FI83457B - Framkallningsblandning foer exponerade, negativt arbetande reproduktionsskikt. - Google Patents

Framkallningsblandning foer exponerade, negativt arbetande reproduktionsskikt. Download PDF

Info

Publication number
FI83457B
FI83457B FI854215A FI854215A FI83457B FI 83457 B FI83457 B FI 83457B FI 854215 A FI854215 A FI 854215A FI 854215 A FI854215 A FI 854215A FI 83457 B FI83457 B FI 83457B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
weight
mixture according
developing
acid
mixture
Prior art date
Application number
FI854215A
Other languages
English (en)
Finnish (fi)
Other versions
FI854215L (fi
FI854215A0 (fi
FI83457C (sv
Inventor
Werner Frass
Gerhard Mack
Birgit Mueller
Guenter Jung
Original Assignee
Hoechst Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst Ag filed Critical Hoechst Ag
Publication of FI854215A0 publication Critical patent/FI854215A0/fi
Publication of FI854215L publication Critical patent/FI854215L/fi
Publication of FI83457B publication Critical patent/FI83457B/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI83457C publication Critical patent/FI83457C/sv

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322Aqueous alkaline compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
  • Pyrane Compounds (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)
  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
  • Medicinal Preparation (AREA)
  • Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Claims (18)

1. Framkallningsblandning för framkallning av ett negativt fungerande, exponerat reproduktionsskikt, k ä n - 5 netecknad därav, att den innehäller vatten, ca 0,5-13 vikt-% av minst ett organiskt lösningsmedel minst ett alkaliskt medel, ca 0,5-9,0 vikt-% av minst ett komp-lexbildande medel, ca 0,2-12 vikt-% av minst ett ytaktivt medel, ca 0,5-10 vikt-% av minst en emulgator, ca 1,0-7,0 10 vikt-% av minst en n-alkanförening och ca 0,5-20 vikt-% av minst ett buffertmedel, varvid nämnda viktprocenter är beräknade pä framkallningsblandningens totala vikt och varvid det ytaktiva medlet har en anjonisk struktur och n-alkanföreningar är en n-alkansyra, ett n-alkansyrasalt 15 eller en blandning av dessa.
2. Framkallningsblandning enligt patentkravet 1, kännetecknad därav, att n-alkanföreningen har 8-12 kolatomer.
3. Framkallningsblandning enligt patentkravet 1 20 eller 2, kännetecknad därav, att mängden n- alkanförneing i blandningen är ca 1,5-6,0 vikt-%.
4. Framkallningsblandning enligt nägot av patent-kraven 1-3, kännetecknad därav, att mängden komplexbildande medel i blandningen är ca 1,0-4,0 vikt-%.
5. Framkallningsblandning enligt nägot av patent- kraven 1-4, kännetecknad därav, att mängden anjoniskt ytaktivt medel i blandningen är ca 1,0-8,0 vikt-%.
6. Framkallningsblandning enligt nägot av patent- 30 kraven 1-5, kännetecknad därav, att mängden emulgator i blandningen är ca 1,0-6,0 vikt-%.
7. Framkallningsblandning enligt nägot av patent-kraven 1-6, kännetecknad därav, att mängden organiskt lösningsmedel i blandningen är ca 1,0-8,0 vikt- 35 %. 23 83457
8. Framkallningsblandning enligt nägot av patent-kraven 1-7, kännetecknad därav, att mängden buffertmedel i blandningen är ca 1,0-10 v±kt-%.
9. Framkallningsblandning enligt nägot av patent-5 kraven 1-8, kännetecknad därav, att n-alkanfö- reningen är kapsyl-, pelargon-, kaprin- eller laurinsyra.
10. Framkallningsblandning enligt nägot av patent-kraven 1-9, kännetecknad därav, att minst ett komplexbildande medel är ett polyfosfat, ett alkalimetall- 10 sait av nitrilotriättiksyra eller ett alkalimetallsalt av etylendiamintriättiksyra.
11. Framkallningsblandning enligt patentkravet 10, kännetecknad därav, att polyfosfatet är ett metafosfat.
12. Framkallningsblandning enligt nägot av patent- kraven 1-11, kännetecknad därav, att minst ett av de anjoniska, ytaktiva medlen är ett alkalimetalloktyl-sulfat, ett alkalimetallsalt av dodekylsufonsyra, ett al-kylfenoletersulfat, ett alkalimetallsulfosuccinat, ett . . 20 alkyleterfosfat, en alkalimetalloljesyrametyltaurid elelr ett kondenserat naftalensulfonat.
13. Framkallningsblandning enligt patentkravet 12, kännetecknad därav, att alkalimetallen är natrium.
14. Framkallningsblandning enligt nägot av patent- kraven 1-13, kännetecknad därav, att minst ett lösningsmedel är bensylalkohol, fenoxietanol, 1-fenyleta-nol, 2-fenyletanol eller propylenglykolmonometyleter.
15. Framkallningsblandning enligt nägot av patent- 30 kraven 1-14, kännetecknad därav, att minst en emulgator är poly-N-vinyl-N-metylacetamid, en vattenlöslig kopolymer av N-vinyl-N-metylacetamid, polyvinylalkohol, dextrin, gummi arabicum eller en cellulosaeter.
16. Framkallningsblandning enligt patentkravet 15, 35 kännetecknad därav, att cellulosaetern är kar- boximetylcellulosa.
17. Framkallningsblandning enligt nägot av patent- 24 83457 kraven 1-16, kännetecknad därav, att buffert-medlet är ett karbonat, ett fosfat, ett borat, ett alkali-metallsalt av glycin eller en amin eller en kombination av dessa.
18. Framkallningsblandning enligt patentkravet 17, kännetecknad därav, att aminen är dietanolamln eller trietanolamin.
FI854215A 1984-10-30 1985-10-28 Framkallningsblandning för exponerade, negativt arbetande reproduktion sskikt FI83457C (sv)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19843439597 DE3439597A1 (de) 1984-10-30 1984-10-30 Entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten sowie verfahren zur herstellung von druckformen und verwendung des entwicklers
DE3439597 1984-10-30

Publications (4)

Publication Number Publication Date
FI854215A0 FI854215A0 (fi) 1985-10-28
FI854215L FI854215L (fi) 1986-05-01
FI83457B true FI83457B (fi) 1991-03-28
FI83457C FI83457C (sv) 1991-07-10

Family

ID=6249037

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI854215A FI83457C (sv) 1984-10-30 1985-10-28 Framkallningsblandning för exponerade, negativt arbetande reproduktion sskikt

Country Status (11)

Country Link
US (1) US4716098A (sv)
EP (1) EP0180122B1 (sv)
CN (1) CN85107915A (sv)
AT (1) ATE68892T1 (sv)
AU (1) AU578982B2 (sv)
BR (1) BR8505386A (sv)
CA (1) CA1263050A (sv)
DE (2) DE3439597A1 (sv)
ES (1) ES9200011A1 (sv)
FI (1) FI83457C (sv)
ZA (1) ZA858130B (sv)

Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5081003A (en) * 1987-07-27 1992-01-14 Hoechst Celanese Corporation Developer compositions for newspaper plates
US4822723A (en) * 1987-11-30 1989-04-18 Hoechst Celanese Corporation Developer compositions for heavy-duty lithographic printing plates
US4873174A (en) * 1988-02-03 1989-10-10 Hoechst Celanese Corporation Method of using developer-finisher compositions for lithographic plates
US5278030A (en) * 1988-10-24 1994-01-11 Du Pont-Howson Limited Developer solution comprising ethyl hexyl sulphate, a surfactant, an alkaline material and having a pH of not less than 12
DE68925610T2 (de) * 1988-10-24 1996-07-25 Du Pont Entwickler für Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen
DE3836404A1 (de) * 1988-10-26 1990-05-03 Hoechst Ag Entwicklungsloesemittel fuer durch photopolymerisation vernetzbare schichten sowie verfahren zur herstellung von reliefformen
US6040116A (en) * 1989-03-17 2000-03-21 Basf Aktiengesellschaft Photosensitive recording element having a recording layer and a top layer possessing different solubility properties, and its development in one operation
DE3908764C2 (de) * 1989-03-17 1994-08-11 Basf Ag Entwickler für die Herstellung photopolymerisierter flexographischer Reliefdruckformen
DE3908763A1 (de) * 1989-03-17 1990-09-27 Basf Ag Lichtempfindliches aufzeichnungselement mit einer aufzeichnungsschicht und einer deckschicht unterschiedlicher loeslichkeitseigenschaften sowie verfahren zu seiner entwicklung in einem arbeitsgang
US5035982A (en) * 1989-07-14 1991-07-30 Eastman Kodak Company Aqueous developer composition for developing negative working lithographic printing plate
DE3938108A1 (de) * 1989-11-16 1991-05-23 Hoechst Ag Entwicklerkonzentrat und daraus hergestellter entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten mit deckschicht sowie verfahren zur herstellung von druckformen
DE3938107A1 (de) * 1989-11-16 1991-05-23 Hoechst Ag Entwicklerkonzentrat und daraus hergestellter entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten sowie verfahren zur herstellung von druckformen
US5252436A (en) * 1989-12-15 1993-10-12 Basf Aktiengesellschaft Process for developing a positive-working photoresist containing poly(p-hydroxystyrene) and sulfonium salt with an aqueous developer containing basic organic compounds
US5234506A (en) * 1991-07-17 1993-08-10 Church & Dwight Co., Inc. Aqueous electronic circuit assembly cleaner and method
US5264047A (en) * 1991-07-17 1993-11-23 Church & Dwight Co., Inc. Low foaming effective hydrotrope
US5234505A (en) * 1991-07-17 1993-08-10 Church & Dwight Co., Inc. Stabilization of silicate solutions
US5433885A (en) * 1991-07-17 1995-07-18 Church & Dwight Co., Inc. Stabilization of silicate solutions
US5431847A (en) * 1991-07-17 1995-07-11 Charles B. Barris Aqueous cleaning concentrates
CA2098169C (en) * 1992-07-23 1998-09-22 John E. Walls Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability
US5279927A (en) * 1992-07-23 1994-01-18 Eastman Kodak Company Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability
US5316892A (en) * 1992-07-23 1994-05-31 Eastman Kodak Company Method for developing lithographic printing plates
EP0602736B1 (en) * 1992-12-17 1997-11-05 Eastman Kodak Company Aqueous developer for lithographic printing plates which exhibits reduced sludge formation
US5380623A (en) * 1992-12-17 1995-01-10 Eastman Kodak Company Aqueous developer for lithographic printing plates which provides improved oleophilicity
US5629127A (en) * 1993-04-28 1997-05-13 Toray Industries, Inc. Positive electron beam resist composition containing cresolnovolak resin, select additive and methyl gallate/1,2-naphthoquinonediazido-4-sulfonyl chloride reaction product
DE19822441A1 (de) * 1997-06-24 1999-01-28 Heidelberger Druckmasch Ag Druckformreinigungsverfahren
DE19755295A1 (de) * 1997-12-12 1999-06-17 Agfa Gevaert Ag Entwickler für bestrahlte, strahlungsempfindliche Aufzeichnungsmaterialien
DE19811330A1 (de) * 1998-03-16 1999-09-23 Du Pont Deutschland Entwickler und Verfahren zur Herstellung von flexographischen Druckformen
US6100016A (en) * 1999-09-14 2000-08-08 Agfa-Gevaert Ag Developer for irradiated, radiation-sensitive recording materials
JP4050854B2 (ja) 1999-12-21 2008-02-20 富士フイルム株式会社 画像形成方法
US6841336B2 (en) 2000-10-16 2005-01-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Plate-making method of lithographic printing plate
CN100367113C (zh) * 2002-12-11 2008-02-06 三星电子株式会社 用于形成共轭聚合物图案的组合物和使用该组合物形成共轭聚合物图案的方法
US7157213B2 (en) * 2004-03-01 2007-01-02 Think Laboratory Co., Ltd. Developer agent for positive type photosensitive compound
EP1574907A1 (en) * 2004-03-08 2005-09-14 Think Laboratory Co., Ltd. Developing agent for positive-type photosensitive composition
JP7022128B2 (ja) * 2016-11-16 2022-02-17 ミラクロン コーポレーション フレキソ印刷用現像液および使用法
CN108345188A (zh) * 2017-12-29 2018-07-31 江苏乐彩印刷材料有限公司 一种ctp版材显影液
CN112782946A (zh) * 2021-01-11 2021-05-11 天津华源化工有限公司 一种工业设备用显影液

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE606642A (sv) * 1960-07-29
GB1102952A (en) * 1963-09-05 1968-02-14 Howson Ltd W H Processing of presensitized photolithographic printing plates
GB1220808A (en) * 1967-05-18 1971-01-27 Howson Algraphy Ltd Processing of presensitized photolithographic printing plate
US3707373A (en) * 1969-03-17 1972-12-26 Eastman Kodak Co Lithographic plate developers
US3867147A (en) * 1969-05-20 1975-02-18 Hoechst Co American Light-sensitive diazo compounds and reproduction material employing the same
US3669660A (en) * 1970-05-21 1972-06-13 Polychrome Corp Lithographic plate developing composition and process of use thereof
US4147545A (en) * 1972-11-02 1979-04-03 Polychrome Corporation Photolithographic developing composition with organic lithium compound
DE2530502C2 (de) * 1974-07-22 1985-07-18 American Hoechst Corp., Bridgewater, N.J. Verfahren zum gleichzeitigen Entwickeln und Konservieren von Druckplatten sowie dafür geeignete Behandlungslösung
JPS5344202A (en) * 1976-10-01 1978-04-20 Fuji Photo Film Co Ltd Developer composition and developing method
DE2941960A1 (de) * 1979-10-17 1981-04-30 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Entwicklergemisch und verfahren zum entwickeln von von belichteten lichtempfindlichen kopierschichten
GB2068136B (en) * 1980-01-29 1984-09-05 Vickers Ltd Developers for lithographic printing plates
US4308340A (en) * 1980-08-08 1981-12-29 American Hoechst Corporation Aqueous 2-propoxyethanol containing processing composition for lithographic printing plates
DE3100259A1 (de) * 1981-01-08 1982-08-05 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren und entwicklergemisch zum entwickeln von belichteten negativ arbeitenden diazoniumsalzschichten
JPS5854341A (ja) * 1981-09-28 1983-03-31 Fuji Photo Film Co Ltd 現像方法および現像液
GB2110401A (en) * 1981-11-04 1983-06-15 Bicc Plc Developer solutions and processes for making lithographic printing plates
US4786580A (en) * 1983-12-27 1988-11-22 Hoechst Celanese Corporation Method of developing imaged diazo material with propanol containing developer composition

Also Published As

Publication number Publication date
FI854215L (fi) 1986-05-01
DE3584501D1 (de) 1991-11-28
FI854215A0 (fi) 1985-10-28
ATE68892T1 (de) 1991-11-15
EP0180122A3 (en) 1988-03-02
AU4917685A (en) 1986-05-08
EP0180122A2 (de) 1986-05-07
CN85107915A (zh) 1986-10-01
CA1263050A (en) 1989-11-21
EP0180122B1 (de) 1991-10-23
AU578982B2 (en) 1988-11-10
ES548290A0 (es) 1992-10-16
ES9200011A1 (es) 1992-10-16
DE3439597A1 (de) 1986-04-30
ZA858130B (en) 1986-06-25
FI83457C (sv) 1991-07-10
BR8505386A (pt) 1986-08-05
US4716098A (en) 1987-12-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI83457B (fi) Framkallningsblandning foer exponerade, negativt arbetande reproduktionsskikt.
CA1266196A (en) Gumming solution for use in the burning-in of offset- printing plates and process for the production of an offset-printing plate
FI71024B (fi) Foerfarande och framkallningsblandning foer framstaellning av exponerande negativt arbetande diaxoniumsaltskikt
US5155012A (en) Developer concentrate and developer prepared therefrom for exposed negative-working reproduction layers and a process for producing printing forms
US5155011A (en) Developer concentrate and developer prepared therefrom for exposed negative-working reproduction layers with top layer and a process for producing printing forms
GB2082339A (en) Lithographic Printing Plates and Method for Processing
CA1172492A (en) Process for the production of lithographic printing forms using a light-sensitive material based on diazonium salt polycondensation products
DE3140186A1 (de) Entwickler und verfahren zum entwickeln fuer belichtete negativ-arbeitende reproduktionsschichten
EP0099003B1 (de) Entwickler und Verfahren zum Entwickeln für bestrahlte negativ-arbeitende Reproduktionsschichten
EP0134407B1 (de) Entwickler und Verfahren zum Entwickeln für bestrahlte negativ-arbeitende Reproduktionsschichten
DE2834958A1 (de) Verfahren zum entwickeln von belichteten lichtempfindlichen druckplatten
US4366224A (en) Inorganic lithium developer composition
CN110199226B (zh) 柔性版显影剂及使用方法
JPH067264B2 (ja) 支持体上に配置されたネガチブ型の露光した複写層を現像するための現像剤
KR950000237B1 (ko) 네가티브-작용성 복사층용 현상액 혼합물
DE19755295A1 (de) Entwickler für bestrahlte, strahlungsempfindliche Aufzeichnungsmaterialien
KR100462167B1 (ko) 인쇄판용 네가티브형 포토레지스트 현상액
US7094523B1 (en) Developer solution and process for use
EP0104537A2 (de) Entwickler und Verfahren zum Entwickeln für bestrahlte negativ-arbeitende Reproduktionsschichten
JP2001350277A (ja) フォトレジスト及び/又は耐エッチング性樹脂組成物用剥離剤
JPS63170646A (ja) 現像性等が改良される感光性平版印刷版から印刷版の作製方法
JP2001278989A (ja) ポリビニルアルコール熱処理物の溶解方法及び可溶化剤
JPS6053306B2 (ja) ジアゾ系感光性平版印刷版用現像液

Legal Events

Date Code Title Description
MM Patent lapsed

Owner name: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT