ES2639303T3 - Instalación de aplicación de líquidos y procedimiento para la aplicación de líquidos - Google Patents

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Abstract

Instalación de aplicación de líquido (1) para la aplicación de líquido sobre una torta de material (100) transportada sobre un dispositivo transportador (3) con un dispositivo de aplicación de líquido (7), caracterizada por que el dispositivo transportador (3) presenta un tramo (9) poroso sobre el que se apoya la torta de material (100) o en la que se apoya la torta de material (100) y que es permeable para un líquido a aplicar, por que la instalación de aplicación de líquido (7) presenta un dispositivo de aplicación (11) a través del cual se puede aplicar el líquido a aplicar sobre la cara del tramo (9) poroso del dispositivo transportador (3) alejada de la torta de material (100) y por que la instalación de aplicación de líquido (7) presenta una cámara de sobrepresión (13) con una primera sobrepresión con respecto al entorno, junto a la cual es conducido el tramo (9) poroso del dispositivo transportador (3), siendo transportable el líquido aplicado a la primera sobrepresión a través del tramo (9) poroso del dispositivo transportador (3) o siendo retenido en el tramo (9) poroso a través de la primera sobrepresión.

Description

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DESCRIPCION
Instalacion de aplicacion de liquidos y procedimiento para la aplicacion de liquidos
La presente invencion se refiere a una instalacion de aplicacion de liquidos para la aplicacion de liquidos sobre una torta de material transportada sobre un dispositivo transportador. Instalaciones de aplicacion de liquidos de este tipo encuentran aplicacion, por ejemplo, como instalaciones de humectacion, preferiblemente para prensas que trabajan de forma continua, en particular para la fabricacion de placas de materiales.
La invencion se refiere, ademas, a un procedimiento para la aplicacion de liquidos sobre una torta de material.
En el caso de prensas para la fabricacion de placas de materiales es conocido humectar la torta de material durante o inmediatamente antes del prensado, con el fin de penetrar en el material con ayuda de un golpe de vapor y, por consiguiente, transportar calor al interior de la torta de material con el fin de acelerar una union del aglutinante en el interior de la torta de material.
Del documento EP 1 508 414 A2 es conocido vaporizar la torta de material por una cara con vapor de agua en la prensa, intentando incorporar en la medida de los posible solo pequenas cantidades de vapor, con el fin de impedir una eliminacion por lavado del aglutinante y posibilitar un proceso de prensado lo mas breve posible.
A partir del documento DE 10 2006 058 612 A1 es conocido humectar la torta de material antes del prensado con ayuda de vapor.
Una humectacion de este tipo tiene el inconveniente de que una dosificacion del agente de humectacion solo es posible de manera muy imprecisa en virtud de la solicitacion del agente de humectacion en estado de vapor.
Ademas de ello, una solicitacion con vapor esta ligada basicamente a perdidas relativamente elevadas del agente humectante. La evaporacion conduce, ademas, a la formacion de condensado en las piezas de la maquina, pudiendo gotear entonces el agente humectante condensado sobre la torta de material. Esto puede afectar opticamente a la placa prensada o conducir a inconvenientes tecnicos del procedimiento.
A partir del documento DE 10 2010 049 777 A1 de la solicitante, que da a conocer la clausula precaracterizante de las reivindicaciones 1 y 13, se conoce, ademas, una instalacion de humectacion en la que mediante rodillos de aplicacion se aplica sobre la torta de material un agente humectante.
La aplicacion del agente humectante liquido mediante un rodillo de aplicacion esta ligada, sin embargo, en particular durante la aplicacion desde la cara inferior de la torta de material a una gran complejidad tecnica del dispositivo.
Por lo tanto, es mision de la presente invencion crear una instalacion de aplicacion de liquido del tipo mencionado al comienzo en la que, con una escasa complejidad tecnica del dispositivo pueda ser aplicado un liquido sobre una torta de material.
Ademas, se debe posibilitar una dosificacion muy precisa del liquido y garantizar una perdida lo mas baja posible de liquido. Otra mision de la presente invencion es crear un procedimiento que posibilite una aplicacion correspondiente del liquido.
La invencion se define por las caracteristicas de las reivindicaciones 1 y 13.
La instalacion de aplicacion de liquido para la aplicacion de liquido sobre una torta de material transportada sobre un dispositivo transportador presenta un primer dispositivo de aplicacion de liquido. El dispositivo transportador presenta un tramo poroso sobre el que se asienta la torta de material o en el que se apoya la torta de material y que es permeable para un liquido a aplicar.
El dispositivo de aplicacion de liquido comprende, ademas, un dispositivo de aplicacion a traves del cual se puede aplicar, preferiblemente pulverizar, el liquido a aplicar en estado liquido sobre la cara del tramo poroso del dispositivo transportador alejada de la torta de material. El dispositivo de aplicacion de liquido presenta, ademas, una camara de sobrepresion en la que reina una primera sobrepresion con respecto al entorno, siendo conducido el tramo poroso del dispositivo transportador junto a la camara de sobrepresion y siendo transportable el liquido aplicado por la primera sobrepresion a traves del tramo poroso del dispositivo transportador o siendo mantenido por la primera sobrepresion en el tramo poroso. En el caso de la instalacion de aplicacion de liquido esta previsto, por consiguiente, que el liquido sea aplicado primeramente sobre el tramo poroso del dispositivo transportador y sea presionado mediante la sobrepresion a traves de los poros formados en el tramo poroso y, por consiguiente, acceda a la torta de material o se impida un goteo del liquido. De este modo, se posibilita de manera ventajosa una aplicacion del liquido en estado liquido. En particular, se posibilita que el liquido sea aplicado tambien en contra de la fuerza de la gravedad sobre la cara inferior de la torta de material, pudiendo ser transportada la torta de material de manera ventajosa en virtud del dispositivo transportador.
La primera sobrepresion que reina en la camara de sobrepresion genera una corriente de aire que actua sobre el liquido o bien arrastra a este y, por consiguiente, lo transporta a traves del tramo poroso del dispositivo
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transportador. La sobrepresion puede estar, sin embargo, tambien dimensionada de modo que el liquido es mantenido primeramente solo en el tramo poroso del dispositivo transportador y en una subsiguiente etapa del proceso es transportado a traves de este tramo.
La primera sobrepresion se elige en este caso de manera que se supera la fuerza de la gravedad que actua sobre el liquido, una resistencia capilar que reina en los poros del tramo poroso asi como una resistencia de flujo, de modo que el liquido puede ser transportado a traves de los poros del tramo poroso y accede a la cara de la torta de material orientada hacia el dispositivo transportador. Ademas de ello, se mantiene baja la complejidad tecnica del dispositivo de la instalacion de aplicacion de liquido de acuerdo con la invencion.
El dispositivo de aplicacion de liquido conforme a la invencion posibilita de manera particularmente ventajosa la aplicacion del liquido. Ademas de ello, mediante el dispositivo de aplicacion se puede dosificar de manera ventajosa el liquido.
Como liquido puede estar previsto, por ejemplo, un agente humectante para la humectacion de la torta de material o tambien un aceite. Ademas, el liquido puede presentar una temperatura menor con respecto a la torta de material, con lo cual se enfria la torta de material. Con ello, se puede actuar, por ejemplo, en contra de un ligado prematuro de un aglutinante contenido en la torta de material.
Preferiblemente, esta previsto que el dispositivo de aplicacion este dispuesto en la camara de sobrepresion. Con ello, el dispositivo de aplicacion de liquido puede mantenerse de forma muy compacta y, ademas de ello, se consigue que el liquido aplicado sobre el tramo poroso del dispositivo transportador sea expuesto a la primera sobrepresion que reina en la camara de sobrepresion. Con ello se impide que durante el transporte ulterior el liquido sea desprendido del tramo poroso o pueda gotear.
La camara de sobrepresion puede presentar un orificio dirigido a hacia el tramo poroso, apoyandose el tramo poroso del dispositivo transportador de forma estanca en torno al orificio. Con ello, se consigue que la primera sobrepresion que reina en la camara de sobrepresion actue exclusivamente sobre el tramo poroso del dispositivo transportador y no pueda escapar lateralmente por la corriente de aire que se forma por la primera sobrepresion. Por consiguiente, la sobrepresion puede aprovecharse casi exclusivamente para el transporte del liquido a traves del tramo poroso.
