FI124357B

FI124357B - Beläggning av ett stensubstrat eller ett keramiskt substrat och belagd stenprodukt eller keramisk produkt

Info

Publication number: FI124357B
Application number: FI20075137A
Authority: FI
Inventors: Jari Ruuttu; Reijo Lappalainen; Lasse Pulli; Vesa Myllymäki; Juha Mäkitalo
Original assignee: Picodeon Ltd Oy
Priority date: 2006-02-23
Filing date: 2007-02-23
Publication date: 2014-07-15
Also published as: FI20075137A; FI20075137A0

Claims

1. Ett förfarande för att belägga en bestämd yta pä en Sten- eller keramisk produkt genom laserdeposition, kännetecknat av att den enhetliga arealen som skall beläggas omfattar ätminstone 0,2 dm2 och beläggningen utförs genom att mot ett mäi rikta laserpulser som är tillräckligt korta för att orsaka kallablation hos mälet, varvid pulslasersträlen skannas med en roterbar optisk skanner, vilken skanner innefattar ätminstone en spegel för att reflektera nämnda lasersträle.

2. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att nämnda enhetliga areal omfattar ätminstone 0,5 dm2.

3. Förfarande enligt kraven 1-2, kännetecknat av att nämnda enhetliga areal omfattar ätminstone 1,0 dm2.

4. Förfarande enligt nägot av föregäende krav, kännetecknat av att nämnda laserdeposition utförs vid ett tryck pä 10'8 Pa - 10 kPa.

5. Förfarande enligt krav 4, kännetecknat av att nämnda laserdeposition utförs vid ett tryck pä 10 Pa - 10 kPa.

6. Förfarande enligt nägot av föregäende krav, kännetecknat av att avständet mellan mälmaterialet och nämnda enhetliga areal som skall beläggas är under 25 cm, lämpligen under 15 cm och företrädesvis under 10 cm.

7. Förfarande enligt nägot av föregäende krav, kännetecknat av att nämnda mälmaterials ablaterade yta kan ablateras äter för att producera en felfri beläggning.

8. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att den producerade beläggningens 5 genomsnittliga ytgrovhet pä nämnda enhetliga areal vid skanning av ett omräde pä 1 , μπι med hjälp av ett AFM (Atomic Force Microscope) mikroskop är mindre än 100 9 nm. x

9. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att den producerade beläggningens optiska genomsläpplighet pä nämnda enhetliga areal är minst 88 %, lämpligen minst co 90 % och företrädesvis minst 92 %. LO r".

§ 10. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att i nämnda beläggning pä nämnda CM 2 enhetliga areal finns farre än ett mikrohäl per 1 mm , lämpligen farre än ett mikrohäl per 1 cm2 och företrädesvis inga mikrohäl pä nämnda enhetliga areal.

11. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att nämnda enhetliga areal beläggs pä sä sätt att de första 50 % av beläggningen pä nämnda enhetliga areal inte innehäller partiklar vars diameter överskrider 1000 nm, lämpligen 100 nm och företrädesvis 30 nm.

12. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att nämnda enhetliga areal pä sten-eller keramikprodukten beläggs med metall, metalloxid, metallnitrid, metallkarbid eller en blanding därav.

13. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att nämnda enhetliga areal pä sten-eller keramikprodukten beläggs med kolmaterial som innehäller över 90 atomprocent koi varav över 70 % med sp3-bindningar.

14. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att nämnda enhetliga areal pä sten-eller keramikprodukten beläggs med material som innehäller koi, kväve och/eller bor i olika förhällanden.

15. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att nämnda enhetliga areal pä sten-eller keramikprodukten beläggs med organiskt polymermaterial.

16. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att nämnda enhetliga areal pä sten-eller keramikprodukten beläggs med oorganiskt material.

17. Förfarande enligt nägot av föregäende krav, kännetecknat av att nämnda enhetliga areal pä Sten- eller keramikprodukten beläggs med en flerskiktad beläggning.

18. Förfarande enligt nägot av föregäende krav, kännetecknat av att nämnda ^ beläggnings tjocklek pä den enhetliga arealen pä sten- eller keramikprodukten är o mellan 20 nm och 20 pm, företrädesvis mellan 100 nm och 5 pm. i CVJ

19. En sten- eller keramikprodukt med en bestämd, genom laserdeposition belagd yta, kännetecknad av att den belagda enhetliga arealen omfattar minst 0,2 dm2 och | att beläggningen har utförts enligt det i patentkrav 1 beskrivna förfarandet. co

20. Sten- eller keramikprodukt enligt krav 19, kännetecknad av att nämnda rC enhetliga areal omfattar ätminstone 0,5 dm2. O o CVJ

21. Sten- eller keramikprodukt enligt kraven 19 - 20, kännetecknad av att nämnda enhetliga areal omfattar ätminstone 1,0 dm2.

22. Sten- eller keramikprodukt enligt krav 19, kännetecknad av att den producerade beläggningens genomsnittliga ytgrovhet pä nämnda enhetliga areal vid skanning av ett omräde pä 1 pm2 med hjälp av ett AFM (Atomic Force Microscope) mikroskop är mindre än 100 nm.

23. Sten- eller keramikprodukt enligt krav 19, kännetecknad av att den producerade beläggningens optiska genomsläpplighet pä nämnda enhetliga areal är minst 88 %, lämpligen minst 90 % och företrädesvis minst 92 %.

24. Sten- eller keramikprodukt enligt krav 19, kännetecknad av att i nämnda beläggning pä nämnda enhetliga areal Finns färre än ett mikrohäl per 1 mm2, lämpligen färre än ett mikrohäl per 1 cm2 och företrädesvis inga mikrohäl pä nämnda enhetliga areal.

25. Sten- eller keramikprodukt enligt krav 19, kännetecknad av att nämnda enhetliga areal har belagts pä sä sätt att de första 50 % av beläggningen pä nämnda enhetliga areal inte innehäller partiklar vars diameter överskrider 1000 nm, lämpligen 100 nm och företrädesvis 30 nm.

26. Sten- eller keramikprodukt enligt krav 19, kännetecknad av att nämnda enhetliga areal pä Sten- eller keramikprodukten har belagts med metall, metalloxid, metallnitrid, metallkarbid eller en blanding därav.

27. Sten- eller keramikprodukt enligt krav 19, kännetecknad av att nämnda enhetliga areal pä Sten- eller keramikprodukten har belagts med kolmaterial som innehäller över 90 atomprocent koi varav över 70 % med sp3-bindningar.

28. Sten- eller keramikprodukt enligt krav 19, kännetecknad av att nämnda ^ enhetliga areal pä Sten- eller keramikprodukten har belagts med material som cm innehäller koi, kväve och/eller bor i olika förhällanden. CM

^ 29. Sten- eller keramikprodukt enligt krav 19, kännetecknad av att nämnda ^ enhetliga areal pä Sten- eller keramikprodukten har belagts med organiskt £ polymermaterial. N-

30. Sten- eller keramikprodukt enligt krav 19, kännetecknad av att nämnda o enhetliga areal pä Sten- eller keramikprodukten har belagts med oorganiskt material, o CM

31. Sten- eller keramikprodukt enligt nägot av de föregäende kraven 19 - 30, kännetecknad av att nämnda enhetliga areal pä Sten- eller keramikprodukten har belagts med en flerskiktad beläggning.

32. Sten- eller keramikprodukt enligt nägot av de föregäende kraven 19 - 31, kännetecknad av att nämnda beläggnings tjocklek pä den enhetliga arealen pä sten-eller keramikprodukten är mellan 20 nm och 20 pm, företrädesvis mellan 100 nm och 5 pm. •ί· δ c\j C\J o Tj· X IX Q. N- co δ o o c\j