPOSEE A UNE FACE ACTIVE 10A DE L'ANODE, TOUT EN PERMETTANT AUX GAZ ELECTROLYTIQUEMENT PRODUITS DANS L'INTERVALLE D'ETRE RECUEILLIS, AVEC DES BUEES SE DEGAGEANT DE LA SOLUTION, DANS UNE ENCEINTE ETANCHE 28 DANS LE RECIPIENT. L'ANODE ET LA PIECE SONT DEPLACEES L'UNE PAR RAPPORT A L'AUTRE POUR PERMETTRE A LA FACE DE L'ELECTRODE ACTIVE DE BALAYER LA SURFACE DE LA PIECE POUR RENDRE MAXIMAUX LE RENDEMENT ET LES CARACTERISTIQUES DE L'ELECTRODEPOSITION. UNE POMPE D'ASPIRATION 30 ASPIRE L'EFFLUENT GAZEUX RECUEILLI DANS L'ENCEINTE 28 DU RECIPIENT 2 PAR UN CONDUIT DE SORTIE 29.

Description

Procédé et dispositif d'électrodéposition La présente invention concerne

l'électrodéposition et de façon plus particulière, un nouveau procédé et un nouveau dispositif améliorés pour déposer électriquement une couche d'un métal, par exemple du cuivre, du nickel, du chrome ou de l'or, sur une surface conductrice de l'élec-

tricité, telle que sur un support conducteur de l'élec-

tricité ou sur un mince fil métallisé préformé sur un objet ou sur un moule non conducteur de l'électricité Un tel support, un tel objet ou un tel moule sera désigné après sous le terme générique de "pièce à traiter, ',ou

tout simplement Ilpièce"l.

L'électrodéposition a été largement utilisée oour revêtir de façon permanente un objet avec une couche d'un dépôt électrique et pour électroformer un objet, tel qu'un moule ou une électrode-out*l d'usinage électrique, par exemple d'usinage par déchargesélectriques Dans l'électroformage, le métal désiré est déposé électriquement sur un moule qui

est, de façon caractéristique, en une substance non conduc-

trice de l'électricité métallisée, et le dép St électrique doit être constitué jusqu'à une épaisseur notable pour être enlevé ultérieurement du moule et servir coine objet recherché L'objet ou le moule recevant le dépôt, ou "pièce

à traiter" est souvent grand et de forme complexe, ou ma-

croscopiquement rugueux, et elle présente nécessairement

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une ou plusieurs zones en creux Il est souhaitable que le revêtement électroformé ait une épaisseur uniforme ou ait une répartition d'épaisseur désirée sur toute la superficie d'un tel contour complexe ou rugueux En outre, il est souvent souhaitable que le dépôt métallique soit plus mince dans des zones en relief et plus épais dans des zones en creux Cependant, ces exigences sont généralement

opposées aux caractéristiques intrinsèques de l'électro-

déposition Ainsi, le dépôt électrique tend à être plus épais dans les zones en relief, par exemple sur des crêtes ou des portions d'angle convexes, et à être plus mince dans des zones en creux Dans un creux, le dépôt électrique tend à se concentrer dans les angles avec un dépôt très faible et pratiquement nul sur le fond et dans les bords

des coins, lorsqu'on utilise un dispositif d'électrodépo-

sition classique, dans lequel la pièce est immergée dans une masse passive de solution d'électrodéposition ou espacée

d'une seule électrode plane d'une grande distance Le cou-

rant d'électrodéposition ne peut alors être appliqué qu'avec

une densité de courant insuffisante.