En un ejemplo de realizacion de la invencion esta previsto que el dispositivo de aplicacion de liquido presente una camara de alta presion, con una segunda sobrepresion con respecto al entorno, estando dispuesta la camara de alta presion en la direccion de transporte de la torta de material por detras de la camara de sobrepresion. Por medio de la camara de alta presion con una segunda sobrepresion, que preferiblemente es mayor que la primera sobrepresion, se consigue que el liquido eventualmente adherido al tramo poroso del dispositivo transportador sea presionado a traves de los poros del tramo poroso hacia la torta de material o bien sea soplado por la corriente de aire que resulta en virtud de la segunda sobrepresion. Ademas de ello, la segunda sobrepresion se puede utilizar para presionar mas profundamente en la torta de material el liquido que se encuentra en la zona de borde de la torta de material. Con ello se consigue que en la zona de borde de la torta de material pueda ser recogida una mayor cantidad de liquido. A traves de la segunda sobrepresion en la camara de alta presion se puede conseguir, ademas de ello, que liquido que se encuentra en la cara orientada hacia la torta de material del tramo poroso del dispositivo transportador sea acelerado por la sobrepresion y, por consiguiente, pueda superarse un espacio hueco que se encuentre eventualmente entre la torta de material y el tramo poroso del dispositivo transportador, con lo cual se consigue que el liquido acceda en una cantidad suficientemente grande y de manera muy uniforme a todas las zonas de la superficie de la torta de material.
En este caso, puede estar previsto que la camara de alta presion posea una cubierta con varios orificios, apoyandose el tramo poroso del dispositivo transportador de forma estanca en la cubierta. Mediante la aplicacion estanca del tramo poroso en la cubierta se impide que una corriente de aire que se forme por la sobrepresion pueda escapar lateralmente junto al tramo poroso. Ademas de ello, mediante la provision de los varios orificios en la cubierta se consigue que la sobrepresion actue solo en algunos puntos sobre el tramo poroso o la torta de material, de modo que se impida un levantamiento del dispositivo transportador de la torta de material determinado por la segunda sobrepresion o del tramo poroso del dispositivo transportador de la cubierta de la camara de alta presion. En este caso, puede estar previsto que los orificios esten distribuidos por encima de las cubiertas en un modelo predeterminado. Por ejemplo, los orificios pueden estar dispuestos en un modelo en zigzag.
La instalacion de aplicacion de liquido conforme a la invencion puede presentar una instalacion de limpieza para la limpieza del dispositivo transportador y/o de la camara de sobrepresion. Mediante la instalacion de limpieza se posibilita que la cinta se limpie de componentes de la torta de material o restos del liquido, de modo que se garantiza que los poros del tramo poroso del dispositivo transportador esten lo suficientemente abiertos.
La instalacion de limpieza puede presentar, por ejemplo, boquillas de limpieza para el soplado de aire o de un fluido de limpieza, en particular un liquido de limpieza, a traves de las cuales puedan ser soplados o bien barridos los restos de liquido o restos de la torta de material de los poros del tramo poroso del dispositivo transportador.
En un ejemplo de realizacion particularmente preferido de la invencion esta previsto que el dispositivo transportador este configurado como cinta transportadora porosa que forma el tramo poroso. Con otras palabras: todo el
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dispositivo transportador esta configurado de forma porosa. Naturalmente, tambien es posible que solo un tramo del dispositivo transportador este configurado de forma porosa y forme el tramo poroso. Por ejemplo, un rodillo con superficie porosa que forma una parte del dispositivo transportador puede formar el tramo poroso. En este caso, el dispositivo de aplicacion de agente humectante estaria dispuesto dentro del rodillo.
La cinta transportadora porosa puede presentar una estructura textil o de rejilla.
