ES2964033T3 - Sistema y método para monitorizar implantes dentales óptimos acoplables a un lecho de implante optimizado - Google Patents
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Abstract
Método y sistema implementado por computadora para monitorear implante dental que comprende los pasos de simular gráficamente una anatomía de una prótesis dental proporcionada acoplable a un implante dental; simular un sitio de implante optimizado para el implante dental en función de los parámetros del implante dental y primeros parámetros del sitio de implante optimizado; calcular una pluralidad de implantes dentales óptimos; seleccionar un implante utilizable entre la pluralidad de implantes dentales óptimos; calcular las primeras desviaciones entre los primeros parámetros del sitio de implante optimizado y los primeros parámetros del implante utilizable; calcular segundas desviaciones entre segundos parámetros de los implantes dentales óptimos no seleccionados como implantes utilizables y primeros parámetros del sitio de implante optimizado; calcular parámetros optimizados reales del sitio de implante optimizado como una función combinada de primeras y segundas desviaciones. (Traducción automática con Google Translate, sin valor legal)
Description
DESCRIPCIÓN
Sistema y método para monitorizar implantes dentales óptimos acoplables a un lecho de implante optimizado CAMPO TÉCNICO
La presente invención se refiere a un método implementado por ordenador para monitorizar implantes dentales. La presente invención se refiere además a un sistema para monitorizar implantes dentales.
En particular, la presente invención se refiere a un método/sistema para monitorizar implantes dentales acoplables a un lecho de implante optimizado.
ANTECEDENTES DE LA INVENCIÓN
En la actualidad, los implantes dentales se diseñan y preparan siguiendo las indicaciones del dentista, principalmente en función de la experiencia adquirida.
Algunas directrices sugieren criterios bastante imprecisos para definir los parámetros característicos de los implantes dentales que deben aplicarse a los pacientes.
US 2012/239364 A1 describe un método de monitorización de implantes dentales implementado por ordenador y un sistema de monitorización de implantes dentales.
La presente invención tiene por objetivo proporcionar un método/sistema de monitorización de implantes dentales capaz de definir parámetros de planta que garanticen la estabilidad y la eficacia.
Otro objetivo de la presente invención es proporcionar un método/sistema de monitorización de implantes dentales fácil de usar.
Otro objetivo de la presente invención es proporcionar implantes dentales estables y eficaces.
RESUMEN DE LA INVENCIÓN
En un primer aspecto, la presente invención describe un método implementado por ordenador para monitorizar implantes dentales según lo descrito en la reivindicación 1.
Otros aspectos ventajosos del método se describen en las reivindicaciones dependientes de la 2 a la 11.
En un segundo aspecto, la presente invención describe un programa informático configurado para implementar el método del primer aspecto, según lo descrito en la reivindicación 12.
En un tercer aspecto, la presente invención describe un sistema para monitorizar implantes dentales según la reivindicación 13.
La invención confiere el efecto técnico principal de identificar un implante dental óptimo real en términos de estructura, por ejemplo código de identificación del diente, dimensión, por ejemplo diámetro y longitud, y posición, por ejemplo ángulo.
En particular, la invención tal y como se describe consigue los siguientes efectos técnicos:
- identificación objetiva de un implante dental óptimo real.
- fácil identificación de un implante dental óptimo real.
- conformidad de las directrices sobre implantes dentales con los valores óptimos reales.
- capacidad de acoplar simulaciones 3D obtenidas en diferentes momentos, por ejemplo, en el momento de la primera simulación y en el momento del cálculo de parámetros reales calculados, superponiéndolas para evaluar la variación de los parámetros a lo largo del tiempo.
Los efectos técnicos/ventajas mencionados y otros efectos técnicos/ventajosos de la invención se describirán más claramente en la siguiente descripción de una forma de realización proporcionada a modo de ejemplo no limitativo con referencia a los dibujos adjuntos.
BREVE DESCRIPCIÓN DE LOS DIBUJOS
La Figura 1 es un diagrama de bloques del sistema/método según la presente invención.
La unidad de las Figuras 2 (2a, 2b, 2c) es un detalle de una porción del diagrama de bloques de la Figura 1. La Figura 3A es una vista esquemática de un implante dental, según la presente invención.
La Figura 3B muestra un sistema de referencia utilizado en la Figura 3A.
La Figura 3C muestra de forma esquemática un implante dental en el arco maxilar según la presente invención. Las Figuras 4-6 muestran funciones del sistema/método, según la presente invención.
La Figura 7 muestra una vista esquemática de un hueso mandibular y de una prótesis dental simulada.
La Figura 8 es una vista esquemática en mayor detalle de la Figura 7.
La Figura 9 es una vista esquemática de medidas representativas del hueso mandibular con respecto a un eje quirúrgico ideal.
La Figura 9A muestra un sistema de referencia para las medidas de la Figura 9.
La Figura 10 es una forma de realización esquemática de las posiciones recíprocas de ejes quirúrgicos ideales y de un eje protésico.
DESCRIPCIÓN DETALLADA
La terminología que se presenta a continuación se utilizará en repetidas ocasiones y se mantendrá como referencia en las reivindicaciones adjuntas:
implante dental = tornillo que se inserta en el hueso mandibular/maxilar;
lecho del implante = cavidad en la mandíbula/el maxilar que recibe el implante dental;
pilar = perno que se acopla al extremo libre del implante dental;
corona = cubierta en forma de diente que se acopla al extremo libre del pilar;
prótesis dental = conjunto de pilar y corona;
espacio edéntulo = espacio volumétrico destinado a recibir la prótesis dental, en particular el espacio entre dos dientes existentes;
vestíbulo = espacio entre las mejillas y las encías;
mandíbula = hueso que forma la estructura inferior de la boca; aloja los dientes inferiores del arco maxilar y es la única parte móvil del rostro.
maxilar = hueso que forma la estructura superior de la boca y aloja el arco dental superior.
A diferencia de la mandíbula, el maxilar es un hueso fijo, que no se mueve con la apertura y cierre de la boca.
En conjunto, ambos huesos se denominan también huesos maxilares, y en la presente descripción se utilizará el término hueso maxilar OM es decir, sin excluir que en el ejemplo según el cual se aplica una prótesis dental al arco inferior excluya la aplicación al arco superior.
La invención describe un método de monitorización de implantes dentales y su correspondiente sistema de monitorización de implantes dentales.
Con especial referencia a las Figuras 1, 3A y 3C, el método incluye un paso f1 de simular gráficamente una anatomía de una prótesis dental PD prevista acoplable a un implante dental ID que puede insertarse en un hueso maxilar OM.
En particular, la simulación también muestra un espacio edéntulo LR (Figura 3C) donde se coloca la prótesis dental PD correspondiente a un diente identificado Tn.
La invención es aplicable tanto en el caso en que el diente Tn faltase en el espacio edéntulo, como en el caso de que el diente Tn estuviese presente en el espacio edéntulo y tuviese que ser rehabilitado.
Como se muestra en la Figura 3A, el implante dental ID se instala en un hueso maxilar OM en la base del espacio edéntulo LR (Fig. 3C), en una posición ocupada por el diente identificado Tn, siendo Tn el diente identificado en condiciones de integridad de la boca del paciente.
Preferiblemente, el paso de simulación gráfica f1 se realiza mediante una tomografía computarizada de la cavidad bucal que proporciona datos para realizar una reconstrucción tridimensional de los huesos maxilares.
De forma alternativa o adicional, se lleva a cabo una simulación gráfica mediante un modelo de prótesis dental tradicional, que también puede obtenerse por escaneado intra o extraoral o modelarse de modo virtual.
La simulación gráfica integrada se obtiene combinando el escaneado intra o extraoral, o derivado de forma virtual, con la reconstrucción tridimensional realizada mediante tomografías computarizadas.
En resumen, y dicho de otro modo, el paso de simulación gráfica f1 se realiza a través de medios de simulación gráfica implementada por ordenador, en particular a través de un aparato de simulación gráfica implementado por ordenador.
Todos los procesos realizados son factibles a partir del primer paso de simulación f1, sin el cual no sería posible ninguna detección precisa del estado de la cavidad bucal; las detecciones no automatizadas, basadas esencialmente en la experiencia clínica del profesional, son totalmente inapropiadas para los pasos posteriores de la simulación y no pueden conducir en modo alguno a la obtención de un lecho de implanteoptimizado.
En otras palabras, el primer paso de la simulación f1 define un modelo gráfico matemático implementado por ordenador a partir del cual es posible realizar elaboraciones innovadoras de la invención para obtener una simulación precisa y optimizada en términos de implementación de un lecho de implante; el lecho de implante así obtenido estará configurado para que se le acople el implante dental correspondiente.
Para llevar a cabo esta simulación, el sistema de la invención incluye una primera estación de simulación 1 diseñada para simular gráficamente una anatomía de una prótesis dental PD prevista y un espacio edéntulo LR correspondiente a un diente identificado Tn, donde la prótesis dental PD prevista es acoplable a un implante dental ID insertable en el hueso maxilar OM.
Con referencia a la Figura 1, la invención proporciona además un paso f2 de simular un lecho de implante SI optimizado para el implante dental ID en función de parámetros de implante PIMP del implante dental ID y de primeros parámetros representativos PSI del lecho de implante optimizado.
La simulación realizada por la invención logra funciones técnicas típicas de la ingeniería moderna. Esa permite predecir de forma realista el rendimiento de un implante dental con respecto al lecho de implante diseñado que deberá alojar al primero, y de este modo permite desarrollar idealmente el implante dental con tanta precisión que se pueden evaluar las posibilidades de éxito de un prototipo antes de construirlo.
El resultado técnico aumenta con la rapidez del método de simulación, ya que este permite probar virtualmente una amplia gama de diseños y examinar su idoneidad antes de iniciar el costoso proceso de fabricación del implante.
El resultado técnico aumenta con la rapidez del método de simulación, ya que este permite probar virtualmente una amplia gama de diseños y examinar su idoneidad antes de iniciar el costoso proceso de fabricación del implante.
Sin un soporte técnico adecuado, no sería posible realizar una prueba avanzada sobre un implante dental complejo y/o una selección cuidadosa entre muchos diseños distintos o, como mínimo, no sería factible en un tiempo razonable.
Esto nos indica que los métodos de simulación implementados por ordenador para realizar pruebas virtuales representan una parte práctica y orientada a la práctica del instrumental del dentista, del profesional sanitario o del proveedor del tratamiento. Lo que los hace tan importantes es el hecho de que no existe un método puramente matemático, teórico o mental que sea capaz de proporcionar una predicción completa y/o rápida del rendimiento de un implante dental según los parámetros de la invención, que es diferente o diversificable para cada paciente en concreto.
En particular, la invención proporciona una simulación de un lecho de implante SI optimizado llevando a cabo una simulación de una cavidad oral dañada de un paciente y define un lecho de implante adecuado para recibir un implante dental necesario para reparar el daño resaltado.
Para realizar la simulación, el sistema de la invención incluye una segunda estación de simulación 10 diseñada para simular, según un modo gráfico implementado por ordenador, el lecho de implante SI optimizado para el implante dental ID en función de parámetros de implante PIMP del implante dental ID y de primeros parámetros PSI del lecho de implante optimizado.
En la Figura 4A se muestran en forma de tabla algunos parámetros simulados del lecho de implante optimizado.
En referencia a la Figura 3C, el lecho de implante SI optimizado presenta una forma volumétrica al menos parcialmente cilíndrica VSI inscrita en un volumen circunscriptor V previsto.
Más detalladamente, con el fin de simular el lecho de implante SI, con referencia a las Figuras de la 7 a la 10, el método de la invención prevé calcular un eje protésico ideal PI para la prótesis dental PD prevista en función de la simulación gráfica realizada por la primera estación de simulación 1.
Tal como se describe en las solicitudes de prioridad italianas a nombre del mismo Solicitante, por eje protésico ideal se entiende un eje que atraviesa un punto ideal de la prótesis dental PD prevista en función del tipo de diente en cuestión.
En particular, en un primer caso de molares y premolares (Fig.5), el eje protésico ideal PI para la prótesis dental PD prevista es un eje que pasa por el centro pt1 de la prótesis dental PD prevista.
En particular, en un segundo caso de incisivos, laterales, y caninos (Fig. 12), el eje protésico ideal PI para la prótesis dental PD prevista es un eje que pasa por el vértice palatino pt2 de un triángulo que esquematiza la superficie oclusal de la prótesis dental PD prevista.
En otras palabras, en un primer caso de dientes molares y premolares, el punto ideal pt1 estará en el centro de la prótesis dental PD y de la corona CO, mientras que, en un segundo caso de dientes anteriores (incisivos, laterales y caninos), el punto ideal pt2 estará en el vértice del ángulo palatino.
Para el cálculo de este eje en ambos casos, el método incluye la obtención de dos pares de medidas de la prótesis dental PD simulada, en particular un primer par de medidas cervicales y un segundo par de medidas apicales definidas en función de los datos estadísticos dependientes de la posición del diente y de la anatomía del arco opuesto al que se inserte la prótesis dental PD.
El par de medidas se calcula en dirección vestibulolingual y anteroposterior.
Más detalladamente, el primer par de medidas se toma en la corona de la prótesis dental PD, en dirección vestibulolingual y anteroposterior.
El segundo par de medidas se toma en el cuello de la prótesis dental PD, en dirección vestibulolingual y anteroposterior. De forma alternativa o adicional, el par de medidas se calcula en la dirección mesiodistal.
Más detalladamente, el primer par de medidas se toma en la corona de la prótesis dental PD, mientras que el segundo par de medidas se toma en el cuello de la prótesis dental PD.
Este método implica calcular el eje protésico PI como una línea recta que pasa por los puntos de intersección de los segmentos de cada par de medidas.
Preferiblemente, el eje protésico ideal pasa también por un segundo punto a nivel cervical que corresponde al centro del diente para los premolares y molares, y al vértice del triángulo para los dientes anteriores.
Si nos basamos en las mismas aplicaciones prioritarias, por eje ideal se entiende un eje configurado para realizar una reducción a la mitad ideal de la cantidad ósea del hueso maxilar OM en un espacio edéntulo LR.
Con especial referencia a la Figura 8, el método prevé además calcular una primera distancia cervical CT y una primera distancia apical ET del hueso maxilar OM en el espacio edéntulo LR en función de la simulación gráfica donde las distancias se calculan en una primera dirección relativa al hueso maxilar OM;
Con particular referencia a la Figura 9, el método prevé además calcular una segunda distancia cervical CW y una segunda distancia apical EW del hueso maxilar OM en el espacio edéntulo LR en función de la simulación gráfica, donde las distancias se calculan en una segunda dirección con respecto al hueso maxilar OM.
Preferiblemente, la primera distancia cervical CT se detecta a una primera altura cervical q1 con respecto a una altura de referencia, por ejemplo, con respecto al margen óseo superior, visible en la Figura 6.
Preferiblemente, la primera distancia apical ET se detecta a una primera altura apical q2 con respecto a una altura de referencia, en particular con respecto al nervio maxilar inferior NAI en la mandíbula posterior, o a otra estructura anatómica que deba tenerse en cuenta.
El método prevé además calcular un eje quirúrgico ideal CI (Fig. 8) en el hueso maxilar OM en función de las distancias cervicales CT, CW y de las distancias apicales CW, EW.
Los pasos descritos hasta ahora para la simulación del lecho de implante SI se llevan a cabo teniendo en cuenta que el eje protésico ideal PI y el eje quirúrgico ideal CI determinan un sistema de referencia REF ID (Fig. 10) para el implante dental ID y que el eje protésico ideal PI y el eje quirúrgico ideal CI están desplazados por un ángulo de desplazamiento a.
El método también prevé calcular una altura ósea HR del hueso maxilar OM en función de la primera distancia cervical CT y primera distancia apical ET calculadas, donde la altura ósea HR es representativa de una disponibilidad ósea del hueso maxilar OM en el espacio edéntulo LR.
El método prevé además desplazar el eje quirúrgico ideal CI determinando un eje quirúrgico de compromiso CI_i (i = 1 .. n) (Fig. 10) correspondiente a un ángulo de desviación variable ai (i = 1.. n) con respecto al eje protésico ideal PI. Según la invención, la simulación se realiza al menos en función de los parámetros de implante PIMP.
Los parámetros de implante PIMP incluyen al menos:
- el diente identificado Tn;
- la primera distancia cervical CTi y la primera distancia apical ETi;
- la segunda distancia cervical CWi y la segunda distancia apical EWi;
- la primera altura ósea HRi;
- el ángulo de desviación variable ai.
En particular, la primera distancia cervical CTi y la primera distancia apical ETi del hueso maxilar OM se simulan en el espacio edéntulo LR, correspondiente a la prótesis dental PD prevista, en una primera dirección con respecto al hueso maxilar OM.
En particular, la segunda distancia cervical CW y la segunda distancia apical EW del hueso maxilar OM se simulan en el espacio edéntulo LR, correspondiente a la prótesis dental PD prevista, en una segunda dirección con respecto al hueso maxilar OM.
En particular, la primera altura ósea HRi es representativa de una disponibilidad ósea del hueso maxilar OM en el espacio edéntulo LR.
En particular, el ángulo de desviación variable ai se incluye entre el eje quirúrgico ideal CI del hueso maxilar OM y el eje protésico ideal PI que pasa por la prótesis dental PD.
Según la invención, la simulación también se realiza en función de los primeros parámetros representativos PSI del lecho de implante SI optimizado.
Los primeros parámetros representativos PSI del lecho de implante SI optimizado incluyen al menos:
■ un diámetro DTi de la forma volumétrica al menos parcialmente cilindrica VSI;
■ una altura LIi de la forma volumétrica al menos parcialmente cilindrica VSI;
Según la invención, los primeros parámetros representativos PSI presentan valores variables en función del ángulo de desviación variable ai y de una calificación global R.
Los primeros parámetros representativos PSI incluyen uno o más valores de calificación (Rai, RDT, RLI, RRLRC, RPO, RDO) del lecho de implante SI optimizado, definidos en función de una comparación entre los primeros parámetros representativos PSI y valores de umbral de referencia.
El lecho de implante SI optimizado se identifica con una calificación global R definida en una función combinada de uno o más de los valores de calificación (Rai, RDT, RLI, RRLRC, RPO, RDO).
En particular, la simulación del lecho de implante SI optimizado se implementa de acuerdo con una calificación global R del lecho de implante SI optimizado que se define en función de uno o más entre:
-una calificación de ángulo de desviación R_ai de dicho ángulo de desviación ai;
- una calificación de diámetro R_DT del diámetro DT;
- una calificación de longitud R_LI de la medida de longitud LI del lecho de implante SI optimizado;
- una calificación de proporción corona/raíz R_RL_RC;
- una calificación del porcentaje de implante dentro del hueso R_PO;
- una calificación de densidad ósea R_DO.
donde los valores de calificación Rai, RDT, RLI, RRLRC, RPO, RDO del lecho de implante SI optimizado se definen basándose en una comparación entre los valores actuales ai, DT, LI, RLRC, PO, DO y respectivos umbrales de referencia.
En otras palabras, la calificación global R del lecho de implante SI optimizado es indicativa de la conformidad del lecho de implante SI optimizado con umbrales de referencia predefinidos de los primeros parámetros representativos PSI. La invención proporciona un paso f3 de calcular una pluralidad de implantes dentales MIi en función de la comparación de al menos primeros parámetros PSI del lecho de implante SI optimizado y parámetros representativos PIE de implantes dentales existentes.
Preferiblemente, como se muestra en la Figura 1, los parámetros PIE se almacenan en una base de datos IE.
En particular, con referencia a la Figura 1, para calcular la pluralidad de implantes dentales MIi, el cálculo se realiza por una primera estación de procesamiento 40 configurada para calcular una pluralidad de implantes dentales MIi en función de la comparación de al menos los primeros parámetros PSI del lecho de implante SI optimizado con los parámetros representativos PIE de implantes dentales existentes.
La invención proporciona un paso f4 posterior de calcular una pluralidad de implantes dentales óptimos BMIi en función de la comparación entre los primeros parámetros representativos PSI y los segundos parámetros representativos PIE cuando se minimiza la calificación global R del lecho de implante SI optimizado.
En otras palabras, la invención proporciona la identificación de un implante dental ID para el lecho de implante SI optimizado que realiza una simulación de la cavidad oral dañada de un paciente, y la definición de una pluralidad de implantes dentales óptimos BMIi aplicables a dicho lecho de implante SI optimizado.
En particular, con referencia a la Figura 1, el sistema de la invención incluye una primera estación de procesamiento (40) capaz de calcular parámetros de una pluralidad de implantes dentales óptimos BMIi en función de la comparación entre al menos los parámetros del lecho de implante PSI optimizado y los parámetros representativos PIE de implantes dentales existentes basándose en una calificación R minimizada del lecho de implante PSI optimizado, donde la calificación R es indicativa de que el lecho de implante PSI optimizado cumple los umbrales de referencia predefinidos de los parámetros representativos PSI.
La Figura 4B muestra algunos implantes dentales óptimos BMIi calculados en forma de tabla, en particular un primer implante óptimo BMI0, un segundo implante óptimo BMI1 y un tercer implante óptimo BMI2, basados en los respectivos parámetros calculados.
Los implantes dentales óptimos BMIi se caracterizan por parámetros PBMI.
Preferiblemente, con referencia a la Figura 5, los parámetros PBMI incluyen:
- un diente identificado Tn;
- un diámetro DTi de la forma volumétrica al menos parcialmente cilíndrica VSI;
- una altura L1 de la forma volumétrica al menos parcialmente cilíndrica VSI;
- un ángulo de desviación a;
- una calificación general R.
Preferiblemente,
- un identificador Ub del fabricante del sistema (marca)
- un identificador Um del modelo de implante.
Con especial referencia a la Figura 1, tras haber identificado los implantes óptimos utilizables, la invención proporciona ventajosamente un paso f5 de seleccionar un implante utilizable U i entre la pluralidad de implantes dentales óptimos BMIi.
En otras palabras, el implante utilizable UI se define como una función de los implantes dentales óptimos BMIi, es decir, UI = f (BMij).
Para obtener la selección, con referencia a la Figura 1, el sistema de la invención incluye una segunda estación de procesamiento 30 que comprende a su vez una primera unidad de cálculo 301 adaptada para seleccionar el implante utilizable UI a partir de la pluralidad de implantes dentales óptimos BMIi.
Preferiblemente, la selección se realiza basándose en la experiencia clínica de un clínico.
El implante utilizable UI se caracterizará por unos primeros parámetros PUI.
Preferiblemente, con referencia a la Figura 5, los primeros parámetros PUI incluyen:
- un diente identificado UTn;
- un diámetro UDTi de la forma volumétrica al menos parcialmente cilindrica VSI;
- una altura ULIi de la forma volumétrica al menos parcialmente cilíndrica VSI;
- un ángulo de desviación Ua;
- un valor de calificación global UR.
Preferiblemente, los primeros parámetros PUI incluyen además
- un identificador Ub del fabricante del implante (marca)
- un identificador Um del modelo de implante.
La Figura 5 representa los primeros parámetros PUI en forma tabular, así como los parámetros simulados del lecho de implante optimizado.
La invención proporciona además un paso f6 de calcular primeras desviaciones AUIi entre los parámetros del lecho de implante PSI optimizado y los primeros parámetros PUI del implante utilizable UI.
El efecto técnico conseguido es una estimación de la conformidad entre los parámetros calculados automáticamente para el lecho de implante SI optimizado y los parámetros del implante utilizable obtenidos también en función de la experiencia clínica del clínico; esto permite tener una primera correspondencia entre el implante simulado y el implante realmente utilizado.
Para realizar el cálculo, la segunda estación de procesamiento 30 incluye una segunda unidad de cálculo 302 (Fig. 1) capaz de calcular primeras desviaciones AUI entre los parámetros del lecho de implante PSI optimizado y los primeros parámetros PUI del implante utilizable UI.
La Figura 6 muestra un ejemplo de primeras desviaciones ~UI en forma de tabla entre los parámetros del implante utilizable UI y los parámetros simulados del lecho de implante SI optimizado.
La invención proporciona un paso f7 adicional de calcular segundas desviaciones ABMij entre
- segundos parámetros PBMij de la pluralidad de implantes dentales óptimos BMIi no seleccionados como implantes utilizables UI, y
- los parámetros del lecho de implante PSI optimizado.
En particular, el cálculo de los segundos parámetros se realiza sobre al menos una primera pluralidad P1 de implantes dentales óptimos BMij.
Según la invención, la primera pluralidad P1 de implantes dentales óptimos BMij incluye una primera pluralidad n de implantes con calificación RBMij próxima a la calificación RPSI del lecho de implante PSI optimizado.
Esta solución se proporciona en el caso de un número reducido de implantes dentales óptimos BMi, preferiblemente siendo n tal que 3 <n <5.
En otras palabras, los implantes con la mejor calificación son los que se tienen en cuenta, es decir, los que están más próximos al caso ideal del lecho de implante optimizado, sin importar los respectivos valores de calificación.
Esta solución puede definirse como solución de proximidad.
Alternativamente, o además, el cálculo de los segundos parámetros se realiza sobre al menos una segunda pluralidad P2 de implantes dentales óptimos BMij.
Según la invención, la segunda pluralidad P2 de implantes dentales óptimos BMij incluye una segunda pluralidad m de implantes dentales óptimos con calificación RBMij inferior a un valor de calificación R_pred predefinido.
En otras palabras, en el caso de un número elevado de implantes dentales óptimos BMi (por ejemplo, 20) y con varios implantes dentales óptimos próximos al caso ideal, los implantes más próximos al caso ideal son los seleccionados según un valor de calificación predefinido, por ejemplo R_pred <= 1,5.
En este caso, existe una serie de IMC con valores casi coincidentes.
Esta solución puede definirse como una solución estadística.
El cálculo de los segundos parámetros se realiza por la segunda estación de procesamiento 30, en particular por una tercera unidad de procesamiento 303 adecuada para calcular segundas desviaciones ABMij entre:
- los segundos parámetros PBMij de al menos una pluralidad P1, P2 de implantes dentales óptimos BMij de la pluralidad de implantes dentales óptimos BMIi no seleccionados como implantes UI utilizables y
- los parámetros PSI del lecho de implante SI optimizado.
la Figura 6 muestra ejemplos de segundas desviaciones ABMij en forma de tabla entre los parámetros de los implantes dentales óptimos BMI y los parámetros simulados del lecho de implante SI optimizado.
La invención proporciona, en este punto, un paso f8 de calcular parámetros optimizados reales PSIR del lecho de implante SI optimizado en una función combinada de las primeras desviaciones AUI y las segundas desviaciones ABMij.
Con referencia a la Figura 1, una unidad de procesamiento 304 está adaptada para calcular los parámetros reales optimizados PSIR del lecho de implante SI optimizado.
El efecto técnico conseguido se refiere a la determinación de los valores reales y consolidados en función de los cuales se adaptarán las directrices del sector.
Preferiblemente, el método incluye un paso f9 adicional de superponer el lecho de implante SI optimizado, definido en el paso f8 en función de los parámetros optimizados reales PSIR calculados, sobre el lecho de implante SI optimizado simulado en el paso f2 en función de los parámetros de implante PIMP y de los primeros parámetros PSI del lecho de implante SI optimizado.
El efecto técnico conseguido es una verificación de la estabilidad del resultado biológico obtenido (volúmenes óseos) en la aplicación del método/sistema de monitorización de la invención.
Esto permite superponer a la simulación original una reconstrucción real posterior a la fabricación del implante dental. La segunda estación de procesamiento 30 incluye, con este fin, un módulo de superposición 305 (Fig. 1) configurado para superponer el lecho de implante SI optimizado, definido en el paso f8, sobre el lecho de implante SI optimizado simulado en el paso f2, con el fin de conseguir los efectos aquí descritos.
En particular, el módulo de superposición 305 está configurado para ejecutar el paso f9 de superponer:
- dichos parámetros reales optimizados PSIR del lecho de implante SI optimizado calculados por dicha cuarta unidad de cálculo 304 como una función combinada de dichas primeras desviaciones AUI y dichas segundas desviaciones ABMij, con
- dicho lecho de implante SI optimizado, simulado según un modo gráfico implementado por ordenador, para dicho implante dental ID en función de dichos parámetros de implante PIMP de dicho implante dental ID y de primeros parámetros PSI de dicho lecho de implante SI optimizado,
provocando así una superposición entre la simulación original y la reconstrucción real después de la producción del implante dental.
Según la invención, el paso de calcular los parámetros reales optimizados PSIR del lecho de implante SI optimizado ofrece varias soluciones de implementación.
En una primera solución, el cálculo de los parámetros optimizados reales PSIR incluye un paso f71 de comparar las primeras desviaciones AUI y la media M de las segundas desviaciones ABMij.
Como se muestra en la Figura 2, un primer módulo de cálculo 304A de la unidad de procesamiento 304 está configurado para realizar el paso f71.
Preferiblemente, el paso f71 de comparar las primeras desviaciones AUI y la media M de las segundas desviaciones ABMij, incluye los subpasos de:
- calcular la M media de las segundas desviaciones ABMij
- comparar el valor de la media M calculada con los valores de las primeras desviaciones AUI;
- calcular los parámetros reales optimizados PSIR como una función de la comparación.
Más detalladamente, en el paso de comparación f71, si el valor de la media M calculada es inferior a las primeras desviaciones AUI, es decir, si el módulo de la media M es inferior a las primeras desviaciones AUI, el paso f71 proporciona un subpaso adicional de calcular los parámetros reales optimizados PSIR modificando los parámetros del lecho de implante PSI optimizado con el valor de la media M de las segundas desviaciones ABMij sumados o sustraídos.
En otras palabras, PSIR =PSI+ | M |.
En este cálculo de los parámetros reales optimizados PSIR, se tienen en cuenta todos los valores de las segundas desviaciones ABMij al calcular la media M con los signos respectivos, es decir, los valores de las segundas desviaciones que se tienen en cuenta pueden ser positivos o negativos con respecto a los parámetros del lecho de implante optimizado.
Según variantes de la primera solución, el paso f7 de calcular segundas desviaciones ABMij incluye:
- calcular segundas desviaciones positivas ABMij y/o segundas desviaciones negativas ABMij- definidas respectivamente en función de que un valor del diámetro del implante óptimo BMIi sea mayor o menor que el valor del diámetro del lecho del implante optimizado PSI;
- calcular parámetros sobredimensionados reales optimizados PSIR y/o parámetros infradimensionados reales optimizados PSIR- del lecho de implante SI optimizado como función combinada de las primeras desviaciones AUI y las segundas desviaciones positivas ABMij o negativas ABMij-, respectivamente.
En particular, en una primera variante de la primera solución, la tercera unidad de procesamiento 303 puede calcular segundas desviaciones positivas ABMij entre:
- los segundos parámetros PBMij de al menos una pluralidad P1, P2 de implantes dentales óptimos BMij de la pluralidad de implantes dentales óptimos BMIi no seleccionados como implantes utilizables UI
- los parámetros PSI del lecho de implante PSI optimizado.
El cálculo se realiza cuando el valor del diámetro del implante óptimo es superior al valor del diámetro del lecho de implante PSI optimizado.
En este paso, la invención proporciona, basándose en el paso f8 antes mencionado, calcular parámetros sobredimensionados reales optimizados PSIR+ del lecho de implante SI optimizado como función combinada de las primeras desviaciones AUI y las segundas desviaciones positivas ABMij+.
Con referencia a la Figura 1, la unidad de procesamiento 304 puede calcular los parámetros sobredimensionados optimizados reales PSIR+ del lecho de implante SI optimizado.
En esta variante, el cálculo de los parámetros sobredimensionados reales optimizados PSIR+ sólo tiene en cuenta los valores positivos de las segundas desviaciones ABMij para calcular la media M con respecto a los valores de los parámetros del lecho de implante optimizado.
En particular, en una segunda variante de la primera solución, la tercera unidad de procesamiento 303 es adecuada para calcular segundas desviaciones negativas ABMij entre:
- los segundos parámetros PBMij de al menos una pluralidad P1, P2 de implantes dentales óptimos BMij de la pluralidad de implantes dentales óptimos BMIi no seleccionados como implantes utilizables UI
- los parámetros PSI del lecho de implante PSI optimizado.
El cálculo se realiza cuando el valor del diámetro del implante óptimo es inferior al valor del diámetro del lecho del implante optimizado PSI.
En este paso, la invención proporciona, basándose en el paso f8 antes mencionado, calcular parámetros sobredimensionados reales optimizados PSIR- del lecho de implante SI optimizado como función combinada de las primeras desviaciones AUI y las segundas desviaciones negativas ABMij-.
Con referencia a la Figura 1, la unidad de procesamiento 304 es adecuada para calcular los parámetros sobredimensionados optimizados reales PSIR- del lecho de implante SI optimizado.
En esta variante, el cálculo de los parámetros infradimensionados reales optimizados PSIR- solo tiene en cuenta los valores negativos de las segundas desviaciones ABMij para calcular la media M con respecto al valor de los parámetros del lecho de implante optimizado.
En una segunda solución, el cálculo de los parámetros reales optimizados PSIR incluye un paso f72 de comparar las primeras desviaciones AUI y la mediana M de las segundas desviaciones ABMij.
Como se muestra en la Figura 2, un segundo módulo de cálculo 304B de la unidad de procesamiento 304 está configurado para realizar el paso f72.
Como es sabido, la mediana es el valor que ocupa la posición central en un conjunto ordenado de datos.
La mediana es una medida que se ve poco afectada por la presencia de datos anormales y debido a ello se utiliza cuando se desea mitigar el efecto de los valores extremos.
El paso f72 de comparar las primeras desviaciones AUI y la mediana (MD) de las segundas desviaciones ABMij incluye los pasos de:
- calcular si la mediana MD de las segundas desviaciones ABMij es menor que las primeras desviaciones AUI; - comparar el valor de la mediana MD calculada con los valores de las primeras desviaciones AUI;
- calcular los parámetros reales optimizados PSIR como una función de la comparación.
Más detalladamente, tras el paso de comparación, si el valor de la mediana MD calculada es menor que las primeras desviaciones AUI, es decir, si el módulo de la mediana MD es menor que las segundas desviaciones ABMij, el paso f72 proporciona un subpaso adicional de calcular parámetros reales optimizados PSIR modificando los parámetros del lecho de implante PSI optimizado con el valor de la mediana MD sumado o sustraído.
En otras palabras, PSIR = PSI | MD |
En una tercera solución, el cálculo de los parámetros optimizados reales (PSIR) incluye un paso f73 de comparar las primeras desviaciones AUI y la moda MO de las segundas desviaciones ABMij.
Como se muestra en la Figura 2, un tercer módulo de cálculo 304C, dentro de la unidad de procesamiento 304, está configurado para ejecutar el paso f73.
Como es sabido, la moda es el valor más recurrente en un conjunto de datos.
El paso f73 de comparar las primeras desviaciones AUI y la moda MO de las segundas desviaciones ABMij, incluye los pasos de:
- calcular si la moda MO de las segundas desviaciones ABMij es menor que las primeras desviaciones AUI;
- comparar el valor de la moda MO calculado con los valores de las primeras desviaciones AUI;
- calcular los parámetros reales optimizados PSIR según la comparación.
Más detalladamente, tras el subpaso de comparación, si el valor calculado de la moda MO es inferior a las primeras desviaciones AUI, es decir, si el módulo de la mediana MO es inferior a las segundas desviaciones ABMij, el paso f72 proporciona un subpaso adicional de calcular los parámetros reales optimizados PSIR mediante la modificación de los parámetros del lecho de implante PSI optimizado sumando o sustrayendo el valor de la moda MO.
Los valores PSIR obtenidos en una o más de las modalidades descritas garantizan el efecto técnico de una identificación objetiva con respecto a un implante dental óptimo real, lo que permite adaptar las directrices en las que se basa la construcción de implantes dentales a los valores reales y objetivos óptimos.
Según la invención, el método de monitorización descrito está adaptado para ser implementado por ordenador. La invención proporciona además un programa informático que, cuando se utiliza en un medio de procesamiento, realiza uno o más de los pasos del método implementado por ordenador.
Según la invención, el implante dental real óptimo ID, descrito anteriormente, está adaptado para realizarse en función de los parámetros reales optimizados PSIR según una de las soluciones mostradas.
En general, cabe señalar que en el presente contexto y en las reivindicaciones posteriores, la primera estación de procesamiento 40, la segunda estación de procesamiento 30 y la unidad de procesamiento 304 se describen como divididas en módulos funcionales separados (módulos de memoria o módulos operativos) con el único propósito de describir las funciones de una manera clara y completa.
De hecho, dichas estaciones/unidades de procesamiento pueden consistir en un único dispositivo electrónico, convenientemente programado para realizar las funciones descritas, y los diferentes módulos pueden corresponder a entidades de hardware y/o rutinas de software que formen parte del dispositivo programado.
De forma alternativa o adicional, hay una gran variedad de dispositivos electrónicos que pueden llevar a cabo dichas funcionalidades y en los que pueden distribuirse los citados módulos funcionales.
Las estaciones/unidades de procesamiento también pueden utilizar uno o más procesadores para ejecutar las instrucciones contenidas en los módulos de memoria.
Dichos módulos funcionales también pueden estar distribuidos en diferentes ordenadores de forma local o remota en función de la arquitectura de la red en la que residan.
Los sistemas incluyen además todos los módulos de memoria y/u operativos y/o los medios necesarios para ejecutar las funciones descritas en sus métodos.
Claims (13)
1. Método de monitorización implementada por ordenador de implantes dentales que incluye los pasos de:
- (f1) simular gráficamente, mediante una tomografía computarizada (TAC), una anatomía de una prótesis dental (PD) prevista y de un hueso maxilar (OM), donde la prótesis dental (PD) es acoplable a un implante dental (ID) insertable en el hueso maxilar (OM);
- (f2) simular, basándose en un modo gráfico implementado por ordenador, un lecho de implante (SI) optimizado para dicho implante dental (ID) en función de parámetros de implante (PIMP) de dicho implante dental (ID) y de primeros parámetros (PSI) de dicho lecho de implante (SI) optimizado,
donde dicho lecho de implante (SI) optimizado lleva a cabo una simulación de una cavidad oral dañada de un paciente y define un lecho de implante adecuado para recibir un implante dental necesario para reparar el daño resaltado;
donde los primeros parámetros representativos (PSI) incluyen uno o más valores de calificación (Rai, RDT, RLI, RRLRC, RPO, Rd O) del lecho de implante (SI) optimizado, definidos en función de una comparación entre los primeros parámetros representativos (PSI) y valores de umbral de referencia.
- proporcionar una base de datos (IE) configurada para almacenar parámetros representativos (PIE) de implantes dentales existentes;
- (f4) calcular una pluralidad de implantes dentales óptimos (BMIi), siendo dicho implante óptimo en términos de estructura, tamaño y posición, en función de una comparación entre al menos los primeros parámetros (PSI) y dichos parámetros representativos (PIE) de implantes dentales existentes en función de una calificación global (R) minimizada de dicho lecho de implante (SI) optimizado, donde la calificación global (R) es indicativa de que el lecho de implante (SI) optimizado cumple con umbrales de referencia predefinidos de los primeros parámetros representativos (PSI), estando definida dicha calificación global (R) como una función combinada de uno o más de los valores de calificación (Rai, RDT, RLI, RRLRC, RPO, RDO);
- (f5) seleccionar un implante utilizable (UI) de dicha pluralidad de implantes dentales óptimos (BMIi);
- (f6) calcular primeras desviaciones (AUI) entre dichos primeros parámetros (PSI) de dicho lecho de implante (SI) optimizado y primeros parámetros (PUI) de dicho implante utilizable (IU);
- (f7) calcular segundas desviaciones (ABMij) entre segundos parámetros (PBMij) de al menos una pluralidad (P1, P2) de implantes dentales óptimos (BMij) de dicha pluralidad de implantes dentales óptimos (BMIi) no seleccionados como implantes utilizables (UI) y dichos primeros parámetros (PSI) de dicho lecho de implante (SI) optimizado;
- (f8) calcular parámetros optimizados reales (PSIR) de dicho lecho de implante (SI) optimizado como función combinada de dichas primeras desviaciones (AUI) y dichas segundas desviaciones (ABMij),
donde dicho paso de calcular parámetros optimizados reales (PSIR) incluye comparar uno o más de:
- primeras desviaciones (AUI) y la media (M) de dichas segundas desviaciones (ABMij);
- primeras desviaciones (AUI) y la mediana (MD) de dichas segundas desviaciones (ABMij);
- primeras desviaciones (AUI) y la moda (MO) de dichas segundas desviaciones (ABMij);
caracterizado por el paso:
- (f9) superponer:
- dicho lecho de implante (SI) optimizado, definido en dicho paso (f8) de calcular parámetros optimizados reales (PSIR) de dicho lecho de implante (SI) optimizado como función combinada de dichas primeras desviaciones (AUI) y dichas segundas desviaciones (ABMij),
con
- dicho lecho de implante (SI) optimizado, simulado en dicho paso (f2) de simulación, basándose en un modo gráfico implementado por ordenador, un lecho de implante (SI) optimizado para dicho implante dental (ID) en función de parámetros de implante (PIMP) de dicho implante dental (ID) y de primeros parámetros (PSI) de dicho lecho de implante (SI) optimizado,
obteniendo así una superposición entre la simulación original y la reconstrucción real después de la producción del implante dental.
2. Método de monitorización según la reivindicación 1, donde dicho paso de comparar dichas primeras desviaciones (AUI) y dicha media (M) de dichas segundas desviaciones (ABMij), incluye los pasos de:
- calcular dicha media (M) de las segundas desviaciones (ABMij);
- comparar el valor de la media (M) hallada con los valores de las primeras desviaciones (AUI);
- calcular los parámetros optimizados reales (PSIR) como una función de esta comparación.
3. Método de monitorización según la reivindicación 2, donde dicho paso de comparar dichas primeras desviaciones (AUI) y dicha media (M) de dichas segundas desviaciones (ABMij), incluye además el paso de:
- si el valor de la media (M) calculada es inferior a las primeras desviaciones (AUI), calcular los parámetros optimizados reales (PSIR) modificando los parámetros (PSI) del lecho de implante (SI) optimizado con el valor medio (M) sumado o sustraído.
4. Método de monitorización según la reivindicación 1, donde dicho paso de comparar dichas primeras desviaciones (AUI) y dicha mediana (MD) de dichas segundas desviaciones (ABMij) incluye los pasos de:
- calcular si dicha mediana (MD) de dichas segundas desviaciones (ABMij) es inferior a dichas primeras desviaciones (AUI);
- comparar el valor de la mediana (MD) calculada con los valores de las primeras desviaciones (AUI);
- calcular dichos parámetros optimizados reales (PSIR) como una función de esta comparación.
5. Método de monitorización según la reivindicación 4, donde dicho paso de comparar dichas primeras desviaciones (AUI) y dicha mediana (MD) de dichas segundas desviaciones (ABMij) incluye además los pasos de:
- después del paso de comparación, si el valor de la mediana MD calculada es menor que las primeras desviaciones AUI, calcular los parámetros optimizados reales (PSIR) modificando los parámetros (PSI) del lecho de implante (SI) optimizado con el valor de la mediana (MD) sumado o sustraído.
6. Método de monitorización según la reivindicación 1, en el que dicho paso de comparar dichas primeras desviaciones (AUI) y dicha moda (MO) de dichas segundas desviaciones (ABMij) incluye los pasos de:
- calcular si dicha moda (MO) de dichas segundas desviaciones (ABMij) es inferior a dichas primeras desviaciones (AUI);
- comparar el valor de la moda (MO) calculado con los valores de las primeras desviaciones (AUI);
- calcular dichos parámetros optimizados reales (PSIR) como una función de dicha comparación.
7. Método según la reivindicación 1, donde dicho paso (f7) de calcular segundas desviaciones (ABMij) incluye:
- calcular segundas desviaciones positivas (ABMij ) y/o segundas desviaciones negativas (ABMij definidas respectivamente en función de un valor de diámetro de implante óptimo (BMIi) superior o inferior al valor de diámetro del lecho de implante PSI optimizado;
calcular parámetros sobredimensionados reales optimizados PSIR y/o parámetros infradimensionados reales optimizados PSIR- del lecho de implante SI optimizado como función combinada de las primeras desviaciones AUI y respectivamente de las segundas desviaciones positivas (ABMij+) o negativas (ABMij-).
8. Método de monitorización según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, donde dichos parámetros de implante (PIMP) incluyen al menos:
- dicho diente identificado (Tn);
- una primera distancia cervical (CTi) y una primera distancia apical (ETi) del hueso maxilar (OM) en un espacio edéntulo (LR), correspondiente a la prótesis dental (PD) prevista, donde las distancias se calculan en una primera dirección relativa al hueso maxilar (OM);
- una segunda distancia cervical (CWi) y una segunda distancia apical (EWi) del hueso maxilar OM en dicho espacio edéntulo (LR), donde las distancias se calculan en una segunda dirección relativa al hueso maxilar (OM);
- una primera altura ósea (HRi) representativa de una disponibilidad ósea del hueso maxilar (OM) en el espacio edéntulo (LR);
- un ángulo de desviación variable (ai) entre un eje quirúrgico ideal (CI) del hueso maxilar (OM) y un eje protésico ideal (PI) que pasa por la prótesis dental (PD).
9. Método de monitorización según la reivindicación 8, donde dichos primeros parámetros (PSI) de dicho lecho de implante (SI) optimizado incluyen al menos:
- un diámetro (DTi) de una forma volumétrica al menos parcialmente cilindrica (VSI) de dicho lecho de implante (SI) optimizado;
- una altura (LIi) de dicha forma volumétrica al menos parcialmente cilindrica (VSI) de dicho lecho de implante (SI) optimizado;
- dicho un ángulo de desviación variable (ai);
donde dichos primeros parámetros representativos (PSI) tienen valores variables en función de dicho ángulo de desviación variable (ai) y de dicho valor de calificación global (R).
10. Método de monitorización según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, donde al menos una primera pluralidad (P1) de implantes dentales óptimos (BMij) incluye una primera pluralidad (n) de implantes con calificación (RBMij) próxima a una calificación (RPSI) del lecho de implante optimizado. (PSI).
11. Método de monitorización según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, donde al menos una segunda pluralidad (P2) de implantes dentales óptimos (BMij) incluye una segunda pluralidad (m) de implantes con calificación (RBMij) inferior a un valor de calificación predefinido (R_pred).
12. Programa informático que contiene instrucciones que, cuando un ordenador ejecuta el programa, hacen que el ordenador lleve a cabo los pasos de una cualquiera de las reivindicaciones de la 1 a la 11.
13. Sistema de monitorización de implantes dentales que incluye:
- una primera estación de simulación (1) diseñada para simular gráficamente, mediante tomografía computarizada (TAC), una anatomía de una prótesis dental (PD) suministrada y de un hueso maxilar (OM), donde la prótesis dental (PD) es acoplable a un implante dental (ID) e insertable en el hueso maxilar (OM); - una segunda estación de simulación (10) diseñada para simular, mediante simulación gráfica implementada por ordenador, un lecho de implante (SI) optimizado para dicho implante dental (ID) en función de parámetros de implante (PIMP) de dicho implante dental (ID) y de primeros parámetros (PSI) de dicho lecho de implante (SI) optimizado,
donde dicho lecho de implante (SI) optimizado lleva a cabo una simulación de una cavidad oral dañada de un paciente y define un lecho de implante adecuado para recibir un implante dental necesario para reparar el daño resaltado;
donde los primeros parámetros representativos (PSI) incluyen uno o más valores de calificación (Rai, RDT, RLI, RRLRC, RPO, Rd O) del lecho de implante (SI) optimizado, definidos en función de una comparación entre los primeros parámetros representativos (PSI) y valores de umbral de referencia;
- una base de datos (IE) configurada para almacenar parámetros representativos (PIE) de implantes dentales existentes;
- una primera estación de procesamiento (20) capaz de calcular parámetros de una pluralidad de implantes dentales óptimos (BMIi), siendo dicho implante óptimo en términos de estructura, tamaño y posición, en función de una comparación entre los al menos primeros parámetros (PSI) de dicho lecho de implante (SI) optimizado y parámetros representativos (PIE) de implantes dentales existentes en función de una calificación global (R) minimizada de dicho lecho de implante (SI) optimizado, donde la calificación global (R) es indicativa de que el lecho de implante (SI) optimizado cumple con umbrales de referencia predefinidos de los primeros parámetros representativos (PSI), y dicha calificación global (R) se define como una función combinada de uno o más de los valores de calificación (Rai, RDT, RLI, RRLRC, RPO, RDO);
- una segunda estación de procesamiento (30) adecuada para calcular parámetros optimizados reales (PSIR) de dicho lecho de implante (SI) optimizado, que incluye:
una primera unidad de cálculo (301) adecuada para seleccionar un implante utilizable (UI) de dicha pluralidad de implantes dentales óptimos (BMIi);
una segunda unidad de cálculo (302) adecuada para calcular primeras desviaciones (AUI) entre dichos parámetros de dicho lecho de implante (PSI) optimizado y primeros parámetros (PUI) de dicho implante utilizable (UI);
una tercera unidad de procesamiento (303) capaz de calcular segundas desviaciones (ABMij) entre segundos parámetros (PBMij) de al menos una pluralidad (P1, P2) de implantes dentales óptimos (BMij) de dicha pluralidad de implantes dentales óptimos (BMIi) no seleccionados como implantes utilizables (UI) y dichos parámetros de dicho lecho de implante (PSI) optimizado;
- una cuarta unidad de procesamiento (304) capaz de calcular parámetros optimizados reales (PSIR) de dicho lecho de implante (SI) optimizado como función combinada de dichas primeras desviaciones (AUI) y dichas segundas desviaciones (ABMij),
donde dicho paso de calcular parámetros optimizados reales (PSIR) incluye comparar uno o más de:
- primeras desviaciones (AUI) y la media (M) de dichas segundas desviaciones (ABMij);
- primeras desviaciones (AUI) y la mediana (MD) de dichas segundas desviaciones (ABMij);
- primeras desviaciones (AUI) y la moda (MO) de dichas segundas desviaciones (ABMij);
que se caracteriza por:
- un módulo de superposición (305) configurado para realizar el paso (f9) de superponer:
- dichos parámetros optimizados reales (PSIR) de dicho lecho de implante (SI) optimizado calculados por dicha cuarta unidad de cálculo (304) como función combinada de dichas primeras desviaciones (AUI) y dichas segundas desviaciones (ABMij),
con
- dicho lecho de implante (SI) optimizado, simulado basándose en un modo gráfico implementado por ordenador, para dicho implante dental (ID) en función de dichos parámetros de implante (PIMP) de dicho implante dental (ID) y de primeros parámetros (PSI) de dicho lecho de implante (SI) optimizado, obteniendo así una superposición entre la simulación original y la reconstrucción real después de la producción del implante dental.
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