FI75968C - Plasmaprocessenhet med cellstruktur. - Google Patents

Plasmaprocessenhet med cellstruktur. Download PDF

Info

Publication number
FI75968C
FI75968C FI862763A FI862763A FI75968C FI 75968 C FI75968 C FI 75968C FI 862763 A FI862763 A FI 862763A FI 862763 A FI862763 A FI 862763A FI 75968 C FI75968 C FI 75968C
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
plasma
zone
cylinder
tubular structures
cannon
Prior art date
Application number
FI862763A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI75968B (fi
FI862763A (fi
FI862763A0 (fi
Inventor
Pentti Salmelin
Original Assignee
Imatran Voima Oy
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Imatran Voima Oy filed Critical Imatran Voima Oy
Priority to FI862763A priority Critical patent/FI75968C/fi
Publication of FI862763A0 publication Critical patent/FI862763A0/fi
Priority to PCT/FI1987/000088 priority patent/WO1988000088A1/en
Publication of FI862763A publication Critical patent/FI862763A/fi
Publication of FI75968B publication Critical patent/FI75968B/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI75968C publication Critical patent/FI75968C/fi

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J12/00Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor
    • B01J12/002Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor carried out in the plasma state

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Description

75968
Kennorakenteinen plasmaprosessiyksikkö
Taman keksinnön kohteena on patenttivaatimuksen 1 johdannon mukainen kennorakenteinen plasmaprosessiyksikko.
Yksikköä käytetään korkeita lämpötiloja ja suuria energiatiheyksiä vaativissa hajoitus-, hävitys- ja rekombinaatioso-velluksissa.
Kaikkien tunnettujen plasmalaiteratkaisujen rakenne on lähes yhtäläinen. Plasmapoltin on sijoitettu lieriömäiseen, korkeita lämpötiloja sietävällä materiaalilla vuorattuun reak-tiokammioon. Hajoitettava materiaali tuodaan erilaisilla yh-teillä lähelle plasmalieskaa nk. reaktioalueelle, jossa hajoamistuotteina syntyneet kaasut sekoittuvat ja reagoivat reaktiokammiossa ja poistuvat erillisen kaasunpesuyksikön kautta jatkokäsittelyyn.
Reaktiokammion koko määräytyy hajoamistuotteiden sekoittumisen ja rekombinaation vaatiman viiveajan sekä plasmatykin tehon perusteella. Viiveaikaa voidaan säätää apukaasuvirtoja tai materiaalinsyöttöä säätämällä. Reaktiokammion tilavuus ja tykin teho noudattavat tunnetuissa rakenteissa karkeasti lakia 4 litraa/kWf mikä johtaa suuriin reaktiokammioihin; 0,5 MW:n tykki vaatii 2 m^jn kammion.
Plasmalieskan synnyttämä säteilykuorma vaatii reaktiokammi-olta erittäin hyvää lämpötilankestoa. Kirjallisuudessa ja patenttijulkaaisuissa kuvatut reaktiokammiot on suojattu säteilyä vastaan erilaisilla keraamisilla massoilla tai tuli-kivillä.
Reaktiokammiosta poistuvat hajoamiskaasut jäähdytetään ja puhdistetaan erillisessä pesuriyksikössä. Pesurien toiminta perustuu ilma- ja/tai vesisuihkutukseen. Pesurien koko on karkeasti 2...3 kertaa reaktiokammion koko.
2 75968
