FI83457C - Framkallningsblandning foer exponerade, negativt arbetande reproduktionsskikt. - Google Patents

Framkallningsblandning foer exponerade, negativt arbetande reproduktionsskikt. Download PDF

Info

Publication number
FI83457C
FI83457C FI854215A FI854215A FI83457C FI 83457 C FI83457 C FI 83457C FI 854215 A FI854215 A FI 854215A FI 854215 A FI854215 A FI 854215A FI 83457 C FI83457 C FI 83457C
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
weight
mixture according
developing
acid
mixture
Prior art date
Application number
FI854215A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI83457B (fi
FI854215L (fi
FI854215A0 (fi
Inventor
Werner Frass
Gerhard Mack
Birgit Mueller
Guenter Jung
Original Assignee
Hoechst Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst Ag filed Critical Hoechst Ag
Publication of FI854215A0 publication Critical patent/FI854215A0/fi
Publication of FI854215L publication Critical patent/FI854215L/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI83457B publication Critical patent/FI83457B/fi
Publication of FI83457C publication Critical patent/FI83457C/fi

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322—Aqueous alkaline compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Pyrane Compounds (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
  • Medicinal Preparation (AREA)
  • Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)

Description

1 83457
Kehiteseos valotettuja, negatiivisesti toimivia jäljennys-kerroksia varten
Keksintö kohdistuu kehiteseokseen, joka soveltuu 5 negatiivisesti toimivien, valotettujen jäljennyskerrosten kehittämiseen kopiointimateriaaleissa.
Mainittua laatua olevia kopiolntimateriaaleja käytetään erikoisesti valmistettaessa painolaattoja tai foto-resistejä ja ne muodostuvat kalvoalustasta ja negatiivi-10 sesti toimivasta, valonherkästä jäijennyskalvosta. Kalvo alustana näissä kopiointimateriaaleissa käytetään metalleja kuten sinkkiä, kromia, kuparia, messinkiä, terästä, alumiinia tai näiden metallien yhdistelmiä, muovikalvoja, paperia tai vastaavia materiaaleja. Näitä kalvoalustoja 15 voidaan päällystää ilman modifioivaa esikäsittelyä, edullisesti kuitenkin pintakäsittelyn kuten mekaanisen, kemiallisen tai sähkökemiallisen karhennuksen, oksidoinnin ja/tai käsittelyn jälkeen hydrofiilisiksi tekevällä aineella (esimerkiksi offsetpainolaattojen kantajien yhtey-20 dessä) valon herkällä jäljennyskerroksella. Keksinnön mukaan kehitettävät jäljennyskerrokset sisältävät veteen liukenemattomia diatsonium-polykondensaatiotuotteita. Va-lonherkkien aineosien lisäksi voivat jäljennyskerrokset sisältää lisäksi pehmentimiä, pigmenttejä, väriaineita, 25 silloitusaineita, herkistimiä, indikaattoreita ja muita tavanomaisia apuaineita. Näitä jäljennyskerroksia on kuvattu perusteellisesti esimerkiksi DE-patentissa 20 65 732 ( = US-patentti 3 867 147).
Kehitteen negatiivisesti toimivia jäljennyskerrok-30 siä varten täytyy pystyä poistamaan liuottamalla ne kerroksen alueet, joihin sähkömagneettinen säteily (esimerkiksi valo) ei ole kohdistunut (myöhemmin kuvaa sisältämättömät kohdat), valotetusta kerroksesta ilman, että tällöin vaikutetaan merkittävästi säteilylle kohdistuneisiin 35 alueisiin (myöhemmin kuvakohdat). Edellä mainitussa DE- 2 83457 patentissa esitetään tähän tarkoitukseen yleisesti sopiviksi vesi, vesi/orgaaninen liuotin-seokset, vesipitoiset suolaliuokset, vesipitoiset happoliuokset, vesipitoiset emäsliuokset ja laimentamattomat orgaaniset liuottimet, 5 joihin haluttaessa voidaan lisätä tensidejä ja/tai hydro-fiiliseksi tekeviä aineita. Esimerkeissä pääasiassa käytetyt kehitteet sisältävät vettä, Na-lauryylisulfaattia, Na-sulfaattia, viinihappoa ja mahdollisesti bentsyylialkoho-lia; muut kehitteet sisältävät tai muodostuvat isopropano-10 lista, n-propanolista, n-propyyliasetaatista, polyakryyli- haposta, 1,1,1-trikloorietanolista, asetonista tai etylee-niglykoli-monometyylieetteristä.
Tekniikan nykyisen tason mukaan tunnetaan vielä seuraavat kehitteet tai kehiteseokset: 15 Patenttijulkaisussa DE-B 10 47 016 on esitetty 3- 5 painoprosentin lisäys propyleenioksidi-etyleenioksidi-möhkälepolymerisaatteja, joissa on pääteasemassa etyleeni-oksidiyksiköitä, vesipitoiseen, fosforihappoa sisältävään kehitteeseen diatsoniumyhdisteitä sisältäviä, valonkerkkiä 20 kolloidikalvoja varten laakapainolaattoja valmistettaessa.
DE-patentin 11 93 366 (US-patentti 3 201 241) mukaiset vesipitoiset, alkaliset kehitteet laakapainolaat-tojen negatiivisia kalvoja varten sisältävät 0,3-5 painoprosenttia alkaleja, 0,001-0,05 painoprosenttia määrättyjä 25 kationeja, kuten Ca2*, Sr2* tai Ba2*, 0,001-0,25 painoprosenttia kompleksinmuodostajia, kuten viinihappoa, askor-biinihappoa tai etyleenidiamiini-tetraetikkahappoa ja 0,2-0,8 painoprosenttia veteen liukenemattomia polymeerejä, kuten polyetyleeniglykoleja tai selluloosaeettereitä. Jos 30 p-kinonidiatsideja valonherkkänä yhdisteenä sisältävät negatiivisesti toimivat kalvot sisältävät lisäksi sideainetta, lisätään kehitteeseen yleensä vielä orgaanista liuotinta, kuten etyleeniglykoli-monometyylieetteriä.
DE-patentista 17 72 457 (US-patentti 3 701 657) 35 tunnetaan vettä sisältämätön kehite fotopolymeroituvalla 3 83457 hartsilla varustettuja laakapainolaattoja varten, mikä sisältää orgaanista liuotinta, pienimolekyylistä tensidiä ja haluttaessa hydrofiiliseksi tekevänä aineena pieni molekyylistä happoa kuten sitruunahappoa tai fosforihappoa 5 tai hydrofiilista kolloidia kuten karboksimetyylisellu-loosaa. Sopivina tensideinä mainitaan muun muassa alkyy-liaryylisulfonihapot ja polykondensaatiotuotteet etylee-nioksidista ja alkoholeista, rasva-alkoholeista, alkyyli-fenoleista tai rasva-amiineista.
10 DE-patentin 21 24 672 (US-patentti 3 669 660) mu kainen kehite negatiivisesti toimivia kalvoja varten sisältää vettä ja vesiliukoista sulfonihappoa (erikoisesti aromaattisia yhdisteitä) tai sen vesiliukoisia suoloja ja haluttaessa vesiliukoista orgaanista liuotinta, tensidiä 15 ja happoa kuten fosforihappoa. Kehitettävien valon herkkien kalvojen täytyy perustua p-diatsodifenyyliamiiniin; kehite sisältää sulfonihappoyhdistettä, jonka osuus on 5-25 painoprosenttia, orgaanista liuotinta, jonka osuus on 0-20 painoprosenttia, 5 painoprosenttiin saakka tensidiä 20 (esimerkiksi Na-lauryylisulfaattia) ja 5 painoprosenttiin saakka happoa.
DE-patentissa 23 53 992 (US-patentti 4 147 545) esitetään kehite negatiivisesti toimia kalvoja varten, joka sisältää vesiliukoista vähintään yhden happaman H-ato-25 -min sisältävän orgaanisen yhdisteen litiumsuolaa ja haluttaessa amfoteerista tensidiä. Sopiviin litiumsuoloihin kuuluvat muun muassa Li-dodekanoaatti, -lauryylisulfonaat-ti, -klooriasetaatti, -kabrylaatti, -stearaatti ja -oleaatti, niitä lisätään 1-25 painoprosentin osuus vesi-30 pitoisesta liuoksesta; amfoteerista tensidiä voi sisältyä 50 painoprosenttiin saakka oleva osuus kehitteestä. Kehite voi lisäksi sisältää vielä noin 30 painoprosenttiin saak ka orgaanista liuotinta, noin 10 painoprosenttiin saakka ei-ionista pinta-aktiivista ainetta ja 5 painopro-35 senttiin saakka fosforihappoa tai oksaalihappoa. Kehitet- 4 83457 tävä valonherkkä kalvo perustuu veteen liukenemattomaan dlatsoniumyhdisteeseen tai fotopolymeroituvaan yhdisteeseen.
Amfoteeriset tensidit sisältävät sekä emäksisen 5 typpiatomin käsittävän ryhmän sekä myös happaman toiminnon omaavan ryhmän, kuten karboksyyli-, sulfaatti-, sulfo-naatti- tai fosfaattitähteen. Seuraavana lisäyksenä voidaan mainita myös ionogeeniset tai ei-ionogeeniset tensidit, joiden osuus on 5-10 painoprosenttia, esimerkiksi al-10 koholien tai alkyylifenolien polyetyleeniglykolieetterit.
DE-patentin 25 30 502 (GB-patentti 1 515 174) mukainen kehite diatsonium-polykondensaatiotuotteita sisältäviä negatiivikalvoja varten sisältää suurehkon osuuden vettä, pienehkön määrän orgaanista liuotinta ja vesiliu-15 koista kolloidia. Tällainen kehite voi lisäksi sisältää vielä 10 painoprosenttiin saakka tensidiä ja 20 painoprosenttiin saakka suolaa tai happoa (esimerkiksi sulfaattia, fosfaattia, typpihappoa, fosforihappoa); sopivina tensideinä mainitaan esimerkiksi Na-lauryylisulfaatti, 20 alkyyli-polyetyleeniglykolieetteri ja alkyylifenoliopoly- etyleeniglykolieetteri.
DE-patentista (US-patentti 4 186 006) tunnetaan kehite veteen liukenematonta diatsohartsia ja hydrofobista hartsia sisältäviä valonherkkiä kalvoja varten, joka ; 25 kehite sisältää a) bentsyylialkoholia, etyleeniglykoli-monofenyylieetteriä tai -monobentsyylieetteriä, b) anionista tensidiä ja c) vesiliukoista sulfiittia.
30 Eurooppalaisesta patentista EP-0 056 138 tunnetaan menetelmä ja kehiteseos valotettujen, negatiivisesti toimivien diatsoniumsuolakerrosten kehittämiseksi, joka muo-dostuu vedestä, alkaanihapon suolasta ja ei-ionogeenisestä tensidistä. Tällöin mainittujen aineosien välisten suhtei-35 den täytyy olla määrättyjen.
5 83457 EP-patentissa O 033 232 esitetään menetelmä kuvan mukaan valotetun, negatiivisesti toimivan laakapainolaat-tamateriaalin kehittämiseksi pääasiallisesti vesipitoisella kehitteellä, joka sisältää ei-ionista tensidiä ja 5 lisäksi 9 hiiliatomiin saakka sisältävän alifaattisen kar-bonihapon suolaa.
EP-patentti 0 080 042 kohdistuu kehitteeseen valon-herkkien päällysteiden valottamattomien kohtien poistamiseen, mitkä päällysteet sisältävät suurimolekyylistä poly-10 meeriä. Kehite sisältää pinta-aktiivista ainetta, orgaanista liuotinta, alkaalisesti reagoivaa ainetta, esimerkiksi alkaalisesti reagoivia suoloja, amiineja tai imiine-ja sekä 0,01-5,0 painoprosenttia vedenpehmentämisainetta.
GB-patentista 2 110 401 tunnetaan kehite, joka muo-15 dostuu veteen sekoittuvasta liuottimesta sideainetta var ten ja vettä sekä hydrofiilisen, anionisen, pinta-aktiivi-sen aineen ja organofiilisen, ei-ionisen, pinta-aktiivisen aineen seoksesta.
EP-patentista 0 004 014 tunnetaan valotettujen, 20 valonherkkien, diatsoniumsuola-polykondensaatiotuotetta ja veteen liukenematonta orgaanista polymeeriä sisältävien kopiointikerrosten kehittämistä varten tarkoitettu kehi-teliuos, joka muodostuu vesiliukoisen polymeerin puskuroidusta vesiliuoksesta, anionisesta kostutusaineesta ja 25 veteen sekoittuvasta orgaanisesta liuottimesta ja jonka pH-arvo on alueella 3-9 ja jonka tunnusomaiset ominaisuudet perustuvat siihen, että liuos sisältää 0,5-15 painoprosenttia anionista kostutusainetta, vesiliukoisena polymeerinä 0,5-6 painoprosenttia poly-N-vinyylimetyyliaset-30 amidia tai 1-5 painoprosenttia polyvinyylialkoholia, 0,5- 6 painoprosenttia esitetyllä alueella olevalla pH-arvolla stabiloivaa suolaa tai suolaseosta, 0,5 painoprosentista kyllästymispitoisuuteen saakka bentsyylialkoholia ja 0,5 painoprosentista kyllästymispitoisuuteen saakka glyserii-35 nitriasetaattia.
6 83457 DE-patentissa 29 41 960 on esitetty kehlteseos kuvion mukaan valotettujen, valonherkkien kopiointikalvojen poistamiseksi pesemällä, mikä seos sisältää pääaineosina N-vinyyliamiinin, vinyylialkoholin tai vinyylialkoholijoh-5 dannaisen polymerisaattia, veteen vähemmän kuin 10-paino- prosenttisesti liukenevaa alkoholia sekä vettä, minkä seoksen tunnusomainen ominaisuus perustuu siihen, että se sisältää vesiliukoista tai veteen stabiiliksi dispersioksi dispergoituvaa sekapolymerisaattia, joka muodostuu 10 a) kaavan 1 -CH„-CH-2 |
A
15 mukaisista hydrofiilisista yksiköistä, jolloin A tarkoittaa ryhmää 0-R tai N\ 20 XR2 R on vetyatomi tai metyyliryhmä;
Rj on vetyatomi, kulloinkin 1-10 hiiliatomia sisältävä al-kyyliryhmä tai alkoksialkyyliryhmä tai 6-10 hiiliatomia 25 sisältävä aryyliryhmä; ja R2 on kulloinkin 1-5 hiiliatomia sisältävä alkyyliryhmä tai asyyliryhmä; ja jolloin hydrofiilisten yksiköiden homopolymerisaatti on vesiliukoinen ja 30 b) hydrofobisia yksiköitä vinyylimonomeereistä, joiden homopolymeeri on veteen liukenamaton ja joka substituent-teina sisältää aromaattisen tai pitkäketjuisen alifaatti- • sen tähteen? ____ jolloin hydrofobisten yksiköiden määräosuus on niin suuri, 35 että sekapolymerisaatin 0,1-prosenttisen liuoksen pinta- 7 83457 jännitys on korkeintaan 50 mN/m ja että sekapolymerisaatin määrä on vähintään riittävä mahdollisesti esiintyvän,liu-koisuusrajan ylittävän alkoholimäärän emulgoimiseksi.
Esitetyissä, tekniikan nykyisen tason mukaisissa 5 tunnetuissa kehitteissä tai kehiteseoksissa esiintyy kuitenkin erikoisesti seuraavat epäkohdat: - Ne sisältävät usein suurehkoja osuuksia orgaanisia liuottimia, joita ekologisista syistä (matalassa lämpötilassa kiehuva, tulenvaarallinen, epämiellyttävä tuoksu, 10 haitallinen vaikutus jätevesiin ja tuuletusilmaan, monimutkaiset käsittelyt liuottimien poistamiseksi kehityksen jälkeen) nykyisin ei enää saisi sisältyä nykyaikaisiin kehitteisiin.