En un ejemplo de realizacion preferido de la invencion esta previsto que el tramo poroso presente una anchura de poros entre 0,02 mm y 2 mm. Preferiblemente, la anchura de poros oscila entre 0,1 y 0,3 mm, de manera particularmente preferida de 0,2 mm. Una anchura de poros de este tipo se ha manifestado como particularmente ventajosa. En particular, mediante una anchura de poros de este tipo se garantiza que el liquido a aplicar pueda ser presionado a traves de los poros mediante una sobrepresion en la camara de sobrepresion.
La invencion puede prever ademas, de manera ventajosa, que el tramo poroso presente una superficie cuya porcion formada por el material del dispositivo transportador oscile entre 50% y 95%, preferiblemente entre 60% y 80%. Con otras palabras: en el tramo poroso los poros ocupan entre 5% y 50%, preferiblemente entre 20% y 40% de la superficie. Una configuracion de este tipo del tramo poroso se ha manifestado como particularmente ventajosa, garantizandose de manera ventajosa la permeabilidad del tramo poroso para el liquido a aplicar.
En un ejemplo de realizacion de la invencion esta previsto que un rodillo, que presiona una torta de material contra el dispositivo transportador, del dispositivo de aplicacion de liquido este dispuesto directamente enfrentado o en la direccion de transporte de la torta de material inmediatamente delante del dispositivo de aplicacion de liquido. Alternativamente, en lugar del rodillo tambien puede estar prevista una cinta de prensado que presiona la torta de material contra el dispositivo transportador. La cinta de prensado puede estar dispuesta asimismo enfrentada directamente al dispositivo de aplicacion de liquido o inmediatamente delante del dispositivo de aplicacion de liquido. Tambien es posible que la cinta de prensado recubra al dispositivo de aplicacion de liquido. Mediante la prevision de un rodillo o de una cinta de prensado que prensa a la torta de material contra el dispositivo transportador se consigue que la torta de material sea comprimida antes o durante la aplicacion del liquido, distendiendose la torta de material detras del rodillo o de la cinta de prensado. Con ello se genera un “efecto de esponja”, de modo que el liquido que se encuentra en la superficie de la torta de material es retenido a traves del efecto de succion y es transportado en direccion al interior de la torta de material.
La cinta de prensado puede ser tambien parte de un segundo dispositivo de aplicacion de liquido que esta configurado de forma identica o esencialmente igual al primer dispositivo de aplicacion de agente humectante. Una instalacion de aplicacion de liquido se este tipo se puede emplear ventajosamente, en particular, en la fabricacion de tableros de virutas con una compactacion previa. La cinta de prensado esta configurada en este caso como cinta porosa.
La invencion preve, ademas, un procedimiento para la aplicacion de liquidos sobre una torta de material en el que se llevan a cabo las siguientes etapas:
- aplicacion de un liquido a aplicar sobre un tramo poroso de un dispositivo transportador que transporta una torta de material;
- solicitacion del tramo poroso con una primera sobrepresion, transportando la primera sobrepresion el liquido a traves del tramo poroso o manteniendole junto a este.
En este caso, puede estar previsto que el tramo poroso sea solicitado a continuacion con una segunda sobrepresion, siendo la segunda sobrepresion mayor que la primera sobrepresion.
Puede estar previsto que la primera y/o la segunda sobrepresion sea regulable.
En un ejemplo de realizacion del procedimiento de acuerdo con la invencion esta previsto que la primera sobrepresion ascienda como maximo a 0,3 bares, preferiblemente como maximo a 0,01 bares y/o que la segunda sobrepresion ascienda como maximo a 5 bares.
En el caso de la fabricacion de placas de material se utilizan prensas que comprimen fuertemente y calientan a la torta de material. En la entrada de la torta de material en la prensa se forma en la superficie una vaporizacion mediante el elevado contenido en humedad provocado por el liquido aplicado, de modo que tiene lugar un golpe de vapor a traves de la torta de material. Con ello es posible una penetracion de calor particularmente buena en la torta de material. Durante la formacion del golpe de vapor pueden formarse tambien grupos OH libres que pueden ser ventajosos en la activacion de un agente aglutinante. Mediante la buena penetracion de calor en la torta de material en virtud del golpe de vapor se acelera, ademas, la consolidacion del agente aglutinante, en particular en el interior de la torta de material. La humedad en la superficie provocada por el liquido aplicado determina, ademas, una lisura mejorada de la superficie de la placa prensada acabada, con lo cual la magnitud de abrasion para el tratamiento ulterior es menor. Ademas, una lisura mejorada de la superficie determina que sean menores los poros en la superficie de la placa, de modo que resulta un efecto de bloqueo con respecto a barnices que se manifiestan posteriormente. Los barnices aplicados posteriormente no penetran, por lo tanto, de manera demasiado profunda en
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la placa, de modo que el consumo de barniz es esencialmente menor. Por lo tanto, es de particular importancia una dosificacion precisa de la cantidad de agente humectante transferida a la torta de material durante la fabricacion de placas de material. Mediante la instalacion de aplicacion de liquido conforme a la invencion y el procedimiento conforme a la invencion para la aplicacion de liquido sobre una torta de material es posible de manera particularmente ventajosa una dosificacion precisa. La instalacion de aplicacion de liquido conforme a la invencion y el procedimiento conforme a la invencion posibilitan, en particular, una aplicacion ventajosa del liquido desde la cara inferior de la torta de material. Por lo tanto, el uso de la instalacion de aplicacion de liquido conforme a la invencion y el procedimiento conforme a la invencion en union con prensas para la produccion de placas de material es particularmente ventajoso, dado que mediante la instalacion de aplicacion de liquido conforme a la invencion y del procedimiento conforme a la invencion se pueden producir superficies de una calidad particular.
Por “tramo poroso” se entiende un tramo que presenta poros y, por consiguiente, esta provisto de pequenos agujeros pasantes. Los poros pueden estar configurados, por ejemplo, en el caso de una estructura textil o de rejilla tambien por los agujeros formados entre fibras. Por la expresion “permeable para el liquido a aplicar” se entiende que el tramo poroso es permeable para el liquido a aplicar debido a la porosidad, es decir, que el liquido a aplicar puede penetrar a traves de este tramo, en particular, tambien mediante una influencia desde el exterior tal como, por ejemplo, la primera sobrepresion.
En lo que sigue se explica con mayor detalle la invencion haciendo referencia a las siguientes figuras.
Muestran:
La Figura 1, una representacion en corte esquematica de una instalacion para la aplicacion de liquido conforme a la invencion, y
la Figura 2, una representacion en detalle de la cubierta de la camara de alta presion.
En la Fig. 1 se representa esquematicamente un corte a traves de una instalacion de aplicacion de liquido 1 conforme a la invencion.
En la Fig. 1 se representa esquematicamente, en una representacion en corte, una instalacion de aplicacion de liquido 1 conforme a la invencion para la aplicacion de liquido sobre una torta de material 100. La instalacion de aplicacion de liquido presenta un dispositivo transportador 3 que en el ejemplo de realizacion mostrado esta configurado como cinta transportadora 5 porosa. La torta de material 100 se encuentra sobre la cinta transportadora 5 porosa y es transportada en la direccion de transporte que se indica en la Fig. 1 por una flecha.
La instalacion de aplicacion de liquido 1 presenta un dispositivo de aplicacion de liquido 7 a traves del cual se puede aplicar un liquido a aplicar en forma liquida sobre la torta de material 100.
La cinta transportadora 5 porosa del dispositivo transportador 3 forma por encima del dispositivo de aplicacion de liquido 7 un tramo 9 poroso, en donde la cinta transportadora 5 porosa es permeable, al menos en el tramo 9 poroso, para el liquido.
El dispositivo de aplicacion de liquido 7 presenta un dispositivo de aplicacion 11, que en el ejemplo de realizacion mostrado esta configurado como boquilla de pulverizacion. Mediante el dispositivo de aplicacion 11, el liquido es pulverizado en forma liquida sobre la cara alejada de la torta de material 100 del tramo 9 poroso de la cinta transportadora 5.
El dispositivo de aplicacion de liquido 7 presenta, ademas, una camara de sobrepresion 13 en la que reina una primera sobrepresion con respecto al entorno. La sobrepresion puede encontrarse, por ejemplo, en 0,003 bares. La camara de sobrepresion 13 presenta un orificio 15 orientado hacia el tramo 9 poroso de la cinta transportadora 5, apoyandose el tramo 9 poroso de la cinta transportadora 5 de forma estanca en torno al orificio 15. La sobrepresion que reina en la camara de sobrepresion 13 actua, por consiguiente, contra la cara del tramo 9 poroso alejada de la torta de material 100. Con ello, resulta un flujo de aire, con el cual es transportado el liquido pulverizado sobre esta cara mediante los poros del tramo 9 poroso. La sobrepresion supera, por consiguiente, la resistencia capilar que reina en los poros del tramo 9 poroso, la fuerza de la gravedad que actua sobre el liquido, asi como la resistencia de flujo, de modo que el liquido accede a la torta de material 100. Con ello, el liquido puede ser aplicado de manera ventajosa sobre la torta de material 100, en particular en la cara inferior de la torta de material.
En el ejemplo de realizacion representado en la Fig. 1, el dispositivo de aplicacion 11 esta dispuesto dentro de la camara de sobrepresion 13. Naturalmente, tambien es posible que este dispositivo este dispuesto en la direccion de transporte delante de la camara de sobrepresion 13 y, por consiguiente, por fuera de la camara de sobrepresion 13.
El dispositivo de aplicacion 11 puede estar configurado de manera basculable. Ademas, en la camara de sobrepresion 13 puede estar dispuesta una instalacion de limpieza 17 que esta unicamente esbozada en la Fig. 1. La instalacion de limpieza 17 se compone de boquillas de limpieza 19 basculables para el soplado de aire o de un fluido de limpieza. En el caso del mantenimiento, mediante las boquillas de limpieza 19 el tramo 9 poroso de la cinta
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transportadora 5 puede ser limpiado de restos de material de la torta de material y de restos de liquido. Ademas de ello, la camara de sobrepresion 13 puede ser limpiada de restos de liquido mediante las boquillas de limpieza 19.
La camara de sobrepresion 13 puede presentar, ademas, un dispositivo de descarga 21, a traves del cual pueden fluir restos de liquido y/o de fluido de limpieza durante el funcionamiento o durante el mantenimiento. En el caso del aprovechamiento del dispositivo de evacuacion 21 en funcionamiento, en este debe reinar una contrapresion, con el fin de impedir que la sobrepresion constituida en la camara de sobrepresion 13 se vea afectada por el dispositivo de evacuacion 21.
En la direccion de transporte detras de la primera camara de sobrepresion 13, el dispositivo para la aplicacion de liquido 7 presenta, ademas, una camara de alta presion 23 en la que reina una segunda sobrepresion con respecto al entorno. Preferiblemente, la segunda sobrepresion en la camara de alta presion 23 es mayor que la primera sobrepresion en la camara de sobrepresion 13. Preferiblemente, la segunda sobrepresion oscila entre 0,2 bares y 5 bares. El tramo 9 poroso de la cinta transportadora 5 se apoya de modo estanco sobre una cubierta 25 de la camara de sobrepresion 23. La cubierta 25 posee varios orificios 27 los cuales, como mejor se ve de la Fig. 2, en la que se muestra esquematicamente una vista en planta sobre la cubierta 25, estan dispuestos formando un patron. En el ejemplo de realizacion representado en la Fig. 2, los orificios 27 estan dispuestos en un patron en zigzag. La disposicion de los orificios 27, asi como el tamano de los orificios 27 se eligen en este caso de manera que se impida un levantamiento de la torta de material 100 del tramo 9 poroso o bien un levantamiento de la cinta transportadora 5 de la cubierta 25 en virtud de la corriente de aire que se forma por la segunda sobrepresion.
La segunda sobrepresion que reina en la camara de alta presion 23 determina que eventualmente junto a o en el tramo 9 poroso de la cinta transportadora 5 sea comprimido todavia liquido adherido a traves de los poros del tramo poroso hacia la torta de material. Ademas de ello, la corriente de aire generada por la segunda sobrepresion determina que se superen espacios huecos eventualmente presentes entre la torta de material 100 y el tramo 9 poroso de la cinta transportadora 5, de modo que el liquido se adhiera a la torta de material 100. Tambien, mediante la segunda sobrepresion se puede conseguir que liquido de la zona de borde de la torta de material 100 sea presionado, en caso necesario, con mayor profundidad en la torta de material.
Las sobrepresiones que reinan en la camara de sobrepresion 13 y la camara de alta presion 23 pueden ser reguladas a traves de dispositivos reguladores no representados. Con ello, se puede ajustar que cantidades son presionadas por el liquido a traves del tramo 9 poroso y si el liquido debe ser transportado adicionalmente en el interior de torta de material 100.
Enfrentado al dispositivo para la aplicacion de liquido 7 puede estar dispuesto un rodillo, no representado, o una cinta de prensado, no representada. Mediante este o esta, se comprime la torta de material 100 al ser la distancia entre el tramo 9 poroso y el rodillo, no representado, o de la cinta de prensado, no representada, menor que la altura normal de la torta de material 100. En la direccion de transporte por detras del rodillo o bien por detras de la cinta de prensado, la torta de material 100 se puede relajar de nuevo, con lo cual se forma una depresion en el interior de la torta de material, y mediante este “efecto de esponja” el liquido es mantenido de manera ventajosa en la torta de material 100 o bien es transportado al interior de la torta de material 100.
La anchura de los poros del tramo 9 poroso puede oscilar, por ejemplo, entre 0,05 mm y 2 mm. La cinta transportadora 5 porosa puede estar configurada, por ejemplo, como un material textil o puede componerse de una estructura de rejilla. En este caso, el tramo 9 poroso puede presentar una superficie en donde la porcion formada por el material de la cinta transportadora oscila entre 50% y 95%.
La instalacion de aplicacion de liquido 1 conforme a la invencion tiene la ventaja de que, por ejemplo, un agente humectante puede ser aplicado de manera particularmente ventajosa en forma liquida sobre una torta de material 100. Con ello, es posible una dosificacion muy precisa del agente humectante. La instalacion para la aplicacion de liquido 1 conforme a la invencion puede emplearse, en particular, en prensas para la produccion de placas de material.
La instalacion de aplicacion de liquido 1 puede presentar, ademas, un segundo dispositivo de aplicacion de liquido que esta dispuesto de forma similar o identica con respecto al dispositivo de aplicacion de liquido 7 junto a la cara superior de la torta de material 100. Naturalmente, la instalacion de aplicacion de liquido 1 puede presentar tambien un segundo dispositivo de aplicacion de liquido que aplica liquidos de otra manera, por ejemplo a traves de rodillos, sobre la torta de material 100.

Claims (14)

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    REIVINDICACIONES
    1. Instalacion de aplicacion de liquido (1) para la aplicacion de liquido sobre una torta de material (100) transportada sobre un dispositivo transportador (3) con un dispositivo de aplicacion de liquido (7), caracterizada por que el dispositivo transportador (3) presenta un tramo (9) poroso sobre el que se apoya la torta de material (100) o en la que se apoya la torta de material (100) y que es permeable para un liquido a aplicar, por que la instalacion de aplicacion de liquido (7) presenta un dispositivo de aplicacion (11) a traves del cual se puede aplicar el liquido a aplicar sobre la cara del tramo (9) poroso del dispositivo transportador (3) alejada de la torta de material (100) y por que la instalacion de aplicacion de liquido (7) presenta una camara de sobrepresion (13) con una primera sobrepresion con respecto al entorno, junto a la cual es conducido el tramo (9) poroso del dispositivo transportador (3), siendo transportable el liquido aplicado a la primera sobrepresion a traves del tramo (9) poroso del dispositivo transportador (3) o siendo retenido en el tramo (9) poroso a traves de la primera sobrepresion.
  2. 2. Instalacion de aplicacion de liquido (1) segun la reivindicacion 1, caracterizada por que el dispositivo de aplicacion (11) esta dispuesto en la camara de sobrepresion (13).
  3. 3. Instalacion de aplicacion de liquido (1) segun la reivindicacion 1 o 2, caracterizada por que la camara de sobrepresion (13) presenta un orificio (15) dirigido hacia el tramo (9) poroso, apoyandose el tramo (9) poroso del dispositivo transportador (3) de forma estanca en torno al orificio (15).
  4. 4. Instalacion de aplicacion de liquido (1) segun una de las reivindicaciones 1 a 3, caracterizada por que el dispositivo de aplicacion liquido (7) presenta una camara de alta presion (23) con una segunda sobrepresion con respecto al entorno, estando dispuesta la camara de alta presion (13) en la direccion de transporte de la torta de material (100) detras de la camara de sobrepresion (13).
  5. 5. Instalacion de aplicacion de liquido (1) segun la reivindicacion 4, caracterizada por que la camara de alta presion (23) presenta una cubierta (25) con varios orificios (27), apoyandose el tramo (9) poroso del dispositivo transportador (3) de forma estanca en la cubierta (25).
  6. 6. Instalacion de aplicacion de liquido (1) segun una de las reivindicaciones 1 a 5, caracterizada por una instalacion de limpieza (17) para la limpieza del dispositivo transportador (3) y/o de la camara de sobrepresion (13).
  7. 7. Instalacion de aplicacion de liquido (1) segun la reivindicacion 6, caracterizada por que la instalacion de limpieza (17) presenta boquillas de limpieza (19) para el soplado de aire o de un fluido de limpieza.
    8 Instalacion de aplicacion de liquido (1) segun una de las reivindicaciones 1 a 7, caracterizada por que el dispositivo transportador (3) esta configurado como cinta transportadora (5) porosa que forma el tramo (9) poroso.
  8. 9. Instalacion de aplicacion de liquido (1) segun una de las reivindicaciones 1 a 8, caracterizada por que el tramo (9) poroso presenta una anchura de poros entre 0,05 mm y 2 mm.
  9. 10. Instalacion de aplicacion de liquido (1) segun una de las reivindicaciones 1 a 9, caracterizada por que el tramo (9) poroso presenta una superficie, cuya porcion formada por material del dispositivo transportador (3) oscila entre 50% y 95%.
  10. 11. Instalacion de aplicacion de liquido (1) segun una de las reivindicaciones 1 a 10, caracterizada por un rodillo que presiona a la torta de material (100) contra el dispositivo transportador (3), encontrandose el rodillo del dispositivo de aplicacion de liquido (7) directamente enfrentado o estando dispuesto en la direccion de transporte de la torta de material (100) inmediatamente delante del dispositivo de aplicacion (7).
  11. 12. Instalacion de aplicacion de liquido (1) segun una de las reivindicaciones 1 a 10, caracterizada por una cinta de prensado que presiona la torta de material (100) contra el dispositivo transportador (3), estando la cinta de prensado del dispositivo de aplicacion de liquido (7) directamente enfrentada, estando dispuesta en la direccion de transporte de la torta de material (100) inmediatamente delante del dispositivo de aplicacion de liquido (7) o cubriendo el dispositivo de aplicacion de liquido (7).
  12. 13. Procedimiento para la aplicacion de liquido sobre una torta de material (100), caracterizado por las siguientes etapas:
    - aplicacion de un liquido a aplicar sobre un tramo (9) poroso de un dispositivo transportador (3) que transporta la torta de material (100);
    - solicitacion del tramo (9) poroso con una primera sobrepresion, en donde la primera sobrepresion transporta el liquido a traves del tramo (9) poroso o retiene al liquido en el tramo (9) poroso.
  13. 14. Procedimiento segun la reivindicacion 13, caracterizado por la etapa:
    - subsiguiente solicitacion del tramo (9) poroso con una segunda sobrepresion, siendo la segunda sobrepresion mayor que la primera sobrepresion.
  14. 15. Procedimiento segun la reivindicacion 13 o 14, caracterizado por que la primera y/o la segunda sobrepresion son regulables, ascendiendo preferiblemente la primera sobrepresion como maximo a 0,3 bares y/o la segunda sobrepresion como maximo a 5 bares.
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