FI57134C - Foer anvaendning vid elektrometallurgiska tillaempningar avsedd skiktad elektrod samt foerfarande foer dess framstaellning - Google Patents
Foer anvaendning vid elektrometallurgiska tillaempningar avsedd skiktad elektrod samt foerfarande foer dess framstaellning Download PDFInfo
- Publication number
- FI57134C FI57134C FI1560/74A FI156074A FI57134C FI 57134 C FI57134 C FI 57134C FI 1560/74 A FI1560/74 A FI 1560/74A FI 156074 A FI156074 A FI 156074A FI 57134 C FI57134 C FI 57134C
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- acid
- copper
- resistant
- copper layer
- layer
- Prior art date
Links
- 101100148710 Clarkia breweri SAMT gene Proteins 0.000 title 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 39
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 24
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 22
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 11
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 10
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 7
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 6
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004063 acid-resistant material Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000003701 mechanical milling Methods 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 241000512668 Eunectes Species 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 239000003251 chemically resistant material Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000004093 laser heating Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 239000011120 plywood Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25C7/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells; Servicing or operating of cells
- C25C7/02—Electrodes; Connections thereof
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
Description
1- ..- ~Ί KU ULUTUSJULKAISU c η λ -r λ •jtijr* M («»UTLAeONINOSSKHIFT 57134 ^ ¢45) * n t« o π ΐ* x niy o r* r;«y 1.) \>ό lv30
Patent me i de la t ^ ^ ^ (51) tCv.lk.‘/lnt.CI.* C 2$ C? 7/02
SUOMI — FINLAND (21) P»teftttH»k«Mi« — Ptt«itai»Mcnlnf I56O/7I
(22) H»k*ml*ptWi — AiMttknlngtdtf 21.05.7U
(23) AlkupUvt— Glltlfhatsdif 21.05 7U
(41) Tulkit )ulkl*ek*l — Bllvlt offantllf 25 H jk ^
Patentti- ja rekisterihallitut Nthtlviksif-non |. kuuL|Ulk*un pvm—
Patent- och registantyralaan Anaektn ut lijd och utl.*krift*n publicorad 29.02.80 (32)(33)(31) Pyydetty «uotkaui —Begird prlorlttc 2U. 05.73 USA(US) 3637½ (71) The Anaconda Company, Montana, US; 25 Broadway, New York, N.Y., USA(US) (72) James Kitchell Grunig, Tucson, Arizona, USA(US) (7*0 Berggren Oy Ab (5U) Sähkömetallurgisisea sovellutuksissa käytettävä kerroksinen levy-elektrodi sekä menetelmä sen valmistamiseksi - För användning vid elektrometallurgiska tillämpningar avsedd skiktad elektrod samt förfarande för dess framställning Tämän keksinnön kohteena on metallurgisiin sovellutuksiin tarkoitettu elektrodi. Nykyisellään on olemassa laaja valikoima sellaisia elektrodeja. Tarkoituksena elektrodin iän pidentämiseksi on nykyisin kehitteillä kerrostettuja levyjä, jotka sisältävät anodina käytettyä, sähköisesti aktiivista ainetta, esimerkiksi metallien elektro-lyysierotusprosesseissa. Sellainen levyaines koostuu tyypillisesti kuparilevystä, joka on päällystetty haponkestävällä metallilla, esimerkiksi putkimetallilla (valve metal), kuten tantali tai niobi. Putkimetallilla tarkoitetaan metallia, joka hapettuessaan muodostaa pinnalleen sähköä johtamattoman kerroksen. Tärkeimmät haponkestävät putkimetallit ovat titaani, sirkonium, hafnium, niobi, tantaali, molybdeeni ja volframi.
Nämä kerroslevyt ovat tavallisimmin paksuudeltaan 1-2 mm ja ne on aikaansaatu kerrostamalla yhteen paksumpia levyjä ja valssaamalla kerrostettu levy halutun paksuiseksi ja leikkaamalla sitten saatu levy sopivan kokoiseksi. Leikkauksen jälkeen paljastuu kerrostetusta levystä kuparipinta jokaiselta reunalta, johon kohdistuu sähkökemiallinen vaikutus käytössä mikäli sitä ei suojata. Tämän seu- 57134 rauksena on kehitetty lukuisia menetelmiä, ei kuitenkaan yhtään luotettavaa, kuparireunan suojaamiseksi vaikutukselta. Yksi menetelmä sisältää paljastuneen kuparireunan päällystämisen johtamattomalla aineella, mutta tämä ei ole osoittautunut luotettavaksi, koska nämä päällysteet ovat olleet alttiita kemialliselle vaikutukselle ja ne ovat kuluneet nopeasti elektrodin pinnalta käytön aikana ja jättäneet paljaan kuparipinnan.
Tämä keksintö tuo kerrostetun levyelektrodin, joka on nopea ja helppo valmistaa ja joka suojelee kuparireunaa sähkökemialliselta vaikutukselta.
Tarkemmin sanottuna, kyseinen keksintö koskee sähkömetallurgisissa sovellutuksissa käytettävää kerroksista levyelektrodia, joka koostuu sisemmästä kuparikerroksesta ja kuparikerroksen kummallakin puolella olevasta ohuesta haponkestävästä ulkokerroksesta, jolloin ulkokerrokset ovat oleellisesti yhdensuuntaisia ja ulottuvat kuparikerroksen sen reunan yli, joka joutuu anodisen vaikutuksen alaiseksi, muodostaen uran,jota rajoittavat kuparikerroksen reunat ja ulkokerrosten ne osat, jotka ulottuvat kuparikerroksen reunan yli ja keksinnölle on tunnusomaista, että haponkestävä putkimetalli kokonaan täyttää sekä tiivistää mainitun uran ja että haponkestävällä putkimetallil-la on alhaisempi sulamispiste kuin haponkestävillä metallisilla ulkokerroksilla. Keksintö käsittää myöskin menetelmän mainitun elektrodin valmistamiseksi, jossa menetelmässä muodostetaan kerroksinen levy, jossa on kuparinen sisäkerros ja haponkestävät metalliset ulkokerrokset kuparikerroksen kummallakin puolella sekä paljaat kupa-rireunat. Menetelmälle on tunnusomaista, että poistetaan osa kupari-reunasta reunauran muodostamiseksi ulkokerrosten väliin ja tiivistetään mainittu ura putkimetallilla, jolla on alhaisempi sulamispiste kuin ulkokerroksen muodostavalla haponkestävällä metallilla.
Seuraavassa selitetään keksintöä yksityiskohtaisemmin oheisten kuvioiden avulla.
Kuviossa 1 on esitetty kerrostettu levy, josta on leikattu elektrodi ja jossa on paljaat kuparisärmät.
3 571 34
Kuviossa 2 on poikkileikkaus elektrodista piirroksen 1 linjaa 2-2 pitkin.
Kuviossa 3 on esitetty samanlainen elektrodin leikkaus kuin kuviossa 2, paitsi että elektrodin reunaan on aikaansaatu ura poistamalla osa kuparikerroksesta.
Kuviossa 4 on esitetty suurennettu kuva osasta kuvion 3 elektrodista, jossa uraan on upotettu sähköisesti ja kemiallisesti kestävästä aineesta tehty täytekappale.
Kuvio 5 on samanlainen kuin kuvio 4 paitsi, että kestävä aines on kiinnitetty paikalleen uraan.
Viitaten oheisiin kuvioihin, on numerolla 10 esitetty elektrodi, joka koostuu kuparisesta sisäkerroksesta 11 ja ulkoisista haponkestävistä metallisista kerroksista 12 ja 13. Elektrodin muotoa voidaan muutella laajoissa rajoissa eikä se muodosta keksinnössä mitään osaa. Kuten edellä on mainittu, on kerrostettu elektrodi muodostettu yhdistämällä haponkestävät metallilevyt keskeisen kuparilevyn päälle ja valssaamalla kerrostettu levy halutun paksuiseksi. Kerrostettu levy on sitten leikattu halutun kokoiseksi ja muotoiseksi, lopullisen elektrodin mukaan, kuten kuviossa 1 on esitetty, jolloin levyyn jää paljaat kuparipinnat reunoille 14.
Tätä keksintöä toteutettaessa, on välttämätöntä poistaa kuvioissa 1 ja 2 näkyvistä kuparireunoista osa kemiallisella tai sähkökemiallisella syövytyksellä tai mekaanisella jyrsinnällä. Kemiallinen syö-vytys voidaan suorittaa käyttämällä mitä tahansa tavallista ainetta, esimerkiksi happoja, jotka vaikuttavat kupariin mutta eivät hapon-kestävään aineeseen. Mekaaninen jyrsintä voidaan suorittaa käyttämällä jyrsinterää, jonka halkaisija tai paksuus on sellainen, että se sopii haponkestävien kerrosten 12 ja 13 väliin siten, että se selektiivisesti poistaa vain kuparikerrosta. On edullista poistaa kuparia suunnilleen samalle syvyydelle kuin mitä kuparikerroksen paksuus on. Kuviossa 3 on esitetty elektrodi sen jälkeen kun kuparia on poistettu ja siitä ilmenee ura 15, jonka muodostavat uusi kuparin reuna 16 ja päällyskerroksen osat 12 ja 13, jotka ulottuvat kupari-kerroksen ulkopuolelle. Ura tarvitsee aikaansaada vain sille osalle elektrodia, mikä joutuu anodisen vaikutuksen alaiseksi.
" 57134
Sen jälkeen kun kupari on poistettu, pannaan muodostuneeseen uraan 15 haponkestävää putkimetallia, jolla on alempi sulamispiste kuin ulkokerrosten 12 ja 13 haponkestävällä aineella. Kuten parhaiten ilmenee kuviosta 4, on uraan 15 pantu läpäisemätöntä ainesta oleva tanko tai lanka 17· On edullista käyttää lankaa, vaikkakin aineksen muitakin muotoja voidaan käyttää. Langan mitat ovat sellaiset, että mikäli menetellään edellä esitetyn mukaisesti, se sopii tiiviisti uraan 15 ja peittää täydellisesti paljastuneen uuden kuparipinnan 16. Alhaisen sulamispisteen omaavaa putkimetallia kuumennetaan niin, että se sulaa ja muodostaa tiivisteen 18 siten kuin kuviossa 5 on esitetty. Materiaalin sulatuksessa käytetään tavallista kaarihitsaustekniikka inertissä kaasukehässä, esimerkiksi argonissa, joko kuluvilla tai kulumattomilla elektrodeilla. Käytetty lämpötila on sopiva sulattamaan aines 17* mutta ei riittävä vaikuttamaan mainittavasti hapon-kestäviin metallisiin päällysteisiin 12 ja 13. Suorittamalla kuumennus argonikehässä on mahdollista estää läpäisemättömän aineksen hauraiden seosten muodostuminen. Tuloksena saadaan vahva tiiviste 18, joka peittää täydellisesti kuparin. Voidaan käyttää myöskin muita tunnettuja menetelmiä langan sulattamiseksi, kuten ionipommi-tusta, kuumennusta ultraäänen energialla ja laserkuumennusta.
Mitä aineksiin tulee, on haponkestävä metalli ulkokerroksessa edullisesti joko niobia tai tantaalia, vaikkakin mitä tahansa muista tavallisista, kerrostettuja elektrodeja valmistettaessa käytetyistä ha-ponkestävistä voidaan käyttää. Kupari on sopivin aines sisäkerrokseen. Tiivisteenä käytettynä haponkestävänä putkimetallina on edullisimmin titaani, joka sulaa noin 800°C:ssa eli alle niobin sulamispisteen 1328°C, joka on puolestaan alempi kuin tantaalilla, vaikkakin voidaan käyttää muitakin metalleja, jotka ovat sähköisesti tai kemiallisesti inaktiiveja kun ne joutuvat anodisen vaikutuksen alaiseksi. Muina haponkestävien putkimetallien yhdistelminä voivat olla niobi tiivistämässä tantaalia, niobi tiivistämässä volframia ja tantaali tiivistämässä volframia.
Koska haponkestävien metallien sulamispisteet ovat yleensä suurempia kuin kuparilla, täytyy käyttää sulatusmenetelmää, joka on kyllin tehokas sulattamaan alemmalla sulavan putkimetallin kyllin tehokkaasti ja nopeasti niin, ettei kupari sula mainittavasti.
Kuparisen sisäkerroksen ja haponkestävien päällyskerrosten paksuudet
Claims (8)
1. Sähkömetallurgisissa sovellutuksissa käytettävä kerroksinen levyelektrodi, joka koostuu sisemmästä kuparikerroksesta ja kupari-kerroksen kummallakin puolella olevasta ohuesta haponkestävästä ulkokerroksesta, jolloin ulkokerrokset ovat oleellisesti yhdensuuntaisia ja ulottuvat kuparikerroksen sen reunan yli, joka joutuu anodi-sen vaikutuksen alaiseksi, muodostaen uran, jota rajoittavat kupari-kerroksen reunat ja ulkokerrosten ne osat, jotka ulottuvat kupari-kerroksen reunan yli, tunnettu siitä, että haponkestävä putki-metalli kokonaan täyttää sekä tiivistää mainitun uran ja että hapon-kestävällä putkimetallilla on alhaisempi sulamispiste kuin haponkes-tävillä metallisilla ulkokerroksilla.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen elektrodi, tunnettu siitä, että haponkestävän ulkokerroksen metalli on niobia ja että haponkestävä putkimetalli on titaania.
3· Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen elektrodi, tunnet- t u siitä, että ulkokerrosten paksuus on 0,025-0,13 mm.
4. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen elektrodi, tunnettu siitä, että uran syvyys on likimain sama kuin kuparikerroksen paksuus.
5. Menetelmä jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukaisen elektrodin valmistamiseksi, jossa muodostetaan kerroksinen levy, jossa on kuparinen sisäkerros ja haponkestävät metalliset ulkokerrokset kuparikerroksen kummallakin puolella sekä paljaat kuparireunat, tunnettu siitä, että poistetaan osa kuparireunasta reunauran muodostamiseksi ulkokerrosten väliin ja tiivistetään mainittu ura putkimetallilla, jolla on alhaisempi sulamispiste kuin ulkokerroksen muodostavalla haponkestävällä metallilla. 6 57.1 34
5 571 34 voivat vaihdella laajoissa rajoissa, mutta on edullista käyttää kerrostettua levyä, jossa kuparisisäkerros on paksuudeltaan 1-2 mm ja pintahaponkestävä kerros 0,025-0,13 mm. Vaikkakin keksintöä on selvitetty esitettyihin suoritusmuotoihin viitaten, ei niitä ole tarkoitettu rajoittamaan keksintöä, vaan keksintöä voidaan vaihdella oheisten patenttivaatimusten puitteissa.
6. Patenttivaatimuksen 5 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kuparia poistetaan syövyttämällä tai jyrsimällä.
7. Patenttivaatimuksen 5 tai 6 mukainen menetelmä, tunnet-t u siitä, että tiivistys aikaansaadaan panemalla titaanilanka uraan, kuumentamalla titaania inertissä kaasukehässä lämpötilaan, joka on riittävä titaanin sulattamiseksija kuparin täydelliseksi peittämiseksi uran pohjalla, mutta ei mainittavasti vahingoita haponkestä-viin metallipäällystyksiin eikä aikaansaa titaanin hauraita seoksia.
8. Patenttivaatimuksen 7 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että titaani sulatetaan kulumattomalla elektrodilla tai ioni-pommituksella tai kuumentamalla ultraäänen energialla tai lasersäteellä tai se lisätään kuluvalla elektrodilla.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US363746A US3875042A (en) | 1973-05-24 | 1973-05-24 | Electrode and method |
| US36374673 | 1973-05-24 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FI156074A7 FI156074A7 (fi) | 1974-11-25 |
| FI57134B FI57134B (fi) | 1980-02-29 |
| FI57134C true FI57134C (fi) | 1980-06-10 |
Family
ID=23431545
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FI1560/74A FI57134C (fi) | 1973-05-24 | 1974-05-21 | Foer anvaendning vid elektrometallurgiska tillaempningar avsedd skiktad elektrod samt foerfarande foer dess framstaellning |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3875042A (fi) |
| CS (1) | CS188921B2 (fi) |
| FI (1) | FI57134C (fi) |
| SE (1) | SE401208B (fi) |
| ZA (1) | ZA743113B (fi) |
| ZM (1) | ZM8174A1 (fi) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5413473A (en) * | 1977-02-17 | 1979-01-31 | Kurorin Engineers Kk | Double polar electrode |
| US7767267B2 (en) * | 2003-06-04 | 2010-08-03 | Wide Open Coatings, Inc. | Method of producing a coated valve retainer |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3441495A (en) * | 1966-05-20 | 1969-04-29 | Electric Reduction Co | Bipolar electrolytic cell |
| GB1195871A (en) * | 1967-02-10 | 1970-06-24 | Chemnor Ag | Improvements in or relating to the Manufacture of Electrodes. |
| US3491014A (en) * | 1969-01-16 | 1970-01-20 | Oronzio De Nora Impianti | Composite anodes |
| US3761384A (en) * | 1971-06-30 | 1973-09-25 | Hooker Chemical Corp | Anode assembly for electrolytic cells |
-
1973
- 1973-05-24 US US363746A patent/US3875042A/en not_active Expired - Lifetime
-
1974
- 1974-05-15 ZA ZA00743113A patent/ZA743113B/xx unknown
- 1974-05-16 SE SE7406529A patent/SE401208B/xx unknown
- 1974-05-20 CS CS743590A patent/CS188921B2/cs unknown
- 1974-05-21 ZM ZM81/74A patent/ZM8174A1/xx unknown
- 1974-05-21 FI FI1560/74A patent/FI57134C/fi active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| SE401208B (sv) | 1978-04-24 |
| ZA743113B (en) | 1975-05-28 |
| FI57134B (fi) | 1980-02-29 |
| FI156074A7 (fi) | 1974-11-25 |
| CS188921B2 (en) | 1979-03-30 |
| AU6924974A (en) | 1975-11-27 |
| US3875042A (en) | 1975-04-01 |
| ZM8174A1 (en) | 1975-01-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4492021A (en) | Method of making cathode current collectors for sodium sulphur cells | |
| JP2007508673A (ja) | セラミック金属バイレイヤによってマイクロバッテリーを保護する層および方法 | |
| FR2862436B1 (fr) | Micro-batterie au lithium munie d'une enveloppe de protection et procede de fabrication d'une telle micro-batterie | |
| JP2012094585A (ja) | 電子部品及び電子部品の製造方法 | |
| GB2027053A (en) | Bipolar electrode | |
| KR100746868B1 (ko) | 튜뷸러 회로접속기 | |
| FI57134C (fi) | Foer anvaendning vid elektrometallurgiska tillaempningar avsedd skiktad elektrod samt foerfarande foer dess framstaellning | |
| EP1139352B1 (en) | Method of manufacturing a ptc chip thermistor | |
| EP2882888B1 (en) | Contact strips for electrolysis cells | |
| US4613399A (en) | Method for manufacturing a display device | |
| US8852786B2 (en) | Ceramic-metal sealing structure, and associated method | |
| KR100236718B1 (ko) | 금속 막 기판에 소자를 제조하는 방법 | |
| US7575829B1 (en) | Battery having reduced weight | |
| CN110323363A (zh) | 用于制造电池单池的壳体的方法以及相应的壳体与电池单池 | |
| FR2713245A1 (fr) | Electrode combinée à plaque interne et à enveloppe externe. | |
| US20170330811A1 (en) | Method for manufacturing hermetic sealing lid member, hermetic sealing lid member, and method for manufacturing electronic component housing package | |
| KR20240167862A (ko) | 리튬-이온 배터리의 집전체에 사용하기 위한 재활용 알루미늄 합금 | |
| JP3633989B2 (ja) | 絶縁性セラミックスの放電加工方法 | |
| KR100561026B1 (ko) | Cac 부품용 부식 방지 | |
| EP1896527B1 (en) | A corrosion resistant object having an outer layer of a ceramic material | |
| IT8020028A1 (it) | Elettrodo per la saldatura a resistenza elettrica | |
| FR2739584A1 (fr) | Procede d'usinage par electrochimie | |
| JP5070716B2 (ja) | セパレータ製造方法およびセパレータ | |
| RU2299791C1 (ru) | Способ обработки вкладышей подшипников скольжения | |
| US10010396B2 (en) | Multilayer composite materials vias |