D'autre part, on sait que l'on peut augmenter la densité du courant d'électrodéposition lorsque la solution fournissant le métal à déposer circule de force dans la région de l'électrode et de la pièce Bien que l'on ait constaté que l'on pouvait augmenter la densité du courant d'électrodéposition appliqué, et de ce fait augmenter la vitesse du dépôt électrique, en utilisant une électrode dont la forme est complémentaire du contour de la pièce à traiter et en juxtaposant cette électrode au voisinage immédiat de la surface de la pièce, on a également constaté que cette mesure ne donnait généralement pas satisfaction pour améliorer l'uniformité du dépôt sur la surface à

revêtir, apparemment parce qu'on n'obtient pas nécessaire-

ment l'uniformité désirée de distribution de la solution de balayage sur toute la surface En outre, cette mesure est totalement inapplicable lorsqu'on envisage un dépft

électrique sélectif ou localisé.

On a trouvé qu'on pouvait obtenir de façon plus efficace

une couche désirée de dépôt électrique d'épaisseur substan-

tielle et uniforme en utilisant une simple électrode ayant une surface d'électrode active beaucoup plus étroite que la surface de la pièce à traiter et en déplaçant l'élec- trode par rapport à la pièce pour faire balayer par la surface active d'électrode la surface de la pièce à traiter tout en maintenant un petit intervalle entre l'électrode

et la pièce et Y faisant circuler la solution d'électro-

déposition, ce qui permet de maintenir à travers l'inter-

valle un courant d'électrodéposition de forte densité.

De cette manière, on peut revêtir d'un dépôt électrique une surface rugueuse et importante ou complexe, ayant un ou plusieurs évidements, en un temps extrêmement raccourci par rapport aux procédés classiques On peut également effectuer un dépôt électrique sélectif ou localisé et former une couche de dépôt électrique avec une répartition

d'épaisseur désirée en réglant la valeur du courant d'élec-

trodéposition et/ou le débit de la solution d'électrodé-

position.

Bien que l'on ait constaté qu'on pouvait ainsi obtenir un dépôt électrique extrêmement rapidement, pratiquement sur toute surface pouvant être traitée de cette manière,

en maintenant un courant dynamique de la solution d'électro-

déposition, on a maintenant également constatécqie l'amélio-

ration obtenue dans le rendement du dépôt et ses caracté-

ristiques soulevait un problème Ainsi, l'intervalle d'électrodéposition devient une source très importante de

polluants nuisibles à l'environnement et à certains équi-

pements essentiels du dispositif Des gaz sont électrolyti-

quement produits dans l'intervalle d'électrodéposition et

forment avec les buées dégagées des effluents gazeux s'éle-

vant de la solution de balayage, lesquels effluents sont nuisibles non seulement pour l'utilisateur, mais également

pour l'environnement et les équipements du dispositif.

Ces effluents sont dangereux non seulement pour le personnel, mais, si on les laisse se dégager pendant une période importante, ils peuvent provoquer la corrosion ou un mauvais fonctionnement des équipements, et de ce

fait du dispositif.

C'est en conséquence un but important de la présente invention de procurer un nouveau procédé et un nouveau dispositif améliorés pour déposer électriquement un métal sur une surface non conductrice de l'électricité, grâce auxquels on peut obtenir la couche désirée de dépôt électrique à une vitesse extrêmement élevée et de façon uniforme ou selon un modèle d'épaisseur désirée sans polluer Itenvironnement et sans nuire au fonctionnement

des équipements.

Un autre but important de l'invention est de procurer un nouveau dispositif amélioré dlélectrodéposition, qui soit relativement compact# qui assure à grande vitesse et avec une grande précision la formation d'une couche de dépôt électrique sur une surface conductrice de l'électricité et qui empêche par ailleurs, efficacement, la pollution de l'environnementle mauvais fonctionnement

et des équipements du fait de la corrosion.

Sous un premier aspect, la présente invention propose un procédé d'électrodéposition d'un métal sur une surface conductrice de l'électricité, dans lequel: a) on place dans un récipient hermétique une pièce à traiter ayant

une surface sur laquelle on doit effectuer un dép 8 t élec-

trique; b) on positionne des moyens d'électrode en les juxtaposant, à une certaine distance, à la pièce à traiter dans le récipient; c) on fait circuler une solution

d'électrodéposition au moins dans la région d'un inter-

valle entre les moyens d'électrode et la pièce à traiter à l'intérieur du récipient; d) on fait passer un courant d'électrodéposition entre les moyens d'électrode et la pièce à traiter pour déposer électriquement le métal de

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la solution au moins de façon prédominante sur une zone limitée de la surface de la pièce juxtaposée aux moyens d'électrode, tout en permettant auxgaz produits électrolytiquement dans l'intervalle et éventuellement, avec les buées se dégageant de la solution, de former un effluent gazeux et on recueille cet effluent gazeux dans une enceinte à l'intérieur du récipient; e) on déplace l'un par rapport à l'autre la pièce à traiter et les moyens d'électrode pour balayer progressivement

la surface de la pièce avec la zone limitée d'électro-

déposition prédominante; et f) on aspire l'effluent gaoeux

recueilli dans l'enceinte dans le récipient.

L'effluent gazeux recueilli dans l'enceinte est aspiré du récipient à l'extérieur de celui-ci en appliquant une différence de pression, par exemple une aspiration, entre l'enceinte et l'extérieur Le récipient peut comporter

un ou plusieurs trous d'aération, de sorte que la diffé-

rence de pression permet d'introduire de l'air atmosphérique pur dans le récipient En variante, ce récipient peut être étanche à l'air On peut alors refouler un gaz non toxique et sans danger, tel que de l'air, de l'azote ou de l'argon, dans l'enceinte à partir d'une source de ce gaz Dans ce cas, la pression dans l'enceinte est maintenue à une valeur supérieure à la pression atmosphérique, de préférence comprise entre 2 et 5 atmosphères En variante, la pression peut être maintenue à une valeur inférieure à la pression atmosphérique L'effluent gazeux aspiré à l'extérieur du récipient est de préférence séparé en buées et en gaz, qui peuvent alors être traités par une unité

de traitement de gaz classique.

Sous un deuxième aspect, l'invention propose un dispositif

d'électrodéposition qui comporte: a) un récipient essen-

tiellement étanche pour recevoir une pièce à traiter sur une surface conductrice de l'électricité de laquelle On doiteffectuer un dépôt électrique; b) des moyens pour supporter la pièce dans le récipient; c) des moyens pour supporter des moyens d'électrode en les juxtaposant, à une certaine distance, à la pièce dans le récipient;

d) des moyens pour faire circuler une solution d'électro-

déposition au moins dans la région d'un intervalle délimité entre les moyens d'électrode et la pièce à traiter à l'intérieur du récipient; e) des moyens d'alimentation en courant pour faire passer un courant d'électrodéposition entre les moyens d'électrode et la pièce à traiter pour déposer électriquement un métal de la solution au moins de façon prédominante sur une zone limitée de la surface de la pièce juxtaposée aux moyens d'électrode, tout en

permettant aux gaz électrolytiquement produit dans l'inter-

valle, et éventuellement avec des buées dégagées de la solution, d'être recueillissous forme dteffluent gazeux dans une enceinte à l'intérieur du récipient; f) des moyens d'entraînement pour déplacer l'un par rapport à l'autre la pièce à traiter et les moyens d'électrode pour balayer

fluide pour la faire circuler de cette ouverture dans l'in-

tervalle sous une pression non inférieure à 5 kg/cm 2 8 Dispositif d'électrodéposition,caractérisé en ce qu'il comporte: a) un récipient essentiellement hermétique ( 2) pour

recevoir une pièce à traiter (O) sur une surface électri-

quement conductrice ( 4) de laquelle on doit effectuer un dépôt électrique;

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avec les moyens d'aspiration ( 30), pour maintenir la pression à l'intérieur de ltenceinte à une valeur inférieure

à la pression atmosphérique.

12 Dispositif selon la revendication 10, caractérisé en ce que les moyens de pompe sont adaptés en liaison avec les moyens d'aspiration, pour maintenir la pression à l'intérieur de l'enceinte à une valeur supérieure à la

pression atmosphérique.

13 Dispositif selon la revendication 8, caractérisé en ce fl I IPI a m Nv y riAI 1o -+ - -'" _ 4 t- X_ dans ces procédés de dépôt en continu, du fait de la forme relativement simple, par exemple des bandes ou des fils, dans une solution d'électrodéposition 3 contenue dans la cuve Un mince revêtement métallique 4 est préalablement appliqué sur une zone choisie du moule 1, par exemple

par placage chimique,pour constituer un support d'électro-

formage conducteur La solution 3 est amenée de façon continue ou intermittente à partir d'une source 5 par l'intermédiaire d'un tuyau 6 dans la cuve 2 et, après avoir circulé sur la surface 4, peut s'écouler à l'extérieur par une sortie 7 dans une pompe 8 Le moule 1 est positionné

dans la cuve 2 au moyen de colonnettes 9.

Une électrode allongée anodique 10 est juxtaposée extrê-

mement près de la surface conductrice 4 du moule 1 et peut se déplacer verticalement ou dans la direction d'un axe Z. Un entraînement 12, comportant un cabestan 13 et un galet pinceur 14, déplace l'électrode 10 à l'intérieur d'un manchon- 11 Un moteur 15 de cabestan 13 est commandé par un signal d'une unité de commande 16 pour déterminer la position d'une surface d'électrode 10 a définie par l'extrémité Fi

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inférieur de l'électrode 10 Deux galets 17 et 18 sont prévus pour guider l'électrode allongée 10 dans son mouvement vertical l'ensemble d'entraînement 12 et des galets 17 et 18 est fixé sur un chariot 19, équ 4 éàci roues pour rouler sur deux rails parallèles 20 et peut être

déplacé dans la direction d'un axe X par un moteur 21.

Chaque rail 20 s'étendant dans la direction de l'axe des X est monté sur le manchon 11, lequel est également équipé de roues pour rouler sur deux rails parallèles 22 et être

déplacé dans la direction d'un axe Y par un moteur 23.

Les moteurs 15, 21, 23 sont mis en route par des signaux de commande provenant de l'unité de commande 16 pour déplacer l'électrode 10 de façon que sa face active 10 a balaie la surface profilée 4 selon un trajet préprogrammé

dans le système de coordonnées X, Y et Z L'étroit inter-

valle entre la face d'électrode active 1 Oa est maintenu

pratiquement constant.

Une source de courant d'électrodéposition 24 a une borne électriquement raccordée à la couche conductrice 4 et l'autre borne électriquement raccordée par les rails 22,

le manchon 11, les rails 20, le chariot 19 et un conduc-

teur 25 à l'anode 10 Le manchon 11, les rails 20 et 22 et

le chariot 19 sont métalliques et conduisent l'électricité.

L'ensemble d'entraînement comportant des éléments 11 à 23 inclus est logé dans un capot 26 présentant des trous d'aération 26 a et monté sur la cuve 2 En outre, l'ensemble d'entraînement est isolé de la cuve d'électrodéposition 2 par une cloison extensible plissée ou en accordéon 27 qui est fixée à la paroi supérieure de la cuve 2 et a une ouverture allongée 27 a (fig 2) pour recevoir le manchon 11 qui guide l'anode allongée 10 La cloison 27 es 7 t plissée dans la direction de l'axe Y et permet à l'anode 10 de se déplacerdas cette direction L'ouverture 27 a est équipée d'une garniture fendue déformable 27 b pour recevoir

à coulissement au travers de la fente, l'anode 10 de fa-

çon qu'elle puisse se déplacer dans la direction de l'axe X La garniture 27 b peut être un élément fendu analogue à une éponge capable d'obturer hermétiquement

l'espace défini par la surface de la solution ci'électro-

déposition 3, la paroi de la cuve 2 et la cloison 27. Avec le dispositif décrit, on peut effectuer un dépôt électrique à grande vitesse et à rendement élevé sur la surface conductrice 4, laquelle peut avoir une forme complexe ou êtremacroscopiquement rugueux L'anode 10 et la surface conductrice 4 étant alimentées en courant, un dépôt électrique de métal s'établit rapidement sur la zone métallisée de la surface conductrice 4 du fait du courant forcé de solution d'électrodéposition 3 dans

la région comprise entre l'anode 10 et la surface conduc-

trice 4, juxtaposées l'une à l'autre et espacées d'une très petite distance Au fur et à mesure que le dépôt

électrique se constitue, l'anode 10 est déplacée par rap-

port au moule 2 pour que la face de l'électrode active l Oa

balaie la surface conductrice 4, déposant ainsi progressi-

vement électriquement le métal de la solution 3 sur la

surface 4.

Dès que l'électrodéposition commence et pendant toute sa durée, des gaz sont électrolytiquement produits dans l'intervalle et, captant des buées provenant de la solution 3, forment un effluent gazeux qui est généralement corrosif et toxique, cet ef*luent gazeux se rassemblant dans l'espace défini par la paroi de la cuve 2, la surface de la solution 3 contenue dans la cuve et la cloison 27 Selon une caractéristique importante de la présente invention, une enceinte fermée 28, qui peut être constituée par cet

espace, communique par des conduits 29 avec une pompe aspi-

rante 30 pour aspirer cet effluent gazeux La fermeture

de l'enceinte 28 par la cloison empêche effectivement l'ef-

fluent gazeux d'être amené en contact avec des éléments de l'ensemble d'entraîinement 12 à 23 La gjarniture fendue 27 b dans la cloison 27 peut être constituée par un élément déformable poreux ou perméable à l'air Dans ce cas, de l'air atmosphérique pur est aspiré par les trous d'aération 26 a dans l'enceinte 28 par la pompe 30, laquelle refoule à l'extérieur l'effluent gazeux La pres- sion à l'intérieur de l'enceinte 28 est alors maintenue à

une pression inférieure à la pression atmosphérique.

Lteffluent gazeux aspiré par la pompe 30 peut être traité par un système de traitement des gaz 31, qui sépare les gaz des liquides ou de la solution 3 et si nécessaire, décompose les gaz en composants non nuisibles Le liquide

séparé des gaz peut être traité par un système de trai-

tement de liquide classique (non représenté) pour être évacué Un système de soupapes 32 est prévu dans les conduits 29 pour régler le débit volumétrique de l'effluent

gazeux aspiré de l'enceinte 28 par la pompe 30.

La garniture fendue 27 b peut également être un élément déformable imperméable Dans ce cas, l'enceinte 28 peut communiquer par des conduits 33 et un système de soupapes 34 avec une source 35 d'air ou d'un gaz extérieur non toxique, tel que de l'argon ou de l'azote La source 35 fournit

le gaz dans l'enceinte 28 dans laquelle la pompe d'aspi-

ration 30 a fait le vide La pression gazeuse dans l'en-

ceinte 28 est réglée par le système de soupape 534 et peut être maintenue à une valeur supérieure à la pression

atmosphérique, de préférence comprise entre 2 et 5 atmos-

phères En variante, la pression à l'intérieur de l'en-

ceinte 28 peut être maintenue à ure valeur inférieure à la pression atmosphérique en réglant le système de soupape 532

en liaison avec le réglage du système de soupape 534.

La réalisation de la figure 3 est pratiquement identique à celle représentée sur les figures 1 et 2 sauf que la solution d'électrodéposition 3 est amenée sous forme d'un courant forcé à travers une anode 40 tubulaire Ainsi, la solution d'électrodéposition est amenée par une pompe 41 à partir d'un réservoir 42 dans l'anode tubulaire 40 par l'intermédiaire d'un système de soupape de réglage de pression 43, un clapet d'étranglement 44 et une soupape de réglage de débit 45, pour arriver dans l'intervalle d'électrodéposition entre l'anode 40 et la surface conduc-

trice 4 par une ouverture terminale 40 a de l'anode 40.

Du fait de la cloison 27, du système d'aspiration de l'effluent gazeux 29 à 32 et des trous d'aspiration 26 a ou du système de fourniture de gaz extérieur 33 à 35,

on peut augmenter au maximum le débit de la solution d'élec-

trodéposition arrivant dans l'intervalle entre la surface d'électrode active 40 a et la surface conductrice 4 pour garantir une densité de courant d'électrodéposition très élevée et de ce fait, une vitesse de dépôt très importante sans polluer l'environnement,sans corroder les éléments de l'ensemble d'entraînement et sans risquer la santé de

l'utilisateur La pression de la solution d'électrodéposi-

tion 3 refoulée dans l'intervalle d'électrodéposition est réglée par les soupapes 43 et ne doit pas être-inférieure à 5 kg/cm Dans la réalisation de la figure 3, le système de soupapes 45 peut être réglé selon un programme préalable par des signaux

de sortie de l'unité de commande 16 Ainsi, le débit volu-

métrique de la solution de l'électrodéposition traversant l'intervalle doit être de préférence commandé en fonction

de la forme particulière de la zone de la surface conduc-

trice 4 et de ce fait, du moule 2, juxtaposé à la face de l'électrode active 40 a Ainsi, pour une zone en creux, le débit doit être augmenté Inversement, pour une surface plane convexe, le débit doit ou peut être réduit De cette manière, la surface conductrice 4 peut être revêtue d'un dépôt électrique complètement et uniformément ou selon une distribution d'épaisseur désirée sur toute sa surface, et ce

plus rapidement.

Claims (13)

Revendications

1 Procédé pour déposer électriquement un métal sur une surface conductrice de l'électricité, caractérisé en ce que: a) on place dans un récipient hermétique ( 2) une pièce à traiter ( 1) ayant une surface sur laquelle on doit effectuer un dép 8 t électrique; b) on positionne des moyens d'électrode (o 10) en les juxtaposant, à une certaine distance, à la pièce à traiter dans le récipient; c) on fait circuler une solution d'électrodéposition ( 3) au moins dans la région d'un intervalle entre les moyens

d'électrode et la pièce à traiter à l'intérieur du réci-

pient; d) on fait passer un courant d'électrodéposition entre

les moyens d'télectrode et la pièce à traiter pour.

déposer électriquement le métal de la solution au moins de façon prédominante sur une zone limitée de la surface de la pièce juxtaposée aux moyens d'électrode, tout en

permettant au gaz électrolytiquement produitsdans l'inter-

valle, et éventuellement avec les buées dégagées de la solution, d'être recueillissous forme d'un effluent gazeux dans une enceinte ( 28) à l'intérieur du récipient; e) on déplace l'un par rapport à l'autre la pièce à traiter ( 1) et des moyens d'électrode ( 10) pour balayer

progressivement la surface de la pièce avec la zone li-

mitée d'électrodéposition prédominante et f) on aspire lleffluent gazeux recueilli dans l'enceinte

( 28) du récipient.

2 Procédé selon la revendication 1, dans lequel le récipient est mis à l'air libre par au moins un trou d'aération ( 26 a), caractérisé en ce qu'on introduit de i;air atmosphérique ú)u L à Lú tvin Cut li OU d'1 ération dans l'enceinte en aspirant l'effluent gazeux du récipient

à l'extérieur de celui-ci.

3 Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'on refoule sous pression un gaz non toxique dans l'enceinte, tandis que l'effluent gazeux est aspiré du

récipient à l'extérieur de celui-ci.

4 Procédé selon la revendication 2 ou la revendication 3, caractérisé en ce que l'enceinte est maintenue à une

pression inférieure à la pression atmosphérique.

Procédé selon la revendication 3, caractérisé en ce que cette enceinte est maintenue à une pression supérieure

à la pression atmosphérique.

6 Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que

la pression est comprise entre 2 et 5 atmosphères.

7 Procédé selon la revendication 1, dans lequel l'électrode est une électrode tubulaire ( 40) à l'intérieur de laquelle est formé un passage de fluide s'ouvrant à une extrémité ( 40 a) à l'avant de celui-ci, caractérisé en ce qu'on fait passer la solution d'élect#déposition à travers ce passage de

fluide pour la faire circuler de cette ouverture dans l'in-

tervalle sous une pression non inférieure à 5 kg/cm 8 Dispositif d'électrodéposition,caractérisé en ce qu'il comporte: a) un récipient essentiellement hermétique ( 2) pour

recevoir une pièce à traiter ( 1) sur une surface électri-

quement conductrice ( 4) de laquelle on doit effectuer un dépôt électrique;

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b) des moyens ( 9) pour supporter la pièce à traiter dans le récipient; c) des moyens pour supporter des moyens d'électrode juxtaposés, à une certaine distance, à la pièce à traiter dans le récipient;

d) des moyens pour faire circuler une solution d'électro-

déposition ( 3) au moins dans la région d'un intervalle compris entre les moyens d'électrode et la pièce à traiter à l'intérieur du récipient; e) des moyens d'alimentation en courant ( 24) pour faire passer un courant d'électrodéposition entre les moyens

d'électrode et la pièce à traiter pour déposer électrique-

ment un métal de cette solution au moins de façon prédomi-

nante sur une zone limitée de la surface de la pièce jux-

taposée aux moyens d'électrode, tout en permettant au gaz

électrolytiquement produit dans cet intervalle, et éven-

tuellement mélangé à des buées dégagées de la solution, d'être recueillis sous forme d'effluent gazeux dans une enceinte ( 28) à l'intérieur du récipient; f) des moyens d'entraînement ( 19-23) pour déplacer l'un par rapport à l'autre la pièce à traiter et les moyens d'électrode pour balayer progressivement la surface de la

pièce à traiter avec cette zone limitée d'électrodéposi-

tion prédominante; et g) des moyens d'aspiration ( 30) pour aspirer l'effluent

gazeux recueilli dans l'enceinte du récipient.

9 Dispositif selon la revendication 8, caractérisé en ce que le récipient comporte des moyens d' aération ( 26 a) faisant communiquer l'enceinte ( 28) avec l'atmosphère pour permettre d'introduire de l'air atmosphérique pur dans l'enceinte par l'aspiration aspirant l'effluent gazeux

du récipient dans un conduit d'évacuation ( 29).

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1 _ 5 Dispositif selon la revendication 8, caractérisé en ce qu'il comporte des moyens de pompe ( 35) pour refouler

un gaz non toxique dans l'enceinte sous pression.

11 Dispositif selon la revendication 10, caractérisé en ce que les moyens de pompe ( 35) sont adaptés, en liaison avec les moyens d'aspiration ( 30) , pour maintenir la pression à l'intérieur de l'enceinte à une valeur inférieure

à la pression atmosphérique.

12 Dispositif selon la revendication 10, caractérisé en ce que les moyens de pompe sont adaptés en liaison avec les moyens d'aspiration, pour maintenir la pression à l'intérieur de l'enceinte à une valeur supérieure à la

pression atmosphérique.

13 Dispositif selon la revendication 8, caractérisé en ce

que les moyens d'électrode comportent une électrode tubu-

laire ( 40) à l'intérieur de laquelle est formé un passage

de fluide se terminant par une ouverture ( 40 a) à une extré-

mité, et en ce que les moyens (d) comportent un réservoir ( 42) pour la solution d'électrodéposition et des moyens de pompe ( 41) pour aspirer cette solution du réservoir et l'amener à travers le passage tubulaire en la faisant circuler dans l'intervalle à partir de cette ouverture sous une pression non inférieure à 5 kg/cm