FI71846C - Foerfarande foer framstaelning av en offsetplaot och vid framstaellning anvaend faerdigstaellningsloesning. - Google Patents
Foerfarande foer framstaelning av en offsetplaot och vid framstaellning anvaend faerdigstaellningsloesning. Download PDFInfo
- Publication number
- FI71846C FI71846C FI802595A FI802595A FI71846C FI 71846 C FI71846 C FI 71846C FI 802595 A FI802595 A FI 802595A FI 802595 A FI802595 A FI 802595A FI 71846 C FI71846 C FI 71846C
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- compound
- composition
- diazo
- solution
- lithographic
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/08—Damping; Neutralising or similar differentiation treatments for lithographic printing formes; Gumming or finishing solutions, fountain solutions, correction or deletion fluids, or on-press development
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
Description
KUULUTUSJULKAISU n /1 η λ / >-BJ (11) UTLÄGGNINGSSKRIFT / Ιθ4θ 5¾¾ C Pate; Ui myönnetty (4S) 00 0Z 108? (51) Kv.lk.4/lnt.CI.4 G 03 F 7/08, B *Π N 3/08 SUOMI F1 N LAND (2.1) Patenttihakemus — Patentansökning 802595 (22) Hakemispäivä — Ansökningsdag l8.08.80 (F«) (23) Alkupäivä — Giltighetsdag 18.08.80 (41) Tullut julkiseksi — Blivic offentlig 21.02.8 1
Patentti- ja rekisterihallitus /44) Nähtäväksipanon ja kuul.julkaisun pvm. — 31.10.86
Patent- och registerstyrelsen ' Ansökan utlagd och utl.skrlften publicerad (86) Kv. hakemus — Int. ansökan (32)(33)(31) Pyydetty etuoikeus — Begärd prioritet 20.08.79 Eng 1anti-England(GB) 7928902 (71) Vickers Limited, Vickers House, Millbank Tower, Millbank, London,
Englanti-England(GB) (72) Allen Peter Gates, Knaresborough, Yorkshire,
Elizabeth Anne Dawson, Leeds, Yorkshire, Englanti-England(GB) (7*0 Oy Koi ster Ab (5*4) Menetelmä offsettlevyn valmistamiseksi ja valmistuksessa käytetty viimeistelyl iuos - Förfarande för framställning av en offsetplät och vid f ramstä11 ning använd färdigstäl1 ningslösning
Keksintö koskee offsetlevynvalmistusta. Keksinnön kohteena on tarkemmin sanottuna menetelmä offsetlevyn valmistamiseksi valoherkästä levystä, joka käsittää alustan, jonka päälle on sovitettu valoherkkä päällyste, joka sisältää diatsoyhdisteen, jossa menetelmässä valoherkkälevy valotetaan kuvanmuodostamalla tavalla, valotettu levy kehitetään päällysteen valottumattomat-tomien alueiden selektiiviseksi poistamiseksi alustasta ja, kehitettyä levyä käsitellään vesiliuoksella.
Keksinnön kohteena on myös vesiliuoksen muodossa oleva viimeistelykoostumus valotetun ja kehitetyn säteilyherkän levyn käsittelemiseksi offsetlevyjen valmistuksessa.
Kuten tiedetään, ovat offsetlevyssä kuva-alueet, joihin painoväri tarttuu, ja muut alueet (ei-kuva-alueet), jotka vastaanottavat vettä, olennaisesti samassa tasossa. Nykyään kaikki offsetlevyt ovat valoherkkiä levyjä, joissa sopivaa alustaa peit- 2 71846 tää valoherkkä päällyste. Sellaisen valoherkän levyn valotus kuvanmuodostavalla tavalla käyttämällä sopivaa läpinäkyvyyttä muuttaa päällysteen ominaisuuksia valottuneilla alueilla. Yleisimmin käytetyissä levytyypeissä, so. substraktiivisissä levyissä voidaan sen suoksi poistaa päällyste tarkkaan alustasta ei-kuva-alueilta sopivalla kehiteliuoksella, joka jättää kuvan alustaan. Ns. positiivisesti toimivissa offsetlevyissä poistetaan valottuneet päällysteen alueet, kun taas ns. negatiivisesti toimivissa offsetlevyissä poistetaan valottumatta jääneet alueet.
Terveys- ja ympäristönsuojelusyistä on jätetty pois käytöstä ne negatiivisesti toimivat offsetlevyt, joissa kalvon valottumatta jääneiden alueiden poistamiseen on käytettävä orgaanista kehiteliuotinta, ja pyritty käyttämään painolevyjä, joissa päällysteen valottumatta jääneet alueet voidaan tehokkaasti poistaa vesipitoisella kehitteellä.
Vesikehitteisissä painolevyissä käytetään paljon kalvoja, joissa valoherkkinä pääkomponentteina ovat diatsoyhdisteet, ja erityisesti päällysteitä, joiden pääkomponentteina ovat diatso-fenyyliamiinin ja reaktiokykyisen karbonyyliryhmän sisältävän yhdisteen, kuten formaldehydin kondensaatiotuotteet. Kalvoista, joissa on sellaisia kondensaatiotuotteita, on lukuisia julkaisuja patenttikirjallisuudessa. Tässä yhteydessä voidaan viitata GB-patentteihin 950 761, 1 019 919, 1 023 589, 1 055 079, 1 302 717, 1 388 038 ja erityisesti patenttiin 1 312 925.
Valoherkät levyt, joissa on sellainen kalvo, eivät kuitenkaan ole olleet täysin tyydyttäviä, koska usein kuva ottaa huo-hosti vastaan painoväriä.
Käytettäessä sellaisia valoherkkiä levyjä offsetlevyjen valmistamiseen kalvon valotusta on jatkettava niin kauan, että riittävä määrä diatsoryhmiä ehtii hajota ja että valotetulla alueella muodostuu liukenematon tuote. Kuitenkin on havaittu, että käytännön olosuhteissa tämä fotolyysireaktio on epätäydellinen ja että valotetut alueet sisältävät jäännöksiä diatso-ryhmistä. Lisäksi on todettu, että levyn kehityksen myöhemmässä vaiheessa nämä jäännösdiatsoryhmät osallistuvat reaktioihin, jotka haittaavat. levyn suorituskykyä. Tarkemmin sanoen on todettu, että jäännösdiatsoryhmät reagoivat valoteuilla alueilla 3 71846 (jotka ovat kuva-alueita) sellaisten aineiden kuin arabikumin, dekstriinin ym. kanssa, joita käytetään levyn viimeistelyvaiheessa vähentämään ei-kuva-alueiden valonherkkyyttä ja suojaamaan niitä. Sellaiset valonherkkyyttä vähentävät aineet ovat hydrofiilisia, ja niiden reaktioissa diatsoryhmien kanssa syntyy hydrofiilisia yhdisteitä, jotka liittyvät tai sitoutuvat kuva-alueisiin tehden ne haluttomiksi vastaanottamaan painoväriä. Sellainen reaktio voi tapahtua, jos näillä aineilla käsitelty levy jätetään pimeään ympäristön lämpötilassa. Korkeammassa lämpötilassa reaktio tapahtuu paljon nopeammin, jos levyä valotetaan.
Tämän keksinnön tarkoituksena on voittaa tämä haitta.
Tällä keksinnöllä on aikaansaatu ensiksikin menetelmä offsetlevyn valmistamiseksi. Keksinnön mukaiselle menetelmälle on tunnusomaista, että vesiliuos on viimeistelykoostumusliuos, joka koostumus käsittää aktiivisen metyleeniryhmän sisältävän yhdisteen, joka pystyy poistamaan diatsoryhmiä osallistumalla atsokytkentäreaktioon.
On todettu, että diatsoryhmien poistuminen tapahtuu täydellisemmin ensisijaisesti verrattuna edellä mainittuun reaktioon diatsoryhmien ja valonherkkyyttä vähentävien aineiden välillä. Siten nämä kaksi vaihetta, jäännösdiatsoryhmien poistaminen ja levyn valonherkkyyden vähentäminen, voidaan suorittaa samanaikaisesti käyttämällä yhtä ainoata liuosta.
Toiseksi tällä keksinnöllä on aikaansaatu offsetlevyn viimeistelykoostumus, joka sopii käytettäväksi edellä esitetyssä menetelmässä. Vesiliuoksen muodossa olevalle koostumukselle on tunnusomaista, että liuos sisältää (i) aktiivisen metyleeniryhmän sisältävää yhdistettä, joka pystyy poistamaan diatsoryhmiä osallistumalla atsokytkentäreaktioon ja (ii) litograafista herkkyyttä vähentävää ainetta. Mainittu aktiivisen metyleeniryhmän sisältävä yhdiste voi olla esim. asetoasetanilidi; 3-hydroksiasetoasetanilidi; 4-kloori-2,5-dimetoksiasetoasetani-lidi; 4-morfolinoasetoasetanilidi; N-asetoasetyylibentsyyli-amiini; N,N'-diasetoasetyylietyleenidiamiini; l-fenyyli-3-me-tyyli-5-pyratsoloni; tai N-(syanoasetyyli)morfoliini.
71846
Litografisia herkkyyttä vähentäviä aineita ovat ennen muita dekstriini ja arabikumi. Muita sopivia levyn valonherk-kyyttä vähentäviä aineita ovat alginaatit (esim. natrium-, kalium- ja ammoniumalginaatti); selluloosajohdannaiset kuten metyyliselluloosa, hydroksipropyyliselluloosa, hydroksietyyli-selluloosa tai karboksimetyyliselluloosa); akryyliamidin homo-polymeeri; sekä polymeerit, jotka sisältävät akryyliamidista peräisin olevia rakenneyksikköjä ja 1-25 painoprosenttia raken-neyksikköjä, joissa on karboksyyliryhmiä.
Viimeistelyliuokset ovat vesiliukoisia ja sisältävät riittävän määrän mainittua diatsoryhmiä hajottavaa yhdistettä ja mainittua levyn valonherkkyyttä vähentävää ainetta, joka hajottaa kaikki jäännösdiatsoryhmät ja vähentää vastaavasti ei-kuva-alueiden valonherkkyyttä. Tavallisesti tämä liuos sisältää noin 0,5-50 painoprosenttia mainittua valonherkkyyttä vähentävää ainetta ja diatsoryhmiä hajottavan yhdisteen pitoisuus on noin 0,25 painoprosentista määrään, joka tekee liuoksen kyllästetyksi. Tämä määrä riippuu käytetystä diatsoryhmiä hajottavasta yhdisteestä ja muista liuoksessa olevista komponenteista. Näitä muita komponentteja voivat olla esim. jokin pinta-aktiivinen aine ja/tai jokin dispergointiaine, joka edistää diatsoryhmiä hajottavan yhdisteen liukenemista ja valonherkkyyttä vähentävä aine ja/tai emäs, jolla pH säädetään erityisesti diatsoryhmiä hajottavalle yhdisteelle ja valonherkkyyttä vähentävälle aineelle sopivaksi.
5 71 846 Tämän keksinnön mukaiset liuokset valmistetaan tavallisesti sekoittamalla veteen diatsoryhmiä hajottava yhdiste, offsetlevyn valonherkkyyttä vähentävä aine ja kaikki muut tavallisissa olosuhteissa tarkoituksenmukaiset komponentit. Haluttaessa sekoitus voidaan kuitenkin suorittaa hiukan korkeammassa lämpötilassa, jolloin liukeneminen tapahtuu helpommin. Siten esim. trinatriumfosfaatti tai muu happamuutta (pH) säätelevä yhdiste voidaan lisätä 60°C:seen kuumennettuun veteen, sen jälkeen lisätään dodekyylioksidibentseenidisulfoni-hapon natriumsuola tai muu pinta-aktiivinen aine ja sen jälkeen asetoasetanilidi tai muu diatsoryhmiä hajottava yhdiste.
Sen jälkeen lisätään dekstriini tai muu litografisen offset-levyn valonherkkyyttä vähentävä aine, jotta saataisiin haluttu koostumus.
Tämän keksinnön avulla on mahdollista parantaa sellaisten offsetlevyjen painokuvien värin vastaanottokykyä, joissa on diatsoyhdisteisiin perustuva valonherkkä kalvo.
Seuraavat esimerkit, joissa ainemäärät on ilmaistu painoprosentteina, selventävät keksintöä.
Esimerkki 1
Kahdeksan anodisoitua ja karhennettua alumiinisilikaat-tilevyä päällystettiin seuraavassa esitetyillä valonherkillä liuoksilla ja kuivattiin, ja silloin saatiin kahdeksan valon-herkkää painolevyä:
Levy 1:
Fairmount Chemical Corporation vesiliuos Diazo Resin n:o 4 (diatsodifenyyliamiiniformaldehydi-kondensaatin ja sinkkiklo-ridin reaktiotuote).
Levy 2;
Andrews Paper and Chemical Co:n valmistama vesiliuos Diazo Resin - P1QQ4 (diatsodifenyyliamiiniformaldehydikondensaa-tin disulfaatti).
Levy 3:
Diatsodifenyyliamiiniformaldehydikondensaatin ja p-tolu-eenisulfonihapon reaktiotuotteen 2-metoksietanoli/dimetyyliform-amidiliuos.
Levy 4:
Diatsodifenyyliamiiniformaldehydikondensaatin ja 2-hydrok-si-4-metoksibentsofenoni-5-sulfonihapon reaktiotuotteen 2-metok- 71 846 6 sietanoliliuos.
Levy 5:
Diatsodifenyyliamiiniformaldehydikondensaatin ja natrium-lauryylisulfaatin reaktiotuotteen tolueeni/isopropanoliliuos.
Levy 6:
Diatsodifenyyliamiiniformaldehydikondensaatin ja tri-iso-propyylinaftaleenisulfonihapon reaktiotuotteen tolueeni/isopropanoliliuos .
Levy 7;
Niin kuin levy 5, mutta levy 7 sisältää painoyksiköissä kaksi kertaa niin paljon MACRYNAL SN510 -akryylimuovia kuin levy 5 diatsokondensaattia (MACRYNAL SN510 on Resinous Chemicals' in valmistama akryylimuovi, jossa on reagoivia hydroksyylejä).
Levy 8: 3-metoksidifenyyliamiini-4-diatsoniumsulfaatti/4,4'-di-metoksimetyylidifenyylieetterikondensaatin ja natriummesitylee-nisulfonaatin reaktiotuotteen 2-metoksietanoli/butyyliasetaatti-liuos.
Jokainen valonherkkä painolevy valotettiin filminegatiivin (diapositiivinegatiivin) läpi painokehyksessä ja kehitettiin isopropanolin vesiliuoksella. Eri alueet kullakin painolevyllä käsiteltiin viimeistelyliuoksella, joka oli vesiliuos, joka sisälsi 2 % asetoasetanilidia; 3-hydroksiasetoasetanilidia; 4-kloori-2, 5-dimetoksiasetoasetanilidia? 4-morfoliiniasetoaset-anilidia; N-asetoasetyylibentsyyliamiinia; Ν,Ν'-diasetoasetyyli-etyleenidiamiinia; N-(syaaniasetyyli)morfoliinia; ja 2,3-dihydr-oksinaftaleenia, viimeistelyliuos oli jokaisessa tapauksessa emäksinen, ja siinä oli pinta-aktiivista ainetta (Dowfax 2A1). Jokaisen painolevyn eri alueet käsiteltiin lisäksi emäksisellä viimeistelyliuoksella, joka on 8-aminonaftaleeni-2-sulfoniha-pon, askorbiinihapon, alifosforihapokkeen eli hypofosforihapok-keen 2 % vesiliuos. Yksi alue kullakin levyllä jätettiin käsittelemättä viimeistelyliuoksella. Levyt kuivattiin, koko levy-pinnat käsiteltiin valonherkkyyttä vähentävällä aineella (ara-bikumin vesiliuoksella). Levyjä säilytettiin päivänvalossa vuorokauden ajan, sen jälkeen ne asetettiin offsetpainokoneeseen. Niihin levyjen alueisiin, .joita oli käsitelty viimeistelyliuoksella ennen kuin niiden valonherkkyyttä oli vähennetty arabi- 7 71 846 kumilla, painoväri tarttui jo kolmen tai neljän painokierrok-sen jälkeen, mutta siihen levyn alueeseen, jota oli käsitelty vain herkkyyttä vähentävällä aineella, painoväri ei tarttunut edes 30 painokerran jälkeen.
Kokeet uusittiin, mutta tällä kerralla painolevyjä säilytettiin päivänvalossa viikon ajan ennen kuin ne pantiin painokoneeseen. Tässäkin tapauksessa jokaisen levyn viimeistelyliuoksella käsiteltyihin alueisiin painoväri tarttui nopeasti, mutta ne alueet, joiden herkkyyttä oli vähennetty, olivat haluttomia ottamaan vastaan painoväriä vielä useiden satojen pai-nokertojen jälkeen.
Esimerkki 2
Esimerkki l:n menetelmä uusittiin muussa suhteessa, mutta viimeistelyliuoksen koostumus oli jokaisessa tapauksessa seu-raava: arabikumia 8,7 % asetoasetanilidia 2,1 %
Dowfaz 2A1 8,7 % vettä 80,5 % natriumhydroksidia, kunnes liuoksen pH oli 9,8.
Dowfax 2A1, joka on dodekyylioksidibentseenidisulfoni-hapon natriumsuola, on Dow Chemidal Companyn valmistama käyttökelpoinen pinta-aktiivinen aine.
Kun levyt pantiin painokoneeseen, kaikkien levyjen tällä viimeistelyliuoksella käsitellyt alueet ottivat vastaan painoväriä tyydyttävästi.
Esimerkki 3
Esimerkki 2 toistettiin sellaisenaan muussa suhteessa, mutta viimeistelyliuoksen koostumus oli seuraava: dekstriinia 8,5 % asetoasetanilidia 1,8 %
Dowfax 2AI 4,4 % vettä 83,8 % trinatriumfosfaattia, kunnes liuoksen pH oli 10,5. Tulokset olivat samanlaiset kuin esimerkissä 2 saadut.
8 71 846
Esimerkki 4
Esimerkki 2 toistettiin jälleen, mutta tällä kertaa viimeistelyliuoksen koostumus oli joka tapauksessa (jokaisella levyllä) seuraava: dekstriiniä 8,6 % m-fenyleenidiamiinia 1,7 %
Dowfax 2Ai 4,3 % vettä 85,4 % kloorivetyhappoa, kunnes liuoksen pH oli 6.
Tulokset olivat samanlaisia kuin esimerkissä 2 saadut. Esimerkki 5
Kaksi negatiivilevyä, nimittäin N6-levy, jonka oli valmistanut Hoechst AG ja Target-levy, jonka oli valmistanut Frys Metals (Graphics), kehitettiin valmistajan ohjeiden mukaan. Toinen puoli levystä käsiteltiin esimerkki 2:n viimeistelyliuok-sella ja toinen puoli arabikumilla. Kun levyt asetettiin vuorokauden säilytyksen jälkeen painokoneeseen, kuten esimerkissä yksi, jokainen viimeistelyliuoksella käsitelty levynpuolikas Otti painoväriä vastaan nopeasti, mutta toinen puolikas "sokaistui" eikä ottanut väriä vastaan. (Jokaiseen viimeistelyliuoksella käsiteltyyn levynpuolikkaaseen painoväri tarttui nopeasti, mutta toinen puolikas "sokaistui" eikä väri tarttunut siihen).
Esimerkki 6
Karhennettu, anodisoitu alumiinisilikaattilevy päällystettiin valonherkällä diatsodifenyyliamiiniformaldehydikonden-saatin ja fluoriboorihapon reaktiotuotteen 2-metoksietanoli/di-metyyliformamidiliuoksella ja kuivattiin. Saatu valonherkkä pai-nolevy käsiteltiin sen jälkeen samalla tavalla kuin valonherkät painolevyt esimerkissä 1, ja saadut tulokset olivat samanlaisia kuin siinä.
Esimerkki 7
Esimerkissä 1 esitetty menetelmä toistettiin muussa suhteessa, mutta viimeistelyliuoksen koostumus oli joka tapauksessa seuraava: ammoniumalginaattia 8,0 % asetoasetanilidia 2,0 %
Dowfax 2Ai 4,0 % vettä 84,0 % trinatriumfosfaattia pH 10,5
Saadut tulokset olivat samanlaisia.
Claims (13)
1. Menetelmä offsetlevyn valmistamiseksi valoherkästä levystä, joka käsittää alustan, jonka päälle on sovitettu valoherkkä päällyste, joka sisältää diatsoyhdisteen, jossa menetelmässä valoherkkälevy valotetaan kuvanmuodostavalla tavalla, valotettu levy kehitetään päällysteen valottumattomattomien alueiden selektiiviseksi poistamiseksi alustasta ja, kehitettyä levyä käsitellään vesiliuoksella, tunnettu siitä, että vesiliuos on viimeistelykoostumusliuos, joka koostumus käsittää aktiivisen metyleeniryhmän sisältävän yhdisteen, joka pystyy poistamaan diatsoryhmiä osallistumalla atsokytkentäreaktioon.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnet-t u siitä, että mainittu yhdiste on asetoasetanilidi, 3-hydrok-siasetoasetanilidi, 4-kloori-2,5-dimetoksiasetoasetanilidi tai 4-morfolinoasetoasetanilidi.
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että se käsittää lisävaiheen käsitellyn levyn herkkyyden vähentämiseksi levittämällä sille litograafista herkkyyttä vähentävää ainetta.
4. Jonkin patenttivaatimuksen 1-3 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että viimestelykoostumus sisältää litografiasta herkkyyttä vähentävää ainetta.
5. Patenttivaatimuksen 3 tai 4 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että litograafista herkkyyttä vähentävä aine on dekstriini, arabikumi, alginaatti, selluloosajohdannainen, akryyliamidihomopolymeeri tai polymeeri, joka sisältää akryyli-amidista johdettuja rakenneyksikköjä ja 1-25 paino-% karboksyyli-ryhmiä sisältäviä rakenneyksikköjä.
6. Jonkin edellisen patenttivaatimuksen mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että diatsoyhdiste on diatsodifenyyli-amiinin ja formaldehydin kondensaatiotuote.
7. Vesiliuoksen muodossa oleva viimestelykoostumus valotetun ja kehitetyn säteilyherkän levyn käsittelemiseksi offset-levyjen valmistuksessa, tunnettu siitä, että liuos sisältää (i) aktiivisen metyleeniryhmän sisältävää yhdistettä, joka pystyy poistamaan duatsoryhmiä osallistumalla atsokytkentäreaktioon ja (ii) litograafista herkkyyttä vähentävää ainetta. 10 71846
8. Patenttivaatimuksen 7 mukainen koostumus, tunnet-t u siitä, että mainittua herkkyyttä vähentävää ainetta on läsnä määrässä 0,5-50 paino-% ja mainittua yhdistettä on läsnä määrässä 0,25 paino-%:sta määrään, joka tarvitaan kyllästetyn liuoksen muodostamiseksi.
9. Patenttivaatimuksen 7 tai 8 mukainen koostumus, tunnettu siitä, että mainittu yhdiste on asetoasetanilidi, 3-hydroksiasetoasetanilidi, 4-kloori-2,5-dimetoksiasetoasetani-lidi tai 4-morfolinoasetoasetanilidi ja että koostumus on emäksinen.
10. Patenttivaatimuksen 7 tai 8 mukainen koostumus, tunnettu siitä, että mainittu yhdiste on N-asetoasetyy-libentsyyliamiini, N,N'.bisasetoasetyleenidiamiini, N-(syano-asetyyli)morfoliini tai l-fenyyli-3-metyyli-5-pyratsoloni ja että koostumus on emäksinen.
11. Patenttivaatimuksen 10 mukainen koostumus, tunnet-t u siitä, että litograafista herkkyyttä vähentävä aine on dekstriini, arabikumi, alginaatti, selluloosajohdannainen, ak-ryyliamidihomopolymeeri tai polymeeri, joka sisältää akryyli-amidista johdettuja rakenneyksikköjä ja 1-25 paino-% karboksyy-liryhmiä sisältäviä rakenneyksikköjä.
12. Jonkin patenttivaatimuksen 7-11 mukainen koostumus, tunnettu siitä, että se lisäksi sisältää pinta-aktiivista ainetta ja/tai dispergointiainetta.
13. Sellaisen koostumuksen käyttö, joka sisältää aktiivisen metyleeniryhmän sisältävän yhdisteen, joka pystyy poistamaan diatsoryhmiä osallistumalla atsokytkentäreaktioon tarkoituksena parantaa sellaisen offsetlevyn painovärin tarttuvuutta, joka on saatu valottamalla valoherkkä päällyste kuvanmuodosta-valla tavalla, joka päällyste sisältää diatsoyhdisteen ja kehittämällä valotettu levy päällysteen valottumattomien alueiden poistamiseksi selektiivisesti. 71 846 11
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB7928902 | 1979-08-20 | ||
GB7928902 | 1979-08-20 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI802595A FI802595A (fi) | 1981-02-21 |
FI71846B FI71846B (fi) | 1986-10-31 |
FI71846C true FI71846C (fi) | 1987-02-09 |
Family
ID=10507311
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI802595A FI71846C (fi) | 1979-08-20 | 1980-08-18 | Foerfarande foer framstaelning av en offsetplaot och vid framstaellning anvaend faerdigstaellningsloesning. |
Country Status (17)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0024872B2 (fi) |
AT (1) | ATE6704T1 (fi) |
AU (1) | AU538004B2 (fi) |
BR (1) | BR8005246A (fi) |
CA (1) | CA1158472A (fi) |
DE (1) | DE3066983D1 (fi) |
DK (1) | DK356480A (fi) |
ES (1) | ES8105201A1 (fi) |
FI (1) | FI71846C (fi) |
GB (1) | GB2056915B (fi) |
IE (1) | IE50629B1 (fi) |
MW (1) | MW3180A1 (fi) |
NO (1) | NO802467L (fi) |
NZ (1) | NZ194648A (fi) |
ZA (1) | ZA804933B (fi) |
ZM (1) | ZM6680A1 (fi) |
ZW (1) | ZW19280A1 (fi) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3127668A1 (de) * | 1981-07-13 | 1983-01-20 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren und loesung zum konservieren von flachdruckformen |
US4937170A (en) * | 1982-11-19 | 1990-06-26 | Hoechst Celanese Corporation | Coupling agents for photographic elements |
JPS60192948A (ja) * | 1984-03-14 | 1985-10-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版および製版方法 |
US4711836A (en) * | 1984-09-10 | 1987-12-08 | Olin Hunt Specialty Products, Inc. | Development of positive-working photoresist compositions |
DE10345388A1 (de) * | 2003-09-30 | 2005-04-28 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Verfahren und Zusammensetzung zum Gummieren von Lithographie-Druckplatten |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE857739C (de) * | 1950-08-13 | 1952-12-01 | Kalle & Co Ag | Verfahren zum Fixieren von Druckformen, die mit Hilfe von Diazoverbindungen hergestellt sind |
FR1419726A (fr) * | 1963-10-04 | 1965-12-03 | Kalle Ag | Solutions détersives pour formes d'imprimerie planes |
US3373021A (en) * | 1964-01-29 | 1968-03-12 | Harris Intertype Corp | Presensitized positive working lithographic plate |
NL6800538A (fi) * | 1968-01-12 | 1969-07-15 | ||
US3554751A (en) * | 1968-10-08 | 1971-01-12 | Lithoplate Inc | Presensitized positive-working lithographic plate and method for making same |
US3669660A (en) * | 1970-05-21 | 1972-06-13 | Polychrome Corp | Lithographic plate developing composition and process of use thereof |
BE840390A (fr) * | 1975-04-07 | 1976-10-05 | Perfectionnements aux techniques de lithographie | |
CH613059A5 (en) * | 1975-06-30 | 1979-08-31 | Hoechst Ag | Method for producing a flat-bed printing forme |
US4030417A (en) * | 1975-08-11 | 1977-06-21 | Westvaco Corporation | Universal fountain solution for lithographic offset printing |
JPS5344202A (en) * | 1976-10-01 | 1978-04-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | Developer composition and developing method |
GB2036993B (en) * | 1978-02-06 | 1983-03-09 | Napp Systems Inc | Desensitizing solution and process for treating a diazo photosensitive printing plate |
-
1980
- 1980-08-12 NZ NZ194648A patent/NZ194648A/xx unknown
- 1980-08-12 ZA ZA00804933A patent/ZA804933B/xx unknown
- 1980-08-13 AU AU61421/80A patent/AU538004B2/en not_active Ceased
- 1980-08-18 IE IE1344/80A patent/IE50629B1/en not_active IP Right Cessation
- 1980-08-18 ZW ZW192/80A patent/ZW19280A1/xx unknown
- 1980-08-18 FI FI802595A patent/FI71846C/fi not_active IP Right Cessation
- 1980-08-19 NO NO802467A patent/NO802467L/no unknown
- 1980-08-19 EP EP80302863A patent/EP0024872B2/en not_active Expired
- 1980-08-19 CA CA000358596A patent/CA1158472A/en not_active Expired
- 1980-08-19 DE DE8080302863T patent/DE3066983D1/de not_active Expired
- 1980-08-19 ES ES494350A patent/ES8105201A1/es not_active Expired
- 1980-08-19 GB GB8027022A patent/GB2056915B/en not_active Expired
- 1980-08-19 DK DK356480A patent/DK356480A/da unknown
- 1980-08-19 MW MW31/80A patent/MW3180A1/xx unknown
- 1980-08-19 AT AT80302863T patent/ATE6704T1/de not_active IP Right Cessation
- 1980-08-19 BR BR8005246A patent/BR8005246A/pt not_active IP Right Cessation
- 1980-08-20 ZM ZM66/80A patent/ZM6680A1/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3066983D1 (en) | 1984-04-19 |
FI71846B (fi) | 1986-10-31 |
ES494350A0 (es) | 1981-06-01 |
IE801744L (en) | 1981-02-20 |
AU6142180A (en) | 1981-02-26 |
CA1158472A (en) | 1983-12-13 |
ZW19280A1 (en) | 1981-01-14 |
EP0024872B2 (en) | 1988-12-07 |
MW3180A1 (en) | 1981-09-09 |
AU538004B2 (en) | 1984-07-26 |
ATE6704T1 (de) | 1984-03-15 |
EP0024872A1 (en) | 1981-03-11 |
NO802467L (no) | 1981-02-23 |
IE50629B1 (en) | 1986-05-28 |
ZM6680A1 (en) | 1981-10-21 |
FI802595A (fi) | 1981-02-21 |
ES8105201A1 (es) | 1981-06-01 |
ZA804933B (en) | 1981-07-29 |
DK356480A (da) | 1981-02-21 |
GB2056915B (en) | 1983-03-23 |
EP0024872B1 (en) | 1984-03-14 |
NZ194648A (en) | 1982-12-07 |
GB2056915A (en) | 1981-03-25 |
BR8005246A (pt) | 1981-03-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3313626A (en) | Process of making a lithographic printing plate | |
US3136636A (en) | Planographic printing plate comprising a polyacid organic intermediate layer | |
US4511640A (en) | Aqueous developable diazo lithographic printing plates with admixture of polyvinyl acetate and styrene maleic acid ester copolymer | |
US4287290A (en) | Process for producing polymeric image by diffusion step | |
EP0507008B1 (en) | Lithographic printing plate based on a resin comprising aryldiazosulfonates | |
US4355096A (en) | Process for heating exposed and developed light-sensitive lithographic printing plates with carboxylic acid and amine moiety containing compounds on surface thereof | |
FI71846C (fi) | Foerfarande foer framstaelning av en offsetplaot och vid framstaellning anvaend faerdigstaellningsloesning. | |
US4221859A (en) | Photopolymerizable composition with oxalic acid photoinitiator | |
US2729562A (en) | Process for producing images | |
US3113023A (en) | Photosensitive lithographic plate comprising photosensitive diazo resins and method for preparing same | |
JP3126070B2 (ja) | 平版印刷版基体及びそれを用いた平版印刷版の製造法 | |
GB761493A (en) | Process for producing planographic prints and light-sensitive sheets for that process | |
JPH0272A (ja) | 石版印刷版として使用するのに好適なプレセンシタイズド像形成材料 | |
US3933499A (en) | Printing plate comprising diazo-borofluoride and diazo resin layers | |
US4539285A (en) | Photosensitive negative diazo composition with two acrylic polymers for photolithography | |
US3899332A (en) | Printing plate and method of making the same | |
JPS6142251B2 (fi) | ||
US2626866A (en) | Process of fixing lithographic diazotype printing foils which have been exposed to light | |
US4486518A (en) | Duplicating film mask with radiation absorbing benzophenone in processed positive-working radiation sensitive layer on transparent substrate | |
US2548537A (en) | Method of making cellulose ester lithographic printing plates | |
US3029727A (en) | Method and composition for fixing transfer image | |
US3837858A (en) | Printing plate and method of making the same | |
US3091531A (en) | Hardening gelatin-silver halide lithographic offset printing plates | |
US3259496A (en) | Diazo presensitized lithographic printing plate comprising intermediate layer of hydrophilic metal ferrocyanide and process for making | |
US2942974A (en) | Photosensitive resists and photomechanical process |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM | Patent lapsed | ||
MM | Patent lapsed |
Owner name: E.I. DU PONT DE NEMOURS & COMPANY |