- Käytännössä tähän mennessä usein lisätyt lauryylisul-15 faatti tai muut alkaanisulfaatit tai alkaanisulfonaatit ovat tosin sinänsä tehokkaita kehitteiden aineosia esitettyjä valonherkkiä jäljennyskalvoja varten, ne vaativat kuitenkin verrattain pitkän kehitysajan, ne vaahtoavat liian voimakkaasti käsittelylaitteissa, erikoisesti pysty-20 kehityksessä ja liukoisuus matalissa lämpötiloissa (esimerkiksi noin 10°C lämpötilassa ja sen alapuolella) veteen . laskee siinä määrin, että syksyisin ja talvisin vallitse vissa lämpötiloissa voi muodostua hiutalemaisia jäänteitä varastoliuoksiin, mikä usein häiritsee käyttäjää. Rasva-25 tahrat ja liimajäänteet, joita käsiteltäessä offsetpaino-: laattoja voi käytetyissä olosuhteissa usein esiintyä, poistuvat näitä kehiteaineosia käytettäessä korkeintaan pitkän vaikutusajan jälkeen ja käyttäen lisäksi mekaanisia apukeinoja.
30 - Ne ovat tosin usein sopivia käytettäviksi määrättyjä jäljennyskalvoja varten, joita varten ne on kehitetty ja jolloin ne kulloisessakin tapauksessa ovat myös menestyk-' sellisiä, mutta niissä esiintyy myös näissä määrätyissä jäljennyskalvoissa käytettyinä eri kalvoissa enemmän tai 35 vähemmän suuria vaikeuksia, so ne eivät ole yleisesti .. käyttökelpoisia.
8 83457 - Ne eivät sovellu yleisesti useissa tapauksissa, pääasiassa konekehityksessä esiintyvien epäpuhtauksien (höy-tyvien ja säikeiden), joita kerääntyy uudelleensaostumi-sen vaikutuksessa painolaattoihin, sitomiseen niin, ettei 5 voida saavuttaa lopputuotteen optimaalista laatua - myöskään käytettäessä kehitettä pitkän aikaa.
Siten on olemassa tarve valmistaa negatiivisesti toimivia, valotettuja jäljennyskerroksia varten kehite, joka optimaalisten kehitysominaisuuksien (kuvaa sisältä-10 mättömien kohtien hyvä liukeneminen ja vaikuttamattomuus kuvakohtiin) lisäksi kehittää nopeasti niin, että sitä voidaan käyttää automaattisissa käsittelylaitteissa, joka kehittää ilman höytyvien ja säikeiden muodostumista ja jonka tuotto on suuri, so käyttökelpoinen myös pitkän 15 käyttöajan jälkeen kehittämisessä, ei muodosta epäpuhtauksia ja jota siten voidaan käyttää sekä sideainepitoisissa että sideainevapaissa järjestelmissä.
Tekniikan nykyisestä tasosta lähtien, kuten EP-pa-tentissa 0 080 042 on esitetty, ratkaistaan tämä tehtävä f 20 esillä olevan keksinnön mukaisen kehiteseoksen avulla.
Keksintö koskee kehiteseosta alustalla olevan ne-• | gatiivisesti toimivan, valotetun jäljennöskerroksen kehit tämiseksi. Kehiteseokselle on tunnusomaista, että se sisältää vettä, noin 0,5-13 paino-% vähintään yhtä orgaanis-25 ta liuotinta, vähintään yhtä alkalista ainetta, noin 0,5- 9,0 paino-% vähintään yhtä kompleksin muodostavaa ainetta, noin 0,2-12 paino-% vähintään yhtä pinta-aktiivista ainetta, noin 0,5-10 paino-% vähintään yhtä emulgaattoria, noin 1,0-7,0 paino-% vähintään yhtä n-alkaaniyhdistettä ja noin 30 0,5-20 paino-% vähintään yhtä puskuriainetta, jolloin mai- : nitut painoprosentit on laskettu kehiteseoksen kokonais- painosta ja jolloin pinta-aktiivisella aineella on anioni-nen rakenne ja n-alkaaniyhdiste on n-alkaanihappo, n-al-. . kaanihapposuola tai niiden seos.
35 Vaikka aineosat yksinään ja osittain myös yhdistet tyinä ovat nykyisen tekniikan mukaan tunnettuja, oli kui- 9 83457 tenkin yllättävää, että kehitteen keksinnön mukaisen koostumuksen avulla voitiin ratkaista tyydyttävästi asetettu tehtävä kaikissa suhteissa.
Suositeltavassa toteutuksessa sisältävät käytetyt 5 n-alkaanihapot ja/tai niiden suolat 8-12 hiiliatomia ja niitä sisältyy seokseen 1,0-7,0, edullisesti 1,5-6,0 painoprosenttia. Erikoisen hyviä tuloksia saavutetaan kapryy-li-, pelargoni-, kapriini- ja lauriinihapolla. Kompleksinmuodostajan pitoisuus seoksessa on edullisesti 0,5-9,0, 10 edullisesti 1,0-4,0 painoprosenttia. Vaikka periaatteessa voidaan käyttää kaikkia tavanomaisia kompleksinmuodostajia kehitteessä, ovat erikoisesti polyfosfaatit ja niistä jälleen pääasiassa metafosfaatit, kuten esimerkiksi kur-rol-, madrell- ja grahamsuolat suositeltavie. Hyvin tu-15 loksia saadaan myös alkalisuoloilla, esimerkiksi nitrilo-trietikkahapon ja etyleenidiamiinitetraetikkahapon nat-riumsuoloilla.
Anionista pinta-aktiivista ainetta (aineita) lisätään seokseen 0,2-12,0, edullisesti 1,0-8,0 painoprosent-:20 tia. Vaikka voidaan käyttää useita anionisia pinta-aktii-visia aineita, ovat suositeltavia ennen kaikkea ne, jotka valitaan ryhmästä, johon kuuluvat alkali-, edullisesti natriumoktyylisulfaatti, dodesyylisulfonihapon alkalisuo-lat, edullisesti natriumsuola, alkyylifenolieetterisulfaa-25 tit, alkali- edullisesti natriumsulfosukkinaatti, alkyyli-eetterifosfaatit, alkali- edullisesti natriumöljyhappome-tyylitauridi ja naftaliinisulfonaatit.
Emulgaattorin suositeltava pitoisuus kehiteseokses-sa on 0,5-10,0, edullisesti 1,0-6,0 painoprosenttia. Emul-30 gaattoreina käytetään pääasiassa tuotteita, jotka on valittu ryhmästä, johon kuuluvat poly-N-vinyyli-N-metyyli-asetamidi, N-vinyyli-N-metyyliasetamidin vesiliukoiset kopolymeerit, polyvinyylialkoholi, dekstriini, arabikumi ja selluloosaeetterit, erikoisesti karboksimetyylisellu-: · 35 loosa.
10 83457
Orgaanisen liuottimen osuus seoksessa on tarkoituksenmukaisesti 0,5-13,0, edullisesti 1,0-8,0 painoprosenttia. Voidaan käyttää lukuisia tunnettuja orgaanisia liuottimia, käytännössä ovat kuitenkin edullisia ne, jotka on 5 valittu ryhmästä, johon kuuluvat bentsyylialkoholi, ety-leeniglykolimonofenyylieetteri, 1-fenyylietanoli, 2-fenyy-lietanoli ja propyleeniglykolimonometyylieetteri.
Puskurijärjestelmiksi soveltuvat periaatteessa kaikki ne, jotka ovat vaikuttavia pH-alueella 8-12. Ensi-10 sijassa käytetään kuitenkin niitä yleisesti saatavia pus-kuriaineita, jotka kuuluvat karbonaattien, boraattien, glysiinin alkalisuolojen ja amiinien muodostamaan ryhmään ja tällöin käytetään edullisesti dietanoliamiinia ja tri-etanoliamiinia. Erittäin käyttökelpoisia puskurijärjestel-15 miä ovat esimerkiksi karbonaatti/vetykarbonaatti-, fos-faatti/vetyfosfaattiseokset ym.
Vesiosuus muodostuu edullisesti de-ionisoidusta vedestä.
Keksinnön mukaista kehitettä voidaan käyttää peri-20 aatteessa kaikkia negatiivisesti toimivia jäljennyskalvoja ;··' varten, jotka kuuluvat tekniikan nykyiseen tasoon.
Nämä jäljennyskalvot voivat sekä sisältää tunnettuja sideaineita tai voivat ne olla myös sideainevapaita.
Edullisesti käytetään kehitettä kuitenkin sideaine-25 pitoisille jäljennyskalvoille ja tällöin erikoisesti sellaisille, jotka sisältävät diatsoniumsuoloja.
Erikoisen edullinen on keksinnön mukainen kehite sellaisia jäljennyskalvoja varten, joita on esitetty saksalaisessa hakemusjulkaisussa P 34 04 366.7, joka kohdis-30 tuu valonherkkään seokseen, joka sisältää diatsoniumsuola-polykondensaatiotuotetta ja ei-valonherkkää polymeeriside-* ‘ ainetta, jossa on karboksyylisivuryhmiä ja joka liukenee vesipitoisiin alkaalisiin liuoksiin tai ainakin turpoaa niissä, jolloin sideaine on orgaanisen polykarbonihapon 35 intramolekyläärisen anhydridin reaktiotuote hydroksyyli-ryhmiä sisältävän synteettisen polymeerin kanssa, mikä il 83457 reaktiotuote ei sisällä muita happoanhydridien kanssa reagoimaan pystyviä funktionaalisia ryhmiä.
Koska kehiteseokseen sisältyy vain verrattain vähäinen osuus orgaanista liuotinta, ei sen koostumus käy-5 tön aikana muutu käytännöllisesti katsoen lainkaan ja siten sen käyttöaika kehityslaitteissa on verrattain pitkä. Keksinnön mukaisen kehiteseoksen pH-arvo on yleensä edullisesti 8-12. Keksinnön mukainen kehitekoostumus ei aiheuta häiritsevää hajurasitusta eikä myöskään jäätymispisteen 10 alueella olevissa lämpötiloissa esiinny aineosien annetulla määräalueella saostumia. Liimajäänteet (esimerkiksi liimattaessa filminegatiiveja kopioitaessa) ja rasvatah-rat (esimerkiksi painolaattoja lävistettäessä) voidaan poistaa vaivatta käyttäen vain vähäistä kehitteen vaiku-15 tusaikaa. Kehittymisnopeus on suurentunut tavanomaisiin kehitteisiin verrattuna ilman, että havaitaan vastustuskyvyn heikkenemistä kehitteen suhteen kuva-alueilla. Myös alkaanihappojen suolat voidaan helposti poistaa lyhytket-j uisina "saippuoina".
: : . 20 Mainittujen edullisten ominaisuuksien lisäksi on keksinnön mukaisen kehitteen seuraava yllättävä etu se, että hiutale- ja säiemuodostus, joka aiheuttaa valmiin tuotteen ja käsittelylaitteen epäsuotavaa likaantumista, estyy.
25 Jäljennysmateriaaleja kehitettäessä kytketään ta vallisesti peräkkäin kehitys-, huuhtelu- ja kumitusasemat. Kehitteen kuormituksen kasvaessa kalvon aineosien vaikutuksesta muuttuu kehitys hitaammaksi ja epätäydelliseksi. Huuhtelussa voidaan tuskin välttää kehitteen vaikuttavien : _ 30 aineosien poistamista. Siten jäljennysmateriaalin pinnalle absorboituu kalvon osia esimerkiksi agglomeroituina, jotka ilmenevät epäsuotavina likaantumisina. Erikoisesti käytettäessä kovaa vettä voivat läsnäolevat kalsiumionit sil-loittua happamia ryhmiä sisältävän sideaineen kanssa vai-35 kealiukoisiksi ionisiksi additiotuotteiksi. Adsorboituneet kalvon aineosat eivät liukene säilytysliuoksen vaikutuk- i2 83457 sesta, vaan irtoavat kalvoina alustan pinnalta. Keksinnön mukainen kehite on myös silloin yleisesti käyttökelpoinen, jos valmistukseen käytetyn veden kovuusasteet ovat erilaisia. Tämä on erikoisen tärkeää, koska kehitekoostumuksia 5 valmistetaan alueilla, joissa esiintyy eri kovuuden omaavaa vettä.
Painolaatan valmistamiseksi alustalle, edullisesti alumiinia tai sen seoksia olevalle alustalle, joka on eri-koisesti esikäsitelty mekaanisesti ja/tai kemiallisesti 10 ja/tai sähkökemiallisesti ja/tai tehty hydrofiiliseksi, levitetään negatiivisesti toimiva, mahdollisesti diatso-niumsuolaa ja/tai mahdollisesti sideainetta sisältävä kerros, joka valotetaan kuvan mukaan ja käsitellään sitten keksinnön mukaisella kehiteseoksella.
15 Seuraavat esimerkit valaisevat keksintöä.
Esimerkki 1 Sähkökemiallisesti karhennettu, anodisesti oksi-doitu ja polyvinyylifosfonihapon vesiliuoksella käsitelty levymuodossa oleva alumiinikalvo päällystetään liuok-20 sella, joka sisältää 100 paino-osaa etyleeniglykoli-mono-·*- metyylieetteriä, 50 paino-osaa tetrahydrof uraania, 0,4 paino-osaa kristalliviolettia, 0,2 paino-osaa 85-prosent-tista fosforihappoa ja 2 paino-osaa polykondensaatiotuo-tetta (valmistettu 1 moolista 3-metoksi-difenyyliamiini-25 4-diatsoniumsulfaattia ja 1 moolista 4,4'-bis-metoksime-tyyli-difenyylieetteriä 85-prosenttisessa fosforihapossa ja eristettynä mesityleenisulfonaattina) siten, että kalvon paino kuivauksen jälkeen on 0,4 g/m2. Valonherkkä off-setpainolaatta valotetaan kuvan mukaan ja kehitetään ke-30 hitteen avulla, joka sisältää 77,0 painoprosenttia vettä, 3.0 painoprosenttia etyleeniglykoli-monometyylieetteriä, 2.0 painoprosenttia grahamsuolaa, 2,0 painoprosenttia poly vinyylimetyyliasetamidia, 4,0 painoprosenttia pelargoni-happoa, 1,0 painoprosentin kiinteää kaliumhydroksidia ja 35 3,0 painoprosenttia trietanoliamiinia. Kehitysaika oli tavanomaisesti käytetty, jolloin ei-kuvakohdat olivat ke- ia 83457 liittyneet puhtaiksi. Hiutale- tai säiemuodostusta ei havaittu. Myöskään käytettäessä kehitettä tavanomaisessa koneessa painolaatan kehittämiseksi ja valmistamiseksi välihuuhtelua ja kurnitusta käyttäen ei voitu todeta vas-5 taavia häiriöitä. Kehitetyn laatan avulla voidaan valmistaa offsetpainokoneessa useita tuhansia moitteettomia painatuksia .
Esimerkki 2
Meneteltiin esimerkin 1 mukaisesti sillä erolla, 10 että käytettiin päällystysliuosta, joka sisälsi: 62 paino-osaa polymeeriä, joka oli valmistettu palautus-kuumentamalla polyvinyylibutyraalia, jonka molekyylipaino oli noin 70 000 - 80 000 ja joka sisälsi 71 % vinyylibu-ryraali-, 2 % vinyyliasetaatti- ja 27 % vinyylialkoholi-15 yksiköitä, maleiinihappoanhydridiä, metyylietyyliketonia ja trimetyyliamiinia; 21 paino-osaa diatsoniumsuola-polykondensaatiotuotetta, joka oli valmistettu 1 moolista 3-metoksidifenyyli-amiini- 4-diatsoniumsulfaattia ja 1 moolista 4,4*-bis-metoksime-20 tyyli-difenyylieetteriä 85-prosenttisessa fosforihapossa *: ja joka eristettiin mesityleenisulfonaattina; 2,5 paino-osaa fosforihappoa (85-prosenttista); 3 paino-osaa Viktoriareinblau FGA väriainetta (C.I. Basic : Blue 81) ja 25 0,7 paino-osaa fenyyliatsodifenyyliamiinia, 2570 paino-osassa etyleeniglykoli-monometyylieetteriä ja 780 paino-osaa tetrahydrofuraania.
Siten saatu kopiointikalvo, jonka kalvopaino kuivauksen jälkeen oli 0,95 g/m2, valotettiin negatiivin lä-30 vitse 30 sekunnin aikana 5 kW metallihalogeenilampulla.
·' - Käytettiin esimerkin 1 mukaista kehitettä. Saatiin yhtä hyviä tuloksia.
Esimerkit 3-6