Tunnetun tekniikan epäkohtana on se, että laitteistoon kuuluu kaksi kohtalaisen suurta yksikköä. Paksun vuorauksen takia reaktiokammion paino nousee helposti muutamiin tonnei-hin. Massiivinen rakenne myös hidastaa reaktorin lämmitystä, ensimmäinen ylösajo voi kestää useeita päiviä, ja keskeytyksenkin jälkeen lämmittäminen vie tunteja. Paksun vuorauksen halkeamisvaaran vuoksi joudutaan eräissä tapauksissa käyttämään lämmitykseen nestekaasu- tai muita polttimia. Jos vuoraus vaurioituu, sen korjaus kestää useita päiviä. Suuri ongelma on myös se, että nykyisissä ratkaisuissa ei pystytä hyödyntämään reaktiokammion koko kapasiteettia. Plasmatykin kokoon nähden sopiva materiaalinsyöttö johtaa suureen reaktoriin. Suurikokoisessa reaktorissa hajoamiskaasujen sekoittuminen taas vaatii pitkän ajan (n. 1 s), minkä vuoksi reaktoria on suurennettava tai materiaalin syöttönopeutta laskettava. Suureen reaktoriin saattaa jäädä kylmiä (< 700 °C) taskuja, mikä saattaa johtaa esim. jätteidenhävitysproses-sissa vakaviin ympäristö- ja henkilövahinkoihin. Vuorausma-teriaaleihin saattaa myös imeytyä reaktiotuotteita ja häiriötilanteissa myös lähtöaineita, jolloin ongelmajätteitä tuhottaessa vuorausaineet itse muuttuvat ongelmajätteiksi.
Tämän keksinnön tarkoituksena on poistaa edellä kuvatussa tekniikassa esiintyvät haitat ja saada aikaan aivan uuden-tyyppinen kennorakenteinen plasmaprosessiyksikkö.
Keksintö perustuu siihen, prosessiyksikkö koostuu hajoitus-lieriön ympärille asennetuista sisäkkäisistä putkirakenteis-ta, joilla kaasun kulkureitti on muodostettu laskostetuksi käytäväksi, jolloin hajoitus- rekombinaatio-sekä pesurivyö-hykkeet on saatu samaan yksikköön.
Täsmällisemmin sanottuna keksinnön mukaiselle laitteistolle on tunnusomaista se, mikä on esitetty patenttivaatimuksen 1 tunnusmerkkiosassa.
Keksinnön avulla saavutetaan huomattavia etuja.
Keksinnön mukainen laitteisto on tehtävissä pienikokoiseksi rakenteensa ansiosta. Pienestä koosta seuraa keveys ja help- 3 75968 po liikuteltavuus ja samalla lyhyt ylösajoaika: lämmitys kestää parhaimmillaan vain muutamia sekunteja. Pieni koko mahdollistaa helpon ja halvan puhdistuksen, huollon ja korjauksen verrattuna tavallisiin rakenteisiin. Kompakti rakenne antaa laitteelle myös selvästi paremman kestävyyden perinteisiin rakenteisiin verrattuna. Hajoituslieriön ansiosta hajoitettavalla materiaalilla ei ole mahdollisuutta välttää plasmalieskaa. Pitkänomaisen lieriön ansiosta hajoitettava aine joutuu alttiiksi plasmaolosuhteille kertaluokkaa kauemmin kuin tavanomaisissa rakenteissa, mikä varmistaa lähes täydellisen hajoamisen. Likimain täydellisesti kaasuiksi muodostuneet aineet sekoittuvat voimakkaasti kapeissa reak-tiovyöhykkeissä ja reagoivat lopputuotteiksi tehokkaasti ja nopeasti. Tehokkaan hajoituksen ja jälleenyhdistymisen vuoksi viiveaikoja voidaan lyhentää jopa kymmenenteen osaan nykyisestä. Keksinnön mukaisella laitteella myös koko kapasiteetti on käytettävissä. Oikein mitoitetussa laitteessa materiaalin syöttönopeus määräytyy tykin tehon mukaan. Laitteisto ei tarvitse myöskään apupolttimia eikä näiden vaatimia apujärjestelmiä. Häiriötilanteessa laitteeseen jäävä hajoamaton materiaalimäärä on oleellisesti pienempi kuin perinteisissä laitteissa, koska aineen hajoitus on tehokasta. Hajoamattomat aineet ovat myös helposti talteenotettavissa yksinkertaisen, vuoraamattoman ja pienikokoisen laitteiston ansiosta.
Keksintöä ryhdytään seuraavassa lähemmin tarkastelemaan oheisten piirustusten mukaisen sovellutusesimerkin avulla.
Kuviossa 1 on esitetty halkileikattuna sivukuvantona yksi mahdollinen ratkaisu kennorakenteisen plasmaprosessiyksikön toteuttamiseksi.
Kuviossa 2 on esitetty leikkauksena A - A kuvion 1 mukainen plasmaprosessiyksikkö.
Prosessikomponentin tukirakenteen muodostaa esimerkiksi erikoisteräksestä valmistettu runko 13, johon laitteiston muut 4 75968 osat on pääosin kiinnitetty. Järjestelmän ytimen muodostaa rungon yläosaan kiinnitetty plasmatykki 1. Plasmatykki 1 käsittää plasmakaasun syöttöelimet 2, sähkönsyöttöelimet 4 sekä tykin jäähdytyselimet 3. Hajoitettava materiaali syötetään materiaalinsyöttöelimillä 19 plasmatykillä 1 muodostettuun plasmalieskaan 6. Plasmatykin 1 alapuolella on hajoi-tusvyöhyke 8, jota sivuilta rajoittaa hajoituslieriö 9, joka on kiinnitetty plasmatykin ympärille. Hajoituslieriön 9 poikkileikkaus on edullisimmin pyöreä, koska tällöin plasma-lieska 6 täyttää lieriön täydellisimmin ja on mahdollista saavuttaa tasaisin lämpötilajakautuma ja samalla tehokkain aineen hajoitus. Hajoituslieriö 9 joutuu voimakkaan lämpö-kuormituksen alaiseksi, ja siksi se on valmistettu erikois-metallista, esimerkiksi niobiumista. Hajoituslieriön 9 mitoitusesimerkkinä voidaan mainita 200 kW:n plasmatykin yhteydessä käytettävän lieriön 9 mitat. Tällöin lieriön 9 pituus on 1000-1500 mm ja halkaisija 150-200 mm. Hajoituslie-riö 9 on kiinnitetty laitteiston runkoon 13 plasmatykin 1 ympärille esimerkiksi pulttaamalla ja sopivasti tiivistämällä. Tiivistemateriaalina voidaan käyttää riittävän hyvin lämpöä kestävää materiaalia, esimerkiksi asbestisekoitetta. Tarvittaessa tiivistettä voidaan jäähdyttää kaasuvirtauksel-la. Hajoituslieriön 9 plasmatykkiin 1 nähden vastakkainen pää on avoin hajoitetun kaasumaisen materiaalin virtauksen mahdollistamiseksi. Avoimen pään läheisyydessä oleva kaasu-tilaa rajoittava pinta 10 on jäähdytetty pinnan 10 takana olevalla aineella 11, esimerkiksi vedellä tai jollain muulla nesteellä. Kaasutilaa rajoittava pinta 10 voi. myös olla päällystetty (ei-esitetyllä) valumassalla, jolloin prosessin aikana massa voi olla sulaa plasmalieskan puolella ja kiinteässä tilassa jäähdytetyn pinnan 10 läheisyydessä.
Kaasutetun materiaalin kulkureitti muodostuu laskostetuksi keksinnön mukaisen sisäkkäisistä putkirakenteista, esimerkiksi lieriöistä 9, 14, 15, 16, muodostuvan rakenteen ansiosta. Kukin lieriö on kiinnitetty tosesta päästään runkoon 13 siten, että halkaisijaltaan pienin hajoituslieriö 9 on 5 75968 kiinnitetty yläpäästään ja halkaisijaltaan toiseksi pienin toinen lieriö 14 alapäästään ja niin edelleen. Rungon 13 ja kunkin lieriön kiinnittämättömän pään väliin jätetään rako kaasuvirtauksen mahdollistamiseksi. Raon suuruus määräytyy halutun virtauksen mukaan, mutta on sopivimmin hajoituslie-riön 9 säteen suuruinen.
Hajoitusvyöhykkeestä 8 tulevan hajoitetun kaasumaisen aineen rekombinaatiovyöhyke 12 muodostuu hajoituslieriön 9 ulkopinnan ja toisen lieriön 14 sisäpinnan väliin. Kyseisen rekom-binaatiovyöhykkeen 12 radiaalinen leveys on sopivimmin ha-joituslieriön 9 halkaisijan suuruinen ja pituudeksi muodostuu käytetyssä rakenteessa likimain hajoituslieriön 9 pituus. Kuvion mukaisessa ratkaisussa rekombinaatiovyöhyke 12 päättyy samalle seinämälle, johon plasmatykki 1 ja hajoitus-lieriö 9 on kiinnitetty.
Rekombinaatiovyöhykkeen 12 jälkeen kaasun kulkureitillä ovat pesurivyöhykkeet 7, joiden lukumäärä määräytyy halutun pesu-tehon mukaan. Kuvion ratkaisussa pesurivyöhykkeitä 7 on kaksi, joista ensimmäinen muodostuu toisen lieriön 14 ulkopinnan ja kolmannen lieriön 15 sisäpinnan väliin ja toinen kolmannen lieriön 15 ulkopinnan ja neljännen lieriön 16 sisäpinnan väliin.
Prosessikomponentin plasmatykin 1 puoleiseen seinämään pesu-rivyöhykkeisiin 7 on asennettu sumutussuuttimet 5, joiden kautta syötetään esimerkiksi kaasua tai nestettä rekombinaa-tiovyöhykkeestä 12 tulevan kaasun pesemiseksi. Sumutussuut-timia 5 asennetaan niin monta, että sumutussuihku kattaa koko vyöhykkeen poikkileikkauksen. Esimerkiksi vesi on sopiva pesuriaine. Piirustusten mukaisessa laitteistossa suuttimia on 8 kappaletta vyöhykettä kohti. Tarvittaessa voidaan re-kombinaatiovyöhykettä 12 seuraavan pesurivyöhykkeen sumutussuuttimet 5 sulkea, jolloin pesurivyöhyke 7 on muutettu re-kombinaatiovyöhykkeeksi 12. Hain voidaan rekombinaatio- ja pesuvyöhykkeiden pituutta säädellä halutun mittaiseksi. Pe-surivyöhykkeiden 7 tehtävänä on jäähdyttää nopeassti rekom- 6 75968 binaatiovyöhykkeestä 12 saapuvaa kaasua. Pesurivyöhykkeiden 7 jälkeen kaasu johdetaan jatkokäsittelyyn, esimerkiksi lämmön talteenottoon, prosessikomponentin ulkopuolelle.
Prosessikomponentin runko 13 voi olla täysin yhtenäinen ja kiinteä, jolloin joissakin lieriöissä on kaasun kulkua rajoittamattomia (ei-esitettyjä) kiinnityselimiä rungon alaosan 17 ja yläosan 18 toisiinsa sitomiseksi. Edullisimmin kiinnityselimet ovat uloimmissa lieriöissä, jolloin niiden lämpökuormitus on vähäinen.
Rungon 13 yläosa 18 ja alaosa 17 voivat olla myös täysin erillisiä, jolloin yläosa on tuettu erillisellä (ei-esite-tyllä) tukielimellä. Tällä ratkaisulla saavutetaan se etu, että kunkin lieriön ja runko-osan 13 välinen kaasunkulkuauk-ko tulee säädettäväksi. Myös laitteiston huolto ja puhdistus on vaivatonta, jos ylä- ja alaosa ovat toisistaan erillään.
Hajoituslieriön 9 poikkileikkaus voi olla ympyrästä poikkeava. Tällöin on edullista, että lieriö on symmetrinen lieskan suhteen, ja mahdollisten kulmien tulee olla pyöristetyt kylmien taskujen välttämiseksi.
Hajoituslieriön 9 ei ole välttämätöntä olla, kuten ei muidenkaan lieriöiden 14, 15 ja 16, puhtaasti matemaattisesti määritelty lieriö, vaan olennaista on rakenneosien putkimai-suus. Puhtaasta lieriömäisyydestä voidaan joutua poikkeamaan, mikäli virtausteknisistä syistä putkiin tehdään supistuksia tai putket valmistetaan kartiomaisiksi samoista syistä .
Lieriöiden 14, 15 ja 16 halkaisijat voidaan valita myös siten, että kunkin vyöhykkeen 7, 8, 12 plasmaprosessiyksikön pituusakseliin nähden kohtisuoran halkaisijan pinta-ala on vakio, jolloin kaasuvirtaus kohtaa kussakin vyöhykkeessä likimain yhtäläisen virtausvastuksen.
Lämpökuormituksen vähentämiseksi voidaan plasmatykin 1 ympärille asentaa (ei-esitetty) rengasmainen kaasusuutin, josta 7 75968 syötettävällä kaasulla, esimerkiksi käytetyllä plasmakaasul-la, jäähdytetään hajoituslieriön 9 sisäpintaa.
Sisäkkäisten lieriöiden lukumäärä voi olla mielivaltainen. Keksinnölle on kuitenkin oleellista, että sisimän lieriön 9 sisälle jäänyt tila toimii hajoitusvyöhykkeenä 8 ja kaasun kulkureitillä sitä seuraa vähintään yksi rekombinaatiovyöhy-ke 12, jonka jälkeen on riittävä määrä pesurivyöhykkeitä 7, jotka ovat sumutussuuttimien 5 sulkemisella muutettavissa rekombinaatiovyöhykkeiksi.
Hajoituslieriön 9 ja plasmatykin 1 välisen huonon tiiviyden aiheuttamia ongelmia voidaan pienentää järjestämällä lieriöön ympäristöä alhaisempi paine esimerkiksi pesurivyöhykkei-den 7 sumutussuuttimilla tai pesurivyöhykkeiden jälkeisellä kaasun imulla.
Piirustuksissa esitetty prosessikomponentin asento, jossa kaasutettava materiaali, samoin kuin pesussa käytettävä aine syötetään maan vetovoimakentän suuntaan on edullisin, mutta myös muut asennot ovat mahdollisia. Muiden asentojen yhteydessä sekä jäähdytys että varotoimet mahdollisen käyttöhäi-riön yhteydessä vaativat erikoisratkaisuja.

Claims (8)

8 75968
1. Kennorakenteinen plasmaprosessiyksikkö, joka käsittää - rungon (13), joka käsittää yläosan (18) ja alaosan (17), ja - runkoon (13) sovitetun, putkimaisen hajoituslie-riön (9), jolla hajoitusvyöhyke (8) on muodostettavissa, - vähintään yhden, hajoituslieriön (9) yhteen päähän sijoitetun plasmatykin (1) plasmakaasunsyöttö-elimineen (2), sähkönsyöttöelimineen (4) sekä jäähdytyselimineen (3), jolla tykillä (1) plasma-lieska (6) on muodostettavissa, - materiaalinsyöttöelimet (19), joilla materiaali on syötettävissä plasmalieskaan (6), - vähintään yhden rekombinaatiovyöhykkeen (12), jossa hajoitusvyöhykkeessä (8) hajoitettu aine on rekombinoitavissa uusiksi yhdisteiksi, - vähintään yhden pesurivyöhykkeen (7), jossa re-kombinaatiovyöhykkeissä (12) rekombinoituneet aineet ovat pestävissä, ja - vähintään yhden sumutussuuttimen (5) kussakin pesurivyöhykkeessä (7), jolla suuttimellä (5) pesevä aine on sumutettavissa kuhunkin pesurivyöhyk-keeseen (7), tunn.ettu olennaisen samankeskeisistä putkirakenteista (14, 15, 16), joista halkaisijaltaan pienin (14) 9 75968 on sovitettu toisesta päästään plasmatykkiin (1) nähden rungon (13) vastakkaiseen puoliskoon (17) olennaisen samankeskeisesti hajoituslieriön (9) ympärille ja vastaavasti muut putkirakenteet (15, 16. on sovitettu kasvavan halkaisijansa mukaan vuorotellen rungon (13) vastakkaisiin puoliskoihin (17, 18) laskostetun kaasunvirtauskanavan muodostamiseksi .
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen laitteisto, tunnet-t u siitä, että putkirakenteiden (14, 15, 16) poikkileikkaus on ympyränmuotoinen.
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että putkirakenteet (14, 15, 16) ovat lieriöitä .
4. Jonkin edellisen patenttivaatimuksen mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että rungon yläosa (18) ja alaosa (17) ovat toistensa suhteen liikuteltavat huollon helpottamiseksi ja kaasuvirtauksen säädön mahdollistamiseksi.
5. Patenttivaatimuksen 1, 2 tai 3 mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että rungon yläosa (18) ja alaosa (17) ovat toistensa suhteen kiinteät.
6. Jonkin edellisen patenttivaatimuksen mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että plasmakaasun syöttöelimet (2) on sovitettu siten, että osa plasmakaasusta on johdettavissa plasmalieskan (6) ja valokaaren ohi hajoituslieriön (9) seinämälle lämpökuormituksen pienentämiseksi.
7. Jonkin edellisen patenttivaatimuksen mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että putkirakenteiden (14, 15, 16) halkaisijat on valittu siten että kunkin vyöhykkeen (7, 12) radiaalinen leveys on vakio.
8. Jonkin edellisen patenttivaatimuksen mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että putkirakenteiden (14, 15, 16) ίο 75968 halkaisijat on valittu siten, että kunkin vyöhykkeen (7, 8, 12. halkileikkauksen pinta-ala on vakio.
FI862763A 1986-06-30 1986-06-30 Plasmaprocessenhet med cellstruktur. FI75968C (fi)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI862763A FI75968C (fi) 1986-06-30 1986-06-30 Plasmaprocessenhet med cellstruktur.
PCT/FI1987/000088 WO1988000088A1 (en) 1986-06-30 1987-06-30 Shell-structured plasma process unit

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI862763 1986-06-30
FI862763A FI75968C (fi) 1986-06-30 1986-06-30 Plasmaprocessenhet med cellstruktur.

Publications (4)

Publication Number Publication Date
FI862763A0 FI862763A0 (fi) 1986-06-30
FI862763A FI862763A (fi) 1987-12-31
FI75968B FI75968B (fi) 1988-04-29
FI75968C true FI75968C (fi) 1988-08-08

Family

ID=8522853

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI862763A FI75968C (fi) 1986-06-30 1986-06-30 Plasmaprocessenhet med cellstruktur.

Country Status (2)

Country Link
FI (1) FI75968C (fi)
WO (1) WO1988000088A1 (fi)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8906045D0 (en) * 1989-03-16 1989-04-26 Davy Mckee London Apparatus
CA2319884C (en) * 1992-06-15 2001-12-04 Herman Miller, Inc. Pneumatic support column for a chair
US7160521B2 (en) 2001-07-11 2007-01-09 Applied Materials, Inc. Treatment of effluent from a substrate processing chamber
WO2004064983A1 (en) * 2003-01-13 2004-08-05 Applied Materials, Inc. Treatment of effluent from a substrate processing chamber

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3780675A (en) * 1972-04-18 1973-12-25 Boardman Co Plasma arc refuse disintegrator
CA1225441A (en) * 1984-01-23 1987-08-11 Edward S. Fox Plasma pyrolysis waste destruction

Also Published As

Publication number Publication date
FI75968B (fi) 1988-04-29
FI862763A (fi) 1987-12-31
WO1988000088A1 (en) 1988-01-14
FI862763A0 (fi) 1986-06-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI75923C (fi) Foerfarande och anordning foer pyrolytisk destruktion av avfall.
CA1198285A (en) Variable capacity gasification burner
EP1143197B1 (en) Exhaust gas treating device
US4980092A (en) Method for the destruction of chemically stable waste
JP6416804B2 (ja) 誘導プラズマによる有機化合物の熱破壊装置
JPH02107387A (ja) 有毒廃棄物を処理する方法およびプラズマ化学的反応器
EP0247894A2 (en) Method and apparatus for treating waste containing organic contaminants
US7666367B1 (en) Method for a burner and a corresponding device
KR20080063838A (ko) 고품질의 합성 기체를 발생시키기 위해 높은 온도 및 외부전력 공급으로 바이오매스와 유기 폐기물을 기체화하는장치
US20040028590A1 (en) Method and device for combustion type exhaust gas treatment
US20060289397A1 (en) Arc plasma jet and method of use for chemical scrubbing system
JP2007529711A (ja) 廃棄物を処理するための方法および装置
KR890000141A (ko) 전기부품의 제조에서 생기는 개스배출물의 처리방법과 그 방법을 수행하기 위한 회화장치
FI75968C (fi) Plasmaprocessenhet med cellstruktur.
US4925389A (en) Method and apparatus for treating waste containing organic contaminants
JP5927169B2 (ja) 滑走型電気アークを使用した酸化装置および酸化方法
US5960026A (en) Organic waste disposal system
KR100338398B1 (ko) 석탄의코크스화방법
RU2276840C2 (ru) Электродуговой плазмотрон саунина
CA2398476A1 (en) Treatment of fluorocarbon feedstocks
JP4430230B2 (ja) 媒体を融成物に導入するため及び/又は融成物の特性を測定するためのランスを冷却する方法、及びこの方法を実施するためのランス
JPS6355981B2 (fi)
KR20190010725A (ko) 챠르 분리기 및 방법
RU67909U1 (ru) Плазмотрон
Van Oost Plasma for environment

Legal Events

Date Code Title Description
MM Patent lapsed
MM Patent lapsed

Owner name: IMATRAN VOIMA OY