NO802467L - Fremgangsmaate og middel til fremstilling av litografiske trykkeplater. - Google Patents
Fremgangsmaate og middel til fremstilling av litografiske trykkeplater.Info
- Publication number
- NO802467L NO802467L NO802467A NO802467A NO802467L NO 802467 L NO802467 L NO 802467L NO 802467 A NO802467 A NO 802467A NO 802467 A NO802467 A NO 802467A NO 802467 L NO802467 L NO 802467L
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- compound
- diazo
- plate
- mixture
- sodium
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 34
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 claims abstract description 31
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 claims abstract description 5
- DYRDKSSFIWVSNM-UHFFFAOYSA-N acetoacetanilide Chemical compound CC(=O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1 DYRDKSSFIWVSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 claims abstract description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 29
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000006149 azo coupling reaction Methods 0.000 claims description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 5
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 claims description 4
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 claims description 4
- GJWXWJLLFSYCIB-UHFFFAOYSA-N n-(4-morpholin-4-ylphenyl)-3-oxobutanamide Chemical compound C1=CC(NC(=O)CC(=O)C)=CC=C1N1CCOCC1 GJWXWJLLFSYCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JRNGUTKWMSBIBF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3-diol Chemical compound C1=CC=C2C=C(O)C(O)=CC2=C1 JRNGUTKWMSBIBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FRTWHAZIMKWRFR-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-disulfophenoxy)benzene-1,2-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(OC=2C(=C(C=CC=2)S(O)(=O)=O)S(O)(=O)=O)=C1S(O)(=O)=O FRTWHAZIMKWRFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- AUZPMUJGZZSMCP-UHFFFAOYSA-N 3-morpholin-4-yl-3-oxopropanenitrile Chemical compound N#CCC(=O)N1CCOCC1 AUZPMUJGZZSMCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- JPYHHZQJCSQRJY-UHFFFAOYSA-N Phloroglucinol Natural products CCC=CCC=CCC=CCC=CCCCCC(=O)C1=C(O)C=C(O)C=C1O JPYHHZQJCSQRJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 claims description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical class [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001516 alkali metal iodide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 claims description 3
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- KYRUBSWVBPYWEF-UHFFFAOYSA-N copper;iron;sulfane;tin Chemical compound S.S.S.S.[Fe].[Cu].[Cu].[Sn] KYRUBSWVBPYWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 claims description 3
- MOUVJGIRLPZEES-UHFFFAOYSA-N n-(4-chloro-2,5-dimethoxyphenyl)-3-oxobutanamide Chemical compound COC1=CC(NC(=O)CC(C)=O)=C(OC)C=C1Cl MOUVJGIRLPZEES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KOHNUEXAOQRRPI-UHFFFAOYSA-N n-benzyl-3-oxobutanamide Chemical compound CC(=O)CC(=O)NCC1=CC=CC=C1 KOHNUEXAOQRRPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N phloroglucinol Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1 QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229960001553 phloroglucinol Drugs 0.000 claims description 3
- JCBJVAJGLKENNC-UHFFFAOYSA-M potassium ethyl xanthate Chemical compound [K+].CCOC([S-])=S JCBJVAJGLKENNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000003608 titanium Chemical class 0.000 claims description 3
- KLZDEEDOBAPARF-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-n-[2-(3-oxobutanoylamino)ethyl]butanamide Chemical compound CC(=O)CC(=O)NCCNC(=O)CC(C)=O KLZDEEDOBAPARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QEZZCWMQXHXAFG-UHFFFAOYSA-N 8-aminonaphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C=C2C(N)=CC=CC2=C1 QEZZCWMQXHXAFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 2
- QELUYTUMUWHWMC-UHFFFAOYSA-N edaravone Chemical compound O=C1CC(C)=NN1C1=CC=CC=C1 QELUYTUMUWHWMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 2
- 239000004289 sodium hydrogen sulphite Substances 0.000 claims description 2
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 claims description 2
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims 2
- BHRSJTMQUJJPIB-UHFFFAOYSA-N amino naphthalene-2-sulfonate Chemical compound C1=CC=CC2=CC(S(=O)(=O)ON)=CC=C21 BHRSJTMQUJJPIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- -1 diazo- Chemical class 0.000 claims 1
- JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L sodium dithionite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])=O JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 abstract description 6
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 abstract description 6
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 abstract description 6
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- BWZMRNIRVONKRB-UHFFFAOYSA-N 6-diazo-n-phenylcyclohexa-2,4-dien-1-amine;formaldehyde Chemical compound O=C.[N-]=[N+]=C1C=CC=CC1NC1=CC=CC=C1 BWZMRNIRVONKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- FDENMIUNZYEPDD-UHFFFAOYSA-L disodium [2-[4-(10-methylundecyl)-2-sulfonatooxyphenoxy]phenyl] sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].CC(C)CCCCCCCCCc1ccc(Oc2ccccc2OS([O-])(=O)=O)c(OS([O-])(=O)=O)c1 FDENMIUNZYEPDD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSZXXBTXZJGELH-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-tri(propan-2-yl)naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(C)C)C(C(C)C)=C(C(C)C)C(S(O)(=O)=O)=C21 RSZXXBTXZJGELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RILZRCJGXSFXNE-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(trifluoromethoxy)phenyl]ethanol Chemical compound OCCC1=CC=C(OC(F)(F)F)C=C1 RILZRCJGXSFXNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRDSGWXWQNSQAN-UHFFFAOYSA-N 6-diazo-n-phenylcyclohexa-2,4-dien-1-amine Chemical compound [N-]=[N+]=C1C=CC=CC1NC1=CC=CC=C1 ZRDSGWXWQNSQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDFYEZHJLKSBAK-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCCCCCC)C=1C(=C(C(=CC1)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O)OC1=C(C(=CC=C1)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O Chemical compound C(CCCCCCCCCCC)C=1C(=C(C(=CC1)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O)OC1=C(C(=CC=C1)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O HDFYEZHJLKSBAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000010443 alginic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920000615 alginic acid Polymers 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010407 ammonium alginate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000728 ammonium alginate Substances 0.000 description 1
- KPGABFJTMYCRHJ-YZOKENDUSA-N ammonium alginate Chemical compound [NH4+].[NH4+].O1[C@@H](C([O-])=O)[C@@H](OC)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H]1O[C@@H]1[C@@H](C([O-])=O)O[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H]1O KPGABFJTMYCRHJ-YZOKENDUSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M bisulphate group Chemical group S([O-])(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000396 dipotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019797 dipotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 230000036541 health Effects 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010408 potassium alginate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000737 potassium alginate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010413 sodium alginate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000661 sodium alginate Substances 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- AOJUNZYQOYSGHT-UHFFFAOYSA-M sodium;2,4,6-trimethylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=CC(C)=C(S([O-])(=O)=O)C(C)=C1 AOJUNZYQOYSGHT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N sulisobenzone Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/08—Damping; Neutralising or similar differentiation treatments for lithographic printing formes; Gumming or finishing solutions, fountain solutions, correction or deletion fluids, or on-press development
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
- Ink Jet (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Electromagnets (AREA)
- Printing Methods (AREA)
- Materials For Medical Uses (AREA)
- Paper (AREA)
- Air Bags (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
Foreliggende oppfinnelse vedrører Litografiske trykkplater.
Som kjent består en litografisk trykkplate av svertemottak-ende billedflater og vannmottagende ikke-billedflater som i hovedsakelig ligger i samme plan. I vår tid dannes praktisk talt alle litografiske plater av bestrålingssensitive plater bestående av et' bestrålingssensitivt belegg på et egnet sub-' strat. Billedvis eksponering av en slik bestrålingssensitiv . plate med bestråling ved bruk av et egnet diapositiv forårsaker endring i sjiktets karakteristika i de områder som'er truffet av bestrålingen. I den vanligste form for plater, d.v.s. en subtraktiv plate, muliggjør forandringen i karakteristika at belegget kan fjernes selektivt fra substratet i ikke-billedområdene ved å anvende en passende fremkaller slik at man får et-bilde på substratet. Ved de;h såkalte positivt-arbeidende plate, fjernes de bestrålte områder av belegget,, men ved de såkalte negativt-virkende plater er det de ikke-bestrålte områder av belegget som fjernes.
Av helse- og miljømessige grunner har tendensen ved negativt-virkende plater vært vekk fra sådanne som bruker belegg hvilke krever et organisk løsningsmiddel som fremkaller for å fjerne de ikke-bestrålte områder og i retning av slike sjikt hvor de ikke-bestrålte områder kan fjernes med en hovedsakelig vandig fremkaller.
Belegg som inneholder diazoforbindelser som hovedsakelig bestrålingssensitiv bestanddel er velkjent for bruk i vandige fremkallbare plater og særlig slike basert på kondensasjons-produktene av en diazodifenylamin og en forbindelse som inneholder en reaktiv karbonylgruppe 'så som formaldehyd .■ Belegg som inneholder slike kondensasjonsprodukter er grun-dig dokumentert i patentlitteraturen.. I denne' sammenheng kan det vises til de britiske patenter nr. 950,761, nr. 1,019,919, nr. 1,023,589, nr. 1,055,079, nr. 1,302,717, nr. 1,388,038 og særlig nr. 1,312,925.
Imidlertid har bestrålingssensitive plater basert på slike belegg ikke vært■fullstendig- tilfredsstillende fordi bilde
ofte nøler med å motta sverte.
Ved bruk av slike bestrålingssensitive plater for fremstilling av litografiske trykkplater eksponeres belegget for bestråling i en slik grad at tilstrekkelige diazogrupper des- i trueres til å gi et insolubilisert produkt-i de bestrålte ' områder. Imidlertid er det funnet at under de betingelser som brukes i praksis er denne fotolyseprosessen ufullstendig og at de bestrålte områder inneholder rester av diazogrupper. Det er også funnet at under videre behandling av platen kan disse resterende diazogrupper inngå reaksjoner som er skade-, lige for platens virkning. Særlig er det funnet at de resterende diazogrupper i de bestrålte områder (hvilke er bil-ledflatene) kan reagere^med materialer så som gummi arabikum, dekstrin etc. som brukes i sluttirinnet av behandlingen for å desensitivisere og beskytte ikke-billedflåtene. Slike desensitiviserende materialer er hydrofile og deres reaksjon med diazogruppene forårsaker at hydrofilt materiale innføres eller bindes i billedflaten og gjør at de vanskelig, mottar sverte. En slik reaksjon kan finne sted bare ved å la en slik plate som er behandlet med slike materialer stå mørkt ved romtemperatur. Reaksjonen vil finne sted meget raskere ved høye temperaturer.eller hvis platen utsettes for lys..
Det er et formål ved foreliggende oppfinnelse å overvinne det foran nevnte problem.
Ifølge et aspekt av foreliggende oppfinnelse tilveiebringes en fremgangsmåte ved fremstilling av en litografisk trykkplate fra en bestrålingssensitiv plate bestående av. et sub-strat med et bestrålingssensitivt sjikt inneholdende en diazoforbindelse hvor fremgangsmåten består i å billedvis eks-ponere den bestrålingssensitive plate, fremkalle den billedvis eksponerte plate slik at de ikke-bestrålte områder av belegget fjernes selektivt fra substratet, og behandle den fremkalte plate med en avsluttende blanding bestående av en forbindelse som kan fjerne diazogrupper. •
Det er funnet at fjerningen av diazogruppene finner sted fremfor den forannevnte reaksjonen mellom diazogruppene og det desensitiviserende materiale. Således kan to trinn for ' eliminering av de resterende diazogrupper og sensitivisering av platen utføres samtidig ved bruk av en enkel blandingi
Følgelig tilveiebringer et ytterligere aspekt av foreliggende, oppfinnelse en plateavsluttende blanding som er egnet for bruk i overfor angitte fremgangsmåte hvilken blanding består av (i) en forbindelse som kan -eliminere diazogrupper, (ii) et litografisk desensitiviserende materiale og (iii) vann.
I en foretrukken utførelsesform er forbindelsen som er i . stand til å eliminere diazogrupper en forbindelse som'kan inngå-, i en azokoplingsreaksjon med en diazogruppe. For-, trinnsvis inneholder denne forbindelsen en aktiv metylengruppe og kan f., eks. være acetoacetanilid, 3-hydroksyacetoacetanilid, 4-klor-2,5-dimetoksyacetoacetanilid, 4-morfolinoacetoacetanilid, N-acetoacetylbenzylamin, N,N1-bisacetoac-etylendiamin, 1-fenyl-3-metyl-5-pyrazolon eller N-(cyano-acetyl)morfolin. Alternative koplingsforbindelser . er 2,3-dihydroksynaftalen, 8-aminonaftalen-2-sulfonsyre, 8-amino-1-naftol-3,6-disulfonsyre, m-fenylendiamin og floroglucinol.
I en alternativ utførelsesform er forbindelsen som kan eliminere diazogrupper en forbindelse som er i stand til å ødelegge diazogruppene ved en annen reaksjon enn azo-. koplingsreaksjonen, f.eks. ved oksydasjon/reduksjonsreak-sjoner eller substitusjonsreaksjoner. Eksempler på slike forbindelser er askorbinsyre, underfosforsyrling, titansalt-er, kromsalter, tinnsalter, natriumhydrogensulfitt, natriumstannitt, hydrokinon, natriumhypokloritt, kopper(I)klorid, alkalimetalljodider, kaliumxantat eller benzokinon.
Det litografisk desensitiviserende materiale er fortrinnsvis dekstrin eller gummi: arabikum.. Eksempler på andre egnede -, litografiske desensitiviserende materialer er alginater
(så som natrium-, kalium- eller ammoniumalginat), cellulose-derivater, så som metylcellulose, hydroksypropylcellulose,
hydroksyetylcellulose eller karboksymetylcelluTose), alkryl-amidhomopolymer og polymerer som inneholder strukturenheter avledet fra akrylamid og fra 1 til 2 5 vekt-% strukturenheter som inneholder karboksylgrupper.
De avsluttende blandinger er i alminnelighet vandige løs-ninger og inneholder tilstrekkelige mengder av diazoelimi-eringsforbindelsen og det desensitiviserende materiale til hovedsakelig fullstendig å ødelegge de resterendé diazogrupper og tilstrekkelig desensitivisere ikke-billedflåtene hhv. Generelt vil blandingen inneholde fra ca. 0,5 til 50 vekt-% av det desensitiviserende materiale og innholdet av denne forbindelsen som er i stand til å eliminere diazogrupper vil være fra ca. 0,25 vekt-% opp til den mengde som kreves for å gi en mettet løsning. Sistnevnte mengde vil' avhenge av
■ forbindelsen som er i stand til å eliminere diazogrupper og av nærværet til andre komponenter i blandingen.. Slike andre komponenter kan f.eks. være et overflateaktivt middel og/eller et dispersjonsmiddel for å hjelpe oppløsningen av den diazogruppeeliminerende forbindelse og det desensitiviserende materiale og/eller syre eller alkali for å gi en passende pH for den spesielle diazogruppeeliminerende forbindelse og det desensitiviserende materiale som brukes. I så måte vil den avsluttende blanding i alminnelighet være.alkalisk når den diazogruppeeliminerende forbindelse er en azokopler med en fenolisk hydroksy- eller reaktiv metylengruppe eller syre når kopleren inneholder en aminogruppe, f.eks. fenylendiamin. Eksempler på slike andre komponenter er natriumsaltet av dodecylert.oksydibenzendisulfonsyre, natriumpolyakrylat, saltsyre, kaliumhydrogenfosfat, dinat-riumhydrogenfosfat, trinatriumfosfat og natriumhydroksyd.
Blandingene ifølge foreliggende oppfinnelse fremstilles nor-malt ved å røre sammen vannet, den diazoeliminerende forbindelse, det litografisk desensitiviserende materiale' og alle andre komponenter som trengs under romtemperatur og normal-trykk.' Om.ønsket kan imidlertid blandingen utføres ved noe høyere temperatur for å hjelpe på oppløsningen. Således kan f.eks. trinatriumfosfatet eller andre pH-justerende forbind-' eiser settes til vannet ved ca. 60°C etterfulgt av tilset-ningen av natriumsaltet av dodecylert oksydibenzendisulfon-syre eller andre overflateaktive midler og deretter ved til-, setning av acetoaeetanilidet eller andre diazoeliminerende forbindelser. Deretter settes dekstrin eller andre litografisk desensitiviserende materialer til for å gi den ønskede blanding.
Gjennom foreliggende oppfinnelse er det mulig .å øke sverte-; mottakeligheten til trykkbildene for litografiske plater som dannes ved bestråling av sensitive sjikt basert på diazoforbindelser.
De følgende eksempler hvor prosentdelene er vektdeler illu-strerer oppfinnelsen:
EKSEMPEL 1
Åtte ark av granulert, anodisert og silikatisert aluminium ble belagt med de følgende bestrålingssensitive blandinger
i og tørket til åtte bestrålingssensitive plater: Plate 1: En vandig løsning av Fairmount Chemical CorporationDiazoharpiks.nr. 4 (reaksjonsproduktet av et diazodifenylamin-formaldehydkondensat og sinkklorid).
Plate 2: En vandig blanding av Andrews Paper and Chemical Co.
Diazoharpiks - P1004 (et bisulfatsalt av et diazo-dif enylamin-f ormaldehydkondensat) .
Plate 3: En 2-metoksyetanol/dimetylformamidoppløsning- av reaksjonsproduktet av et diazodifenylamin-formaldehydkondensat og p-toluensulfonsyre.
Plate 4: En 2-metoksyetanolløsning av reaksjonsproduktet
av et diazodifenylaminformaldehydkondensat og 2-hydroksy-4-metoksy-benzofenon-5-sulfonsyre.
Plate 5: En to.luen/isopropanolløsning av reaks jonsproduktet av et diazodifenylamin-formaldehydkondensat og natriumlaurylsulfat.
Plate 6: En toluen/isopropanolløsning av reaksjonsproduktet av et diazodifenylaminformaldehydkondensat og tri-isopropylnaftalensulfonsyre.
Plate 7: Som plate 5 men man inntar MACRYNAL SN510 i en mengde som er to ganger vekten av diazokondensatet.
(MACRYNAL SN510 er en akrylharpiks med hydroksyl-grupper fremstilt av Resinous Chemicals).-
Plate 8: En 2-metoksyetanol/butylacetatløsning av reaksjonsproduktet av et 3-metoksydifenylamin-4-diazonium- . sulfat/4,41-bis-metoksy-metyl-difenyleterkondensat og natriummesitylensulfonat.
Hver bestrålingssensitiv plate ble eksponert under et nega-tivlysbilde i en ramme for trykk nedover, og fremkalt med en ' vandig løsning av isopropanol. Separate områder fra hver plate ble så behandlet henholdsvis med.en 2% vandig løsning j av acetoacetanilid, 3-hydroksyacetoacetanilid, 4-klor-2,5-■dimetoksyacetoacetanilid, 4-morfolinoacetoacetanilid, N-acetoacetylbehzylamin, N,N'-bisacetoacetyletylendiamin, N-(cyanoacetyljmorfolin og 2,3-dihydroksynaftalen som avsluttende løsning idet løsningen i hvert tilfelle er alkal- : isk og inneholder et overflateaktivt middel (Dowfax 2A1). Separate områder fra hver plate ble også behandlet, henholdsvis med en. alkalisk 2% vandig løsning av 8-aminon-af talen-2-sulfonsyre, en 2% vandig løsning av askorbinsyre og en 2%-vahdig løsning av underfosforsyrling som avsluttende løsning. Et område fra hver plate ble latt ubehandlet. Platene ble tørket og hele plateoverflåtene ble behandlet med et desen- . sitiviserende reagens (vandig gummi arabikumløsning). Platene ble oppbevart i dagslys en dag og deretter plassert på en offsetpresse. Mens områdene på platene som var blitt behandlet før desensitivisering med gummi arabikum opptok sverte i løpet av 3 eller 4 dreininger av pressen, tok om-rådet i hver plate som var. bare desensitivisert dårlig mot sverte selv etter 30 dreininger.
Forsøkene ble gjentatt, men i dette tilfellet ble platene lagret en uke i dagslys før de ble satt på pressen. De be-handlede områdene av hver plate tok igjen raskt imot sverte, mens' områdene som bare var desensitivisert ikke ville ta opp sverte selv etter flere hundre dreininger..
EKSEMPEL 2
Fremgangsmåten-.fra eksempel 1 ble gjentatt bortsett fra at den følgende avsluttende blanding- ble brukt i hvert-tilfelle: -
Dowfax 2A1 er natriumsaltet av dodecylert oksydibenzendisul-fonsyre og er et overflateaktivt middel fra Dow Chemical. \ Company.
Ved plassering på pressen tok alle- plater sverte på tilfredsstillende måte i de områder som var behandlet med den avsluttende løsning.
EKSEMPEL 3
Eksempel 2 ble gjentatt bortsett fra at den følgende avsluttende blanding ble brukt i hvert.tilfelle: -
Man fikk lignende resultater som i eksempel 2.
EKSEMPEL 4
Eksempel 2 ble igjen gjentatt bortsett fra.at den følgende avsluttende blanding ble brukt i hvert tilfelle: -
Liknende resultater som, i eksempel 2 ble oppnådd.
EKSEMPEL 5
To kommersielle negativt arbeidende plater, nemlig en N6-plate fremstilt av Hoechst- AG og en Target-plate fremstilt av Frys Metals (Graphics) ble eksponert billedvis og fremkalt ifølge fabrikantens instruksjoner. Halvparten av hver plate ble behandlet med den.avsluttende blanding fra eksempel 2 og den andre halvparten ble behandlet med - gummi arabikum. Ved plassering på en presse etter lagring som i eksempel 1, tok den halvpart av hver plate som var behandlet med den avsluttende blanding lett sverte mens den andre halvparten'blindet og ikke ville ta sverte.
i EKSEMPEL' 6 i ! Et folie av granulert, anodisert og silikatisert aluminium :
ble overtrukket med en bestrålingssensitiv blanding inneholdende en 2-metoksyetanol/dimetylformamidløsnirig av reak- < sjonsproduktet av et diazodifenylamin-formaldehydkondensat og fluorborsyre og tørket. Den resulterende bestrålings- : sensitive plate ble så behandlet på samme måte som de be-f-'■strålingssensitive plater fra eksempel 1 og lignende resultater ble oppnådd. EKSEMPEL 7 Fremgangsmåten fra eksempel 1 ble gjentatt med den forskjell at den følgende avsluttende blanding ble brukt i hvert tilfelle: -
Lignende,resultater ble oppnådd.
Claims (14)
- I 1. Fremgangsmåte ved fremstilling av en litografisk trykk-! plate fra en bestrålingssen.sitiv plate omfattende et sub-strat med et bestrålingssensitivt belegg som inneholder en diazoforbindelse, f.eks. et kondensasjonsprodukt av et diazo-. dif.enylamin og formaldehyd ved billedvis eksponering av den :bestrålingssensitive plate og fremkalling av den billedviseksponerte plate slik at de ikke-bestrålte områder av belegg-i et fjernes fra substratet, karakterisert ved at den fremkalte plate behandles med en avsluttende blanding som inneholder en forbindelse hvilken kan eliminere diazogrupper.
- 2. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at man som forbindelse som kan eliminere diazogrupper anvender en azokoplende forbindelse som kan inn-' gå en azokoplingsreaksjon med en diazogruppe.
- 3. Fremgangsmåte ifølge krav 2, karakterisert ved at man som azokoplingsforbindelse anvender en forbindelse som inneholder en aktiv metylengruppe så som acetoacetanilid, 3-hydroksy-acetoacetanilid, 4-klor-2,5-dimetoksyacetoacetanilid, 4-morfolinoacetoacetanilid, N-acetoacetylbenzylamin, N,N <1-> bisacetoacetyletylendiamin, N-(cyanoacetyl) morfolin, eller 1-fenyl-3-metyl-5-pyrazolon.
- 4. Fremgangsmåte ifølge krav 2, karakterisert ved at man som azokoplingsforbindelse anvender 2 ,-3-dihydroksynaftalen; 0-aminonaf talen-2-sulfonsyre; 8-amino-l-naftol-3,6-disulfonsyre; m-fenylendiamin og floroglucinol.
- 5. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at man som forbindelse som.kan eliminere diazogrupper anvender ascorbinsyre, underfosforsyrling, et titansalt, et kromsalt eller et tinnsalt, natriumhydrogensulfitt, natriumstannitt, hydrokinon, natriumhypokloritt, kopper(I)-klorid, et alkalimetalljodid, kaliumxantat eller benzokinon.
- i 6. Fremgangsmåte ifølge kravene 1 til 5, k a r. a k - i i terisert ved at man anvender en avsluttende løsning som inneholder et litografisk desensitiviserende materiale slik som dekstrin. eller gummi.arabikum.
- 7. Litografisk plate, karakterisert ved' at den er fremstilt ved fremgangsmåten ifølge kravene l.til 6.
- 8.. Plateavsluttende blanding for behandling av en eksponert og fremkalt bestrålingssensitiv plate i litografisk,trykkplateproduksjon og inneholdende et litografisk desensitiviserende materiale og vann, karakterisert ved at blandingen i tillegg inneholder en forbindelse som kan eliminere diazogrupper.
- 9. Blanding ifølge krav 8, karakterisert ved at forbindelsen er en forbindelse som kan inngå i en azokoplingsreaksjon med en diazogruppe under alkaliske betingelser.slik som acetoacetanilid, 3-hydroksyacetoacetani-. lid, 4-klor-2 , 5-^dimetoksyacetoacetanilid, 4-morf olinoaceto-acetanilid, N-acetoacetylbenzylamin, N,N'-bisacetoacetyl-etylendiamin, N-(cyanoacetyl) morfolin, eller 1-fenyl-3-m.et-yl-5-pyrazolon og at blandingen er alkalisk.
- 10. Blanding ifølge krav 8, karakterisert ved at forbindelsen er en forbindelse som kan inngå i en azokoplingsreaksjon med en diazogruppe under sure betingelser så som m-fenylendiamin, og at blandingen er sur.
- 11., Blanding ifølge krav 8, karakterisert ved at forbindelsen er 2,3-dihydroksynaftalen, 8-amino-naftalen-2-sulfonsyre, 8-amino-l-naftol-3,6-disulfonsyre eller floroglucinol.
- 12. Blanding ifølge krav 8, karakterisert ved at forbindelsen er ascorbinsyre, underfosforsyrling, et titansalt, et kromsalt, et tinnsalt, natriumhydrosulfitt, natriumstannitt, hydrokinon, natriumhypokloritt, kopper(I)-klorid, ét alkalimetalljodid, kaliumxantat eller benzokinon.,
- 13. Blanding ifølge kravene 8-12," karakterisert ved at den ytterligere inneholder et overflateaktivt .middel slik som natriumsaltet- av dodecylert oksydiben-zendisulfonsyre og/eller et dispergeringsmiddel så som natriumpolyakrylat.
- 14. Anvendelse av en blanding inneholdende en forbindelse som kan eliminere diazogrupper for å forbedre svertemottak-ningsevnen til en litografisk trykkplate som erholdes ved eksponering og fremkalling av et bestrålingssensitivt belegg inneholdende en diazoforbindelse.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB7928902 | 1979-08-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NO802467L true NO802467L (no) | 1981-02-23 |
Family
ID=10507311
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NO802467A NO802467L (no) | 1979-08-20 | 1980-08-19 | Fremgangsmaate og middel til fremstilling av litografiske trykkeplater. |
Country Status (17)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0024872B2 (no) |
| AT (1) | ATE6704T1 (no) |
| AU (1) | AU538004B2 (no) |
| BR (1) | BR8005246A (no) |
| CA (1) | CA1158472A (no) |
| DE (1) | DE3066983D1 (no) |
| DK (1) | DK356480A (no) |
| ES (1) | ES8105201A1 (no) |
| FI (1) | FI71846C (no) |
| GB (1) | GB2056915B (no) |
| IE (1) | IE50629B1 (no) |
| MW (1) | MW3180A1 (no) |
| NO (1) | NO802467L (no) |
| NZ (1) | NZ194648A (no) |
| ZA (1) | ZA804933B (no) |
| ZM (1) | ZM6680A1 (no) |
| ZW (1) | ZW19280A1 (no) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3127668A1 (de) * | 1981-07-13 | 1983-01-20 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren und loesung zum konservieren von flachdruckformen |
| US4937170A (en) * | 1982-11-19 | 1990-06-26 | Hoechst Celanese Corporation | Coupling agents for photographic elements |
| JPS60192948A (ja) * | 1984-03-14 | 1985-10-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版および製版方法 |
| US4711836A (en) * | 1984-09-10 | 1987-12-08 | Olin Hunt Specialty Products, Inc. | Development of positive-working photoresist compositions |
| DE10345388A1 (de) * | 2003-09-30 | 2005-04-28 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Verfahren und Zusammensetzung zum Gummieren von Lithographie-Druckplatten |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE857739C (de) * | 1950-08-13 | 1952-12-01 | Kalle & Co Ag | Verfahren zum Fixieren von Druckformen, die mit Hilfe von Diazoverbindungen hergestellt sind |
| FR1419726A (fr) * | 1963-10-04 | 1965-12-03 | Kalle Ag | Solutions détersives pour formes d'imprimerie planes |
| US3373021A (en) * | 1964-01-29 | 1968-03-12 | Harris Intertype Corp | Presensitized positive working lithographic plate |
| NL6800538A (no) * | 1968-01-12 | 1969-07-15 | ||
| US3554751A (en) * | 1968-10-08 | 1971-01-12 | Lithoplate Inc | Presensitized positive-working lithographic plate and method for making same |
| US3669660A (en) * | 1970-05-21 | 1972-06-13 | Polychrome Corp | Lithographic plate developing composition and process of use thereof |
| NL7603530A (nl) * | 1975-04-07 | 1976-10-11 | Dow Chemical Co | Werkwijze, samenstelling en emulsie voor de be- handeling van beeld-dragende lithografische druk- platen, alsmede als zodanig verkregen beklede platen. |
| CH613059A5 (en) * | 1975-06-30 | 1979-08-31 | Hoechst Ag | Method for producing a flat-bed printing forme |
| US4030417A (en) * | 1975-08-11 | 1977-06-21 | Westvaco Corporation | Universal fountain solution for lithographic offset printing |
| JPS5344202A (en) * | 1976-10-01 | 1978-04-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | Developer composition and developing method |
| GB2036993B (en) * | 1978-02-06 | 1983-03-09 | Napp Systems Inc | Desensitizing solution and process for treating a diazo photosensitive printing plate |
-
1980
- 1980-08-12 NZ NZ194648A patent/NZ194648A/xx unknown
- 1980-08-12 ZA ZA00804933A patent/ZA804933B/xx unknown
- 1980-08-13 AU AU61421/80A patent/AU538004B2/en not_active Ceased
- 1980-08-18 FI FI802595A patent/FI71846C/fi not_active IP Right Cessation
- 1980-08-18 ZW ZW192/80A patent/ZW19280A1/xx unknown
- 1980-08-18 IE IE1344/80A patent/IE50629B1/en not_active IP Right Cessation
- 1980-08-19 DE DE8080302863T patent/DE3066983D1/de not_active Expired
- 1980-08-19 EP EP80302863A patent/EP0024872B2/en not_active Expired
- 1980-08-19 NO NO802467A patent/NO802467L/no unknown
- 1980-08-19 AT AT80302863T patent/ATE6704T1/de not_active IP Right Cessation
- 1980-08-19 MW MW31/80A patent/MW3180A1/xx unknown
- 1980-08-19 GB GB8027022A patent/GB2056915B/en not_active Expired
- 1980-08-19 CA CA000358596A patent/CA1158472A/en not_active Expired
- 1980-08-19 DK DK356480A patent/DK356480A/da unknown
- 1980-08-19 BR BR8005246A patent/BR8005246A/pt not_active IP Right Cessation
- 1980-08-19 ES ES494350A patent/ES8105201A1/es not_active Expired
- 1980-08-20 ZM ZM66/80A patent/ZM6680A1/xx unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FI802595A (fi) | 1981-02-21 |
| FI71846C (fi) | 1987-02-09 |
| IE801744L (en) | 1981-02-20 |
| EP0024872B2 (en) | 1988-12-07 |
| GB2056915A (en) | 1981-03-25 |
| FI71846B (fi) | 1986-10-31 |
| ZA804933B (en) | 1981-07-29 |
| ZW19280A1 (en) | 1981-01-14 |
| AU538004B2 (en) | 1984-07-26 |
| CA1158472A (en) | 1983-12-13 |
| NZ194648A (en) | 1982-12-07 |
| GB2056915B (en) | 1983-03-23 |
| IE50629B1 (en) | 1986-05-28 |
| ATE6704T1 (de) | 1984-03-15 |
| BR8005246A (pt) | 1981-03-04 |
| MW3180A1 (en) | 1981-09-09 |
| DE3066983D1 (en) | 1984-04-19 |
| DK356480A (da) | 1981-02-21 |
| EP0024872B1 (en) | 1984-03-14 |
| ES494350A0 (es) | 1981-06-01 |
| EP0024872A1 (en) | 1981-03-11 |
| AU6142180A (en) | 1981-02-26 |
| ZM6680A1 (en) | 1981-10-21 |
| ES8105201A1 (es) | 1981-06-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3313626A (en) | Process of making a lithographic printing plate | |
| EP0067001B1 (en) | Developer composition | |
| US3567445A (en) | Presensitized lithographic plate with two differentially spectrally sensitized layers separated by a novolak resin | |
| JPS6151311B2 (no) | ||
| US4355096A (en) | Process for heating exposed and developed light-sensitive lithographic printing plates with carboxylic acid and amine moiety containing compounds on surface thereof | |
| JPS5850342B2 (ja) | キンゾクガゾウケイセイザイリヨウ | |
| NO802467L (no) | Fremgangsmaate og middel til fremstilling av litografiske trykkeplater. | |
| DE1085423B (de) | Verfahren zur Herstellung photographischer UEbertragungsbilder | |
| JPS60200256A (ja) | 感光性平版印刷版の処理方法 | |
| US3113023A (en) | Photosensitive lithographic plate comprising photosensitive diazo resins and method for preparing same | |
| JPS6249613B2 (no) | ||
| US4292395A (en) | Photographic process of developing and etching an element containing a tin sulfide | |
| US3890148A (en) | Exposure of light-sensitive materials | |
| US3933499A (en) | Printing plate comprising diazo-borofluoride and diazo resin layers | |
| EP0052806B1 (en) | Dot-enlargement process for photopolymer litho masks | |
| CN110199226A (zh) | 柔性版显影剂及使用方法 | |
| US3899332A (en) | Printing plate and method of making the same | |
| US2734298A (en) | Mechanical negative process and resist | |
| WO1991019227A1 (en) | Light sensitive materials for lithographic plates | |
| JP2000098630A (ja) | 水溶性フォトレジスト組成物のパターン形成方法 | |
| US4292393A (en) | Photosensitive image forming materials | |
| US2407290A (en) | Lithographic plate and process for making same | |
| RU2000212C1 (ru) | Раствор дл химического дублени светочувствительного копировального сло | |
| NO770231L (no) | Fremgangsm}te og middel for behandling av en litografisk trykkplate. | |
| KR960705259A (ko) | 폴리비닐 포스폰산 처리에 의해 석판인쇄 인쇄판용 기판의 친수성을 개선시키는 방법(process for improving the hydrophilicity of the substrate for a lithographic printing plate by treatment with polyvinyl phosphonic acid) |