Toistettiin esimerkit 1 ja 2 paitsi, että kehittee-: \ 35 seen lisättiin kapryylihappoa sekä myös lauriinihappoa.
Saatiin vastaavia edullisia tuloksia kuin esimerkkien 1 ja 2 mukaan.
i4 83457
Esimerkit 7-29
On koottu yhteen seuraaviin taulukoihin. Käytettäessä niissä mainittuja kehitekoostumuksia esimerkissä 1 ja 2 esitettyjen kalvon kehittämiseksi vahvistettiin esi-5 merkkien 3-6 hyvät tulokset.
Taulukko (Kehitteen koostumus painoprosentteina)
Esimerkki_7_8_9_10_11_12
Dodesyy1ibentsoii-10 sulfonihappo
Na-suola 2,0 2,8 - 2,5 K2C03 1,5 1,5 1,5 1,2 1,5 1,5 KHC03 1,5 1,5 1,5 1,2 1,5 1,5
Etyleeniglykoli- 15 monometyylieetteri 3,0 3,0 3,0 2,5 3,0 3,0
Grahamsuola - - 2,0 1,5 2,0 2,0
Poly-N-vinyyli-N- metyyliasetamidi 2,0 2,0 2,0 1,8 2,0 2,0
Pelargonihappo 4,0 4,0 4,0 2,8 2,8 4,0 20 KOH kiinteä 1,0 1,0 1,0 1,0 1,0 1,0
Nitrilotrietikka-·: happo 2,0
Etyleenidiamiini-tetraetikkahappo 25 Na-suola - 2,0 -
Na-oktyylisulfaat- ti --2,0---
Alkyylifenolieette- risulfaatti 30 (HostapalR BV) - - - - 2,0
Na-sulfosukkinaat- ti (RewopoR SFB) - - - - - 2,0
De-ionisoitu vesi kunnes 100 % is 83457
Taulukko (j atkoa) (Kehitteen koostumus painoprosentteina)
Esimerkki_13_14 15_16 17_18
Dodesyylibentsoli-5 sulfonihappo
Na-suola - - 2,0 2,0 2,0 K2C03 1,5 1,5 1,5 KHC03 1,5 1,5 1,5
Etyleeniglykoli- 10 monometyylieetteri 3,0 3,0 3,0 3,0 3,0 3,0
Grahamsuola 2,0 2,0 2,0 2,0 2,0
Poly-N-vinyyli-N- metyyliasetamidi 2,0 2,0 2,0 2,0 2,0 2,0
Pelargonihappo 4,0 4,0 4,0 4,0 4,0 4,0 15 KOH kiinteä 1,0 1,0 1,0 1,4 1,4 1,4
Alkyylieetteri-fosfaatti (ForlanonR T) 2,0 - Ö1jyhappometyyli-20 tauridi Na-suola ; (ArcoponR SN) - 2,0 -
Kond. naf taliini-: sulfonaatti -:· (OrotanR SN) - 2,0 - - 25 Na3P04*12H20 - - - 1,25 - K2B407*4H20 - - - - 1,0
Glysiini K-suola - - - - - 1,61
De-ionisoitu vesi kunnes 100 % ie 83457
Taulukko (jatkoa) (Kehitteen koostumus painoprosentteina)
Esimerkki_19_20 21 22 23
Na-oktyylisulfaatti 8,0 5 Etyleeniglykolimono- fenyylieetteri 5,0
Grahamsuola 2,0 2,0 2,5 2,5 2,0
Poly-N-vinyyli-N- metyyliasetamidi 2,0 2,0 1,5 1,5 2,0 10 Pelargonihappo 4,0 4,0 2,8 2,8 4,0 KOH kiinteä 1,0 1,0 1,0 1,0 1,0
Trietanoliamiini - -
Dietanoliamiini 1,0
Dodesyylibentso-15 sulfonihappo
Na-suola - 2,0 1,5 1,5 2,0 K2C03 - 1,5 1,0 1,0 1,5 KHC03 - 1,5 1,0 1,0 1,5
Bentsyylialkoholi - 3,0 20 1-fenyylietanoli - 2,5 : : 2-fenyylietanoli - - 2,5 " Propyleeniglykoli- monometyylieetteri - - - - 3,0
De-ionisoitu vesi kunnes 100 % 25 Taulukko (jatkoa) (Kehitteen koostumus painoprosenttia)
Esimerkki_24_25 26 27 28 29
Na-oktyylisulfaatti 2,0 - 2,0 2,0 - K2C3 1,5 1,5 1,5 1,5 1,5 1,5 30 KHC3 1,5 1,5 1,5 1,5 1,5 1,5
Etyleeniglykoli-mono- fenyylieetteri 3,0 3,0 3,0 3,0 3,0 3,0
Grahamsuola 2,0 2,0 2,0 2,0 2,0 2,0
Dekstriini 2,0 35 Polyvinyylialkoholi - 2,0
Karboksimetyylisellu- loosa - - 2,0 - i7 83457
Esimerkki (jatkoa)_24_25_26 27 28 29
Arabikumi - - 2,0
Pelargonihappo 4,0 4,0 4,0 4,0 KOH kiinteä - 1,0 - - 1,0 1,0 5 NaOH kiinteä 1,0 - 1,0 1,0
Dodesyylibentsoii-sulfonihappo
Na-suola - 2,0 - - 2,0 2,0
Poly-N-vinyyli-N- 10 metyyliasetamidi - - - - 2,0 2,0
Kapryylihappo - - - -2,5
Kapriinihappo - - - - - 3,0
De-ionisoitu vesi kunnes 100 % 15 Esimerkkien 1 ja 3-29 mukaiset kehitekoostumukset testattiin jäijennyskalvoilla, jotka valmistettiin seu-raavista liuoksista: A. 1,5 painoprosenttia diatsoniumsuola-polykonden-saatiotuotetta saatuna 3-metoksi-difenyyliamiini-4-diatso- 20 niumsulfaatista ja formaldehydistä, 1,5 painoprosenttia sideainetta saatuna polyvinyylibutyraalin ja maleiinihapon reaktiotuotteesta, 0,1 paino-% Vikroriareinblau FGA väriainetta (C.I. Basic Blue 81), 0,1 paino-% 85-prosenttista fosforihappoa, 98,0 paino-% etyleeniglykolimonometyyli- 25 eetteriä. Kalvon paino kuivauksen jälkeen oli 0,8 g/m2.
B. 1,5 painoprosenttia styroli-maleiinihappoanhyd-ridi-kopolymeeri-puoliesteriä (Scripset 540; Monsanto), 1,5 paino-% diatsoniumsuola-polykondensaatiotuotetta 1 moolista 3-metoksidifenyyliamiini-4-diatsoniumsuolaa ja 1 30 moolista 4,4'-bis-metoksimetyyli-difenyyliesteriä saos- ’*-* tettuna mesityleenisulfonaattina, 0,1 paino-% 85-prosent tista fosforihappoa, 0,1 paino-% Vikroriareinblau FGA vä-— riainetta (C.I. Basic 81), 0,6-8 painoprosenttia etyleeni- glykoli-monometyylieetteriä. Kalvon paino kuivauksen jäl- 35 keen oli 0,6 g/m2.
C. 97,0 paino-osaa polymeeriä, joka oli valmistettu -‘ antamalla 11,3 paino-% esimerkissä 2 mainittua polyvinyy- ie 83457 libutyraalia reagoida tetrahydrofuraanissa 5,11 paino-%:in kanssa propenyylisulfonyyli-isosyanaattia tetrahydrof uraanissa, 48,3 paino-osaa esimerkissä 2 esitettyä diatsonium-suola-polykondensaatiotuotetta, 4,8 paino-osaa 85-%:sta 5 fosforihappoa, 3,5 paino-osaa Viktoriareinblau FGA väriainetta (C.I. Basic Blue 81), 1,6 paino-osaa fenolidife-nyyliamiinia, 3500 paino-osassa etyleeniglykoli-monometyy-lieetteriä ja 1036 paino-osassa tetrahydrofuraania. Kalvon paino kuivauksen jälkeen oli 0,73 g/m2.
10 D. 2 paino-osaa osittain alkanolilla esteröityä styroli-maleiinihappoanhydridi-sekapolymerisaattia, jonka keskimääräinen molekyylipaino oli 20 000 ja happoluku noin 200, 2 paino-osaa diuretaania, joka oli valmistettu antamalla glyseriinidimetakrylaatin reagoida heksametyleenidi-15 isosyanaatin kanssa, 0,125 paino-osaa 9-fenyyliakridiinia, 0,05 paino-osaa sinistä väriainetta, joka oli saatu kytkemällä 2,4-dinitro-6-klooribentsoli-diatsonium-suolaa 2-metoksi-5-asetyyliamino-n-syaanietyyli-N-hydroksi-etyyli-aniliinin kanssa 25,0 paino-osassa butanonia ja 12,0 pai-20 no-osassa butyyliasetaattia. Kalvon paino kuivauksen jäl-: keen oli 3,7 g/m2.
Hyvät tulokset vastaavat edellä olevissa esimerkeissä saatuja tuloksia. Myös tällöin yllätti keksinnön mukaan saavutettu yhdistetty vaikutus nopean ja hyvän ke-25 hityksen ja kehitteen pitkän käyttöajan suhteen, jolloin koostumuksessa ei tapahtunut merkittäviä muutoksia sekä käyttökelpoisuuden suhteen nopeussa kehityskoneissa, perusteellinen ympäristöystävällisyys sekä hiutale- ja säie-muodostuksen täydellinen välttäminen mitä erilaisimmilla 30 jäljennyskalvoilla.
Suoritetut vertailut osoittivat, että vain yhden .“ aineosan poistaminen keksinnön mukaisesti kehitekoostu- muksesta aiheutti epätyydyttäviä tuloksia hitaan ja/tai .. · epätyydyttävän tuloksen suhteen kehityksessä sekä käyttö- 35 kelvottomuuden tavanomaisissa kehitysasemissa eikä hiuta- le-säiemuodostusta voitu estää. Lopputuotteiden laatu oli . ‘ vastaavasti huonompi.

