ES2316795T3 - Superficies oftalmicas generadas a medida de un frente de ondas. - Google Patents
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Abstract
Un método para determinar un parámetro de superficie de la superficie anterior de una lente seca de contacto de corrección a medida, diseñada para operar a 555 nm que comprende: a) ajustar una lente de prueba sobre el ojo del paciente; b) realizar una medición del frente de ondas a través de una región de la zona óptica central de la lente de prueba, y en una localización del plano de medición seleccionada usando una longitud de onda de medición conocida; c) determinar la magnitud y dirección de rotación de la lente de prueba sobre el ojo del paciente; d) corregir la medición de la aberración del frente de ondas si es necesario para compensar la pérdida de alineación inducida por el dispositivo de medición en la medición; caracterizado porque el método además comprende las etapas de: e) determinar la corrección refractiva de desenfoque en base a la medición de la aberración; f) determinar la aberración cromática para la corrección de enfoque; g) determinar una corrección del desplazamiento de potencia para tener en cuenta las diferencias entre una localización de la superficie de corrección de dicha superficie de corrección oftálmica y la localización del plano de medición; h) convertir la medición de la aberración de una deformación del frente de ondas a una deformación de la superficie de la lente húmeda; y i) modificar el parámetro de deformación de la lente húmeda para obtener los parámetros de deformación de la lente seca correspondiente, de modo que dicho parámetro de superficie de la superficie anterior de la lente de contacto seca de corrección a medida se determina a partir de dicha medición de aberración del frente de ondas del ojo.
Description
Superficies oftálmicas generadas a medida de un
frente de ondas.
\global\parskip0.900000\baselineskip
La presente invención se dirige en general al
campo de la corrección oftálmica de la visión, y más específicamente
a superficies oftálmicas generadas a medida de un frente de
ondas.
Un medidor de aberraciones oculares, tal como el
analizador de frentes de ondas Zywave® (Bausch & Lomb
Incorporated, Rochester, Nueva York) mide la aberración del frente
de ondas existente en el ojo de un paciente en el plano de entrada
de la pupila del ojo. Esto se realiza inyectando un haz estrecho de
un láser de energía infrarroja dentro del ojo de un paciente a lo
largo del eje visual del paciente. La longitud de onda del haz de
medición del Zywave es de 780 nm. La energía láser refleja de forma
difusa la fóvea del paciente y pasa de vuelta a través del ojo
cubriendo completamente la pupila física del paciente. Las
componentes ópticas del medidor de aberración retransmiten la
imagen de la pupila física, que es por definición la entrada de la
pupila, sobre un sensor del frente de ondas
Hartmann-Shack (HSWFS). El HSWFS muestrea el frente
de ondas a intervalos conocidos y un ordenador calcula una
descripción matemática completa de la aberración del frente de ondas
existente del paciente. En el caso del Zywave, la descripción
matemática de las aberraciones del frente de ondas es en la forma
de polinomios Zernike por notación de Born & Wolfs (Born &
Wolfs, Principles of Optics, sexta edición, Prensa de la
Universidad de Cambridge (1980)). Esta aberración del frente de
ondas puede usarse para diseñar una solución de corrección a medida
para el paciente, que puede llevarse a cabo mediante una lente de
contacto, unas gafas, una IOL, una lente incrustada, o cirugía
refractiva láser.
Un método de acuerdo con el preámbulo de la
reivindicación 1 y un aparato de acuerdo con el preámbulo de la
reivindicación 11 se conocen a partir del documento WO 02/22004.
La invención se dirige a un método, un medio que
se puede leer por un dispositivo y un aparato para la determinación
de los parámetros de la superficie anterior o posterior de una
superficie de corrección oftálmica (por ejemplo, las lentes de
contacto a medida "CCL"; IOL a medida) a partir de la medición
de la aberración del frente de ondas de un ojo. La invención se
define en las reivindicaciones independientes.
Los dibujos adjuntos, que se incorporan al
documento y constituyen una parte de esta memoria descriptiva,
ilustran las realizaciones de la presente invención y junto con la
descripción, sirven para explicar los objetos, ventajas y
principios de la invención, en los dibujos,
la Figura 1 es un diagrama de flujo de un
proceso de acuerdo con un método que no es parte de la
invención;
la Figura 2 es un diagrama de flujo de un
proceso de acuerdo con la invención;
la Figura 3 es una copia de una imagen de
medición de un ojo de un sensor de frente de ondas que ilustra el
centrado de la medición del frente de ondas sobre la zona óptica
(OZ) de una lente; y
la Figura 4 es un croquis de una configuración
hardware de la invención.
La siguiente descripción detallada se muestra en
términos de los datos obtenidos por un analizador de frente de
ondas Zywave (Bausch & Lomb Incorporated, Rochester, NY), sin
embargo, se debe apreciar que la invención no está limitada a este
modo, cualquier representación matemática precisa de una aberración
de un frente de ondas sería adecuada para poner en práctica la
invención. El Zywave incorpora un sensor de frente de ondas
Hartmann-Shack (HSWFS) para medir la aberración del
frente de ondas existente en el ojo de un paciente en el plano de
entrada de la pupila del ojo. La fuente de iluminación de la retina
en el Zywave es un diodo láser que emite una luz que tiene una
longitud de onda de 780 nm. La energía láser se refleja de forma
difusa desde la fóvea del paciente y pasa de vuelta a través del
ojo y dentro del HSWFS. El HSWFS muestrea el frente de ondas a
intervalos conocidos y un ordenador calcula una descripción
matemática de la aberración del frente de ondas como un conjunto de
18 coeficientes Zernike (de T_{3} hasta T_{20}) medidos en
micras. Otros datos suministrados por el Zywave incluyen el radio
de normalización (R_{N}) medido en milímetros, la identificación
del ojo del paciente (izquierdo o derecho), la potencia de la esfera
equivalente (S_{E}), y cuando sea aplicable, el ángulo de
rotación (\delta) medido en grados de una lente de prueba portada
por un paciente durante la medición. La potencia de la esfera
equivalente se define por la ecuación
S_{E} =
[R_{N}^{2} + (2*raizcuadrada(3)*T_{3})^{2}] +
(2*2*raizcuadrada(3)*T_{3}),
donde T3 representa el cuarto
término Zernike en la notación de Born &
Wolf.
\global\parskip1.000000\baselineskip
La Figura 1 muestra las etapas del flujo del
proceso de un algoritmo 100 para determinar un parámetro de
superficie de una superficie de corrección oftálmica a medida a
partir de una medición de la aberración del frente de ondas en un
ojo. En la etapa 110, la medición de la aberración del frente de
ondas de un ojo de un paciente se obtiene en una localización del
plano de medición conocida y una longitud de onda de medición
conocida. La localización del plano de medición preferida es el de
entrada de la pupila del ojo del paciente, y la longitud de onda de
medición preferida es de 780 nm de modo que afecta mínimamente la
fijación del paciente y el tamaño de la pupila. Como se ha
mencionado anteriormente, el Zywave calcula la aberración del frente
de ondas en la forma de los polinomios Zernike de Born & Wolf.
En una realización preferida los polinomios Zernike se representan
por la notación de "Fringe" o de la Universidad de Arizona
(véase la Guía de Usuario de Zemax, Versión 10.0, páginas 124
-126). Dos diferencias entre la notación de Arizona y la notación de
Born & Bolf son que los términos del polinomio se ordenan de
forma diferente y que la notación B&W usa términos de
normalización escalar en lugar de términos de un polinomio. A
continuación se muestran los primeros 11 términos de cada
notación.
En la etapa 120, se corrige la pérdida de
alineamiento de la imagen. La aberración del frente de ondas a la
entrada de la pupila del paciente se gira 180º antes de que alcance
el HSWFS. De este modo los coeficientes Zernike deben modificarse
para tener en cuenta esta rotación. Esto se hace multiplicando todos
los coeficientes que dependen de un número impar de \theta por -
1. Los coeficientes que no dependen de \theta o dependen de un
número para de \theta no se modifican.
En la etapa 130, la potencia de la esfera
equivalente, S_{E}, se calcula mediante
S_{N} =
[R_{N}^{2} + (2*raizcuadrada(3)*T_{3})^{2}] +
(2*2*raizcuadrada(3)*T_{3}),
donde T3 representa el cuarto
término Zernike en la notación de Born & Wolf. Sin embargo, la
longitud de onda de la medición 780 mm enfoca más profundamente
dentro del ojo que la luz de 555 nm, que es el centro de la región
de las longitudes de onda para la visión humana normal. De este modo
el Zywave mide erróneamente la corrección necesaria de un paciente
en +0,45 D de diferencia con su corrección necesaria real. Esta
corrección se realiza en la etapa 140. El ajuste de potencia
correcto se representa como B = S_{E} - 0,45. El desenfoque se
define principalmente por el cuarto término Zernike T_{3}, por lo
tanto T3 debe modificarse para tener en cuanta esta aberración
cromática conocida. Si se han recogido los datos biométricos
oculares, entonces el desplazamiento de desenfoque de 0,45 D para
convertir de 780 nm a 555 nm podría optimizarse para pacientes
individuales sobre la base de caso por caso. La biometría ocular
incluye la topografía corneal o queratometría, la longitud axial
del ojo, y opcionalmente el grosor de la lente del cristalino. A
partir de estas mediciones, puede realizarse un cálculo más preciso
de la aberración cromática
longitudinal.
En la etapa 150, el algoritmo tiene en cuenta el
desplazamiento de potencia debido a la medición teniendo en cuanta
la entrada de la pupila del paciente pero la corrección se hace en
la superficie de corrección oftálmica, tal como la superficie
corneal modificada, una superficie de la lente de contacto a medida,
una superficie de la IOL a medida, una superficie de la lente
incrustada a medida, o una superficie de las gafas.
En un aspecto preferido de la realización
descrita anteriormente, el método se dirige a determinar un
parámetro de la superficie anterior de una CCL de forma seca
diseñada para funcionar a 555 nm, a partir de la medición de la
aberración del frente de ondas de un ojo. El método 200 se muestra
en la Fig. 2. Las etapas del proceso 110 hasta 150 permanecen sin
cambios pero la corrección se hace en la superficie anterior de la
lente de contacto. El perfil de combado 3-D de la
superficie anterior de una lente seca de contacto de corrección a
medida se describe por la ecuación:
Combado 3 - D
= (r^{2}/R_{d})/(1 +
raizcuadrada(1-r^{2}/R_{d}^{2})) + \sum
(Z_{i}P_{i})
donde r es la coordenada radial,
R_{d} es el radio seco de la superficie anterior, Zi es el
conjunto de coeficientes Zernike, Pi es el conjunto de polinomios
Zernike, y i \in [4, 27]. Los coeficientes y los polinomios
Zernike están en la notación de Fringe o de la Universidad de
Arizona.
La entrada de la pupila de un ojo humano típico
está localizada a 3,1 mm desde la superficie anterior de la córnea
dentro del ojo. Una lente de contacto típica a medida tiene un
grosor central de 0,16 mm. De este modo, la corrección se localiza
a una distancia de 3,26 mm desde la entrada de la pupila, y esta
distancia produce un ligero desplazamiento de la potencia entre el
error de potencia medido y la potencia de corrección. Este
desplazamiento se explica por la siguiente ecuación, donde B es la
potencia medida y C es la potencia de corrección localizada a 3,26
mm de distancia desde el plano de medición.
C = B -
0,00326*B^{2}
En la etapa 160, los coeficientes Zernike se
convierten desde las deformaciones del frente de ondas en las
deformaciones de la superficie de la lente húmeda. Todos los
coeficientes se dividen por (n-1), donde n es el
índice de refracción del material de la lente de contacto húmeda a
555 nm.
En la etapa 170, el algoritmo modifica los
parámetros de la superficie para invertir matemáticamente la
expansión inducida por la hidratación que van desde los parámetros
de la lente húmeda a los parámetros de la lente seca. Todos los
coeficientes se dividen por un factor de expansión de combado
(exp_combado) obtenido empíricamente para el material de la lente.
El radio de normalización se divide por el factor de expansión del
diámetro (exp_diámetro) obtenido empíricamente. Ambos factores
varían típicamente entre aproximadamente el 4% y el 35% dependiendo
del material de la lente.
Un resumen de los Coeficientes Zernike
Modificados y el Radio de Normalización se presenta como sigue:
N_{R}' = N_{R}/exp_diámetro
Z4 = T3'*raizcuadrada(3)/(n -
1)/1000/exp_combado
Z5 =
T5*raizcuadrada(6)/(n-1)/1000/exp_combado
Z6 = T4*raizcuadrada(6)(n -
1)/1000/exp_combado
Z7 =
T7*(-1)*raizcuadrada(8)/(n-1)/1000/exp_combado
Z8 =
T6*(-1)*raizcuadrada(8)/(n-1)/1000/exp_combado
Z9 =
T10*raizcuadrada(5)/(n-1)/1000/exp_combado
Z10 =
T9*(-1)*raizcuadrada(8)/(n-1)/1000/exp_combado
Z11 =
T8*(-1)*raizcuadrada(8)/(n-1)/1000/exp_combado
Z12 =
T11*raizcuadrada(10)/(n-1)/1000/exp_combado
Z13 =
T12*raizcuadrada(10)/(n-1)/1000/exp_combado
Z14 =
T15*(-1)*raizcuadrada(12)/(n-1)/1000/exp_combado
Z15 =
T16*(-1)*raizcuadrada(12)/(n-1)/1000/exp_combado
Z16 = (No usado actualmente)
Z17 =
T13*raizcuadrada(10)/(n-1)/1000/exp_combado
Z18 =
T14*raizcuadrada(10)/(n-1)/1000/exp_combado
Z19 =
T17*(-1)*raizcuadrada(12)/(n-1)/1000/exp_combado
Z20 =
T18*(-1)*raizcuadrada(12)/(n-1)/1000/exp_combado
Z21 =
T23*raizcuadrada(14)/(n-1)/1000/exp_combado
Z22 =
T22*raizcuadrada(14)/(n-1)/1000/exp_combado
Z23 = (No usado actualmente)
Z24 = (No usado actualmente)
Z25 = (No usado actualmente)
Z26 =
T19*(-1)*raizcuadrada(12)/(n-1)/1000/exp_combado
Z27 =
T20*(-1)*raizcuadrada(12)/(n-1)/1000/exp_combado
\vskip1.000000\baselineskip
En un aspecto de ejemplo de la realización
preferida, el paciente se ajusta con una lente de prueba esférica
con lastre en prisma o en la periferia de una geometría conocida. La
potencia de la lente de prueba puede ser plana o puede igualar la
refracción esférica equivalente del paciente. Esta última es la más
preferida. La lente de prueba estará hecha preferiblemente del
mismo material que la CCL. La curva base de la lente de prueba,
posiblemente elegida para incluir una pluralidad de curvas base, se
calibrará para las necesidades del paciente, de forma similar a la
CCL. La aberración del frente de ondas se mide mientras que el
paciente lleva la lente de prueba. La medición está centrada sobre
el centro de la OZ de la lente de prueba, que es donde se centrarán
las modificaciones de la lente a medida. Esta etapa se representa en
105 en la Figura 2. La medición de este modo tiene en cuenta
efectos tales como, por ejemplo la inclinación y el descentramiento
de la lente, la deformación de la lente cuando se adhiere a la
córnea, el efecto de la película lacrimal, la rotación de la lente,
etc. A menudo es difícil ver la OZ sobre un lente cuando el paciente
la está llevando, lo mismo que cuando se está viendo la lente con
la cámara del medidor de aberración. Además, en las lentes con
lastre en prisma, la OZ está descentrada con respecto al centro
geométrico de la lente. De este modo es preferible marcar la OZ de
forma que será visible cuando se ve a través del sensor del frente
de onda. En un aspecto preferido, la lente de prueba ilustrada en
la Fig. 3 tiene un índice con una marca de torno 304 en la forma de
un anillo que tiene un diámetro interior seco de 7,3 mm, que está
centrado sobre la OZ de la lente. El anillo se hizo con una
herramienta de corte con un radio de punta de 1 mm. Otras
dimensiones del anillo o marcas de índice hechas por cortes del
torno, inscripción láser, u otros medios conocidos en la técnica
también pueden proporcionar marcas de centrado adecuadas. Las
retículas móviles 306 en el dispositivo del sensor del frente de
ondas están centradas sobre el haz de medición del frente de ondas,
y la marca de índice circular variable 308 está centrada en las
retículas. El diámetro del anillo 308 se cambia hasta que coincide
con la marca del anillo de torno 304. De este modo se centra la
medición de frente de ondas sobre la OZ de la lente de ensayo. En
la Figura 3, el pequeño círculo 310 muestra la localización de
entrada del haz de medición sobre el ojo, pero no es relevante para
el entendimiento de la invención actual. Asimismo, las manchas
brillantes 312 son reflejos del LED del instrumento desde la córnea
y no son relevantes para la invención actual. Como alternativa, la
OZ de la lente de prueba puede rodearse con un anillo o puntos de
una tinta indeleble, aprobada por la FDA colocada cada 15 o 30
grados sobre la lente en estado seco. Después de esto se mide la
magnitud y dirección de rotación de la lente (a favor o en contra
de las agujas de reloj) y se tiene en cuenta durante la fabricación
de la lente. Las conversiones para los coeficientes marginales
Zernike ajustados de la rotación en las unidades de lente seca
son:
(Radio de normalización ajustado = radio de
normalización)
A4 = Z'4
A5 = Z'5*cos(2*d) -
Z'6*sen(2*d)
A6 = Z'5*sen(2*d) +
Z'6*cos(2*d)
A7 = Z'7*cos(d) - Z'8*sen(d)
A8 = Z'7*sen(d) - Z'8*cos(d)
A9 = C'9
A10 = Z'10*cos(3*d) -
Z'11*sen(3*d)
A11 = Z'10*sen(3*d) +
Z'11*cos(3*d)
A12 = Z'12*cos(2*d) -
Z'13*sen(2*d)
A13 = Z'12*sen(2*d) +
Z'13*cos(2*d)
A14 = Z'14*cos(d) -
Z'15*sen(d)
A15 = Z'14*sen(d) +
Z'15*cos(d)
A16 = Z'16
A17 = Z'17*cos(4*d) -
Z'18*sen(4*d)
A18 = Z'17*sen(4*d) +
Z'18*cos(4*d)
A19 = Z'19*cos(3*d) -
Z'20*sen(3*d)
A20 = Z'19*sen(3*d) +
Z'20*cos(3*d)
A21 = Z'21*cos(2*d) -
Z'22*sen(2*d)
A22 = Z'21*sen(2*d) +
Z'22*cos(2*d)
A23 = Z'23*cos(d) -
Z'24*sen(d)
A24 = Z'23*sen(d) +
Z'24*cos(d)
A25 = Z'25
A26 = Z'26*cos(5*d) -
Z'27*sen(5*d)
A27 = Z'26*sen(5*d) +
Z'27*cos(5*d)
\vskip1.000000\baselineskip
La configuración hardware del dispositivo 400 de
la invención se muestra en el diagrama de bloques de la Figura 4.
Un medio legible por un dispositivo 410 incluye un algoritmo 420 (es
decir, un conjunto calculable de etapas para conseguir el resultado
deseado) para determinar un parámetro de superficie de la superficie
de corrección oftálmica a partir de una medición del frente de
ondas de un ojo, como se ha descrito con detalle anteriormente. El
medio legible por el dispositivo puede tomar cualquier forma bien
conocida tal como un disco o disquete, CD, DVD, guía de ondas,
etc., que pueda transportar el algoritmo 420. El dispositivo 430 es
preferiblemente un ordenador personal que está conectado a un
aparato de mecanización de la superficie 440. Para una CCL, una IOL
o una lente incrustada in vitro (todas 450), el aparato 440
es preferiblemente un torno multi-eje controlado
numéricamente, tal como el torno Optoform 50/Variform® de
(Precitech, Keene, N.H., Estados Unidos), un sistema de láser
excimer de órganos. Para la cirugía refractiva de la córnea o una
lente incrustada en vivo (todas 450), el aparato 440
preferiblemente es un sistema de láser excimer.
Aunque se han elegido diversas realizaciones
ventajosas para ilustrar la invención, se entenderá por los
especialistas en la técnica que pueden realizarse cambios y
modificaciones sin apartarse del alcance de la invención como se
define en las reivindicaciones adjuntas.
Claims (11)
1. Un método para determinar un parámetro de
superficie de la superficie anterior de una lente seca de contacto
de corrección a medida, diseñada para operar a 555 nm que
comprende:
a) ajustar una lente de prueba sobre el ojo del
paciente;
b) realizar una medición del frente de ondas a
través de una región de la zona óptica central de la lente de
prueba, y en una localización del plano de medición seleccionada
usando una longitud de onda de medición conocida;
c) determinar la magnitud y dirección de
rotación de la lente de prueba sobre el ojo del paciente;
d) corregir la medición de la aberración del
frente de ondas si es necesario para compensar la pérdida de
alineación inducida por el dispositivo de medición en la
medición;
caracterizado porque el método además
comprende las etapas de:
e) determinar la corrección refractiva de
desenfoque en base a la medición de la aberración;
f) determinar la aberración cromática para la
corrección de enfoque;
g) determinar una corrección del desplazamiento
de potencia para tener en cuenta las diferencias entre una
localización de la superficie de corrección de dicha superficie de
corrección oftálmica y la localización del plano de medición;
h) convertir la medición de la aberración de una
deformación del frente de ondas a una deformación de la superficie
de la lente húmeda; y
i) modificar el parámetro de deformación de la
lente húmeda para obtener los parámetros de deformación de la lente
seca correspondiente,
de modo que dicho parámetro de superficie de la
superficie anterior de la lente de contacto seca de corrección a
medida se determina a partir de dicha medición de aberración del
frente de ondas del ojo.
2. El método de la reivindicación 1, en el que
la etapa de obtener una medición de medición de aberración del
frente de ondas comprende generar un polinomio que describe la
aberración que tiene unos coeficientes asociados.
3. El método de la reivindicación 2, en el que
el polinomio es un polinomio Zernike.
4. El método de la reivindicación 1, en el que
la etapa de obtener una medición de la aberración del frente de
ondas comprende realizar la medición a una longitud de onda de 780
nm.
5. El método de la reivindicación 1, en el que
el plano de medición conocido es el plano de entrada de la pupila
del ojo del paciente.
6. El método de la reivindicación 1, en el que
la etapa de corrección comprende corregir la rotación inducida por
el dispositivo de la medición de la aberración.
7. El método de la reivindicación 1, en el que
la etapa de determinar la corrección de aberración cromática
comprende obtener y usar una medición biométrica ocular para
optimizar la corrección de aberración cromática.
8. El método de la reivindicación 7, en el que
la medición biométrica ocular incluye una de las siguientes: una
medición topográfica de la córnea, una medición de queratometría,
una medición de la longitud axial del ojo, y una medición del
grosor de la lente del cristalino.
9. El método de la reivindicación 1, que
comprende el ajuste de una lente de prueba con lastre de prisma o
en la periferia.
10. Un medio legible por un dispositivo que
incluye instrucciones ejecutables para realizar un algoritmo para
determinar un parámetro de superficie de una superficie de
corrección oftálmica a partir de la medición del frente de ondas de
un ojo, en el que el algoritmo comprende el proceso de las etapas d)
- i) de acuerdo con la reivindicación 1, en el que el algoritmo es
para determinar una superficie anterior de una lente de contacto
seca de corrección a medida, diseñada para operar a 555 nm.
11. Un aparato adaptado para determinar un
parámetro de superficie de la superficie anterior de una lente de
contacto seca de corrección a medida, que se diseña para operar a
555 nm, que comprende:
una lente de prueba que se ajusta sobre el ojo
del paciente;
un medio para realizar una medición del frente
de ondas a través de la región de la zona óptica central de la
lente de prueba, y una localización del plano de medición
seleccionado usando una longitud de onda de medición conocida;
un medio para determinar la magnitud y dirección
de rotación de la lente de prueba sobre el ojo del paciente;
un medio para corregir la medición de la
aberración del frente de ondas cuando sea necesario para compensar
una pérdida de alineación inducida por el dispositivo de medición
sobre la medición;
un medio para determinar una corrección
refractiva de desenfoque en base a la medición de la aberración;
caracterizado porque dicho aparato
comprende además:
un medio para determinar una corrección
cromática de la aberración para la corrección de desenfoque;
un medio para determinar una corrección del
desplazamiento de potencia para tener en cuenta las diferencias
entre la localización de la superficie de corrección de dicha
superficie de corrección oftálmica y la localización del plano de
medición;
un medio para convertir la medición de la
aberración a partir de la deformación del frente de ondas a una
deformación de la superficie de la lente húmeda; y
un medio para modificar un parámetro de
deformación de una lente húmeda para obtener un parámetro de
deformación de la lente seca correspondiente de modo que dicho
parámetro de superficie de la superficie anterior de la lente de
contacto seca de corrección a medida se determina a partir de dicha
medición de la aberración del frente de ondas de dicho ojo.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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