FI59618C - FREQUENCY REFRIGERATION OF CRYSTALLINE CONDITIONERS EL-STAOLSKIVOR MED HOEG MAGNETIC INDUCTION - Google Patents

FREQUENCY REFRIGERATION OF CRYSTALLINE CONDITIONERS EL-STAOLSKIVOR MED HOEG MAGNETIC INDUCTION Download PDF

Info

Publication number
FI59618C
FI59618C FI9074A FI9074A FI59618C FI 59618 C FI59618 C FI 59618C FI 9074 A FI9074 A FI 9074A FI 9074 A FI9074 A FI 9074A FI 59618 C FI59618 C FI 59618C
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
annealing
final
cold
rolled
process according
Prior art date
Application number
FI9074A
Other languages
Finnish (fi)
Other versions
FI59618B (en
FI740090A0 (en
Inventor
Takuichi Imanaka
Takahiro Kan
Yoshio Obata
Toru Sato
Original Assignee
Kawasaki Steel Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kawasaki Steel Co filed Critical Kawasaki Steel Co
Priority to FI9074A priority Critical patent/FI59618C/en
Publication of FI740090A0 publication Critical patent/FI740090A0/fi
Publication of FI59618B publication Critical patent/FI59618B/en
Application granted granted Critical
Publication of FI59618C publication Critical patent/FI59618C/en

Links

Landscapes

  • Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)

Description

-·Ι rRl KUULUTUSJULKAISU ς Q (L A Q- · Ι rRl ANNOUNCEMENT ς Q (L A Q

j&K W <11>UTLÄGGNINGSSKIUFT8961 8 C (45) Γ J t Γ' r ttl siy“rnc t y ID "9 19 :< 1 ^ T ^ (51) Kv.ik.3/i«.a.3 C 22 C 38/04 SUOMI—FINLAND (21) p»unttih«k«mu»-p«t«rt«»«ei«nin* 90/γί+ (22) Hakamttpilvl — Amttknlnpdtf 11.01.7^ ^ ^ (23) Alkupttvi—GlMghtttdag lU. 01.j & K W <11> UTLÄGGNINGSSKIUFT8961 8 C (45) Γ J t Γ 'r ttl siy “rnc ty ID" 9 19: <1 ^ T ^ (51) Kv.ik.3 / i «.a.3 C 22 C 38/04 SUOMI — FINLAND (21) p »unttih« k «mu» -p «t« rt «» «ei« nin * 90 / γί + (22) Hakamttpilvl - Amttknlnpdtf 11.01.7 ^ ^ ^ (23) Alkupttvi —GlMghtttdag lU. 01.

(41) Tullut lulklMkal — Bllvlt offuntllf 15.07.75 (»»tantti. J* rekisterihallitus Nlhttrikslpe™ kuuLJullataun pvm. -(41) Tullut lulklMkal - Bllvlt offuntllf 15.07.75 (»» tantti. J * register board Nlhttrikslpe ™ moonLullatau date -

Patent- OCh refisterstyrelsen ' ' Anaekan utla|d och utl.*krlft*n publlcand 29·05.81 (32)(33)(31) PjT^ttty etuoikeus —Bsgird prloritat (71) Kawasaki Steel Corporation, No. 1-28, 1-Chome, Kitahonmachi-Dori,Patent- OCh refisterstyrelsen '' Anaekan utla | d och utl. * Krlft * n publlcand 29 · 05.81 (32) (33) (31) PjT ^ ttty privilege —Bsgird prloritat (71) Kawasaki Steel Corporation, no. 1-28, 1-Chome, Kitahonmachi-Dori,

Fukiai-ku, Kobe City, Japani-Japan(JP) (72) Takuichi Imanaka, Chiba City, Takahiro Kan, Chiba City,Fukiai-ku, Kobe City, Japan-Japan (JP) (72) Takuichi Imanaka, Chiba City, Takahiro Kan, Chiba City,

Yoshio Obata, Chiba City, Toru Sato, Chiba City, Japani-Japan(jP) (7^+) Leitzinger Oy (5^) Menetelmä kidesuunnattujen sähköteräslevyjen valmistamiseksi, joilla on korkea magneettinen induktio - Förfarande för framställhing av kristallorienterade el-stälskivor med hög magnetisk induktionYoshio Obata, Chiba City, Toru Sato, Chiba City, Japan-Japan (jP) (7 ^ +) Leitzinger Oy (5 ^) Method for the production of crystal oriented electrical steel sheets with high magnetic induction - Förfarande för framställhing av kristallorienterade el-stälskivor med hög magnetic induction

Keksinnön kohteena on menetelmä sähköteräslevyjen valmistamiseksi, 2 joilla on (110)/001/-suuntaus ja Bg-arvo yli 1,85 VJb/m .The invention relates to a method for producing electrical steel sheets 2 having an (110) / 001 / orientation and a Bg value of more than 1.85 VJb / m.

Tekniikan tasossa on tunnettua valmistaa kidesuunnattuja sähköteräs-levyjä, joilla on normaaleihin piiteräksiin nähden parannetut magneettiset ominaisuudet ja vähäisemmät rautahäviöt. Esim. US-patent-ti.julkaisusta 3 556 873 tunnetaan menetelmä seleenipi.toisen pii.te-räksen valmistamiseksi., jolla on (110)/001/-suuntaus valli tsevana ja jossa käytetään hyväksi mangaaniselenidin kykyä saada aikaan määrätyillä edellytyksillä vaadittu kidesuuntaus. Koska pelkkä seleenin lisääminen ei vielä välttämättä johda vaaditun kidesuuntauk-sen aikaansaamiseen, käytetään tunnetussa menetelmässä hyvin rikki-köyhää piiterästä lähtömateriaalina, jossa hiilen, mangaanin ja seleenin pitoisuuksien täytyy olla huolellisesti toisiinsa nähden mitoitetut. Erityisesti täytyy vaadittavaa mangaaniselenidin muodostusta silmälläpitäen olla mangaanipatoisuus huolellisesti mitoitettu seleenipitoisuuteen nähden, jotta varmistetaan, että seleenin lisääminen todellakin saa aikaan vaaditun kidesuuntauksen. Tämän johdosta käytetään tunnetussa menetelmässä lähtömateriaalia, joka sisältää 0,02 - 0,07 % hiiltä, 2 - 4 % piitä, vähintäin 0,045 % mangaania, vähemmän kuin 0,008 % rikkiä ja 0,01 - 0*1 % seleeniä. Tämä läh-1 5961 8 tömateriaali aluksi kuumavalssataan, sitten normalisoidaan ja kyl-mävalssataan välimitoitukseen, mikä jälkeen seuraa uusi normalisointi ja kylmävalssaus lopulliseen mitoitukseen. Loppukylmävals-sauksen jälkeen materiaali saatetaan hiilenpoistohehkutuksen ja lopullisen puhdistus- ja teksturoi.nti.hehkutuksen alai seksi , joissa käytetään aina 1117°C:een kohoavia lämpötiloja.It is known in the art to produce crystal oriented electrical steel sheets with improved magnetic properties and lower iron losses compared to normal silicon steels. For example, U.S. Patent No. 3,556,873 discloses a process for preparing a selenium-second silicon steel having a (110) / 001 / orientation prevailing and utilizing the ability of manganese selenide to provide the required crystal orientation under certain conditions. Since the mere addition of selenium does not necessarily lead to the required crystal orientation, the known process uses very sulfur-poor silicon steel as a starting material, in which the concentrations of carbon, manganese and selenium must be carefully dimensioned relative to each other. In particular, in view of the required manganese selenide formation, the manganese content must be carefully dimensioned relative to the selenium content to ensure that the addition of selenium does indeed provide the required crystal orientation. As a result, the known process uses a starting material containing 0.02 to 0.07% carbon, 2 to 4% silicon, at least 0.045% manganese, less than 0.008% sulfur and 0.01 to 0 * 1% selenium. This starting material is first hot rolled, then normalized and cold rolled to intermediate dimensioning, followed by further normalization and cold rolling to final dimensioning. After the final cold rolling, the material is subjected to carbon removal annealing and final purification and texturing annealing, using temperatures up to 1117 ° C.

Tämä tunnettu menetelmä on sikäli epäedullinen, että sillä valmistetulla kidesuunnatulla sähköteräslevyllä BR-arvo ei missään ta-pauksessa voi ylittää 1,85 Wb/m , ja loppuhehkutuksissa tarvitaan yli 1000°C lämpötiloja, mistä on seurauksena suuri energian kulutus ja tulenkestävien hehkutusuunivuorausten suuri tarve. Tunnetun menetelmän lisäepäkohta on nähtävissä siinä, että lähtömateriaalissa täytyy olla mangaania välttämättömänä komponenttina. Täten on tunnettu menetelmä rajoittunut mangaanipitoisten sähköterästen käsittelyyn .This known method is disadvantageous in that the BR value of the crystal-oriented electrical steel sheet produced by it can in no case exceed 1.85 Wb / m, and temperatures of more than 1000 ° C are required for final annealing, resulting in high energy consumption and a high need for refractory annealing furnace linings. A further disadvantage of the known method can be seen in the fact that the starting material must contain manganese as an essential component. Thus, the known method is limited to the treatment of manganese-containing electrical steels.

DT-hakemusjulkaisusta 1 920 968 tunnetaan menetelmä korkean magneettisen induktion omaavien magneettilevyjen käsittelemiseksi, joka perustuu alumiininitridin erottamiseen kiteiden kasvuinhibiiteiksi. Tästä syystä täytyy tämän tunnetun menetelmän lähtömateriaalin sisältää alumiinia ja typpeä sopivissa määräsuhteissa. Tässä tunnetussa menetelmässä tällainen lähtömateriaali kuumavalssataan ja sitten toistuvien kylmävalssausten ja välihehkutusten avulla saatetaan lopulliseen mitoitukseen, jolloin ennen lopullista kylmävalssausta pelkistysasteella 65 - 95 % suoritetaan välihehkutus γ-muuttumisläm-pötilassa, josta lämpötilasta materiaali äkki. jäähdytetään alle 750 - 950°C lämpötilaan, niin että alumiininitridin erottuminen tapahtuu vaaditussa määrässä ja muodossa. Lopuksi tapahtuu loppu-hehkutus yli 800°C:een, jotta aikaansaadaan sekundäärinen uudelleen-kiteytyminen valssaussuunnassa. Sikäli kun alumiininitridin (A1N) erottuminen, joka muodostaa tunnetun menetelmän perustan, ei tule estetyksi, voi lähtömateriaali sisältää myös pieniä määriä rikkiä, seleeniä yms. Mainitussa hakemsujulkaisussa kuitenkin korostetaan, että nimenomaan AIN-erottumiset kykenevät aikaansaamaan selektiivisen kiteiden kasvun valssaussuunnassa.DT application 1 920 968 discloses a method for treating magnetic disks with high magnetic induction based on the separation of aluminum nitride into crystal growth inhibitors. For this reason, the starting material of this known process must contain aluminum and nitrogen in suitable proportions. In this known method, such a starting material is hot-rolled and then finalized by repeated cold rolling and intermediate annealing, whereby before final cold rolling at a reduction rate of 65 to 95%, intermediate annealing is carried out at a γ-change temperature from which the material suddenly. cooled to a temperature below 750 to 950 ° C so that the separation of the aluminum nitride takes place in the required amount and form. Finally, final annealing to more than 800 ° C takes place to effect secondary recrystallization in the rolling direction. To the extent that the separation of aluminum nitride (A1N), which forms the basis of the known method, is not prevented, the starting material may also contain small amounts of sulfur, selenium, etc. However, said application discloses that it is AIN separations capable of selective crystal growth by rolling.

Tämä tunnettu menetelmä on sikäli epäedullinen, että sillä ei. kyetä aikaansaamaan teräslevyjä, joiden Bg-arvo on yli. 1,8 5 VJb/m , minkä lisäksi tulee se epäkohta, että on suoritettava lukuisia lämpökäsit-telyvaiheita vaaditun A1N erottumisen aikaansaamiseksi.This known method is disadvantageous in that it does not. be able to produce steel plates with a Bg value greater than. 1.8 VJb / m, in addition to the disadvantage that numerous heat treatment steps have to be performed to achieve the required A1N separation.

3 596183,59618

Keksinnön tarkoituksena on näin ollen saada aikaan menetelmä, jolla teknisesti yksinkertaisella tavalla on mahdollista valmistaa kide- 2 suunnattuja sähkölevyjä, joiden Bg-arvo on yli 1,85 Wb/m .The object of the invention is therefore to provide a method by which it is possible in a technically simple manner to produce crystal-oriented electric plates with a Bg value of more than 1.85 Wb / m.

Tämän tarkoituksen saavuttamiseksi on keksinnön mukainen menetelmä tunnettu siitä, että lähtömateriaalina toimiva piiteräs, jossa on vähemmän kuin 0,06 % hiiltä, vähemmän kuin 4 % piitä, 0,005 - 0,2 % antimonia, 0,008 - 0,1 % seleeniä ja/tai rikkiä, kuumavalssataan, hehkutetaan ja mahdollisesti toistettavien kylmävalssausten ja väli-hehkutusten avulla, 40 - 85 %:n pelkistysasteella loppukylmävals-sauksessa valssataan lopulliseen paksuuteen, ja että kylmävalssat-tu levy saatetaan hiilenpoistohehkutukseen sekä 10 - 120 tuntiseen hehkutukseen sekundääristä uudelleenkiteytymistä varten lämpötiloissa 800 - 920°C.To achieve this object, the process according to the invention is characterized in that the starting material is silicon steel with less than 0.06% carbon, less than 4% silicon, 0.005 to 0.2% antimony, 0.008 to 0.1% selenium and / or sulfur. , hot-rolled, annealed, and possibly repeated cold-rolled and intermediate-annealed, rolled to a final thickness at a reduction rate of 40 to 85% in the final cold-rolling, and that the cold-rolled sheet is subjected to 8 ° C C.

Edullisimmin lähtömateriaali sisältää 0,02 - 0,2 % mangaania, jolloin on lisäksi edullista, että lähtömateriaali, sisältää vähemmän kuin 0,5 % kromia, niobia, vanadiumia, volfrämiä, booria, titaania, zirkoniumia tai tantaalia.Most preferably, the starting material contains 0.02 to 0.2% manganese, it is further preferred that the starting material contains less than 0.5% chromium, niobium, vanadium, tungsten, boron, titanium, zirconium or tantalum.

Sopivimmin lähtömateriaali sisältää telluuria, jolloin seleeni ja/tai rikki on osittain korvattu telluurilla.Preferably, the starting material contains tellurium, in which case selenium and / or sulfur are partially replaced by tellurium.

Tällöin on lisäksi osoittautunut edulliseksi, että lähtömateriaalin antimonimäärä on 0,012 - 0,045 % ja että loppukylmävalssaus suoritetaan pelkistysasteella 50 - 77 %.In this case, it has further proved advantageous that the amount of antimony in the starting material is 0.012 to 0.045% and that the final cold rolling is carried out with a degree of reduction of 50 to 77%.

Keksinnöllä aikaansaatu tekninen edistys on ensisijaisesti nähtävissä siinä, että keksinnön mukainen menetelmä tekee mahdolliseksi valmistaa teknisesti yksinkertaisella ja taloudellisesti edullisella tavalla kidesuunattuja teräksiä, joilla on aikaisemmin saavuttamattoman edulliset magneettiset ominaisuudet, toisin sanoen Bg-arvo yli.The technical progress achieved by the invention is primarily seen in that the method according to the invention makes it possible to produce crystal-oriented steels with previously unattainable advantageous magnetic properties, i.e. a Bg value over, in a technically simple and economically advantageous manner.

1,85 Wb/m^.1.85 Wb / m 2.

Mainitulla Bg-arvolla on ymmärrettävä magneettista induktiota magneettikentän voimakkuudella 800 A/m.Said Bg value is to be understood as magnetic induction with a magnetic field strength of 800 A / m.

Yleensä valmistettaessa kidesuunnattuja sähköteräslevyjä sisältävät kuumavalssatut lähtöaineet sopivan määrän inhibiittejä, jotka hehkutuksen aikana estävät normaalin kidekasvun, ja lähtöaineet kylmävals-sataan lopulliseen levypaksuuteen, jolloin suoritetaan tarvittavassa 4 59618 määrin välihehkutuksia. Täten käsitellyt levyt saatetaan sitten hiilenpoistoon ja korkeassa lämpötilassa 1100 - 1200°C sekundääriseen uudelleenkiteytyshehkutukseen, jotta aikaansaadaan selektiivisesti kidekasvua, jolla on (110)/001/-suuntaus. Mainittua suuntausta vastaamattomien kiteytymien kasvua estetään pienillä erottumilla mangaanisulfidia, mangaaniselenidiä tai alumiininitridiä tms., jotka ovat erottuneet kiderajoille.Generally, in the manufacture of crystal oriented electrical steel sheets, the hot rolled starting materials contain a suitable amount of inhibitors that inhibit normal crystal growth during annealing, and the starting materials are cold rolled to a final sheet thickness, with the required amount of intermediate annealing performed at 4,59618. The sheets thus treated are then subjected to carbon removal and secondary recrystallization annealing at a high temperature of 1100 to 1200 ° C to selectively effect crystal growth having a (110) / 001 / orientation. The growth of crystals which do not correspond to said trend is inhibited by small separations of manganese sulfide, manganese selenide or aluminum nitride or the like separated at the crystal boundaries.

Keksinnön mukaisen menetelmän suorittamiseksi, on tarpeellista, että antimonia ja ainakin toista aineista seleeni ja telluuri esiintyy lähtömateriaalina käytetyssä piiteräksessä.In order to carry out the process according to the invention, it is necessary that antimony and at least one of the substances selenium and tellurium be present in the silicon steel used as starting material.

Antimonin käyttö selektiivisen kidekasvun ohjaami seen primääri ki teytymisessä on tunnettua jo japanilaisesta patenttijulkaisusta 8214/64, jolloin lähtömateriaalissa tulee olla 0,005 - 0,1 % antimonia .The use of antimony to control selective crystal growth in primary crystallization is already known from Japanese Patent Publication 8214/64, in which case the starting material should contain 0.005 to 0.1% antimony.

Keksintö perustuu sille johtoajatukselle, että antimonin ehkäisevää vaikutusta niiden primäärikiteiden kidekasvuun, joiden suuntaus huomattavasti poikkeaa (110)/001/-suuntauksesta, vahvistetaan huomattavasti seleenin tai rikin avulla. Toistuvien kylmävalssausten jälkeen, kun lähtömateriaali on halutussa lopullisessa levypaksuudessa, saatetaan käsitelty levy primääriseen uudelleenkiteytyshehkutukseen, jonka vaikutuksesta myös aikaansaadaan hiilen poisto. Tähän liittyvä loppuhehkutus palvelee sekundääristen uudelleenkiteytyneiden kitey-tymien kasvattamiseksi, joilla on (110)/001/-suuntaus.The invention is based on the guiding principle that the inhibitory effect of antimony on the crystal growth of primary crystals whose orientation differs significantly from that of (110) / 001 / is considerably enhanced by the use of selenium or sulfur. After repeated cold rolling, when the starting material is at the desired final sheet thickness, the treated sheet is subjected to primary recrystallization annealing, which also results in carbon removal. The associated final annealing serves to grow secondary recrystallized crystallizations with the (110) / 001 / orientation.

Keksintöä selostetaan seuraavassa lähemmin viittaamalla oheisiin piirustuksiin, joissa kuviot IA ja IB esittävät kaavioita, jotka kuvaavat rikki- ja seleenipitoisuuksien ja magneettisen induktion välisiä riippuvuuksia .The invention will now be described in more detail with reference to the accompanying drawings, in which Figures 1A and 1B are diagrams illustrating the relationships between sulfur and selenium concentrations and magnetic induction.

Kuvio 2 esittää kaaviota, joka kuvaa antimonipitoi.suuden ja Bg-arvon välistä riippuvuutta määrätyi llä S- ja Se-pi.toi suuksi 11a.Figure 2 is a graph illustrating the relationship between antimony concentration and Bg as determined by the S and Se portions 11a.

Kuvio 3 esittää kaaviota, joka kuvaa Bg-arvon riippuvuutta sekundää-rikiteytymisen lämpötilasta keksinnön mukaisesti käsitellyllä näytteellä A ja tähänastisella tavalla käsitellyllä näytteellä B.Fig. 3 is a diagram illustrating the dependence of the Bg value on the secondary crystallization temperature with sample A treated according to the invention and with sample B treated so far.

5 596185,59618

Kuvio 4 esittää kaaviota, joka kuvaa Bg-arvon suhdetta rautahäviöi-hin määrätyllä antimoni pitoisuudella valmistuotteessa, ja kuvio 5 esittää kaaviota, joka kuvaa valssauskertojen vaikutusta Bg-arvoon käytettäessä keksinnön mukaisesti seleeni- ja antimonipitoista lähtömateriaalia ja toisaalta yksinomaan seleenipitoista lähtömateri aalia.Fig. 4 is a graph illustrating the ratio of Bg to iron loss at a given antimony content in a finished product, and Fig. 5 is a graph illustrating the effect of rolling times on Bg using selenium- and antimony-containing starting material according to the invention and exclusively selenium-containing starting material.

Kuviot IA ja IB esittävät tyypillisiä riippuvuuksia rikki- ja seleenipitoisuuksien ja magneettisen induktion Bg välillä, kun kyseessä on seuraavalla tavalla valmistetut tuotteet: 3 mm paksut kuumavals-satut levyt, jotka oli sulatettu sähköuunissa ja sisälsivät noin 3 % piitä ja noin 0,03 % antimonia, hehkutettiin 5 minuutin ajan lämpötilassa 900°C. Sen jälkeen nämä levyt kylmävalssatti.in paksuuden pienentyessä 60 - 85 % samalla kun suoritettiin 5 minuutin väli-hehkutus lämpötilassa 950°C. Viimeisessä kylmävalssauksessa levyjen paksuus pieneni 40 - 80 %, jolloin saavutettiin loppupaksuus 0,30 -0,35 mm. Levyille suoritettiin hiilenpoisto kosteassa vetyilmakehäs-sä lämpötilassa 820°C ja 50 tuntia kestävä sekundääri.uudelleenki-teytyshehkutus suoritettiin lämpötilassa 850°C ja uuni.hehkutus lämpötilassa 1200°C. Seleenin pitoisuudella 0,012 - 0,045 % ja rikin pitoisuudella 0,012 - 0,045 % saavutettiin niinkin korkea B0-arvo 2 ö kui.n 1,90 Wb/m .Figures 1A and 1B show typical dependences between sulfur and selenium contents and magnetic induction Bg for products made as follows: 3 mm thick hot-rolled sheets melted in an electric furnace and containing about 3% silicon and about 0.03% antimony , annealed for 5 minutes at 900 ° C. Thereafter, these sheets were cold-rolled with a thickness reduction of 60 to 85% while performing a 5-minute intermediate annealing at 950 ° C. In the last cold rolling, the thickness of the sheets was reduced by 40 to 80%, reaching a final thickness of 0.30 to 0.35 mm. The plates were decarburized in a humid hydrogen atmosphere at 820 ° C and secondary re-annealing annealing was performed at 850 ° C and oven annealing at 1200 ° C. With a selenium content of 0.012 to 0.045% and a sulfur content of 0.012 to 0.045%, such a high B0 value of 2.90 Wb / m was achieved.

Kuviossa 2 esitetty kaavio kuvaa magneettista induktiota saadulla tuotteella, jota käsiteltiin seuraavasti: Sähköuunissa sulatettua teräsharkkoa, joka sisältää noin 3 % Si, 0 - 0,20 % Sb, 0,02 - 0,04 % Se, 0,001 - 0,008 % tai 0,02 - 0,05 % S, samoissa vaiheissa kuin kuviossa 1 on esitetty. Kuviosta 2 voidaan havaita, että kun vähintään toista aineista Se ja S sisältyy piiteräsvalanteeseen, joka sisältää 0,005 - 0,20 % Sb, niin Bg arvot ovat parempia kuin niissä tapauksissa, joissa on 0,005 - 0,20 % Sb yksistään, 0,02 - 0,05 % S yksistään tai 0,02 - 0,04 % Se yksistään. Kun Sb sisältö on vähemmän kuin 0,005 %, vieläpä jos Se ja/tai S on lisätty, niin 2The diagram in Figure 2 illustrates the magnetic induction of the obtained product, which was treated as follows: In an electric furnace, a molten steel ingot containing about 3% Si, 0 to 0.20% Sb, 0.02 to 0.04% Se, 0.001 to 0.008% or 0, 02 to 0.05% S, in the same steps as shown in Figure 1. It can be seen from Figure 2 that when at least one of the substances Se and S is contained in a silicon steel ingot containing 0.005 to 0.20% Sb, the Bg values are better than in those cases with 0.005 to 0.20% Sb alone, 0.02 to 0.05% S alone or 0.02 to 0.04% Se alone. When the Sb content is less than 0.005%, even if Se and / or S are added, then 2

Bg arvot eivät ylitä 1,85 Wb/m , ja myös jos Sb ylittää 0,2 %, niin Bg arvo laskee ja magneettiset ominaisuudet huononevat. Kun Sb määrä on enemmän kuin 0,005 % mutta vähemmän kuin 0,2 %, niin BD arvoa voi-Bg values do not exceed 1.85 Wb / m, and also if Sb exceeds 0.2%, then the Bg value decreases and the magnetic properties deteriorate. When the amount of Sb is more than 0,005% but less than 0,2%, the value of BD can be

OO

daan parantaa. Erityisesti kun Sb on alueella 0,01 - 0,1 %, niin Bg arvoon ei huomattavasti, vaikuta Sb sisältö ja Sb alueella 0,02 -0,04 %, korkein Bg arvo voidaan saavuttaa.can be improved. In particular, when Sb is in the range of 0.01 to 0.1%, then the Bg value is not significantly affected by the Sb content and Sb in the range of 0.02 to 0.04%, the highest Bg value can be achieved.

Toisaalta, kuten esitetään kuviossa IA, kun Se ja S määrien summa on 5961 8 vähemmän kuin 0,008 %, niin ei voida saavuttaa haluttua Bg arvoa. Se ja S määrien suuri li säys tuskin vai kiittää Bg arvoon, mutta kuuma-haurautta voi ilmaantua kuumavalssauksessa ja rautahävi.Ö on ilman muuta huonontunut johtuen Se ja S jäännöksestä. Siten liian suuri lisäys aineita Se tai S ei ole suositeltavaa ottamalla huomioon teollisuustuotannon. Siten yläraja-aineiden Se ja S määrien summalle on määritetty olevan 0,10 %.On the other hand, as shown in Fig. 1A, when the sum of the amounts of Se and S is 5961 8 less than 0.008%, the desired value of Bg cannot be obtained. A large increase in the amounts of Se and S hardly or not due to the value of Bg, but hot brittleness can occur in hot rolling and iron loss. Thus, the excessive addition of substances Se or S is not recommended in view of industrial production. Thus, the sum of the amounts of the upper bound substances Se and S has been determined to be 0.10%.

C on rajoitettu pienemmäksi kuin 0,06 %. Tämä rajoitus on määritetty hi.ilenpoi.ston taloudellisuuden välttämättömyyden vuoksi, sillä C sisältö täytyy laskea vähemmäksi, kuin noin 0,005 % hiilenpoi.stovaihees-sa, jotta kehitettäisiin haluttuja sekundäärikiteitä. Si määrä on rajoitettu vähemmäksi kuin 4 % hyvän kylmätyöstettävyyden varmistamiseksi.C is limited to less than 0.06%. This limitation has been determined because of the need for the economics of carbon removal, since the C content must be reduced to less than about 0.005% in the carbon removal step in order to develop the desired secondary crystals. The amount is limited to less than 4% to ensure good cold workability.

Kuten edellä on selitetty, tässä keksinnössä on oleellista se, että Sb ja ainakin toista aineista Se ja S sisältyy piiteräkseen, mutta on selvää, että hyvin tunnettuja aineita, joita lisätään tavallisiin pii-teräksiin, on läsnä. Esimerkiksi on suositeltavaa käyttää 0,02 - 0,2 % Mn. Li säksi on salli ttavaa korvata Se tai S Te :11a, joka on hyvin tunnettu primäärisen kidekasvun estoai.ne, minkä lisäksi voidaan vielä lisätä Te. Edelleen estoaineita Cr, Nb, V, W, B, Ti, Zr ja Ta voidaan lisätä määrässä vähemmän kuin 0,5 %. Pienet alumiinipitoisuudet, esim. alle 0,02 %, joita käytetään hapetuksen estämiseen, eivät ole haitallisia. Kuitenkin Ai, jäännösmäärä on valmistuotteessa tavallisesti vähemmän kuin 0,005 %.As explained above, it is essential in the present invention that Sb and at least one of the substances Se and S be contained in silicon steel, but it is clear that well-known substances which are added to ordinary silicon steels are present. For example, it is recommended to use 0.02 to 0.2% Mn. In addition, it is permissible to replace Se or S Te, which is a well-known inhibitor of primary crystal growth, in addition to which Te can be added. Furthermore, the inhibitors Cr, Nb, V, W, B, Ti, Zr and Ta can be added in an amount of less than 0.5%. Low aluminum concentrations, e.g. less than 0.02%, used to prevent oxidation are not harmful. However, Ai, the residual amount in the finished product is usually less than 0.005%.

Tämän keksinnön mukainen piiteräsharkko valmistetaan tavallisesti hyvin tunnetulla teräksen valmistusprosessilla ja siten valmistettu pii-teräsvalanne kuumavalssataan hyvin tunnetulla menetelmällä sekä siten saatu kuumavalssattu levy saatetaan adbnakin yhteen päästövaiheeseen ja ainakin yhteen kylmävalssausvaiheeseen ja lopulliseen levypaksuuteen, ja si.tten hi.ilenpoistovaiheeseen ja sen jälkeen lopulliseen päästö-vaiheeseen sekundääristen uudelleenkiteytymi sytimien kehittämiseksi, joissa on (110)/001/-suuntaus.The silicon steel ingot of the present invention is usually produced by a well-known steelmaking process, and the silicon-steel ingot thus produced is hot-rolled by a well-known method, and the hot-rolled sheet thus obtained is subjected to one release stage and at least one cold-rolling step step to develop secondary recrystallization cores with an (110) / 001 / orientation.

Tavat näiden perättäisten vaiheiden suorittamiseksi selitetään yksityiskohtaisesti seuraavassa.The ways to perform these sequential steps are explained in detail below.

Tämän keksinnön mukaisen raaka-aineen sulattamiseksi voidaan käyttää LD konvertteria, sähköuunia, lieskauunia ja muita tunnettuja teräksen-valmistusprosesseja sekä tyhjökäsittely- tai tyhjösulatusprosessia voidaan käyttää yhdessä. Lisäksi keinot harkon eli valanteen valmis- 7 5961 8 tamiseksi voidaan järjestää tavallisella muottivalulla ja jatkuvalla valulla.An LD converter, an electric furnace, a furnace and other known steelmaking processes can be used to melt the raw material of the present invention, and a vacuum treatment or vacuum melting process can be used together. In addition, the means for making the ingot, i.e. the ingot, can be provided by ordinary mold casting and continuous casting.

Tässä keksinnössä on oleellista käyttää raaka-ainetta sisältäen Se tai S lisäyksenä Sb määrään, mutta Se tai S lisäystä aineeseen on jo ehdotettu ja tämä lisäys voidaan järjestää jollakin tunnetulla prosessilla. Esimerkiksi aineita voidaan lisätä sulatettuun teräkseen harkon valmistuksessa ja edelleen voidaan järjestää näitä lisäämällä sopiva määrä Se tai S päästöerottimeen käytettäväksi lopullisessa päästössä.In the present invention, it is essential to use a raw material containing Se or S as an addition to the amount of Sb, but the addition of Se or S to the substance has already been proposed and this addition can be arranged by any known process. For example, substances may be added to the molten steel in the manufacture of the ingot and further arranged to be provided by adding an appropriate amount of Se or S to the emission separator for use in the final discharge.

Saadut teräsharkot tai liuskat valmistettuna jatkuvalla valulla voidaan kuumavalssata hyvin tunnetulla menetelmällä. Yleensä liuskat ja levyt kuumavalssataan ja kehitetään jatkuvissa kuumanauhavalssaus-koneissa, yleensä sen jälkeen kun ne ovat kuumennetut edullisesti lämpötilaan 1200 - 1350°C. Kuumavalssatun levyn paksuus riippuu seu-raavasta kylmävalssausvaiheesta, mutta se on yleensä noin 2-5 mm.The obtained steel ingots or strips made by continuous casting can be hot rolled by a well-known method. In general, the strips and sheets are hot rolled and developed in continuous hot strip rolling machines, generally after heating, preferably to a temperature of 1200 to 1350 ° C. The thickness of the hot rolled plate depends on the next cold rolling step, but is generally about 2-5 mm.

Sitten kuumavalssattu levy kylmävalssataan ja tämän keksinnön mukaisesti kylmävalssaus suoritetaan ainakin kerran, mutta jotta saataisiin korkea tämän keksinnön mukaisen tuotteen Bg arvo, niin on tarpeellista kiinnittää täysi huomio lopulliseen kylmävalssausmäärään.The hot-rolled sheet is then cold-rolled and cold-rolled according to the present invention is performed at least once, but in order to obtain a high value of the product Bg of the present invention, it is necessary to pay full attention to the final cold-rolled amount.

Kuvio 5 on kaavio kuvaten Bg arvon suhdetta lopulliseen kylmävalssausmäärään, kun sula teräs sisältää noin 3 % Si, noin 0,06 % Mn, 0,03 % C, ja 0,003 % S on lisätty (a) 0,018 % Se ja 0,030 % Sb ja (b) 0,015 % Se kanssa, jotta valmistetaan harkkoja, joista kukin on käsitelty samalla tavoin, kuten on selitetty kuvioiden 1 ja 2 yhteydessä. Tästä kuviosta havaitaan, että tämän keksinnön mukaisesti aineessa korkea Bg arvo voidaan saavuttaa alueella 40 - 85 % lopullisen kylmävalssauk- sen määrällä. Erityisesti kylmävalssausmäärä 50 - 77 % antaa B„ arvon 2 ö enemmän kuin 1,90 Wb/m . Toisaalta kun lopullinen kylmävalssausmäärä ylittää 85 %, niin primääriset uudelleenkiteytetyt ytimet, joiden suuntaus suuresti poikkeaa suuntauksesta (110)/001/, ovat myös kehittyneet ja edulliset sekundääriset uudelleenkiteytetyt ytimet eivät ole kehittyneet tyydyttävästi. Tuloksena Bg arvo on nopeasti huonontunut. Lisäisi, kun mainittu määrä on vähemmän kuin 40 %, niin voidaan saavuttaa suuri kasvu sekundäärisillä uudelleenkiteytetyillä ytimillä, mutta niiden /100/ akselit tulevat hajalleen suunnatuiksi, valssaussuuntaan nähden ja Bg arvoa korkeampaa kuin 1,85 Wb/m ei voida saavuttaa.Figure 5 is a graph illustrating the relationship of the Bg value to the final cold rolling rate when the molten steel contains about 3% Si, about 0.06% Mn, 0.03% C, and 0.003% S is added (a) 0.018% Se and 0.030% Sb and (b) 0.015% with It to produce ingots each treated in the same manner as described in connection with Figures 1 and 2. It can be seen from this figure that according to the present invention, a high Bg value in the material can be achieved in the range of 40 to 85% with the amount of final cold rolling. In particular, a cold rolling rate of 50 to 77% gives a B 2 value of more than 1.90 Wb / m. On the other hand, when the final cold rolling rate exceeds 85%, the primary recrystallized cores with a trend very different from the (110) / 001 / trend are also developed, and the preferred secondary recrystallized cores are not developed satisfactorily. As a result, the value of Bg has rapidly deteriorated. Moreover, when said amount is less than 40%, a large increase can be obtained with the secondary recrystallized cores, but their (100) axes become scattered, with respect to the rolling direction, and a Bg value higher than 1.85 Wb / m cannot be achieved.

Kylmävalssaus suoritetaan tavallisesti kahdesti ja kahden kylmävals- 8 5961 8 sauksen välillä suoritetaan välihehkutus 850 - 1100°C. Ensimmäisen valssauksen tapauksessa vähennysmäärä on noin 60 - 85 %. Kuitenkin on mahdollista, että kuumavalssatut levyt vähennetään lopulliseen mittaan yhdessä kylmävalssausvaiheessa, jolloin BQ arvo on enemmän kuin 2 ° 1,85 Wb/m , ja tämä voidaan saavuttaa. Siinä tapauksessa kun kuuma- valssattu levy saatetaan hehkutukseen lämpötilassa 850 - 1100°C, jotta kuumavalssattu rakenne tulisi homogeeniseksi, niin voidaan saavuttaa edullinen tulos. Nämä hehkutukset tavallisesti suoritetaan jatkuvalla uunilla, mutta ne voidaan järjestää myös muilla keinoin, kuten laatikkohehkutuksella ja sellaisella.Cold rolling is usually carried out twice and intermediate annealing between 850 to 1100 ° C is carried out between two cold rolling mills. In the case of the first rolling, the reduction rate is about 60 to 85%. However, it is possible that the hot-rolled sheets are reduced to the final size in one cold-rolling step, whereby the BQ value is more than 2 ° 1.85 Wb / m, and this can be achieved. In the case where the hot-rolled sheet is annealed at a temperature of 850 to 1100 ° C to make the hot-rolled structure homogeneous, a favorable result can be obtained. These annealing is usually performed in a continuous furnace, but may also be arranged by other means, such as box annealing and the like.

Teräslevy omaten halutun levypaksuuden lopullisen kylmävalssauksen jälkeen saatetaan hiilenpoistohehkutukseen. Tämä hehkutus pyrkii kyl-mävalssatun rakenteen muutoksella primääriseen uudelleenkiteytettyyn rakenteeseen ja samanaikaisesti C poistoon, joka on harmillista sekundääristen uudelleenkiteytettyjen ytimien kasvulle suuntauksella (110) /001/ lopullisessa päästössä. Esimerkiksi mainittu hehkutus suoritetaan märkävedyssä lämpötilassa 750 - 850°C 5-15 minuuttia ja jotain muuta tunnettua prosessia voidaan käyttää.The steel sheet having the desired sheet thickness after final cold rolling is subjected to carbon removal annealing. This annealing tends to change the cold-rolled structure to the primary recrystallized structure and at the same time remove C, which is detrimental to the growth of secondary recrystallized cores in the (110) / 001 / final discharge trend. For example, said annealing is performed in a wet hydrogen temperature at 750 to 850 ° C for 5-15 minutes and some other known process can be used.

Lopullinen päästö suoritetaan, jotta kasvatettaisiin sekundäärisiä uudelleenkiteytettyjä ytimiä (110)/001/-suuntauksella ja vähennettäisiin jääviä epäpuhtauksia, jotka ovat ikäviä rautahäviöarvolle. Tavallisessa käytännössä lämpötila kohotetaan suoraan viivytyksittä korkeammalle kuin 1000°C laatikkohehkutuksella ja tämä lämpötila pidetään, kunnes tarkoitukset ovat saavutetut. Tämän keksinnön mukaisesti kuitenkin sekundäärinen uudelleenkiteytyshehkutus ja puhdistusheh-kutus aikaansaadaan eri lämpötila-alueilla. Nimittäin sekundäärinen uudelleenkiteytyshehkutuslämpötila on toivottava olevan niin alhainen kuin mahdollista, mikäli sekundäärisiä uudelleenkiteytysytimi.ä voidaan kehittää, ja tällaisilla keinoilla Bg arvo kohotetaan paljon korkeammalle kuin siten, että tavallisilla vaiheilla pidetään korkea lämpötila. Bg arvo on riittävän korkea myös jos sekundäärinen uudelleenkiteytyshehkutus on täydellinen ja päättynyt, mutta jotta laskettaisiin tuotteen rautahäviötä, on toivottavaa lisätä sitten puhdis-tushehkutus korkeassa lämpötilassa pitäen lämpötilan, joka ei tule γ alueelle. Tämä lämpötila puhdistushehkutusta varten riippuu Si sisällöstä. Tämä lopullinen hehkutus suoritetaan laatikkohehkutuksella käyttämällä hehkutuserotinta, kuten magnesi.umoksidia.The final emission is performed in order to increase the secondary recrystallized cores with the (110) / 001 / orientation and to reduce residual impurities which are unpleasant for the iron loss value. In normal practice, the temperature is raised directly without delay to a temperature higher than 1000 ° C by box annealing and this temperature is maintained until the purposes are achieved. However, in accordance with the present invention, secondary recrystallization annealing and purification annealing are provided in different temperature ranges. Namely, the secondary recrystallization annealing temperature is desirably as low as possible if secondary recrystallization cores can be developed, and by such means the value of Bg is raised much higher than by maintaining a high temperature in ordinary steps. The value of Bg is also high enough if the secondary recrystallization annealing is complete and complete, but in order to calculate the iron loss of the product, it is desirable to then increase the purification annealing at a high temperature, keeping the temperature not in the γ range. This temperature for cleaning annealing depends on the Si content. This final annealing is performed by box annealing using an annealing separator such as magnesium oxide.

Kuvio 3 kuvaa saatua tulosta raaka-aineesta A (levypaksuus: 3,0 mm) 5961 8 sisältäen 3,3 % Si, 0,02 % Sb, 0,015 % Se ja tavallisesta raaka-aineesta B (levypaksuus: 2,0 mm) sisältäen 3,3 % Si, ei Sb lisäystä ja 0,015 % Se. Molemmat raaka-aineet A ja B saatetaan primääriseen kylmävalssaukseen vähennysmäärällä 70 %, välihehkutukseen 950°C 5 minuuttia ja sitten sekundääriseen kylmävalssaukseen vähennysmäärällä 67 % A varten ja 50 % B varten lopullisen mitan 0,30 mm aikaansaamiseksi ja sitten hiilenpoistohehkutus märkävedyssä 820°C. Sitten kylmävalssattu levy saatetaan sekundääriseen uudelleenkiteytyshehku-tukseen lämpötilassa 840 - 960°C 80 tuntia I^rssa ja sitten lopullinen hehkutus 1180°C 5 tuntia.Figure 3 depicts the result obtained for raw material A (plate thickness: 3.0 mm) 5961 8 containing 3.3% Si, 0.02% Sb, 0.015% Se and for ordinary raw material B (plate thickness: 2.0 mm) containing 3.3% Si, no increase in Sb and 0.015% Se. Both feedstocks A and B are subjected to primary cold rolling with a reduction of 70%, intermediate annealing at 950 ° C for 5 minutes and then secondary cold rolling with a reduction of 67% for A and 50% B to give a final dimension of 0.30 mm and then descaling in wet hydrogen at 820 ° C. The cold-rolled sheet is then subjected to a secondary recrystallization annealing at 840 to 960 ° C for 80 hours and then a final annealing at 1180 ° C for 5 hours.

Kuten havaitaan kuviossa 3, kun lämpötila sekundääristä uudelleenki-teytystä varten on alempi, niin Bg magneettinen ominaisuus on huomattavasti parantunut. Lisäksi piisisältö sisältäen Sb ja Se on erityisen huomattava Bg arvon parannuksessa.As can be seen in Figure 3, when the temperature for secondary recirculation is lower, the magnetic property of Bg is greatly improved. In addition, the silicon content including Sb and Se is particularly noticeable in the improvement of the Bg value.

Kuvio 3 kuvaa sitä, että sekundäärinen uudelleenki. teytyshehkutusläm- pötila, korkeampi kuin 930°C, ei täysin paranna Bft arvoa ja on vaikea 2 ö saavuttaa Bg arvo korkeampi kuin 1,85 Wb/m . Toisaalta sekundäärinen uudelleenkiteytys tapahtuu myös hehkuttamalla lämpötilassa alempi kuin 800°C, mutta tämä ottaa pitemmän ajan ja se ei ole taloudellisesti hyvä. Siten tämän keksinnön mukaisesti sekundäärinen uudelleenkitey-tyslämpötila on suositeltava olevan 800 - 920°C. Keksinnön toisen periaatteen mukaisesti on täydellinen kehitys sekundäärisellä uudel-leenkiteytysytimellä alemmassa lämpötilassa ja tarkoitusta varten lämpötila 800 - 920°C pidetään 10 - 120 tuntia tai tällä lämpötila-alueella lämpötila asteittaisesta kohotetaan, esimerkiksi määrällä 0,5 - 10°C/h.Figure 3 illustrates that the secondary recurrence. the annealing temperature, higher than 930 ° C, does not completely improve the Bft value and it is difficult to reach a Bg value higher than 1.85 Wb / m. On the other hand, secondary recrystallization also occurs by annealing at a temperature lower than 800 ° C, but this takes a longer time and is not economically good. Thus, in accordance with the present invention, the secondary recrystallization temperature is preferably 800 to 920 ° C. According to another principle of the invention, there is complete development of the secondary recrystallization core at a lower temperature and for this purpose a temperature of 800 to 920 ° C is maintained for 10 to 120 hours or the temperature is gradually raised in this temperature range, for example by 0.5 to 10 ° C / h.

Kuten on jo tunnettua, Se ja S sisältyen teräslevyyn, sitten kun ne ovat toimineet sekundäärisen uudelleenkiteytysytimen kasvattamiseksi suuntauksella (110)/001/ lopullisessa päästössä, poistetaan tai niitä vähennetään niin paljon kuin mahdollista, sillä nämä aineet ovat ikäviä rautahäviön suhteen. Se ja S poisto voidaan saavuttaa järjestämällä hehkutus I^ssa pitkän ajan, ja erityisesti kun Si on korkeampi kuin 2,0 %, hehkuttamalla lämpötilassa korkeammalla kuin 1000°C, S ja Se poistetaan. Toisaalta Sb omaa aktiviteetin estäen primääristen uudelleenki.teytyneiden yti.mien kasvua, ja kuten esitetään kuviossa 4, myös jos Sb jää teräslevyyn, niin se ei vaikuta rau-tahäviöarvon huonontumiseen. Tämä on hyvin ominaista ja ei. ole tarpeellista erityisesti, poistaa Sb lopullisessa hehkutuksessa.As is already known, Se and S contained in a steel plate, after having acted to increase the secondary recrystallization core in the (110) / 001 / final discharge direction, are removed or reduced as much as possible, as these substances are annoying in terms of iron loss. The removal of Se and S can be achieved by providing annealing in I 2 for a long time, and especially when Si is higher than 2.0%, by annealing at a temperature higher than 1000 ° C, S and Se are removed. On the other hand, Sb has its own activity, inhibiting the growth of primary recycled nuclei, and, as shown in Fig. 4, even if Sb remains in the steel plate, it does not contribute to the deterioration of the iron loss value. This is very characteristic and not. not necessary in particular, to remove Sb on final annealing.

10 5961 810 5961 8

Seuraavat esimerkit ovat esitetyt tämän keksinnön kuvaustarkoituksessa, eivätkä ole tarkoitetut rajoittamaan sitä. Termi tässä käytettynä tarkoittaa painoa.The following examples are presented for the purpose of illustrating the present invention and are not intended to limit it. The term as used herein means weight.

Esimerkki 1Example 1

Piiteräsharkko sisältäen 0,020 % C, 2,90 % Si, 0,06 % Mn, 0,030 % Sb ja 0,020 % Se esivalssattiin ja sitten kuumennettiin 1250°C 1 tunnin ajan, jota seurasi jatkuva kuumavalssausvaihe 3 mm paksuuteen, primäärinen kylmävalssaus vähennysmäärällä 75 % ja sitten hehkutus 900°C 5 minuuttia sekä lopuksi kylmävalssaus vähennysmäärällä 60 % 0,3 mm:n paksuuteen. Sitten levy hiilipoistettiin märkävedyssä 820°C 5 minuuttia ja lopuksi hehkutettiin. Lopullisessa hehkutuksessa lämpötila pidettiin 870°C 20 tunnin ajan sekundääristen uudel-leenkiteytyneiden ytimien kehittämiseksi täysin ja sitten lämpötila kohotettiin 1200°C ja pidettiin 5 tuntia tässä lämpötilassa. Tuloksena siten saadun tuotteen magneettiset ominaisuudet olivat seuraavat: B8 : 1,91 wb/m2 W17/50 : w/k*Silicon ingot containing 0.020% C, 2.90% Si, 0.06% Mn, 0.030% Sb and 0.020% It was pre-rolled and then heated to 1250 ° C for 1 hour, followed by a continuous hot rolling step to a thickness of 3 mm, primary cold rolling with a reduction of 75% and then annealing at 900 ° C for 5 minutes and finally cold rolling with a reduction of 60% to a thickness of 0.3 mm. The plate was then decarbonated in wet hydrogen at 820 ° C for 5 minutes and finally annealed. In the final annealing, the temperature was maintained at 870 ° C for 20 hours to fully develop secondary recrystallized cores, and then the temperature was raised to 1200 ° C and maintained at this temperature for 5 hours. The magnetic properties of the resulting product were as follows: B8: 1.91 wb / m2 W17 / 50: w / k *

Esimerkki 2Example 2

Piiteräsharkko sisältäen 0,03 % C, 2,95 % Si, 0,056 % Mn, 0,022 % Sb, 0,009 % S ja 0,015 % Se esivalssattiin ja sitten kuumennettiin 1320°C 1 tunnin ajan, jota seurasi jatkuva kuumavalssausvaihe 2 mm paksuuteen ja sitten kerran jäähdytettiin ja jatkuvasti hehkutettiin N2 ilmakehässä 5 minuutin ajan 900°C. Sitten suoritettiin primäärinen kylmävalssaus vähennysmäärällä 50 %, jotta saatiin levy omaten 0,30 mm paksuuden. Sitten järjestettiin hiilenpoistohehkutus 820°C 5 minuuttia ja edelleen tavallinen laatikkohehkutus suoritettiin 1180°C 5 tuntia. Tuloksena saatiin piiteräslevy, joka omasi seuraavat ominaisuudet.Silicon ingot containing 0.03% C, 2.95% Si, 0.056% Mn, 0.022% Sb, 0.009% S and 0.015% It was pre-rolled and then heated to 1320 ° C for 1 hour, followed by a continuous hot rolling step to a thickness of 2 mm and then once cooled and continuously annealed under N 2 for 5 minutes at 900 ° C. Primary cold rolling was then performed at a reduction of 50% to obtain a plate having a thickness of 0.30 mm. Descaling was then performed at 820 ° C for 5 minutes and further ordinary box annealing was performed at 1180 ° C for 5 hours. The result was a silicon steel plate having the following properties.

Bg : 1,88 wb/m^ W17/50 : 1'il* ”/k*Bg: 1.88 wb / m ^ W17 / 50: 1'il * ”/ k *

Esimerkki 3Example 3

Piiteräsvalanne sisältäen 0,025 % C, 3,25 % Si, 0,019 % Sb, 0,020 % Se ja jäännösmäärän S (0,004 %) kuumavalssattiin 3 mm paksuuteen ja pääs- 11 5961 8 tettiin 970°C 5 minuuttia, sitten järjestettiin primääri kylmävals-saus vähennysmäärällä 75 % ja sekundäärinen kylinä valssaus vähennys-määrällä 64 % (0,3 mm paksuus) ja kahden kylmävalssauksen välillä vä-lihehkutus suoritettiin 900°C. Sitten suoritettiin hiilenpoistohehku-tus ja lopullinen päästö. Tässä tapauksessa lämpötila 860°C pidettiin 50 tuntia sekundääristen uudelleenkiteytyneiden ytimien kasvattamiseksi täysin ja sitten 1180°C pidettiin 5 tuntia. Tuloksena siten saadun tuotteen ominaisuudet olivat seuraavat.Silicon steel casting containing 0.025% C, 3.25% Si, 0.019% Sb, 0.020% Se and a residual amount of S (0.004%) were hot rolled to a thickness of 3 mm and passed at 97061 C for 5 minutes, then primary cold rolling was performed with a reduction amount. 75% and secondary villages rolling at a reduction rate of 64% (0.3 mm thickness) and between the two cold rolls, intermediate annealing was performed at 900 ° C. Decarbonation annealing and final discharge were then performed. In this case, a temperature of 860 ° C was maintained for 50 hours to completely grow the secondary recrystallized cores, and then 1180 ° C was maintained for 5 hours. The characteristics of the resulting product thus obtained were as follows.

Bfl : 1,91 wb/m2 W17/S0 : ^11 w/k?Bfl: 1.91 wb / m2 W17 / S0: ^ 11 w / k?

Esimerkki 4Example 4

Jatkuva valettu levy omaten koostumuksen 0,015 % C, 2,90 % Si, 0,08 % Sb, 0,03 % Se ja jäännösmäärän S (0,003 %) sekä 0,05 % Mn kuumavals-sattiin 3 mm paksuuteen. Saatu levy saatettiin primääri kylmävalssaukseen vähennysmäärällä 60 %, välihehkutus 950°C ja sitten sekundäärinen kylmävalssaus vähennysmäärällä 75 % (0,3 mm paksuus). Sitten seurasi hiilenpoistohehkutus ja lopullinen hehkutus 1200°C 5 tuntia. Siten saadun tuotteen ominaisuudet olivat seuraavat.A continuous cast plate having a composition of 0.015% C, 2.90% Si, 0.08% Sb, 0.03% Se and a residual amount of S (0.003%) and 0.05% Mn was hot-rolled to a thickness of 3 mm. The resulting plate was subjected to primary cold rolling with a reduction of 60%, intermediate annealing at 950 ° C and then secondary cold rolling with a reduction of 75% (0.3 mm thickness). This was followed by degassing annealing and a final annealing at 1200 ° C for 5 hours. The characteristics of the product thus obtained were as follows.

Bg : 1,86 wb/m2 ^27/50 ’ w/kgBg: 1.86 wb / m2 ^ 27/50 'w / kg

Esimerkki 5Example 5

Kun oli saatu piiteräs kuumavalssattu levy (3 mm paksuus) sisältäen 0,040 % C, 2,90 % Si, 0,015 % Sb, 0,02 % Se ja 0,03 % S, niin suoritettiin primääri kylmävalssaus vähennysmäärällä 78 %, välihehkutus 950°C ja sitten sekundäärinen kylmävalssaus vähennysmäärällä 50 %, jotta saadaan levy omaten 0,30 mm paksuuden. Hiilenpoistohehkutuksen jälkeen levy asteittain kuumennettiin lämpötilasta 800°C lämpötilaan 900°C 30 tunnin ajan määrällä 3°C/h, ja lämpötila 1180°C pidettiin 5 tuntia. Tuloksena lopullisen hehkutuksen suorituksessa saatiin pii-teräslevy omaten seuraavat ominaisuudet.After obtaining a silicon steel hot-rolled plate (3 mm thick) containing 0.040% C, 2.90% Si, 0.015% Sb, 0.02% Se and 0.03% S, primary cold rolling was performed with a reduction of 78%, intermediate annealing at 950 ° C and then secondary cold rolling at a reduction of 50% to obtain a sheet having a thickness of 0.30 mm. After decarburization annealing, the plate was gradually heated from 800 ° C to 900 ° C for 30 hours at 3 ° C / h, and the temperature was maintained at 1180 ° C for 5 hours. As a result, a silicon-steel sheet having the following properties was obtained during the final annealing.

Bg : 1,93 wb/m2 '"17/50 : 1,22 w/kp: 5961 8Bg: 1.93 wb / m2 '' 17/50: 1.22 w / kp: 5961 8

Esimerkki 6Example 6

Teräsvalanne sisältäen 0,025 % C, 0,8 % Si, 0,020 % Se ja 0,030 % Sb esivalssattiin ja kuumavalssattiin ja saatiin levy 2,0 mm paksuudella. Hehkutuksen jälkeen 1000°C 5 minuuttia suoritettiin kylmävals-saus vähennvsmäärällä 60 % ja saatiin levy omaten 0,8 mm paksuuden. Edelleen hiilenpoistohehkutuksen jälkeen suoritettiin lopullinen hehkutus H2 ilmakehässä 900°C 2*4 tuntia. Tuloksena saatiin tuote omaten seuraavat ominaisuudet:A steel ingot containing 0.025% C, 0.8% Si, 0.020% Se and 0.030% Sb was pre-rolled and hot rolled to give a plate with a thickness of 2.0 mm. After annealing at 1000 ° C for 5 minutes, cold rolling was performed at a reduction of 60% to obtain a plate having a thickness of 0.8 mm. Further, after decarbonation annealing, a final annealing in an H 2 atmosphere at 900 ° C was performed for 2 * 4 hours. The result was a product having the following characteristics:

Bg : 1,98 wb/m2Bg: 1.98 wb / m2

Esimerkki 7Example 7

Piiteräsharkko sisältäen 0,03 % C, 3,25 % Si, 0,05 % Mn, 0,030 % Sb ja 0,02 % Se valmistettiin LD konvertterissa, esivalssattiin ja kuumennettiin 1320°C 60 minuuttia. Kuumavalssauksen jälkeen 3 mm paksuuteen levy hehkutettiin 900°C 5 minuuttia. Primäärisellä ja sekundäärisellä kylmävalssauksella vähennysmäärällä 71 % ja 65 % vastaavasti ja välihehkutuksella 920°C 5 minuuttia väheni levyn paksuus määrään 0,30 mm, ja sitten levy hiilipoistettiin märkävedyssä 820°C 5 minuuttia. 850°C pidettiin 80 tuntia sekundääristen uudelleenkiteyty-neiden ytimien täysin kasvattamiseksi. Lopuksi levy hehkutettiin 1180°C 5 tuntia. Tuloksena saadun tuotteen magneettiset ominaisuudet olivat seuraavat.Silicon ingot containing 0.03% C, 3.25% Si, 0.05% Mn, 0.030% Sb and 0.02% It was prepared in an LD converter, pre-rolled and heated at 1320 ° C for 60 minutes. After hot rolling to a thickness of 3 mm, the plate was annealed at 900 ° C for 5 minutes. Primary and secondary cold rolling with a reduction of 71% and 65%, respectively, and intermediate annealing at 920 ° C for 5 minutes reduced the plate thickness to 0.30 mm, and then the plate was decarbonated in wet hydrogen at 820 ° C for 5 minutes. 850 ° C was maintained for 80 hours to completely grow the secondary recrystallized cores. Finally, the plate was annealed at 1180 ° C for 5 hours. The magnetic properties of the resulting product were as follows.

Bg : 1,92 wb/m2 ''Wo : 1,07 w/kRBg: 1.92 wb / m2 W ': 1.07 w / kR

Claims (8)

13 5961 813 5961 8 1. Menetelmä sähköteräslevyjen valmistamiseksi, joilla on (110)/001/- 2 suuntaus ja Bg-arvo yli 1,85 WB/m , tunnettu siitä, että lähtömateriaalina toimiva piiteräs, jossa on vähemmän kuin 0,06 % hiiltä, vähemmän kuin 4 % piitä, 0,005 - 0,2 % antimonia, 0,008 -0,1 % seleeniä ja/täi rikkiä, kuumavalssataan, hehkutetaan ja mahdollisesti toistettavien kylmävalssausten ja välihehkutusten avulla, 40 - 85 %:n pelkistysasteella loppukylmävalssauksessa valssataan lopulliseen paksuuteen, ja että kylmävalssattu levy saatetaan hii-lenpoistohehkutukseen sekä 10 - 120 tuntiseen hehkutukseen sekundää-• ristä uudelleenkiteytymistä varten lämpötiloissa 800 - 920°C.A process for the production of electrical steel sheets with a (110) / 001 / - 2 orientation and a Bg value of more than 1.85 WB / m, characterized in that the starting material is silicon steel with less than 0.06% carbon, less than 4 % silicon, 0,005 to 0,2% antimony, 0,008 to 0,1% selenium and / or sulfur, hot-rolled, annealed and, if necessary, by repeated cold-rolling and intermediate-annealing, at a reduction of 40 to 85% in final-cold-rolling to final thickness, and that the cold-rolled sheet is subjected to decarburization annealing and annealing for 10 to 120 hours for secondary recrystallization at temperatures of 800 to 920 ° C. 2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että lähtömateriaali sisältää 0,02 - 0,2 % mangaania.Process according to Claim 1, characterized in that the starting material contains 0.02 to 0.2% of manganese. 3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että lähtömateriaali sisältää vähemmän kuin 0,5 % kromia, niobia, vanadiumia, volframia, booria, titaania, zirkoniumia tai tantaalia.Process according to Claim 1, characterized in that the starting material contains less than 0.5% of chromium, niobium, vanadium, tungsten, boron, titanium, zirconium or tantalum. 4. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että lähtömateriaali sisältää telluuria.Process according to Claim 1, characterized in that the starting material contains tellurium. 5. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että seleeni ja/tai rikki on osittain korvattu telluurilla.Process according to Claim 1, characterized in that the selenium and / or sulfur are partially replaced by tellurium. 6. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että antimonin määrä on 0,012 - 0,045 %.Process according to Claim 1, characterized in that the amount of antimony is 0.012 to 0.045%. 7. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että loppukylmävalssaus suoritetaan pelkistysasteella 50 - 77 %.Process according to Claim 1, characterized in that the final cold rolling is carried out with a reduction of 50 to 77%. 8. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen 1-7 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että sekundäärikiteytetyt teräslevyt hehkutetaan rikki- ja seleeniepäpuhtauksien poistamiseksi yli 1000°C vety-atmosfäärissä.Process according to one of the preceding claims 1 to 7, characterized in that the secondary crystallized steel sheets are annealed to remove sulfur and selenium impurities above 1000 ° C in a hydrogen atmosphere.
FI9074A 1974-01-14 1974-01-14 FREQUENCY REFRIGERATION OF CRYSTALLINE CONDITIONERS EL-STAOLSKIVOR MED HOEG MAGNETIC INDUCTION FI59618C (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI9074A FI59618C (en) 1974-01-14 1974-01-14 FREQUENCY REFRIGERATION OF CRYSTALLINE CONDITIONERS EL-STAOLSKIVOR MED HOEG MAGNETIC INDUCTION

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI9074A FI59618C (en) 1974-01-14 1974-01-14 FREQUENCY REFRIGERATION OF CRYSTALLINE CONDITIONERS EL-STAOLSKIVOR MED HOEG MAGNETIC INDUCTION
FI9074 1974-01-14

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI740090A0 FI740090A0 (en) 1975-07-15
FI59618B FI59618B (en) 1981-05-29
FI59618C true FI59618C (en) 1981-09-10

Family

ID=8503584

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI9074A FI59618C (en) 1974-01-14 1974-01-14 FREQUENCY REFRIGERATION OF CRYSTALLINE CONDITIONERS EL-STAOLSKIVOR MED HOEG MAGNETIC INDUCTION

Country Status (1)

Country Link
FI (1) FI59618C (en)

Also Published As

Publication number Publication date
FI59618B (en) 1981-05-29
FI740090A0 (en) 1975-07-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3932234A (en) Method for manufacturing single-oriented electrical steel sheets comprising antimony and having a high magnetic induction
US10822678B2 (en) Non-oriented electrical steel sheet and method for producing the same
KR101499371B1 (en) Method for producing non-oriented magnetic steel sheet
CN104884642B (en) The manufacture method of grain oriented silicon steel plate, grain-oriented electrical steel sheet and application thereof
FI59617C (en) FREQUENCY REFRIGERATION OF CRYSTALLINE CONDITIONERS EL-STAOLSKIVOR MED HOEG MAGNETIC INDUCTION
WO2012086534A1 (en) Process for production of non-oriented electromagnetic steel sheet
JP4258349B2 (en) Method for producing grain-oriented electrical steel sheet
US20150243419A1 (en) Method for producing grain-oriented electrical steel sheet
JP6663999B2 (en) Grain-oriented electrical steel sheet and its manufacturing method
KR102164329B1 (en) Grain oriented electrical steel sheet and method for manufacturing therof
JP5573147B2 (en) Method for producing non-oriented electrical steel sheet
CA2993594A1 (en) Non-oriented electrical steel sheet and method of producing same
JP5644154B2 (en) Method for producing grain-oriented electrical steel sheet
JP5375694B2 (en) Method for producing grain-oriented electrical steel sheet
JP2012188733A (en) Manufacturing method for grain-oriented electrical steel sheet
KR20160078081A (en) Non-orinented electrical steel sheet and method for manufacturing the same
US4280856A (en) Method for producing grain-oriented silicon steel sheets having a very high magnetic induction and a low iron loss
US5250123A (en) Oriented silicon steel sheets and production process therefor
FI59618C (en) FREQUENCY REFRIGERATION OF CRYSTALLINE CONDITIONERS EL-STAOLSKIVOR MED HOEG MAGNETIC INDUCTION
JP7037657B2 (en) Directional electrical steel sheet and its manufacturing method
US5425820A (en) Oriented magnetic steel sheets and manufacturing process therefor
JP5353234B2 (en) Method for producing grain-oriented electrical steel sheet
KR20220089073A (en) Non-oriented electrical steel sheet and method for manufacturing the same
JP5600991B2 (en) Method for producing grain-oriented electrical steel sheet
JP5712626B2 (en) Method for producing grain-oriented electrical steel sheet