FR2471426A1 - PALLADIUM ELECTRODEPOSITION PROCESS AND ELECTROLYTIC BATH FOR CARRYING OUT SAID METHOD - Google Patents

PALLADIUM ELECTRODEPOSITION PROCESS AND ELECTROLYTIC BATH FOR CARRYING OUT SAID METHOD Download PDF

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FR2471426A1
FR2471426A1 FR8025971A FR8025971A FR2471426A1 FR 2471426 A1 FR2471426 A1 FR 2471426A1 FR 8025971 A FR8025971 A FR 8025971A FR 8025971 A FR8025971 A FR 8025971A FR 2471426 A1 FR2471426 A1 FR 2471426A1
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palladosamine
acid
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chloride
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Robert J Lamczyk
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Abstract

LA PRESENTE INVENTION CONCERNE UN PROCEDE D'ELECTRODEPOSITION DE PALLADIUM ET UN BAIN ELECTROLYTIQUE POUR LA MISE EN OEUVRE DE CE PROCEDE. LE BAIN SELON L'INVENTION EST UN BAIN AQUEUX DE 5 A 50GRAMMES PAR LITRE DE SEL DE PALLADOSAMINE CHOISI PARMI LE GROUPE COMPRENANT LE CHLORURE DE PALLADOSAMINE ET LE BROMURE DE PALLADOSAMINE, DE 100 A 150GRAMMES PAR LITRE D'ACIDE SULFAMIQUE ET DE 10 A 150GRAMMES PAR LITRE DE CHLORURE D'AMMONIUM. LEDIT BAIN A UN PH COMPRIS ENTRE 6,5 A 10,0. LES REVETEMENTS OBTENUS SONT EN PARTICULIER UTILISABLES POUR REVETIR DES ELEMENTS DE CONTACT ELECTRIQUE.THE PRESENT INVENTION CONCERNS A PROCESS FOR ELECTRODEPOSITION OF PALLADIUM AND AN ELECTROLYTIC BATH FOR IMPLEMENTING THIS PROCESS. THE BATH ACCORDING TO THE INVENTION IS A WATER BATH OF 5 TO 50GRAMS PER LITER OF PALLADOSAMINE SALT CHOSEN FROM THE GROUP INCLUDING PALLADOSAMINE CHLORIDE AND PALLADOSAMINE BROMIDE, FROM 100 TO 150GRAMS PER LITER OF SULFAMIC ACID AND 10 PER LITER OF AMMONIUM CHLORIDE. LEDIT BATH HAS A PH INCLUDED BETWEEN 6.5 TO 10.0. THE COATINGS OBTAINED CAN BE USED IN PARTICULAR FOR COATING ELECTRIC CONTACT ELEMENTS.

Description

1.1.

2471 4262471,426

La présente invention concerne des perfectionnements relatifs au procédé d'électrodéposition de palladium sur un substrat métallique, et des formes de mise en oeuvre préférées du procédé d'électrodéposition de palladium sur des  The present invention relates to improvements relating to the palladium electrodeposition process on a metal substrate, and to preferred embodiments of the palladium electrodeposition process on

surfaces de contact électrique.electrical contact surfaces.

Les surfaces de contract électrique doivent présenter une résistance électrique faible et stable. Cette caractéristique s'obtient généralement par la réalisation de contacts à base de matériaux ayant ces caractéristiques de faible résistance et de grande stabilité, ou par la fabrication de contacts en un métal  Electric contract surfaces must have a low and stable electrical resistance. This characteristic is generally obtained by the production of contacts based on materials having these characteristics of low resistance and high stability, or by the manufacture of metal contacts.

de base et plaqués par un revêtement d'un matériau conducteur stable.  base and plated with a coating of a stable conductive material.

L'or ainsi que les autres métaux nobles satisfont les exigences en ma-  Gold and other noble metals meet the requirements of

tière de contact électrique, de stabilité et de faible résistance. Les revête-  electrical contact, stability and low resistance. The coats

ments d'or sont généralement résistants à l'oxydation, à la formation de sulfure  gold are generally resistant to oxidation, sulphide

et aux autres réactions chimiques qui risquent de diminuer leur résistance élec-  and other chemical reactions that may reduce their electrical resistance

trique. Toutefois, du fait que l'or est un matériau précieux et coûteux, il est  cudgel. However, because gold is a valuable and expensive material, it is

préférable de trouver un matériau de revêtement différent.  better to find a different coating material.

C'est ainsi qu'on a proposé d'utiliser du palladium déposé par électro-  Thus, it has been proposed to use palladium deposited by electro-

déposition sur un substrat métallique, pour obtenir les caractéristiques souhai-  deposited on a metal substrate, to obtain the desired characteristics

tées. Toutefois, on s'est aperçu que les revêtements de palladium, produits par différents procédés d'électrodéposition connus, souffrent d'un nombre important d'inconvénients. Pour beaucoup d'applications, en particulier pour obtenir un revêtement de contacts électriques, il est essentiel que le palladium soit non poreux. Les porosités et les fissures du revêtement permettent la pénétration de matières étrangères à travers la couche, pour atteindre finalement le support lui-même. Ceci entraîne un ternissement et une corrosion attaquant à la fois la couche de palladium et le métal de base, ce qui modifie les caractéristiques de  Tees. However, it has been found that palladium coatings, produced by various known electrodeposition processes, suffer from a significant number of disadvantages. For many applications, particularly to obtain a coating of electrical contacts, it is essential that the palladium is non-porous. The porosities and cracks in the coating allow foreign matter to penetrate the layer, eventually reaching the support itself. This results in tarnishing and corrosion attacking both the palladium layer and the base metal, which modifies the characteristics of

conductivité électrique et détériore le contact. L'un des inconvénients impor-  electrical conductivity and deteriorates the contact. One of the major disadvantages

tants des procédés de l'art antérieur pour l'électrodéposition de palladium ré-  process of the prior art for the plating of palladium

side dans le fait qu'ils étaient incapables d'aboutir à une couche de palladium  side in the fact that they were unable to result in a palladium layer

non poreuse.non-porous

Les revêtements de palladium, appliqués par électrodéposition sur un substrat de base tels qu'ils étaient obtenus par les procédés connus, n'ont pas  Palladium coatings applied by electroplating on a base substrate as obtained by known methods have not

donné satisfaction pour bien d'autres raisons encore. Certains procédés d'élec-  satisfied for many other reasons. Some processes of elec-

trodéposition sont lents et aboutissent à des revêtements inégauxcontraints et important une grande quantité d'hydrogène en occlusion, ce qui tend à craqueler  trodéposition are slow and lead to uneven coatings constraint and important a large amount of hydrogen in occlusion, which tends to crack

et peler la surface, en particulier lorsque le revêtement est utilisé comme con-  and peel the surface, especially when the coating is used as a

tact électrique. D'autres procédés de l'art antérieur sont mauvais à cause de leur faible rendement. Certains bains sont difficiles à régénérer lorsqu'ils sont contaminés, d'autres ont un faible pouvoir de dépôt et d'autres sont trop sensibles et nécessitent une densité de courant extrêmement réduite et/ou une  electrical tact. Other methods of the prior art are bad because of their poor performance. Some baths are difficult to regenerate when contaminated, others have low deposition and others are too sensitive and require extremely low current density and / or

concentration d'ions de palladium très réduite.  very low palladium ion concentration.

2. Finalement, les techniques connues pour effectuer l'électrodéposition de palladium produisent des vapeurs nocives, de sorte que le traitement est  2. Finally, known techniques for effecting palladium electroplating produce noxious fumes, so the treatment is

obligatoirement effectué sous des hottes à vide. La ventilation n'est pas seu-  must be done under vacuum hoods. Ventilation is not only

lement gênante, mais augmente le coût de l'opération. D'autre part, la présence d'un volume important de vapeur désagréable et nocive crée un environnement dé-  annoying, but increases the cost of the operation. On the other hand, the presence of a large volume of unpleasant and harmful vapor creates a deceptive environment.

sagréable et engendre des problèmes de santé et de sécurité.  sane and causes health and safety problems.

Une solution électrolytique connue, dégageant d'importantes vapeurs d'am-  A known electrolytic solution, giving off important vapors of amines

moniac, est décrite dans le brevet américain n0 3,920,526. La solution décrite dans ce brevet comporte du chlorure de palladosamine, du chlorure d'ammonium et de l'ammoniac en solution aqueuse. Une autre solution électrolytique est décrite  moniac, is described in US Patent No. 3,920,526. The solution described in this patent comprises palladosamine chloride, ammonium chloride and ammonia in aqueous solution. Another electrolytic solution is described

dans le brevet américain n0 3,925,170; elle comporte un composé de palladium so-  in U.S. Patent No. 3,925,170; it comprises a compound of palladium

luble et un électrolyte soluble tel que le sulfanate d'ammonium. Lorsque ces so-  luble and a soluble electrolyte such as ammonium sulfanate. When these

lutions sont utilisées pour l'électrodéposition, elles dégagent des quantités importantes d'ammoniac gazeux, de sorte que les solutions deviennent plus acides, ce qui nécessite un contrôle continu et une addition permanente d'une base telle que l'hydroxyde d'ammonium. Lorsqu'elles sont contaminées, ces solutions peuvent  The solutions are used for electrodeposition, they release large quantities of gaseous ammonia, so that the solutions become more acidic, which requires continuous monitoring and permanent addition of a base such as ammonium hydroxide. When contaminated, these solutions may

difficilement être régénérées.difficult to regenerate.

Les bains électrolytique aqueux de la présente invention ont l'avantage de ne dégager que très peu de vapeur d'ammoniac ou autre vapeur indésirable, et ne nécessitent de ce fait aucune installation de ventilation. Les revêtements  The aqueous electrolyte baths of the present invention have the advantage of releasing very little ammonia vapor or other undesirable vapor, and thus do not require any ventilation facility. Coatings

de palladium électrodéposé à partir de cette solution ont différentes proprié-  of palladium electrodeposited from this solution have different properties

tés chimiques et physiques, qui sont appréciées dans un grand nombre d'applica-  both physical and chemical, which are appreciated in a large number of applications.

tions, en particulier pour le revêtement de contracts électriques. Ainsi les  particularly for the coating of electrical contracts. So the

revêtements ne sont pas poreux, sont ductiles et bien adhérents. La force de dif-  coatings are not porous, are ductile and well adherent. The strength of

fusion de ce bain électrolytique est excellente, et l'électrodéposition peut être effectuée pour un grand éventail de densitésdecourant et de concentrations  melting of this electrolytic bath is excellent, and electroplating can be performed for a wide range of current densities and concentrations

ioniquesde palladium. Finalement, ces bains, contaminés au cours d'une utilisa-  ionic palladium. Finally, these baths, contaminated during a

tion régulière, peuvent être régénérés facilement et de façon peu coûteuse.  regularly, can be regenerated easily and inexpensively.

Un autre avantage important de la présente invention réside dans le fait que ces bains ne nécessitent pas d'apport complémentaire comne c'était le cas pour les bains connus. Ces additifs étaient utilisés dans l'art antérieur pour contrôler la porosité, les fissures, les tensions, l'adhérence et d'autres  Another important advantage of the present invention lies in the fact that these baths do not require additional supply as was the case for known baths. These additives were used in the prior art to control porosity, cracks, tensions, adhesion and other

caractéristiques des revêtements. Malheureusement, en plus des dépenses occasion-  characteristics of the coatings. Unfortunately, in addition to the expenses

nées par l'utilisation de ces additifs, on a constaté qu'ils étaient souvent in-  the use of these additives, it has been found that they are often

compatibles avec le palladium, entraînant des défauts de conductivité ou engen-  compatible with palladium, resulting in conductivity or

drant un excès en ce qui concerne l'une des caractéristiques, par exemple la duc-  an excess as regards one of the characteristics, for example, the

tilité, tout en diminuant certaines autres caractéristiques telles que l'adhé-  tility, while decreasing certain other characteristics such as

rence. Tous ces défauts ont été supprimés par la suppression des additifs qui ne  ence. All these defects have been removed by the removal of additives that do not

sont plus nécessaires dans le cadre de la présente invention.  are more necessary in the context of the present invention.

C'est pourquoi la présente invention se propose de réaliser un bain élec-  This is why the present invention proposes to carry out an electric bath.

3.3.

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trolytique aqueux permettant de réaliser un dépôt rapide et uniforme de palla-  aqueous trolytic material for rapid and uniform deposition of palladium

dium ayant les caractéristiques appréciées de brillant, de faible résistance électrique, de bonne ductilité, de faible contrainte, une absence de fissures et de porosités, une faible occlusion d'hydrogène et une bonne adhérence, cette solution dégageant en outre très peu d'ammoniac gazeux ou d'autres vapeurs indé-  dium having the preferred characteristics of gloss, low electrical resistance, good ductility, low stress, absence of cracks and porosities, low hydrogen occlusion and good adhesion, this solution also releasing very little ammonia gaseous or other inde-

sirables en cours d'utilisation.sirables in use.

D'autres avantages apparaîtront à la description d'exemples de réa-  Other advantages will appear in the description of examples of

lisation préférés.lisation preferred.

La bain électrolytique aqueux selon la présente invention comporte les composés suivants a chlorure de palladosamine (Pd(NH3)2C12), de l'acide  The aqueous electrolytic bath according to the present invention comprises the following compounds with palladosamine chloride (Pd (NH 3) 2 Cl 2), acid

sulfamique (HS03NH2), et du chlorure d'ammonium (NH4Cl). Le chlorure de pal-  sulphamic acid (HS03NH2), and ammonium chloride (NH4Cl). Palmar chloride

ladosamine peut également être remplacé par du bromure de palladosamine bien  ladosamine can also be replaced by good palladosamine bromide

que cette deuxième solution soit moins avantageuse sur la plan économique.  that this second solution is less advantageous economically.

Les concentrations des différents composants contenus dans le bain  The concentrations of the various components contained in the bath

peuvent être variés entre certaines limites. Les degrés de concentration pré-  can be varied between certain limits. The degrees of concentration

férés sont les suivants: chlorure ou bromire de palladosamine 5-50 gpl (grammes par litre de H20) acide sulfamique 10-150 gpl  The following are the following: pallarsamine chloride or bromine 5-50 lpg (grams per liter of H20) sulphamic acid 10-150 lpg

chlorure d'ammonium 10-150 gpl.ammonium chloride 10-150 gpl.

D'autre part, le bain a de préférence un pH compris entre 6,5  On the other hand, the bath preferably has a pH of between 6.5

et 10,0, et en particulier un pH compris entre 8,0 et 9,0.  and 10.0, and in particular a pH of between 8.0 and 9.0.

Les proportions mentionnées ci-dessus sont préférées parce que si  The proportions mentioned above are preferred because if

l'on diminue la concentration en-dessous de 5 grammes par litre, le pla-  the concentration is lowered below 5 grams per liter, the

quage devient irrégulier en raison d'un diminution des ions de palladium.  quage becomes irregular due to a decrease in palladium ions.

D'autre part, lorsque la limite supérieure préférée de 50 grammes par litre de sel de palladosamine est dépassée, il se forme des dépôts excessifs peu économiques. En outre, des dépôts brûlés sombres apparaîtront et le pouvoir de dispersion de la solution sera diminuée. Le processus d'électrodéposition  On the other hand, when the preferred upper limit of 50 grams per liter of palladosamine salt is exceeded, excessive uneconomic deposits are formed. In addition, dark burned deposits will appear and the dispersion power of the solution will be decreased. The electrodeposition process

ainsi que la couche déposée elle-même seront affectés si le chlorure d'am-  as well as the deposited layer itself will be affected if the chloride of am-

monium ou l'acide sulfamique ont des concentrations dépassant les limites indiquées. Selon une forme de réalisation encore davantage appréciéé, le sel de palladosamine aura une concentration de l'ordre de 30 à 40 grammes par  monium or sulphamic acid have concentrations exceeding the limits indicated. According to a still more preferred embodiment, the palladosamine salt will have a concentration of the order of 30 to 40 grams per

litre. La quantité d'ions de palladium à cette concentration assure une bon-  liter. The amount of palladium ions at this concentration ensures a good

ne densité de courant et par conséquent des caractéristiques de revêtement idéales, un minimum de pertes et un excellent pouvoir de dispersion. Pour obtenir un plaquage optimal et des caractéristiques de revêtement idéales, le chlorure d'ammonium et l'acide sulfamique sont présents dans le bain à  current density and therefore ideal coating characteristics, minimum losses and excellent dispersion power. To obtain optimal plating and ideal coating characteristics, ammonium chloride and sulfamic acid are present in the bath.

raison de 40 à 60 grammes par litre. L'acide sulfamique et le chlorure d'am-  40 to 60 grams per liter. Sulfamic acid and ammonium chloride

4. monium constituent un système électrolytique double, nouveau et unique ayant une haute compatibilité avec les sels de palladosamine. Bien que les mécanismes  4. monium constitute a new, unique double electrolytic system with high compatibility with palladosamine salts. Although the mechanisms

chimiques et physiques permettant l'électrodéposition à partir de bains élec-  chemical and physical processes for electroplating from electrical baths

trostatiques aqueux ne soient pas parfaitement compris, ce système électro-  aqueous trostatics are not perfectly understood, this electro-

lytique double, combiné au sel de palladosamine,permet d'obtenir un bain électro-  double lytic, combined with the salt of palladosamine, makes it possible to obtain an

lytique ayant une excellente conductivité et un pouvoir de dispersion suscep-  lytic material with excellent conductivity and dispersal

tible de déposer rapidement et avec efficacité des films de palladium ayant  able to deposit palladium films quickly and efficiently

de remarquables propriétés physique et chimiques.  remarkable physical and chemical properties.

La présente solution électrolytique aqueuse-s'obtient de la façon suivante:  The present aqueous electrolyte solution is obtained as follows:

1) le chlorure de palladosamine en poudre est dissout dans une solu-  1) the palladosamine chloride powder is dissolved in a solution

tion aqueuse d'hydroxide d'ammonium (NH40H.H20 dans les proprotions 1:1 en poids).  aqueous ammonium hydroxide (NH 4 OH: H 2 O in 1: 1 by weight).

2) chlorure d'ammonium aqueux additionné à la solution précédente.  2) aqueous ammonium chloride added to the previous solution.

3) acide sulfamique aqueux additionné à la solution obtenue après  3) aqueous sulfamic acid added to the solution obtained after

l'étape 2).step 2).

4) de l'hydroxide d'ammonium ou de l'acide sulfamique sont ajoutés en quantité suffisante pour amener le pH entre 6,5 et 10,0 ou de préférence  4) Ammonium hydroxide or sulfamic acid is added in sufficient quantity to bring the pH between 6.5 and 10.0 or preferably

entre 8,0 et 9,0.between 8.0 and 9.0.

Le bain électrolytique aqueux est utilisable en liaison avec des systèmes conventionnels pour obtenir un revêtement de palladium sur des pièces usinées à base métallique. Le substrat métallique peut être réalisé en n'importe  The aqueous electrolytic bath can be used in conjunction with conventional systems to obtain a palladium coating on metal-based machined parts. The metal substrate can be made in any

quel matériau conducteur ou en n'importe quel métal qui n'influence pas de fa-  which conductive material or any metal that does not influence the

çon impropre le bain électrolytique, ces bases métalliques étant le nickel, le cuivre, les alliages en cuproberyllium, le laiton, le phosphore-bronze,  improper electrolytic bath, these metal bases being nickel, copper, cuproberyllium alloys, brass, phosphor-bronze,

l'acier inoxydable, le fer doux, l'argent et similaires. En général, avant l'o-  stainless steel, soft iron, silver and the like. In general, before

pération de plaquage, la pièce usinée doit être nettoyée et activée par trempage dans un acide qui supprime la surface oxydée, pour permettre une bonne adhérence du palladium. Additionnellement, la surface est préplaquée à l'aide d'une trace de palladium ou d'un autre métal pour accroître encore l'adhérence et supprimer  In the case of plating, the workpiece must be cleaned and activated by soaking in an acid which removes the oxidized surface, to allow good adhesion of the palladium. Additionally, the surface is pre-plastered with a trace of palladium or other metal to further increase adhesion and remove

ou minimiser la corrosion due au couplage direct entre le revêtement de pal-  or minimize corrosion due to direct coupling between the

ladium et la base métallique. La couche de base est obtenue par un filmmétal-  ladium and the metal base. The base layer is obtained by a metal film

lique très fin qui protège également la base métallique des attaques du bain électrolytique concentré, ce qui engendrerait une contamination du bain. Une telle couche de base au palladium peut aisément être obtenue en soumettant la  It is a very thin layer that also protects the metal base from the attacks of the concentrated electrolytic bath, which would lead to contamination of the bath. Such a palladium base layer can easily be obtained by subjecting the

pièce usinée à l'électrodéposition dans un bain à très faible concentration.  workpiece machined in a very low concentration bath.

Après le nettoyage, l'activation et, le cas échéant, le préplaquage, la pièce usinée est immergée dans le présent bain électrolytique. Le bain peut être maintenu sous agitation à une température allant de 15 à 550C (60-1301F) et de préférence à une température comprise entre 18,3 et 40, 60C (65-1050F), 5.  After cleaning, activation and, if necessary, pre-plating, the machined part is immersed in the present electrolytic bath. The bath can be stirred at a temperature of from 15 to 60 ° C (60 ° -131 ° F) and preferably at a temperature of 18.3 to 40 ° C (65 ° -1050 ° F).

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de façon à obtenir le meilleur équilibre entre les caractéristiques du revê-  in order to obtain the best balance between the characteristics of the coating

tement, la vitesse de plaquage et l'évaporation du bain.  the plating speed and evaporation of the bath.

On applique ensuite une tension entre une cathode constituée par la pièce usinée immergée dans le bain, et une-anode inerte par exemple en titane plaquée au platine ou en tantale ou en tout autre matériau adéquat. Ce potentiel est appliqué soit en continu soit sous forme d'impulsions pendant un temps total suffisant pour produire un revêtement ayant l'épaisseur souhaitée. En général ces épaisseurs vont de 25,4"/ (1 micropouce) à 5,08 mm (200 micropouces) ou plus. On peut également obtenir des revêtements moins épais, mais ceux-ci ont tendance à devenir poreux. Finalement, on peut également obtenir des revêtements  A voltage is then applied between a cathode constituted by the machined part immersed in the bath, and an inert anode, for example titanium plated platinum or tantalum or any other suitable material. This potential is applied either continuously or as pulses for a total time sufficient to produce a coating having the desired thickness. In general, these thicknesses range from 25.4 "/ (1 microinch) to 5.08 mm (200 microinches) or more, although thinner coatings can be obtained, but these tend to become porous. also get coatings

de palladium par couches successives dans le but d'obtenir une meilleure orien-  of palladium in successive layers in order to obtain a better

tation cristalline. Le temps de traitement est lié à la densité de courant qui peut être de l'ordre de 1 à 100 ampères par pied au carré (1 à 100 milliampères par cm2). De préférence, cette densité sera comprise entre 5 et 50 ampères par  crystal formation. The treatment time is related to the current density which can be of the order of 1 to 100 amperes per square foot (1 to 100 milliamperes per cm 2). This density will preferably be between 5 and 50 amperes per

pied au carré pour plaquer un cadre, 3 à 15 ampères par pied au carré pour pla-  feet to square a frame, 3 to 15 amperes per square foot to place

quer une pièce cylindrique et 5 à 100, 300 ou plus ampères par pied au carré pour effectuer un plaquage sélectif. Lorsque l'épaisseur désirée est atteinte, la pièce usinée est retirée du bain et rincée0 Au cours du processus d'électrodéposition, le pH croit généralement faiblement. En conséquence il devient nécessaire de rajouter de l'acide pour  Make a cylindrical piece and 5 to 100, 300 or more amps per foot squared to perform selective plating. When the desired thickness is reached, the machined part is removed from the bath and rinsed. During the electrodeposition process, the pH generally increases slightly. As a result, it becomes necessary to add acid to

maintenir le pH à la valeur requise. Ceci représente une caractéristique parti-  maintain the pH at the required value. This represents a particular characteristic

culièrement importante de la présente invention, du fait que les vapeurs nocives d'ammoniac se produisant pratiquement avec tous les bains de l'art antérieur, sont éliminés. Bien entendu, la concentration en palladium diminue également au cours du procédé. Il faut par conséquent rajouter du sel de palladosamine en  of the present invention, since the harmful ammonia vapors occurring substantially with all prior art baths are removed. Of course, the concentration of palladium also decreases during the process. It is therefore necessary to add palladosamine salt in

quantité suffisante pour maintenir la concentration de sels à la valeur requise.  sufficient to maintain the salt concentration at the required value.

Les bains électrolytiques usés pour l'électrodéposition de palladium ou d'autres revêtements métalliques ont tendance à se contaminer.au cours de leur utilisation. Les agents contaminants proviennent des surfaces plaquées du matériel de remplissage, des récipients et d'autres ustensiles utilisés. La  Electrolytic baths used for the plating of palladium or other metallic coatings tend to become contaminated during their use. The contaminants come from the plated surfaces of the filling equipment, containers and other utensils used. The

présence d'agents contaminants dans les bains, même en quantité. mineure, est in-  presence of contaminants in the baths, even in quantity. minor, is

désirable du fait que ces agents tendent à se déposer en même temps que le pal-  desirable because these agents tend to deposit together with the pallet

ladium et produisent des revêtements impurs. Par conséquent, il est très im-  ladium and produce impure coatings. Therefore, it is very important

portant de disposer de moyens simples et économiques pour régénérer ou purifier  carrying simple and economical means to regenerate or purify

les bains électrolytiques contaminés.  contaminated electrolytic baths.

Dans l'art antérieur, il était en général à la fois difficile et  In the prior art, it was generally both difficult and

coûteux de procéder à la régénération des bains de plaquage électrolytique.  expensive to proceed with the regeneration of electroplating baths.

Ceci était dû partiellement à la difficulté qu'on avait de pouvoir disposer de composants métalliques à l'état pur. Ces bains devaient dans la  This was partly due to the difficulty of having pure metal components available. These baths had to

plupart des cas être soumis à un procédé de purification long et complexe.  most cases be subjected to a long and complex purification process.

6.6.

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Contrairement à ces techniques de l'art antérieur, le bain électroly-  In contrast to these techniques of the prior art, the electrolytic bath

tique de la présente invention peut être régénéré d'une façon extrêmement ra-  of the present invention can be regenerated in an extremely short way.

pide et économique. Du fait que les additifs habituellement indispensables dans les bains de l'art antérieur ne sont pas nécessaires dans le présent cas, les additifs ne se perdent donc pas au cours de la régénération du bain. On a constaté, par exemple, que la contamination de bains électrolytiques aqueux initialement préparés selon le principe de l'invention et contenant des sels de palladosamine, de l'acide sulfamique et du chlorure d'ammonium ainsi que  pide and economic. Because the additives usually required in the baths of the prior art are not necessary in this case, the additives are not lost during the regeneration of the bath. It has been found, for example, that the contamination of aqueous electrolytic baths initially prepared according to the principle of the invention and containing salts of palladosamine, sulphamic acid and ammonium chloride as well as

des quantités mineures de différents agents contaminants, peuvent être régé-  minor amounts of different contaminants can be regu-

l0 nérés comme suit:10 as follows:

1) ajuster le pH du bain contaminé à environ 3,0 à 5,0 pour préci-  1) adjust the pH of the contaminated bath to approximately 3.0 to 5.0 to

piter le sel de palladosamine et dissoudre les contaminants qui peuvent con-  the palladosamine salt and dissolve contaminants that may

tenir par exemple du cuivre, du zinc et de l'étain ainsi que différents composés de ces éléments. Du fait que le bain se trouve généralement à un pH supérieur à 6,0, antérieurement à la régénération, on a constaté que l'on peut utiliser soit l'acide sulfamique soit l'acide chlorhydrique pour abaisser le pH à sa valeur souhaitée. L'acide sulfamique est préféré dans cette application, du fait que l'acide chlorhydrique risque d'amener un excès de chlorure dans  for example, hold copper, zinc and tin and various compounds of these elements. Since the bath is generally at a pH above 6.0 prior to regeneration, it has been found that either sulfamic acid or hydrochloric acid can be used to lower the pH to its desired value. Sulfamic acid is preferred in this application because hydrochloric acid may cause excess chloride in

le bain qui peut engendrer des contraintes dans le revêtement de palladium.  the bath that can cause stress in the palladium coating.

2) on filtre le bain dont le pH a été ajusté pour séparer le sel précipité du filtrat contenant les agents contaminants dissous. On rince le  2) The pH adjusted bath is filtered to separate the precipitated salt from the filtrate containing dissolved contaminants. We rinse it

sel précipité restant.precipitated salt remaining.

3) le sel de palladium précipité qui est de loin le composé le plus coOteux du bain, peut ensuite être redissous dans une solution alcaline tel  3) the precipitated palladium salt, which is by far the most expensive compound in the bath, can then be redissolved in an alkaline solution such as

que l'hydroxide d'ammonium aqueux, solution contenant de l'hydroxide d'am-  aqueous ammonium hydroxide, a solution containing amide hydroxide

monium et de l'eau dans le rapport 1:1. L'acide sulfamique et le chlorure d'ammonium peuvent ensuite être ajoutés pour former un bain de plaquage  monium and water in the ratio 1: 1. Sulfamic acid and ammonium chloride can then be added to form a plating bath

électrolytique régénéré.electrolytic regenerated.

La présente invention a été décrite de façon générale, pour compléter  The present invention has been described generally, to complete

différents exemples seront décrits ci-dessous plus en détail.  different examples will be described below in more detail.

Exemple 1.Example 1

L'efficacité de l'électrodéposition à partir d'un bain électroly-  The efficiency of electroplating from an electrolytic bath

tique préparé selon le procédé de l'invention, a été comparé à celle d'un bain de palladium disponible dans le commerce et à celle du plaquage de cuivre  prepared according to the process of the invention has been compared with that of a commercially available palladium bath and that of copper plating.

à partir d'un bain de sulfate de cuivre. Des panneaux de laiton ont été sus-  from a bath of copper sulphate. Brass panels were raised

pendus dans des cellules d'électrodéposition traversés par un courant de 1,0 ampère, ce qui correspond à une densité de courant de l'ordre de 15 ampères  hanged in electrodeposition cells crossed by a current of 1.0 amps, which corresponds to a current density of the order of 15 amperes

par pied au carré.per foot squared.

On a utilisé un bain (bain A) consistant en 18 gpl (grammes par litre de H20) de palladium sous forme-de Pd(NH3)2ci2  A bath (bath A) consisting of 18 gpl (grams per liter of H 2 O) of palladium in the form of Pd (NH 3) 2 Cl 2 was used.

24 71 42624 71 426

gpl de chlorure d'ammonium gpl d'acide sulfamique pH ajusté à 8,5 à l'aide d'hydroxide d'ammonium ou d'acide sulfamique  gpl of ammonium chloride gpl of sulphamic acid pH adjusted to 8.5 using ammonium hydroxide or sulphamic acid

(température maintenue aux environs de 23 C (74 F).  (temperature maintained around 23 C (74 F).

Le bain commercial utilisé était du Palladure 100 (bain B) qui est vendu par Lea Ronal. Du fait que l'efficacité est de 100% pour du sulfate de cuivre dans des conditions d'opération appropriées, un bain standard de sulfate de cuivre (bain C) a été utilisé pour confirmer la justesse des résultats des tests. Les résultats obtenus sont résumés ci-dessous Bain A Durée 1(5 minutes) Durée 2(4,5 minutes)  The commercial bath used was Palladure 100 (bath B) which is sold by Lea Ronal. Since the efficiency is 100% for copper sulphate under appropriate operating conditions, a standard copper sulphate (bath C) bath was used to confirm the accuracy of the test results. The results are summarized below. Bath A Duration 1 (5 minutes) Duration 2 (4.5 minutes)

Plaquage Pd effectif 1,9956 g/amp-hr. 1,963 g/amp-hr.  Effective Pd plating 1,9956 g / amp-hr. 1.963 g / amp-hr.

Plaquage Pd escompté 1,990 g/amp-hr. 1,990 g/amp-hro Efficacité 100% 98, 6% Bain B  Pd plating expected 1,990 g / amp-hr. 1,990 g / amp-hro Efficiency 100% 98, 6% Bath B

Plaquage Pd effectif 1,4316 g/amp-hr. 1,430 g/amp-hr.  Effective Pd plating 1.4316 g / amp-hr. 1.430 g / amp-hr.

Plaquage Pd escompté 1,990 g/amp-hr. 1,990 g/amp-hr.  Pd plating expected 1,990 g / amp-hr. 1.990 g / amp-hr.

Efficacité 71,9% 71,8% Bain C (standard)  Efficiency 71.9% 71.8% Bath C (standard)

Plaquage Cu effectif 1,1976 g/amp-hr. 1,192 g/amp-hr.  Effective Cu plating 1,1976 g / amp-hr. 1.192 g / amp-hr.

Plaquage Cu escompté 1,186 g/amp-hr. 1,186 g/amp-hr.  Cu plating expected 1,186 g / amp-hr. 1.186 g / amp-hr.

Efficacité 101,0% 100,5% Les résultats des tests mentionnées ci-dessus prouvent qu'on peut atteindre une grande efficacité avec les bairs selon l'invention. Cette efficacité  Efficiency 101.0% 100.5% The results of the tests mentioned above prove that one can reach a high efficiency with the bairs according to the invention. This efficiency

est comparable à celle obtenue pour un bain de sulfate de cuivre idéal et d6-  is comparable to that obtained for an ideal copper sulphate bath and

passe de loin celle obtenue avec le Palladure 100 disponible commercialement.  far from that obtained with the Palladure 100 commercially available.

Exemple 2.Example 2

Dans ce test on a évalué la variation du pH des bains préparés  In this test the pH variation of the prepared baths was evaluated

selon le procédé de l'invention au cours d'une opération d'électrodéposition.  according to the process of the invention during an electroplating operation.

On a préparé quatre bains de 275 ml dont la composition est la suivante: 18 gpl (grammes par litre de H20)de palladium sous forme de Pd(NH3)2C12 gpl de chlorure d'ammonium  Four 275 ml baths were prepared having the following composition: 18 gpl (grams per liter of H 2 O) of palladium as Pd (NH 3) 2 Cl 2 gpl of ammonium chloride

50 gpl d'acide sulfamique.50 lg of sulfamic acid.

Les Ph de départ des bains étaient ajustés à 7,0, 8,0, 9,0 et 10,0.  The starting pH of the baths were adjusted to 7.0, 8.0, 9.0 and 10.0.

Le plaquage a été effectué sur des plaques de laiton disposées dans les cel-  The plating was carried out on brass plates arranged in the

lules d'électrodéposition maintenues à une température de l'ordre de 23 C (74 F.  electroplating units maintained at a temperature of the order of 23 C (74 F.

Le courant appliqué à chacune des cellules pendant 5 mn était de un ampère et  The current applied to each of the cells for 5 minutes was an ampere and

le pH a été mesuré après le traitement.  pH was measured after treatment.

8. Les résultats obtenus apparaissent sur la figure 1. L'examen de ces résultats montrent que lorsqu'on fait l'électrodéposition à partir d'un bain dont le pH est de 7,0 ou 8,0, ce pH augmente quelque peu, ce qui nécessite ureaddition d'acide. Pour un pH de 9,0 aucun changement n'est détecté. Pour un pH de 10,0, celui-ci décroît quelque peu, ce qui demande une addition mineure d'une base. Les revêtements obtenus par des bains de pH supérieur à 10,0 sont  8. The results obtained are shown in Figure 1. Examination of these results shows that when electroplating from a bath with a pH of 7.0 or 8.0, this pH increases somewhat. , which requires ureaddition of acid. For a pH of 9.0 no change is detected. For a pH of 10.0, it decreases somewhat, which requires a minor addition of a base. Coatings obtained by baths with pH greater than 10.0 are

généralement peu satisfaisants.generally unsatisfactory.

Exemple 3.Example 3

La nature des revêtements de palladium obtenus à partir de bains îa préparés selon le procédé de l'invention a été examinée comme suit. Un panneau de laiton a été suspendu dans un récipient pouvant contenir 2000 ml contenant 1500 ml du bain A correspondant à l'exemple 1. Le panneau a été traité sous un  The nature of the palladium coatings obtained from baths prepared by the process of the invention was examined as follows. A brass panel was suspended in a container containing 2000 ml containing 1500 ml of bath A corresponding to Example 1. The panel was treated under a

courant de 60 ampères-minutes, après quoi on a mjouté du palladium sous la for-  current of 60 amperes-minutes, after which palladium was added under the

me Pd(NH3)2C12 pour amener la concentration de palladium à 18 grammes par litre.  me Pd (NH3) 2C12 to bring the palladium concentration to 18 grams per liter.

On a également rajouté de l'acide sulfamique pour ramener le pH à 8,5. L'électro-  Sulfamic acid was also added to bring the pH back to 8.5. The electro-

déposition a été effectuée pendant une durée de quatre heures sous un courant  deposition was carried out for a period of four hours under a current

de un ampère, ce qui correspond à une densité de courant de l'ordre de 15 am-  an ampere, which corresponds to a current density of around 15 amps.

pères par pied au carré.fathers per foot squared.

Le panneau plaqué a ensuite été retiré et examiné. Contrairement  The veneered panel was then removed and examined. In contrary

aux prévisions basées sur les résultats obtenus à l'aide de bains électro-  predictions based on the results obtained with the help of electronic baths.

lytiques du commerce, les bords du panneau présentaient très peu de rugosités  commercial lytic, the edges of the panel showed very little roughness

ou d'irrégularités. Le panneau a été pesé avant et après l'opération de pla-  or irregularities. The panel was weighed before and after the

quage, et on constaté que dix grammes de palladium ont été déposés. Le panneau s'est légèrement incurvé ce qui implique une légère tension due à la couche de  quage, and found that ten grams of palladium were deposited. The panel has slightly curved which implies a slight tension due to the layer of

plaquage.plating.

Le pH final du bain électrolytique a été de 8,9. Compte tenu de  The final pH of the electrolytic bath was 8.9. Given

l'important dépôt réalisé, la faible modification de l'ordre deO,4 du pH il-  the important deposit made, the slight modification of the order of 0, 4 of the pH

lustre une caractéristique très importante du bain selon l'invention.  luster a very important feature of the bath according to the invention.

Ensuite on a découpé le panneau en bandes, on a poli la tranche de ces bandes et on a examiné la couche de palladium déposée, en constatant qu'elle était particulièrement régulière. On a soumis la couche à un test de  Then the panel was cut into strips, the slice of these strips was polished and the deposited palladium layer was examined, finding that it was particularly regular. The layer was subjected to a test of

dureté et on a constaté que celle-ci était suffisante pour permettre la réa-  hardness and it was found that it was sufficient to

lisation de contacts électriques. L'examen microscopique a permis de constater  electrical contacts. Microscopic examination revealed

que la structure était fine et exempte d'inclusions.  that the structure was fine and free of inclusions.

Dans ce cas particulier, une partie du panneau a été immergée dans une solution d'acide nitrique à 25% pour dissoudre le laiton. La feuille de palladium résiduelle-avait une épaisseur de 0,076 à 0,127 mm (0,003-0,005 pouces), et était extrêmement flexible. On a procédé à une analyse de cette 39 feuille et on a constaté qu'elle contenait: 9. Cuivre 0,9% Zinc trace Etain trace Argent 0,03%D Palladium le restant.  In this particular case, part of the panel was immersed in a 25% nitric acid solution to dissolve the brass. The residual palladium sheet had a thickness of 0.076 to 0.127 mm (0.003-0.005 inches), and was extremely flexible. This sheet was analyzed and found to contain: 9. Copper 0.9% Zinc trace Tin trace Silver 0.03% D Palladium the remainder.

Cette analyse montre que le revêtement de palladium obtenu est ex-  This analysis shows that the palladium coating obtained is ex-

trêmement pur, ce qui constitue une des caractéristiques hautement souhaitée  extremely pure, which is one of the highly desirable characteristics

pour bien des applications, entre autres celle consistant à réaliser un re-  for many applications, including the

vêtement de contacts électriques.clothing of electrical contacts.

Les exemples décrits en détail ci-dessus illustrent les caracté-  The examples described in detail above illustrate the characteristics of

ristiques du bain selon l'invention. Le bain lui-même ne nécessite aucun ad-  of the bath according to the invention. The bath itself does not require any

ditif pour permettre d'obtenir des revêtements parfaits de palladium. Ce bain ne pose que peu de problèmes puisqu'il est pratiquement insensible aux petites variations de concentration de palladium,de Ph et de température. Il ne dégage pas de vapeur d'ammoniac ou d'autres vapeurs désagréables ou toxiques. Le bain  ditif to allow to obtain perfect coatings of palladium. This bath poses few problems since it is virtually insensitive to small variations in concentration of palladium, Ph and temperature. It does not release ammonia vapor or other unpleasant or toxic vapors. The bath

est très conducteura une grande efficacité et un grand pouvoir de dispersion.  is very conducive to great efficiency and great dispersal power.

Finalement les revêtements obtenus à partir de ce bain sont brillants, bien  Finally the coatings obtained from this bath are brilliant, well

adhérents, ductiles,exempts de porosité et de tension.  adherent, ductile, free from porosity and tension.

Bien que la présente invention ait été décrite en liaison avec des  Although the present invention has been described in connection with

exemples particuliers, elle ne se limite pas à ces exemples et peut subir dif-  particular examples, it is not limited to these examples and may be subject to different

férentes modifications bien connues de l'homme de l'art.  various modifications well known to those skilled in the art.

10.10.

Claims (10)

REVENDICATIONS 1. Bain électrolytique aqueux pour électrodéposition d'un revêtement non poreux de palladium ductile, comprenant: de 5 à 50 grammes par litre de sel de palladosamine choisi parmi le groupe comprenant le chlorure de palladosamine et le bromure de palladosamine; de 100 à 150 gr par litre d'acide sulfamique, et de 10 à 150 gr par litre de chlorure d'ammonium; ledit bain ayant un pH de 6,5 à ,0.  An aqueous electrolytic bath for electroplating a non-porous palladium-ductile coating, comprising: from 5 to 50 grams per liter of palladosamine salt selected from the group consisting of palladosamine chloride and palladosamine bromide; from 100 to 150 gr per liter of sulphamic acid, and from 10 to 150 gr per liter of ammonium chloride; said bath having a pH of 6.5 to 0. 2. Bain électrolytique selon la revendication 1, dans lequel ledit sel de palladosamine est dosé à 30 à 40 gr par litre, ledit acide sulfamique à 40 à2. An electrolytic bath according to claim 1, wherein said palladosamine salt is dosed at 30 to 40 gr per liter, said sulfamic acid at 40 to gr par litre, et ledit chlorure d'ammonium à 40 à 60 gr par litre. -  gr per liter, and said ammonium chloride at 40 to 60 gr per liter. - 3. Bain électrolytique selon la revendication 1, dont le pH est compris  3. Electrolytic bath according to claim 1, whose pH is included entre 8,0 et 9,0.between 8.0 and 9.0. 4. Bain électrolytique selon la revendication 1, contenant suffisamment  4. Electrolytic bath according to claim 1, containing sufficiently de base ou d'acide pour obtenir un pH de 8,0 à 9,0.  base or acid to obtain a pH of 8.0 to 9.0. 5. Bain électrolytique selon la revendication 4, dans lequel la base est  The electrolytic bath of claim 4, wherein the base is de l'hydroxyde d'ammonium.ammonium hydroxide. 6. Procédé d'électrodéposition d'un revêtement non poreux de palladium  6. Process for electroplating a non-porous palladium coating ductile sur une pièce usinée ayant une surface conductrice, comprenant les éta-  ductile on a machined part having a conductive surface, comprising - pes suivantes consistant à: immerger ladite pièce usinée dans un bain aqueux comprenant de 5 à 50 gr par litre de sel de palladosamine choisi parmi le groupe comprenant le chlorure de palladosamine et le bromure de palladosamine, de 10 à gr par litre d'acide sulfamique, et de 10 à 150 gr par litre de chlorure  - Pes following: immerse said machined part in an aqueous bath comprising from 5 to 50 gr per liter of palladosamine salt selected from the group consisting of palladosamine chloride and palladosamine bromide, 10 to gr per liter of acid sulfamic acid, and from 10 to 150 gr per liter of chloride d'ammonium, ledit bain ayant un pH allant de 6,5 à 10,0; maintenir la tempéra-  ammonium, said bath having a pH ranging from 6.5 to 10.0; maintain the temperature ture de ce bain entre 15 et 55 C; appliquer un potentiel entre cette pièce usi-  this bath between 15 and 55 ° C .; apply a potential between this piece of née et une anode inerte plongée dans le bain; et retirer la pièce usinée de ce  born and an inert anode immersed in the bath; and remove the machined part of this bain.bath. 7. Procédé selon la revendication 6, dans lequel on ajoute de l'acide  The process according to claim 6, wherein the acid is added sulfamique au bain pour maintenir son pH etre 8,0 et 9,0.  sulfamic bath to maintain its pH to be 8.0 and 9.0. 8. Procédé selon la revendication 6, dans lequel ledit bain est  The method of claim 6, wherein said bath is maintenu en agitation et ledit potentiel engendre une densité de courant élec-  maintained in agitation and said potential generates an electrical current density trolytique comprise entre 1 et 100 ampères par pied au carré (1 à 100 milliam-  trolytic content of between 1 and 100 amperes per square foot (1 to pères par centimètre carré).fathers per square centimeter). 9. Procédé de régénération d'un bain électrolytique ayant un pH en excès  9. Regeneration process of an electrolytic bath having an excess pH par rapport à un pH de 6,0, et contenant de l'acide sulfamique, du chlorure d'am-  relative to a pH of 6.0, and containing sulphamic acid, ammonium chloride, monium, un sel de palladosamine appartenant au groupe comprenant le chlorure de palladosamine et le bromure de palladosamine, et au moins une quantité mineure de composants contaminants solubles en milieu acide à pH 3,0 à 5,0, comprenant les étapes suivantes consistant à: ajuster ledit bain contaminé à un pH compris entre 3,0 et 5,0 à I'aide d'un acide choisi dans le groupe comprenant de l'acide 39 sulfamique et de l'acidechlorhydrique pour précipiter le sel de palladosamine et 11.  monium, a palladosamine salt belonging to the group comprising palladosamine chloride and palladosamine bromide, and at least a minor amount of acid-soluble contaminating components at pH 3.0 to 5.0, comprising the following steps: adjusting said contaminated bath to a pH between 3.0 and 5.0 with the aid of an acid selected from the group consisting of sulfamic acid and hydrochloric acid to precipitate the palladosamine salt and 11. -1 2471426-1 2471426 pour dissoudre les composés contaminants; filtrer ledit bain ajusté pour sépa-  to dissolve the contaminating compounds; filter said bath adjusted to separate rer le sel précipité; redissoudre ledit sel précipité dans un milieu alcalin; et ajouter de l'acide sulfamique et du chlorure d'ammonium pour former un bain  salt precipitate; redissolving said precipitated salt in an alkaline medium; and add sulphamic acid and ammonium chloride to form a bath électrolytique régénéré.electrolytic regenerated. 10. Procédé selon la revendication 9, dans lequel l'acide sulfamique et  The process according to claim 9, wherein the sulfamic acid and 6 ledit milieu alcalin sont une solution aqueuse d'hydroxyde d'ammonium.  Said alkaline medium is an aqueous solution of ammonium hydroxide.
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