FI57134C - Foer anvaendning vid elektrometallurgiska tillaempningar avsedd skiktad elektrod samt foerfarande foer dess framstaellning - Google Patents

Foer anvaendning vid elektrometallurgiska tillaempningar avsedd skiktad elektrod samt foerfarande foer dess framstaellning Download PDF

Info

Publication number
FI57134C
FI57134C FI1560/74A FI156074A FI57134C FI 57134 C FI57134 C FI 57134C FI 1560/74 A FI1560/74 A FI 1560/74A FI 156074 A FI156074 A FI 156074A FI 57134 C FI57134 C FI 57134C
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
acid
copper
resistant
copper layer
layer
Prior art date
Application number
FI1560/74A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI57134B (fi
FI156074A7 (fi
Inventor
James Kitchell Grunig
Original Assignee
Anaconda Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Anaconda Co filed Critical Anaconda Co
Publication of FI156074A7 publication Critical patent/FI156074A7/fi
Publication of FI57134B publication Critical patent/FI57134B/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI57134C publication Critical patent/FI57134C/fi

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25CPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25C7/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells; Servicing or operating of cells
    • C25C7/02Electrodes; Connections thereof

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)
  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
  • Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)

Description

1- ..- ~Ί KU ULUTUSJULKAISU c η λ -r λ •jtijr* M («»UTLAeONINOSSKHIFT 57134 ^ ¢45) * n t« o π ΐ* x niy o r* r;«y 1.) \>ό lv30
Patent me i de la t ^ ^ ^ (51) tCv.lk.‘/lnt.CI.* C 2$ C? 7/02
SUOMI — FINLAND (21) P»teftttH»k«Mi« — Ptt«itai»Mcnlnf I56O/7I
(22) H»k*ml*ptWi — AiMttknlngtdtf 21.05.7U
(23) AlkupUvt— Glltlfhatsdif 21.05 7U
(41) Tulkit )ulkl*ek*l — Bllvlt offantllf 25 H jk ^
Patentti- ja rekisterihallitut Nthtlviksif-non |. kuuL|Ulk*un pvm—
Patent- och registantyralaan Anaektn ut lijd och utl.*krift*n publicorad 29.02.80 (32)(33)(31) Pyydetty «uotkaui —Begird prlorlttc 2U. 05.73 USA(US) 3637½ (71) The Anaconda Company, Montana, US; 25 Broadway, New York, N.Y., USA(US) (72) James Kitchell Grunig, Tucson, Arizona, USA(US) (7*0 Berggren Oy Ab (5U) Sähkömetallurgisisea sovellutuksissa käytettävä kerroksinen levy-elektrodi sekä menetelmä sen valmistamiseksi - För användning vid elektrometallurgiska tillämpningar avsedd skiktad elektrod samt förfarande för dess framställning Tämän keksinnön kohteena on metallurgisiin sovellutuksiin tarkoitettu elektrodi. Nykyisellään on olemassa laaja valikoima sellaisia elektrodeja. Tarkoituksena elektrodin iän pidentämiseksi on nykyisin kehitteillä kerrostettuja levyjä, jotka sisältävät anodina käytettyä, sähköisesti aktiivista ainetta, esimerkiksi metallien elektro-lyysierotusprosesseissa. Sellainen levyaines koostuu tyypillisesti kuparilevystä, joka on päällystetty haponkestävällä metallilla, esimerkiksi putkimetallilla (valve metal), kuten tantali tai niobi. Putkimetallilla tarkoitetaan metallia, joka hapettuessaan muodostaa pinnalleen sähköä johtamattoman kerroksen. Tärkeimmät haponkestävät putkimetallit ovat titaani, sirkonium, hafnium, niobi, tantaali, molybdeeni ja volframi.
Nämä kerroslevyt ovat tavallisimmin paksuudeltaan 1-2 mm ja ne on aikaansaatu kerrostamalla yhteen paksumpia levyjä ja valssaamalla kerrostettu levy halutun paksuiseksi ja leikkaamalla sitten saatu levy sopivan kokoiseksi. Leikkauksen jälkeen paljastuu kerrostetusta levystä kuparipinta jokaiselta reunalta, johon kohdistuu sähkökemiallinen vaikutus käytössä mikäli sitä ei suojata. Tämän seu- 57134 rauksena on kehitetty lukuisia menetelmiä, ei kuitenkaan yhtään luotettavaa, kuparireunan suojaamiseksi vaikutukselta. Yksi menetelmä sisältää paljastuneen kuparireunan päällystämisen johtamattomalla aineella, mutta tämä ei ole osoittautunut luotettavaksi, koska nämä päällysteet ovat olleet alttiita kemialliselle vaikutukselle ja ne ovat kuluneet nopeasti elektrodin pinnalta käytön aikana ja jättäneet paljaan kuparipinnan.
Tämä keksintö tuo kerrostetun levyelektrodin, joka on nopea ja helppo valmistaa ja joka suojelee kuparireunaa sähkökemialliselta vaikutukselta.
Tarkemmin sanottuna, kyseinen keksintö koskee sähkömetallurgisissa sovellutuksissa käytettävää kerroksista levyelektrodia, joka koostuu sisemmästä kuparikerroksesta ja kuparikerroksen kummallakin puolella olevasta ohuesta haponkestävästä ulkokerroksesta, jolloin ulkokerrokset ovat oleellisesti yhdensuuntaisia ja ulottuvat kuparikerroksen sen reunan yli, joka joutuu anodisen vaikutuksen alaiseksi, muodostaen uran,jota rajoittavat kuparikerroksen reunat ja ulkokerrosten ne osat, jotka ulottuvat kuparikerroksen reunan yli ja keksinnölle on tunnusomaista, että haponkestävä putkimetalli kokonaan täyttää sekä tiivistää mainitun uran ja että haponkestävällä putkimetallil-la on alhaisempi sulamispiste kuin haponkestävillä metallisilla ulkokerroksilla. Keksintö käsittää myöskin menetelmän mainitun elektrodin valmistamiseksi, jossa menetelmässä muodostetaan kerroksinen levy, jossa on kuparinen sisäkerros ja haponkestävät metalliset ulkokerrokset kuparikerroksen kummallakin puolella sekä paljaat kupa-rireunat. Menetelmälle on tunnusomaista, että poistetaan osa kupari-reunasta reunauran muodostamiseksi ulkokerrosten väliin ja tiivistetään mainittu ura putkimetallilla, jolla on alhaisempi sulamispiste kuin ulkokerroksen muodostavalla haponkestävällä metallilla.
Seuraavassa selitetään keksintöä yksityiskohtaisemmin oheisten kuvioiden avulla.
Kuviossa 1 on esitetty kerrostettu levy, josta on leikattu elektrodi ja jossa on paljaat kuparisärmät.
3 571 34
Kuviossa 2 on poikkileikkaus elektrodista piirroksen 1 linjaa 2-2 pitkin.
Kuviossa 3 on esitetty samanlainen elektrodin leikkaus kuin kuviossa 2, paitsi että elektrodin reunaan on aikaansaatu ura poistamalla osa kuparikerroksesta.
Kuviossa 4 on esitetty suurennettu kuva osasta kuvion 3 elektrodista, jossa uraan on upotettu sähköisesti ja kemiallisesti kestävästä aineesta tehty täytekappale.
Kuvio 5 on samanlainen kuin kuvio 4 paitsi, että kestävä aines on kiinnitetty paikalleen uraan.
Viitaten oheisiin kuvioihin, on numerolla 10 esitetty elektrodi, joka koostuu kuparisesta sisäkerroksesta 11 ja ulkoisista haponkestävistä metallisista kerroksista 12 ja 13. Elektrodin muotoa voidaan muutella laajoissa rajoissa eikä se muodosta keksinnössä mitään osaa. Kuten edellä on mainittu, on kerrostettu elektrodi muodostettu yhdistämällä haponkestävät metallilevyt keskeisen kuparilevyn päälle ja valssaamalla kerrostettu levy halutun paksuiseksi. Kerrostettu levy on sitten leikattu halutun kokoiseksi ja muotoiseksi, lopullisen elektrodin mukaan, kuten kuviossa 1 on esitetty, jolloin levyyn jää paljaat kuparipinnat reunoille 14.
Tätä keksintöä toteutettaessa, on välttämätöntä poistaa kuvioissa 1 ja 2 näkyvistä kuparireunoista osa kemiallisella tai sähkökemiallisella syövytyksellä tai mekaanisella jyrsinnällä. Kemiallinen syö-vytys voidaan suorittaa käyttämällä mitä tahansa tavallista ainetta, esimerkiksi happoja, jotka vaikuttavat kupariin mutta eivät hapon-kestävään aineeseen. Mekaaninen jyrsintä voidaan suorittaa käyttämällä jyrsinterää, jonka halkaisija tai paksuus on sellainen, että se sopii haponkestävien kerrosten 12 ja 13 väliin siten, että se selektiivisesti poistaa vain kuparikerrosta. On edullista poistaa kuparia suunnilleen samalle syvyydelle kuin mitä kuparikerroksen paksuus on. Kuviossa 3 on esitetty elektrodi sen jälkeen kun kuparia on poistettu ja siitä ilmenee ura 15, jonka muodostavat uusi kuparin reuna 16 ja päällyskerroksen osat 12 ja 13, jotka ulottuvat kupari-kerroksen ulkopuolelle. Ura tarvitsee aikaansaada vain sille osalle elektrodia, mikä joutuu anodisen vaikutuksen alaiseksi.
" 57134
Sen jälkeen kun kupari on poistettu, pannaan muodostuneeseen uraan 15 haponkestävää putkimetallia, jolla on alempi sulamispiste kuin ulkokerrosten 12 ja 13 haponkestävällä aineella. Kuten parhaiten ilmenee kuviosta 4, on uraan 15 pantu läpäisemätöntä ainesta oleva tanko tai lanka 17· On edullista käyttää lankaa, vaikkakin aineksen muitakin muotoja voidaan käyttää. Langan mitat ovat sellaiset, että mikäli menetellään edellä esitetyn mukaisesti, se sopii tiiviisti uraan 15 ja peittää täydellisesti paljastuneen uuden kuparipinnan 16. Alhaisen sulamispisteen omaavaa putkimetallia kuumennetaan niin, että se sulaa ja muodostaa tiivisteen 18 siten kuin kuviossa 5 on esitetty. Materiaalin sulatuksessa käytetään tavallista kaarihitsaustekniikka inertissä kaasukehässä, esimerkiksi argonissa, joko kuluvilla tai kulumattomilla elektrodeilla. Käytetty lämpötila on sopiva sulattamaan aines 17* mutta ei riittävä vaikuttamaan mainittavasti hapon-kestäviin metallisiin päällysteisiin 12 ja 13. Suorittamalla kuumennus argonikehässä on mahdollista estää läpäisemättömän aineksen hauraiden seosten muodostuminen. Tuloksena saadaan vahva tiiviste 18, joka peittää täydellisesti kuparin. Voidaan käyttää myöskin muita tunnettuja menetelmiä langan sulattamiseksi, kuten ionipommi-tusta, kuumennusta ultraäänen energialla ja laserkuumennusta.
Mitä aineksiin tulee, on haponkestävä metalli ulkokerroksessa edullisesti joko niobia tai tantaalia, vaikkakin mitä tahansa muista tavallisista, kerrostettuja elektrodeja valmistettaessa käytetyistä ha-ponkestävistä voidaan käyttää. Kupari on sopivin aines sisäkerrokseen. Tiivisteenä käytettynä haponkestävänä putkimetallina on edullisimmin titaani, joka sulaa noin 800°C:ssa eli alle niobin sulamispisteen 1328°C, joka on puolestaan alempi kuin tantaalilla, vaikkakin voidaan käyttää muitakin metalleja, jotka ovat sähköisesti tai kemiallisesti inaktiiveja kun ne joutuvat anodisen vaikutuksen alaiseksi. Muina haponkestävien putkimetallien yhdistelminä voivat olla niobi tiivistämässä tantaalia, niobi tiivistämässä volframia ja tantaali tiivistämässä volframia.
Koska haponkestävien metallien sulamispisteet ovat yleensä suurempia kuin kuparilla, täytyy käyttää sulatusmenetelmää, joka on kyllin tehokas sulattamaan alemmalla sulavan putkimetallin kyllin tehokkaasti ja nopeasti niin, ettei kupari sula mainittavasti.
Kuparisen sisäkerroksen ja haponkestävien päällyskerrosten paksuudet

Claims (8)

1. Sähkömetallurgisissa sovellutuksissa käytettävä kerroksinen levyelektrodi, joka koostuu sisemmästä kuparikerroksesta ja kupari-kerroksen kummallakin puolella olevasta ohuesta haponkestävästä ulkokerroksesta, jolloin ulkokerrokset ovat oleellisesti yhdensuuntaisia ja ulottuvat kuparikerroksen sen reunan yli, joka joutuu anodi-sen vaikutuksen alaiseksi, muodostaen uran, jota rajoittavat kupari-kerroksen reunat ja ulkokerrosten ne osat, jotka ulottuvat kupari-kerroksen reunan yli, tunnettu siitä, että haponkestävä putki-metalli kokonaan täyttää sekä tiivistää mainitun uran ja että hapon-kestävällä putkimetallilla on alhaisempi sulamispiste kuin haponkes-tävillä metallisilla ulkokerroksilla.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen elektrodi, tunnettu siitä, että haponkestävän ulkokerroksen metalli on niobia ja että haponkestävä putkimetalli on titaania.
3· Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen elektrodi, tunnet- t u siitä, että ulkokerrosten paksuus on 0,025-0,13 mm.
4. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen elektrodi, tunnettu siitä, että uran syvyys on likimain sama kuin kuparikerroksen paksuus.
5. Menetelmä jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukaisen elektrodin valmistamiseksi, jossa muodostetaan kerroksinen levy, jossa on kuparinen sisäkerros ja haponkestävät metalliset ulkokerrokset kuparikerroksen kummallakin puolella sekä paljaat kuparireunat, tunnettu siitä, että poistetaan osa kuparireunasta reunauran muodostamiseksi ulkokerrosten väliin ja tiivistetään mainittu ura putkimetallilla, jolla on alhaisempi sulamispiste kuin ulkokerroksen muodostavalla haponkestävällä metallilla. 6 57.1 34
5 571 34 voivat vaihdella laajoissa rajoissa, mutta on edullista käyttää kerrostettua levyä, jossa kuparisisäkerros on paksuudeltaan 1-2 mm ja pintahaponkestävä kerros 0,025-0,13 mm. Vaikkakin keksintöä on selvitetty esitettyihin suoritusmuotoihin viitaten, ei niitä ole tarkoitettu rajoittamaan keksintöä, vaan keksintöä voidaan vaihdella oheisten patenttivaatimusten puitteissa.
6. Patenttivaatimuksen 5 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kuparia poistetaan syövyttämällä tai jyrsimällä.
7. Patenttivaatimuksen 5 tai 6 mukainen menetelmä, tunnet-t u siitä, että tiivistys aikaansaadaan panemalla titaanilanka uraan, kuumentamalla titaania inertissä kaasukehässä lämpötilaan, joka on riittävä titaanin sulattamiseksija kuparin täydelliseksi peittämiseksi uran pohjalla, mutta ei mainittavasti vahingoita haponkestä-viin metallipäällystyksiin eikä aikaansaa titaanin hauraita seoksia.
8. Patenttivaatimuksen 7 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että titaani sulatetaan kulumattomalla elektrodilla tai ioni-pommituksella tai kuumentamalla ultraäänen energialla tai lasersäteellä tai se lisätään kuluvalla elektrodilla.
FI1560/74A 1973-05-24 1974-05-21 Foer anvaendning vid elektrometallurgiska tillaempningar avsedd skiktad elektrod samt foerfarande foer dess framstaellning FI57134C (fi)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US363746A US3875042A (en) 1973-05-24 1973-05-24 Electrode and method
US36374673 1973-05-24

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI156074A7 FI156074A7 (fi) 1974-11-25
FI57134B FI57134B (fi) 1980-02-29
FI57134C true FI57134C (fi) 1980-06-10

Family

ID=23431545

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI1560/74A FI57134C (fi) 1973-05-24 1974-05-21 Foer anvaendning vid elektrometallurgiska tillaempningar avsedd skiktad elektrod samt foerfarande foer dess framstaellning

Country Status (6)

Country Link
US (1) US3875042A (fi)
CS (1) CS188921B2 (fi)
FI (1) FI57134C (fi)
SE (1) SE401208B (fi)
ZA (1) ZA743113B (fi)
ZM (1) ZM8174A1 (fi)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5413473A (en) * 1977-02-17 1979-01-31 Kurorin Engineers Kk Double polar electrode
US7767267B2 (en) * 2003-06-04 2010-08-03 Wide Open Coatings, Inc. Method of producing a coated valve retainer

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3441495A (en) * 1966-05-20 1969-04-29 Electric Reduction Co Bipolar electrolytic cell
GB1195871A (en) * 1967-02-10 1970-06-24 Chemnor Ag Improvements in or relating to the Manufacture of Electrodes.
US3491014A (en) * 1969-01-16 1970-01-20 Oronzio De Nora Impianti Composite anodes
US3761384A (en) * 1971-06-30 1973-09-25 Hooker Chemical Corp Anode assembly for electrolytic cells

Also Published As

Publication number Publication date
SE401208B (sv) 1978-04-24
ZA743113B (en) 1975-05-28
FI57134B (fi) 1980-02-29
FI156074A7 (fi) 1974-11-25
CS188921B2 (en) 1979-03-30
AU6924974A (en) 1975-11-27
US3875042A (en) 1975-04-01
ZM8174A1 (en) 1975-01-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4492021A (en) Method of making cathode current collectors for sodium sulphur cells
JP2007508673A (ja) セラミック金属バイレイヤによってマイクロバッテリーを保護する層および方法
FR2862436B1 (fr) Micro-batterie au lithium munie d'une enveloppe de protection et procede de fabrication d'une telle micro-batterie
JP2012094585A (ja) 電子部品及び電子部品の製造方法
GB2027053A (en) Bipolar electrode
KR100746868B1 (ko) 튜뷸러 회로접속기
FI57134C (fi) Foer anvaendning vid elektrometallurgiska tillaempningar avsedd skiktad elektrod samt foerfarande foer dess framstaellning
EP1139352B1 (en) Method of manufacturing a ptc chip thermistor
EP2882888B1 (en) Contact strips for electrolysis cells
US4613399A (en) Method for manufacturing a display device
US8852786B2 (en) Ceramic-metal sealing structure, and associated method
KR100236718B1 (ko) 금속 막 기판에 소자를 제조하는 방법
US7575829B1 (en) Battery having reduced weight
CN110323363A (zh) 用于制造电池单池的壳体的方法以及相应的壳体与电池单池
FR2713245A1 (fr) Electrode combinée à plaque interne et à enveloppe externe.
US20170330811A1 (en) Method for manufacturing hermetic sealing lid member, hermetic sealing lid member, and method for manufacturing electronic component housing package
KR20240167862A (ko) 리튬-이온 배터리의 집전체에 사용하기 위한 재활용 알루미늄 합금
JP3633989B2 (ja) 絶縁性セラミックスの放電加工方法
KR100561026B1 (ko) Cac 부품용 부식 방지
EP1896527B1 (en) A corrosion resistant object having an outer layer of a ceramic material
IT8020028A1 (it) Elettrodo per la saldatura a resistenza elettrica
FR2739584A1 (fr) Procede d'usinage par electrochimie
JP5070716B2 (ja) セパレータ製造方法およびセパレータ
RU2299791C1 (ru) Способ обработки вкладышей подшипников скольжения
US10010396B2 (en) Multilayer composite materials vias