Claims (18)

1. Kehiteseos alustalla olevan negatiivisesti toimivan, valotetun jäljennöskerroksen kehittämiseksi, 5 tunnettu siitä, että se sisältää vettä, noin 0,5-13 paino-% vähintään yhtä orgaanista liuotinta, vähintään yhtä alkalista ainetta, noin 0,5-9,0 paino-% vähintään yhtä kompleksin muodostavaa ainetta, noin 0,2-12 paino-% vähintään yhtä pinta-aktiivista ainetta, noin 0,5-10 pai-10 no-% vähintään yhtä emulgaattoria, noin 1,0-7,0 paino-% vähintään yhtä n-alkaaniyhdistettä ja noin 0,5-20 paino-% vähintään yhtä puskuriainetta, jolloin mainitut painoprosentit on laskettu kehiteseoksen kokonaispainosta ja jolloin pinta-aktiivisella aineella on anioninen rakenne 15 ja n-alkaaniyhdiste on n-alkaanihappo, n-alkaanihapposuola tai niiden seos.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen kehiteseos, tunnettu siitä, että n-alkaaniyhdiste sisältää 8-12 hiiliatomia.
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen kehiteseos, tunnettu siitä, että n-alkaaniyhdisteen määrä seoksessa on noin 1,5-6,0 paino-%.
4. Jonkin patenttivaatimuksen 1-3 mukainen kehite-seos, tunnettu siitä, että kompleksin muodostavan 25 aineen määrä seoksessa on noin 1,0-4,0 paino-%.
5. Jonkin patenttivaatimuksen 1-4 mukainen kehite-seos, tunnettu siitä, että anionisen pinta-aktii-visen aineen määrä seoksessa on noin 1,0-8,0 paino-%.
6. Jonkin patenttivaatimuksen 1-5 mukainen kehite-30 seos, tunnettu siitä, että emulgaattorin määrä seoksessa on noin 1,0-6,0 paino-%.
7. Jonkin patenttivaatimuksen 1-6 mukainen kehite-seos, tunnettu siitä, että orgaanisen liuottimen määrä seoksessa on noin 1,0-8,0 paino-%.
8. Jonkin patenttivaatimuksen 1-7 mukainen kehite- seos, tunnettu siitä, että puskuriaineen määrä seoksessa on noin 1,0-10,0 paino-%. 20 8 3 4 5 7
9. Jonkin patenttivaatimuksen 1-8 mukainen kehite-seos, tunnettu siitä, että n-alkaaniyhdiste on kapryyli-, pelargoni-, kapriini- tai lauriinihappo.
10. Jonkin patenttivaatimuksen 1-9 mukainen kehite-5 seos, tunnettu siitä, että vähintään yksi kompleksin muodostava aine on polyfosfaatti, nitrilotrietikkaha-pon alkalimetallisuola tai etyleenidiamiinitetraetikkaha-pon alkalimetallisuola.
11. Patenttivaatimuksen 10 mukainen kehiteseos, 10 tunnettu siitä, että polyfosfaatti on metafosfaat-ti.
12. Jonkin patenttivaatimuksen 1-11 mukainen kehiteseos, tunnettu siitä, että vähintään yksi anio-nisista pinta-aktiivisista aineista on alkalimetallioktyy- 15 lisulfaatti, dodekyylisulfonihapon alkalimetallisuola, al-kyylifenolieetterisulfaatti, alkalimetallisulfosukkinaat-ti, alkyylieetterifosfaatti, alkalimetalliöljyhappometyy-litauridi tai kondensoitu naftaleenisulfonaatti.
13. Patenttivaatimuksen 12 mukainen kehiteseos, 20 tunnettu siitä, että alkalimetalli on natrium.
14. Jonkin patenttivaatimuksen 1-13 mukainen kehiteseos, tunnettu siitä, että vähintään yksi liuotin on bentsyylialkoholi, fenoksietanoli, 1-fenyylietano-li, 2-fenyylietanoli tai propyleeniglykolimonometyylieet- : : 25 teri.
15. Jonkin patenttivaatimuksen 1-14 mukainen kehiteseos, tunnettu siitä, että vähintään yksi emul-gaattori on poly-N-vinyyli-N-metyyliasetamidi, N-vinyyli-N-metyyliasetamidin vesiliukoinen kopolymeeri, polyvinyy- 30 lialkoholi, dekstriini, arabikumi tai selluloosaeetteri.
16. Patenttivaatimukse 15 mukainen kehiteseos, ·.. tunnettu siitä, että selluloosaeetteri on karbok- simetyyliselluloosa.
:·*! 17. Jonkin patenttivaatimuksen 1-16 mukainen kehi- 35 teseos, tunnettu siitä, että puskurianne on kar- 21 83457 bonaatti, fosfaatti, boraatti, glysiinin alkalimetalli-suola tai amiini tai niiden yhdistelmä.
18. Patenttivaatimuksen 17 mukainen kehiteseos, tunnettu siitä, että amiini on dietanoliamiini tai 5 trietanoliamiini. 22 83 457
FI854215A 1984-10-30 1985-10-28 Framkallningsblandning foer exponerade, negativt arbetande reproduktionsskikt. FI83457C (fi)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3439597 1984-10-30
DE19843439597 DE3439597A1 (de) 1984-10-30 1984-10-30 Entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten sowie verfahren zur herstellung von druckformen und verwendung des entwicklers

Publications (4)

Publication Number Publication Date
FI854215A0 FI854215A0 (fi) 1985-10-28
FI854215L FI854215L (fi) 1986-05-01
FI83457B FI83457B (fi) 1991-03-28
FI83457C true FI83457C (fi) 1991-07-10

Family

ID=6249037

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI854215A FI83457C (fi) 1984-10-30 1985-10-28 Framkallningsblandning foer exponerade, negativt arbetande reproduktionsskikt.

Country Status (11)

Country Link
US (1) US4716098A (fi)
EP (1) EP0180122B1 (fi)
CN (1) CN85107915A (fi)
AT (1) ATE68892T1 (fi)
AU (1) AU578982B2 (fi)
BR (1) BR8505386A (fi)
CA (1) CA1263050A (fi)
DE (2) DE3439597A1 (fi)
ES (1) ES9200011A1 (fi)
FI (1) FI83457C (fi)
ZA (1) ZA858130B (fi)

Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5081003A (en) * 1987-07-27 1992-01-14 Hoechst Celanese Corporation Developer compositions for newspaper plates
US4822723A (en) * 1987-11-30 1989-04-18 Hoechst Celanese Corporation Developer compositions for heavy-duty lithographic printing plates
US4873174A (en) * 1988-02-03 1989-10-10 Hoechst Celanese Corporation Method of using developer-finisher compositions for lithographic plates
DE68925610T2 (de) * 1988-10-24 1996-07-25 Du Pont Entwickler für Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen
US5278030A (en) * 1988-10-24 1994-01-11 Du Pont-Howson Limited Developer solution comprising ethyl hexyl sulphate, a surfactant, an alkaline material and having a pH of not less than 12
DE3836404A1 (de) * 1988-10-26 1990-05-03 Hoechst Ag Entwicklungsloesemittel fuer durch photopolymerisation vernetzbare schichten sowie verfahren zur herstellung von reliefformen
US6040116A (en) * 1989-03-17 2000-03-21 Basf Aktiengesellschaft Photosensitive recording element having a recording layer and a top layer possessing different solubility properties, and its development in one operation
DE3908764C2 (de) * 1989-03-17 1994-08-11 Basf Ag Entwickler für die Herstellung photopolymerisierter flexographischer Reliefdruckformen
DE3908763A1 (de) * 1989-03-17 1990-09-27 Basf Ag Lichtempfindliches aufzeichnungselement mit einer aufzeichnungsschicht und einer deckschicht unterschiedlicher loeslichkeitseigenschaften sowie verfahren zu seiner entwicklung in einem arbeitsgang
US5035982A (en) * 1989-07-14 1991-07-30 Eastman Kodak Company Aqueous developer composition for developing negative working lithographic printing plate
DE3938108A1 (de) * 1989-11-16 1991-05-23 Hoechst Ag Entwicklerkonzentrat und daraus hergestellter entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten mit deckschicht sowie verfahren zur herstellung von druckformen
DE3938107A1 (de) * 1989-11-16 1991-05-23 Hoechst Ag Entwicklerkonzentrat und daraus hergestellter entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten sowie verfahren zur herstellung von druckformen
US5252436A (en) * 1989-12-15 1993-10-12 Basf Aktiengesellschaft Process for developing a positive-working photoresist containing poly(p-hydroxystyrene) and sulfonium salt with an aqueous developer containing basic organic compounds
US5264047A (en) * 1991-07-17 1993-11-23 Church & Dwight Co., Inc. Low foaming effective hydrotrope
US5433885A (en) * 1991-07-17 1995-07-18 Church & Dwight Co., Inc. Stabilization of silicate solutions
US5234505A (en) * 1991-07-17 1993-08-10 Church & Dwight Co., Inc. Stabilization of silicate solutions
US5431847A (en) * 1991-07-17 1995-07-11 Charles B. Barris Aqueous cleaning concentrates
US5234506A (en) * 1991-07-17 1993-08-10 Church & Dwight Co., Inc. Aqueous electronic circuit assembly cleaner and method
CA2098169C (en) * 1992-07-23 1998-09-22 John E. Walls Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability
US5279927A (en) * 1992-07-23 1994-01-18 Eastman Kodak Company Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability
US5316892A (en) * 1992-07-23 1994-05-31 Eastman Kodak Company Method for developing lithographic printing plates
DE69315046T2 (de) * 1992-12-17 1998-06-04 Eastman Kodak Co Wässriger Entwickler für lithographische Druckplatten der zu einer verringerten Schlammbildung führt
US5380623A (en) * 1992-12-17 1995-01-10 Eastman Kodak Company Aqueous developer for lithographic printing plates which provides improved oleophilicity
WO1994025904A1 (en) * 1993-04-28 1994-11-10 Toray Industries, Inc. Positive electron-beam resist composition and developer for positive electron-beam resist
DE19822441A1 (de) * 1997-06-24 1999-01-28 Heidelberger Druckmasch Ag Druckformreinigungsverfahren
DE19755295A1 (de) * 1997-12-12 1999-06-17 Agfa Gevaert Ag Entwickler für bestrahlte, strahlungsempfindliche Aufzeichnungsmaterialien
DE19811330A1 (de) * 1998-03-16 1999-09-23 Du Pont Deutschland Entwickler und Verfahren zur Herstellung von flexographischen Druckformen
US6100016A (en) * 1999-09-14 2000-08-08 Agfa-Gevaert Ag Developer for irradiated, radiation-sensitive recording materials
JP4050854B2 (ja) 1999-12-21 2008-02-20 富士フイルム株式会社 画像形成方法
US6841336B2 (en) 2000-10-16 2005-01-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Plate-making method of lithographic printing plate
CN100367113C (zh) * 2002-12-11 2008-02-06 三星电子株式会社 用于形成共轭聚合物图案的组合物和使用该组合物形成共轭聚合物图案的方法
US7157213B2 (en) * 2004-03-01 2007-01-02 Think Laboratory Co., Ltd. Developer agent for positive type photosensitive compound
EP1574907A1 (en) * 2004-03-08 2005-09-14 Think Laboratory Co., Ltd. Developing agent for positive-type photosensitive composition
JP7022128B2 (ja) * 2016-11-16 2022-02-17 ミラクロン コーポレーション フレキソ印刷用現像液および使用法
CN108345188A (zh) * 2017-12-29 2018-07-31 江苏乐彩印刷材料有限公司 一种ctp版材显影液
CN112782946A (zh) * 2021-01-11 2021-05-11 天津华源化工有限公司 一种工业设备用显影液

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL267572A (fi) * 1960-07-29
GB1102952A (en) * 1963-09-05 1968-02-14 Howson Ltd W H Processing of presensitized photolithographic printing plates
GB1220808A (en) * 1967-05-18 1971-01-27 Howson Algraphy Ltd Processing of presensitized photolithographic printing plate
US3707373A (en) * 1969-03-17 1972-12-26 Eastman Kodak Co Lithographic plate developers
US3867147A (en) * 1969-05-20 1975-02-18 Hoechst Co American Light-sensitive diazo compounds and reproduction material employing the same
US3669660A (en) * 1970-05-21 1972-06-13 Polychrome Corp Lithographic plate developing composition and process of use thereof
US4147545A (en) * 1972-11-02 1979-04-03 Polychrome Corporation Photolithographic developing composition with organic lithium compound
DE2530502C2 (de) * 1974-07-22 1985-07-18 American Hoechst Corp., Bridgewater, N.J. Verfahren zum gleichzeitigen Entwickeln und Konservieren von Druckplatten sowie dafür geeignete Behandlungslösung
JPS5344202A (en) * 1976-10-01 1978-04-20 Fuji Photo Film Co Ltd Developer composition and developing method
DE2941960A1 (de) * 1979-10-17 1981-04-30 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Entwicklergemisch und verfahren zum entwickeln von von belichteten lichtempfindlichen kopierschichten
DE3162627D1 (en) * 1980-01-29 1984-07-12 Vickers Ltd Developers and methods of processing radiation sensitive plates using the same
US4308340A (en) * 1980-08-08 1981-12-29 American Hoechst Corporation Aqueous 2-propoxyethanol containing processing composition for lithographic printing plates
DE3100259A1 (de) * 1981-01-08 1982-08-05 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren und entwicklergemisch zum entwickeln von belichteten negativ arbeitenden diazoniumsalzschichten
JPS5854341A (ja) * 1981-09-28 1983-03-31 Fuji Photo Film Co Ltd 現像方法および現像液
GB2110401A (en) * 1981-11-04 1983-06-15 Bicc Plc Developer solutions and processes for making lithographic printing plates
US4786580A (en) * 1983-12-27 1988-11-22 Hoechst Celanese Corporation Method of developing imaged diazo material with propanol containing developer composition

Also Published As

Publication number Publication date
EP0180122A2 (de) 1986-05-07
ES9200011A1 (es) 1992-10-16
CA1263050A (en) 1989-11-21
US4716098A (en) 1987-12-29
ATE68892T1 (de) 1991-11-15
BR8505386A (pt) 1986-08-05
CN85107915A (zh) 1986-10-01
AU4917685A (en) 1986-05-08
ES548290A0 (es) 1992-10-16
DE3439597A1 (de) 1986-04-30
EP0180122B1 (de) 1991-10-23
FI83457B (fi) 1991-03-28
EP0180122A3 (en) 1988-03-02
FI854215L (fi) 1986-05-01
DE3584501D1 (de) 1991-11-28
FI854215A0 (fi) 1985-10-28
AU578982B2 (en) 1988-11-10
ZA858130B (en) 1986-06-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI83457C (fi) Framkallningsblandning foer exponerade, negativt arbetande reproduktionsskikt.
CA1266196A (en) Gumming solution for use in the burning-in of offset- printing plates and process for the production of an offset-printing plate
FI71024B (fi) Foerfarande och framkallningsblandning foer framstaellning av exponerande negativt arbetande diaxoniumsaltskikt
US5155012A (en) Developer concentrate and developer prepared therefrom for exposed negative-working reproduction layers and a process for producing printing forms
US5155011A (en) Developer concentrate and developer prepared therefrom for exposed negative-working reproduction layers with top layer and a process for producing printing forms
CA1172492A (en) Process for the production of lithographic printing forms using a light-sensitive material based on diazonium salt polycondensation products
DE3140186A1 (de) Entwickler und verfahren zum entwickeln fuer belichtete negativ-arbeitende reproduktionsschichten
EP0099003B1 (de) Entwickler und Verfahren zum Entwickeln für bestrahlte negativ-arbeitende Reproduktionsschichten
EP0134407B1 (de) Entwickler und Verfahren zum Entwickeln für bestrahlte negativ-arbeitende Reproduktionsschichten
EP0027932A1 (de) Entwicklergemisch und Verfahren zum Entwickeln von belichteten lichtempfindlichen Kopierschichten
DE2834958A1 (de) Verfahren zum entwickeln von belichteten lichtempfindlichen druckplatten
US6063550A (en) Aqueous developing solutions for reduced developer residue
US4366224A (en) Inorganic lithium developer composition
JPH067264B2 (ja) 支持体上に配置されたネガチブ型の露光した複写層を現像するための現像剤
KR950000237B1 (ko) 네가티브-작용성 복사층용 현상액 혼합물
DE19755295A1 (de) Entwickler für bestrahlte, strahlungsempfindliche Aufzeichnungsmaterialien
KR100462167B1 (ko) 인쇄판용 네가티브형 포토레지스트 현상액
JPH03234595A (ja) 平版印刷版用版面保護剤
EP0104537A2 (de) Entwickler und Verfahren zum Entwickeln für bestrahlte negativ-arbeitende Reproduktionsschichten
JP2001350277A (ja) フォトレジスト及び／又は耐エッチング性樹脂組成物用剥離剤
JPS63170646A (ja) 現像性等が改良される感光性平版印刷版から印刷版の作製方法
EP1958028A1 (en) Developer solution and process for use
JP2001278989A (ja) ポリビニルアルコール熱処理物の溶解方法及び可溶化剤
JPS6053306B2 (ja) ジアゾ系感光性平版印刷版用現像液

Legal Events

Date Code Title Description
MM Patent lapsed

Owner name: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT