KR20050063769A - 파면 발생 맞춤형 눈 표면 - Google Patents
파면 발생 맞춤형 눈 표면 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명의 일 실시예는 눈의 파면 수차 측정으로부터 눈의 교정면 (예를 들면, 맞춤형 콘택트 렌즈 "CCL"; 주문형 인공 수정체)의 전방 표면 파라미터 또는 후방 표면 파라미터를 결정하기 위한 방법에 관한 것이다. 바람직한 실시예는 555nm에서 작동하도록 설계된 건식 CCL의 전방 표면 파라미터를 결정하는 것에 관한 것이다. 알고리즘은 수차 측정 파장과 피크 시계 파장 간의 차이 및 수차 측정 위치와 수차 교정 위치 간의 차이로 인한 오정렬 교정, 색채 수차 교정 및 배율(power) 변동 교정을 포함하는 방법을 설정한다. 장치 판독 매체는 알고리즘에 대한 바람직한 매개물이다.
Description
본 발명은 일반적으로 눈의 시계 교정 분야에 관한 것으로, 보다 상세하게는 파면 발생 맞춤형 눈 표면에 관한 것이다.
지웨이브® 파면 분석기[뉴욕주 로체스터에 소재하는 보오슈 앤드 롬 인코포레이티드(Bausch & Lomb Incorporated, Rochester, New York)] 등의 눈의 수차 측정기(ocular aberrometer)는 눈의 입구 동공면에서 환자의 눈을 벗어난 파면 수차를 측정한다. 이는 환자 시각의 축을 따라 환자의 눈으로 적외선 레이저 에너지의 좁은 광선을 사출함에 의해 수행된다. 지웨이브 측정 광선의 파장은 780nm이다. 레이저 에너지는 환자의 중심와(fovea)를 벗어나 널리 반사되고 환자의 물리적인 동공을 완전히 채우는 눈을 통과한다. 수차 측정기의 광학 구성요소는 물리적 동공의 화상을 교체하여, 입구 동공을 형성함에 의해 하트만-샥 파면 센서(Hartmann-Shack wavefront sensor; HSWFS) 상에 있게 된다. HSWFS는 공지된 간격으로 파면을 견본 추출하고, 컴퓨터는 환자의 실재 파면 수차의 완전한 수학적 기재를 계산한다. 지웨이브의 경우에, 파면 수차의 수학적 기술은 본 앤 울프(Born & Wolf)의 기수법[본 앤 울프, 광학 원리, 6판, 캠브릿지 대학 출판사, 1980(Born & Wolf, Principles of Optics, 6th Edition, Cambridge University Press, 1980)]에 따른 제르니케 다항식(Zernike polynomial)의 형태이다. 이런 파면 수차는 환자를 위한 맞춤 교정 방책을 설계하는데 사용되어, 콘택트 렌즈, 안경, 인공 수정체(IOL), 인레이(inlay) 또는 레이저 굴절 수술을 통해 실현될 수 있다.
도1은 본 발명의 일 실시예에 따른 공정 흐름도이다.
도2는 본 발명의 일 실시예의 바람직한 태양에 따른 공정 흐름도이다.
도3은 렌즈의 광학 구역(OZ) 상에서의 파면 측정의 중심을 도시한 파면 센서 눈 측정 화상의 사본이다.
도4는 본 발명의 일 실시예의 하드웨어 구성의 선도이다.
본 발명의 일 실시예는 눈의 파면 수차 측정으로부터 눈의 교정면 (예를 들면, 맞춤형 콘택트 렌즈 "CCL"; 주문형 인공 수정체)의 전방 표면 파라미터 또는 후방 표면 파라미터를 결정하기 위한 방법에 관한 것이다. 본 실시예의 바람직한 태양은 555nm에서 작동하도록 설계된 건식 CCL의 전방 표면 파라미터를 결정하는 것에 관한 것이다. 알고리즘은 수차 측정 파장과 피크 시계 파장 간의 차이 및 수차 측정 위치와 수차 교정 위치 간의 차이로 인한 오정렬 교정, 색채 수차 교정 및 배율(power) 변동 교정을 포함하는 방법을 개시한다. 건식 맞춤형 교정 콘택트 렌즈의 전방 표면 파라미터를 결정하는 것에 관한 바람직한 태양에서, 추가 공정 단계는 수차 다항식 계수를 습식 렌즈 표면 변형값으로 변환하는 단계와, 탈수 유도 수축에 대해 보상하는 단계를 포함한다.
본 명세서에 합체되고 일부를 구성하는 참조 도면은 본 발명의 실시예를 설명하고, 상세한 설명과 함께 본 발명의 목적, 장점 및 원리를 설명하는데 제공된다.
다음의 상세한 설명은 지웨이브 파면 분석기(뉴욕주 로체스터에 소재하는 보오슈 앤드 롬 인코포레이티드)로부터 얻은 데이타의 항목으로 표현되었지만, 본 발명은 이런 방식에 제한되지 않고 파면 수차에 대한 임의의 정확한 수학적 표현이 본 발명의 실시에 적합할 수 있다는 것은 이해될 것이다. 지웨이브는 하트만-샥 파면 센서(HSWFS)에 합체되어, 눈의 입구 동공면에서 환자의 눈에 있는 파면 수차를 측정한다. 지웨이브에서의 망막 조사 광원은 780nm의 파장을 갖는 다이오드 레이저 발광이다. 레이저 에너지는 환자의 중심와를 벗어나 널리 반사되고 눈을 통해 HSWFS 내로 통과한다. HSWFS는 공지된 간격으로 파면을 견본 추출하고, 컴퓨터는 미크론 단위로 측정된 18 제르니케 계수(T3 내지 T20)의 설정으로 파면 수차의 수학적 기술을 계산한다. 지웨이브에 의해 제공된 다른 데이타는 밀리미터 단위로 측정된 표준 반경(RN), 환자의 눈(좌 또는 우)의 식별(identification), 등가 구형 배율(equivalent sphere power, SE), 및 가능한 경우 측정되는 동안 환자에 의해 시험 렌즈가 착용된 범위에서 측정된 회전각(δ)을 포함한다. 등가 구형 배율은 다음의 등식에 의해 정의된다.
SE = [RN 2 + (2*sqrt(3)*T3)2] ÷ (2*2*sqrt(3)*T3)
여기서, T3은 본 앤 울프의 기수법에서 4차 제르니케 항목을 나타낸다.
도1은 눈의 파면 수차 측정으로부터 눈의 맞춤형 교정면의 표면 파라미터를 결정하기 위한 알고리즘 100의 공정 흐름 단계를 도시한 것이다. 단계 110에서, 환자의 눈의 파면 수차 측정값은 공지된 측정면 위치 및 공지된 측정 파장에서 획득될 수 있다. 바람직한 측정면 위치는 환자의 눈의 입구 동공이고, 바람직한 측정 파장은 환자 응시 및 동공 크기에 최소한의 영향을 주도록 780nm이다. 상기한 바와 같이, 지웨이브는 본 앤 울프의 제르니케 다항식의 형태로 파면 수차를 계산한다. 바람직한 실시예에서, 제르니케 다항식은 "프린지(Fringe)" 또는 애리조나 기수법 대학[제맥스 사용자 가이드, 10.0판, 124 내지 126페이지(Zemax User's Guide, Version 10.0, pp.124~126) 참조]에 의해 표현된다. 애리조나 기수법과 본 앤 울프 기수법 사이의 두 가지 차이점은 다항식 항목들이 다르게 순서지어지는 것과, 본 앤 울프 기수법은 다항식 항목들 앞에서 스칼라 표준 항목을 사용한다는 것이다. 각 기수법의 첫 번째 11항목은 아래와 같다.
항목 | 애리조나 기수법 | 본 앤 울프 기수법 |
Z1 | 1 | 1 |
Z2 | p*cos(θ) | 2*p*cos(θ) |
Z3 | p*sin(θ) | 2*p*sin(θ) |
Z4 | 2*p^2 - 1 | sqrt(3)*(2*p^2 - 1) |
Z5 | p^2*cos(2θ) | sqrt(6)*p^2*sin(2θ) |
Z6 | p^2*sin(2θ) | sqrt(6)*p^2*cos(2θ) |
Z7 | (3*p^3 - 2*p)*cos(θ) | sqrt(8)*(3*p^3 - 2*p)*sin(θ) |
Z8 | (3*p^3 - 2*p)*sin(θ) | sqrt(8)*(3*p^3 - 2*p)*cos(θ) |
Z9 | p^3*cos(3θ) | sqrt(8)*p^3*sin(3θ) |
Z10 | p^3*sin(3θ) | sqrt(8)*p^3*cos(3θ) |
Z11 | 6*p^4 - 6*p^2 + 1 | sqrt(5)*(6*p^4 - 6*p^2 + 1) |
단계 120에서, 화상 오정렬이 교정된다. 환자의 입구 동공에서 파면 수차는 HSWFS에 도달하기 전에 180°회전된다. 따라서, 제르니케 계수는 이 회전을 설명하기 위해 수정되어야 한다. 이는 -1에 의한 홀 쎄타 의존성(odd-theta dependence)을 갖는 모든 계수들을 곱함에 의해 행해진다. 쎄타 의존성이 없거나 짝 쎄타 의존성(even-theta dependence)을 갖는 이들 계수들은 수정되지 않는다.
단계 130에서, 등가 구형 배율, SE는 다음과 같은 식에 의해 계산된다.
SE = [RN 2 + (2*sqrt(3)*T3)2] ÷ (2*2*sqrt(3)*T3)
여기서, T3은 본 앤 울프 기수법에서 4차 제르니케 항목을 표현한다. 그러나, 측정 파장 780nm는 일반적인 사람의 시계에 대한 파장 영역의 중심에 있는555nm에서 빛보다 눈 내로 더 깊게 초점이 맞춰진다. 따라서, 지웨이브는 환자의 필요 교정을 실제 필요한 교정과는 다른 +0.45D로 잘못 측정한다. 이 교정은 단계 140에서 이루어진다. 교정 배율 조정은 다음의 식으로 표현된다.
B = SE - 0.45
초점 흐려짐(defocus)은 4차 제르니케 항목 T3에 의해 1차 정의되어, T3은 이 공지된 색채적 수차를 설명하도록 수정되어야 한다. 눈의 생체 계측학(biometry) 데이타가 교정되면, 780nm에서 555nm로 변환되기 위한 0.45D 초점 흐려짐 변동은 개별적인 자료 상에서 각 환자에 대해 최적화될 수 있다. 눈의 생체 계측학은 각막의 국소 해부학(topography) 또는 각막 계측(keratometry), 눈의 축 길이 및 투명 렌즈의 광학적 두께를 포함한다. 이들 측정값으로부터, 종방향 색채적 수차의 계산이 보다 정확하게 수행된다.
단계 150에서, 알고리즘은 환자의 입구 동공에서 취해진 측정값으로 인해 배율 변동을 설명하지만, 수정된 각막 표면, 맞춤 콘택트 렌즈 표면, 맞춤형 인공 수정체 표면, 맞춤형 인레이 표면 또는 안경 표면 등의 눈의 교정면에서 교정이 행해진다.
상기한 실시예의 바람직한 태양에서, 본 방법은 눈의 파면 수차 측정으로부터 555nm에서 작동되게 설계된 건식 형태 CCL의 전방 표면 파라미터를 결정하는 것에 관한 것이다. 방법 200은 도2에서 개시된다. 공정 단계 110 내지 150은 변경되지 않고 남아 있지만 교정은 콘택트 렌즈의 전방 표면에서 행해진다. 건식 맞춤 교정 콘택트 렌즈 전방 표면의 3차원 새그 프로파일(sag profile)은 다음의 식으로 기술된다.
3-D Sag = (r2/Rd)/(1 + sqrt(1 - r2/Rd 2)) + ∑(ZiPi)
여기서 r은 반경 좌표이고, Rd는 전방 표면의 건식 반경이고, Zi는 제르니케 계수의 설정값이고, Pi는 제르니케 다항식의 설정값이며, i ∈ [4, 27]이다. 제르니케 계수 및 다항식은 프린지 또는 애리조나 기수법 대학의 것이다.
전형적인 사람의 눈의 입구 동공은 각막의 전방 표면에서 눈 내로 3.1mm에 위치된다. 전형적인 맞춤 콘택트 렌즈는 0.16mm의 중심 두께를 갖는다. 따라서, 교정은 입구 동공으로부터 3.26mm 떨어지게 위치되고, 이 거리는 측정된 배율 오차 과 교정 배율 사이에서 약간의 배율 변동을 일으킨다. 이 변동은 B가 측정된 배율이고 C가 측정면으로부터 3.26mm 떨어진 위치의 교정 배율인 다음의 식에 의해 설명된다.
C = B - 0.00326*B2
단계 160에서, 제르니케 계수는 파면 변형에서 습식 렌즈 표면 변형으로 변환된다. 모든 계수들은 (n-1)에 의해 분할되고, 여기서 n은 555nm에서 습식 콘택트 렌즈 물질의 굴절 지수이다.
단계 170에서, 알고리즘은 습식 렌즈 파라미터로부터 건식 렌즈 파라미터로 되는 수화 유도 확장(hydration-induced expansion)을 수학적으로 바꾸는 표면 파라미터를 수정한다. 모든 계수들은 렌즈 물질에 대한 새그 확장(sag_exp) 계수를 실험적으로 획득함에 의해 분할된다. 표준화 반경은 실험적으로 획득된 직경 확장(dia_exp) 계수에 의해 분할된다. 이들 계수들 모두는 통상 렌즈 물질에 따라 약 4% 내지 35% 사이의 범위이다.
수정된 제르니케 계수 및 표준화 반경의 합은 다음과 같이 표현된다.
NR' = NR/dia_exp
Z4 = T3'*sqrt(3)/(n-1)/1000/sag_exp
Z5 = T5*sqrt(6)/(n-1)/1000/sag_exp
Z6 = T4*sqrt(6)/(n-1)/1000/sag_exp
Z7 = T7*(-1)*sqrt(8)/(n-1)/1000/sag_exp
Z8 = T6*(-1)*sqrt(8)/(n-1)/1000/sag_exp
Z9 = T10*sqrt(5)/(n-1)/1000/sag_exp
Z10 = T9*(-1)*sqrt(8)/(n-1)/1000/sag_exp
Z11 = T8*(-1)sqrt(8)/(n-1)/1000/sag_exp
Z12 = T11*sqrt(10)/(n-1)/1000/sag_exp
Z13 = T12*sqrt(10)/(n-1)/1000/sag_exp
Z14 = T15*(-1)*sqrt(12)/(n-1)/1000/sag_exp
Z15 = T16*(-1)*sqrt(12)/(n-1)/1000/sag_exp
Z16 = (현재 미사용)
Z17 = T13*sqrt(10)/(n-1)/1000/sag_exp
Z18 = T14*sqrt(10)/(n-1)/1000/sag_exp
Z19 = T17*(-1)*sqrt(12)/(n-1)/1000/sag_exp
Z20 = T18*(-1)*sqrt(12)/(n-1)/1000/sag_exp
Z21 = T23*sqrt(14)/(n-1)/1000/sag_exp
Z22 = T22*sqrt(14)/(n-1)/1000/sag_exp
Z23 = (현재 미사용)
Z24 = (현재 미사용)
Z25 = (현재 미사용)
Z26 = T19*(-1)*sqrt(12)/(n-1)/1000/sag_exp
Z27 = T20*(-1)*sqrt(12)/(n-1)/1000/sag_exp
바람직한 실시예의 예시적인 태양에서, 환자는 공지된 형상의 프리즘-밸러스트형 또는 페리-밸러스트형(peri-ballasted) 구형 시험 렌즈를 착용한다. 시험 렌즈의 배율은 환자의 구형 등가 굴절과 같거나 대등할 수 있다. 후자가 가장 바람직하다. 시험 렌즈는 CCL로서 같은 물질로 이루어지는 것이 바람직할 것이다. 복수의 기부 만곡부(base curve)를 포함하도록 선택 가능한 시험 렌즈의 기부 만곡부는 CCL과 유사하게 환자의 필요에 맞을 것이다. 파면 수차는 환자가 시험 렌즈를 착용하는 동안 측정된다. 측정은 시험 렌즈의 OZ 중심 상에서 중심을 두어서, 맞춤 렌즈 수정은 중심을 둘 곳에서 이루어진다. 이 단계는 도2의 105에 도시된다. 따라서, 측정은 렌즈 경사 및 렌즈 중심 이탈(decentration), 각막에 접착됨에 의한 렌즈 변형, 눈물막 효과, 렌즈 회전 등의 효과를 설명하기 위해 행해진다. 환자가 렌즈를 착용하는 동안, 렌즈 상에서 OZ를 찾는 것은 종종 어렵고, 유사하게 수차 측정기 카메라를 갖는 렌즈로 볼 경우에도 그러하다. 또한, 프리즘-밸라스트형 렌즈에서, OZ는 렌즈의 기하학적 중심에 대해 중심이 어긋나게 된다. 따라서, 파면 센서를 통해 볼 경우에 보여질 수 있도록 OZ을 표시하는 것이 바람직하다. 도3에 도시된 바람직한 태양에서, 시험 렌즈(302)는 7.3mm의 건식 내경을 갖는 링의 형태로 선반 표시(lathe mark, 304)를 갖고 색인되어, 렌즈의 OZ 상에 중심을 두게 된다. 링은 1mm의 팁 반경 절단 도구를 갖고 이루어진다. 선반 절단, 레이저 명각(inscription) 또는 당 업계의 공지된 다른 수단에 의한 다른 링 치수 또는 색인 표시는 또한 적합한 중심 표시를 제공할 수 있다. 파면 센서 장치 내에서의 가동식 십자선(crosshairs)은 파면 측정 광선 상에서 중심을 두고, 다양한 원형 색인 표시(308)는 또한, 십자선 내에 중심을 둔다. 링(308)의 직경은 선반 링 표시(304)와 일치할 때까지 변한다. 따라서, 파면 측정은 시험 렌즈의 OZ 상에서 중심을 두게 된다. 도3에서, 작은 원(310)은 눈 위의 측정 광선 유입 위치를 도시한 것이지만, 본 발명의 이해에 관련된 것은 아니다. 유사하게, 밝은 부위(bright spot, 312)는 각막으로부터 엘이디 반사를 나타내는 것이고, 본 발명에 관련된 것은 아니다. 대안적으로, 시험 렌즈의 OZ은 건조한 상태에서 렌즈 상에 15°또는 30°마다 위치된 링 또는 지워지지 않는 FDA 승인 잉크의 도트로 원을 이룰 수 있다. 따라서, 렌즈 회전의 양 또는 방향(시계 방향 또는 시계 반대 방향)은 렌즈가 제조되는 동안에 측정되고 설명된다. 건식 렌즈 유닛에서의 제르니케 프린지 계수를 조정한 회전에 대한 변환은 다음과 같다.
(조절 표준화 반경 = 표준화 반경)
A4 = Z'4
A5 = Z'5*cos(2*d) - Z'6*sin(2*d)
A6 = Z'5*sin(2*d) + Z'6*cos(2*d)
A7 = Z'7*cos(d) - Z'8*sin(d)
A8 = Z'7*sin(d) + Z'8*cos(d)
A9 = Z'9
A10 = Z'10*cos(3*d) - Z'11*sin(3*d)
A11 = Z'10*sin(3*d) + Z'11*cos(3*d)
A12 = Z'12*cos(2*d) - Z'13*sin(2*d)
A13 = Z'12*sin(2*d) + Z'13*cos(2*d)
A14 = Z'14*cos(d) - Z'15*sin(d)
A15 = Z'14*sin(d) + Z'15*cos(d)
A16 = Z'16
A17 = Z'17*cos(4*d) - Z'18*sin(4*d)
A18 = Z'17*sin(4*d) + Z'18*cos(4*d)
A19 = Z'19*cos(3*d) - Z'20*sin(3*d)
A20 = Z'19*sin(3*d) + Z'20*cos(3*d)
A21 = Z'21*cos(2*d) - Z'22*sin(2*d)
A22 = Z'21*sin(2*d) + Z'22*cos(2*d)
A23 = Z'23*cos(d) - Z'24*sin(d)
A24 = Z'23*sin(d) + Z'24*cos(d)
A25 = Z'25
A26 = Z'26*cos(5*d) - Z'27*sin(5*d)
A27 = Z'26*sin(5*d) + Z'27*cos(5*d)
본 발명의 실시 장치(300)의 하드웨어 구성은 도3의 블록도에 도시된다. 장치 판독 매체(310)는 상기한 바와 같이, 눈의 파면 측정으로부터 눈의 교정면의 표면 파라미터를 결정하기 위한 알고리즘(320)(즉, 소정 결과를 얻기 위한 단계의 계산 가능한 설정)을 포함한다. 장치 판독 매체는 알고리즘(320)을 수행할 수 있는 디스크 또는 디스켓, CD, DVD, 도파관 등의 잘 알려진 형태를 취할 수 있다. 장치(330)는 표면 가공 장치(340)에 연결되는 P.C.인 것이 바람직하다. CCL, 인공 수정체 또는 시험관 인레이(모두 350)에 대해서, 장치(340)는 수치적으로 제어되는 옵토폼 50/베리폼®(Optoform 50/Variform®) 선반[프레시테크, 키인, 뉴햄프셔주, 미국(Prcitech, Keene, N.H., USA)] 등의 다축 선반 또는 엑시머 레이저 시스템인 것이 바람직하다. 각막 굴적 수술 또는 시험관 인레이(모두 350)에 대해서, 장치(340)는 엑시머 레이저 시스템인 것이 바람직하다.
다양한 유익한 실시예들이 본 발명의 설명으로 선택되었지만, 첨부된 청구항에 정의된 바와 같은 본 발명의 사상을 벗어나지 않는 한 당 업계의 숙련된 자라면 변경 및 수정이 가능함은 이해될 것이다.
Claims (30)
- 눈의 파면 수차 측정으로부터 눈의 교정면의 표면 파라미터를 결정하기 위한 방법이며,(a) 공지된 측정면에서 공지된 측정 파장을 이용하여 환자의 눈의 파면 수차 측정값을 획득하는 단계와,(b) 측정 장치 유도 오정렬에 대해 측정값의 보상이 필요할 경우, 상기 파면 수차 측정값을 교정하는 단계와,(c) 상기 수차 측정값에 근거한 초점 흐려짐 굴절 교정을 결정하는 단계와,(d) 상기 초점 흐려짐 교정에 대한 색채적 수차 교정을 결정하는 단계와,(e) 상기 측정면 위치와 다른 교정면 위치에 대해 배율 변동 교정을 결정하는 단계를 포함하는 방법.
- 제1항에 있어서, 전방 표면 파라미터를 결정하는 단계를 포함하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 파면 수차 측정값 획득 단계는 관련 계수를 갖는 수차 기술 다항식을 생성하는 단계를 포함하는 방법.
- 제3항에 있어서, 상기 다항식은 제르니케 다항식인 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 파면 수차 측정값 획득 단계는 780nm의 파장에서 측정하는 단계를 포함하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 파면 수차 측정값 획득 단계는 환자의 눈에 접촉되는 시험 렌즈를 통해 측정하는 단계를 포함하는 방법.
- 제1항에 있어서, 시험 렌즈의 광학 구역 중심을 통해 측정하는 단계를 포함하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 공지된 측정면은 환자의 눈의 입구 동공면인 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 교정 단계는 수차 측정값의 장치 유도 회전에 대해 교정하는 단계를 포함하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 배율 변동 교정 결정 단계는 맞춤형 콘택트 렌즈, 맞춤형 인공 수정체, 맞춤형 인레이 또는 주문형 각막면 중 하나를 포함하는 교정면을 포함하는 방법.
- 제11항에 있어서, 전방 표면을 포함하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 색채적 수차 교정 결정 단계는 555nm의 설계 작동 파장에 대해 교정하는 단계를 포함하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 색채적 수차교정 결정 단계는 눈의 생체 계측학적 측정값을 획득하고 이용하여 색채적 수차 교정을 최적화하는 단계를 포함하는 방법.
- 제13항에 있어서, 눈의 생체 계측학적 측정값은 각막의 국소 해부학적 측정값, 각막 계측적 측정값, 눈의 축 길이 측정값 및 투명 렌즈 두께 측정값 중 하나를 포함하는 방법.
- 제6항에 있어서, 상기 눈의 교정면은 555nm에서 작동하도록 설계된 건식 맞춤형 교정 콘택트 렌즈의 전방 표면이며,상기 수차 측정값을 파면 변형값에서 습식 렌즈 표면 변형값으로 변환하는 단계와,습식 렌즈 변형 파라미터를 변경하여 대응 건식 렌즈 변형 파라미터를 획득하는 단계를 더 포함하는 방법.
- 눈의 파면 측정으로부터 눈의 교정면의 표면 파라미터를 결정하기 위한 알고리즘 실행용 실행 기구를 포함하는 장치 판독 매체이며, 상기 알고리즘은 제1항에 따른 상기 (b) 내지 (e) 단계를 포함하는 장치 판독 매체.
- 제16항에 있어서, 상기 알고리즘은 555nm에서 작동하도록 설계된 건식 맞춤형 교정 콘택트 렌즈의 전방 표면을 결정하기 위한 것인 장치 판독 매체.
- 제17항에 있어서, 상기 알고리즘은수차 측정값을 파면 변형값에서 습식 렌즈 표면 변형값으로 변환하는 단계와,습식 렌즈 변형 파라미터를 변경하여 대응 건식 렌즈 변형 파라미터를 획득하는 단계를 더 포함하는 장치 판독 매체.
- 제16항에 있어서, 상기 알고리즘은 맞춤형 교정 콘택트 렌즈, 인공 수정체, 인레이 및 각막 표면 중 하나의 전방 표면을 결정하기 위한 장치 판독 매체.
- 눈의 파면 수차 측정으로부터 555nm에서 작동하도록 설계된 건식 맞춤형 교정 콘택트 렌즈의 전방 표면의 표면 파라미터를 결정하기 위한 방법이며,환자의 눈에 시험 렌즈를 끼우는 단계와,상기 시험 렌즈의 중심 광학 구역 영역을 통해, 그리고 공지된 측정 파장을 이용하여 선택된 측정면에서의 파면을 측정하는 단계와,환자의 눈 상에서 상기 시험 렌즈의 회전량 및 회전 방향을 결정하는 단계와,상기 측정의 측정 장치 유도 오정렬의 보상이 필요한 경우, 파면 수차 측정값을 교정하는 단계와,초점 흐려짐 교정에 대한 색채적 수차 교정을 결정하는 단계와,상기 측정면 위치와 다른 교정면 위치에 대한 배율 변동 교정을 결정하는 단계와,상기 수차 측정값을 파면 변형에서 습식 렌즈 표면 변형으로 변환하는 단계와,습식 렌즈 변형 파라미터를 변경하여 대응 건식 렌즈 변형 파라미터를 획득하는 단계를 포함하는 방법.
- 제20항에 있어서, 프리즘-밸러스트형 또는 페리 밸러스트형 시험 렌즈를 끼우는 단계를 포함하는 방법.
- 제20항에 있어서, 상기 파면 수차 측정 획득 단계는 관련 계수를 갖는 수차 기술 다항식을 생성하는 단계를 포함하는 방법.
- 제20항에 있어서, 상기 다항식은 제르니케 다항식인 방법.
- 제20항에 있어서, 상기 파면 수차 측정 획득 단계는 780nm의 파장에서 측정하는 단계를 포함하는 방법.
- 제20항에 있어서, 상기 파면 수차 측정 획득 단계는 환자의 눈에 접하는 시험 렌즈를 통해 측정하는 단계를 포함하는 방법.
- 제25항에 있어서, 상기 시험 렌즈의 중심 광학 구역을 통해 측정하는 단계를 포함하는 방법.
- 제20항에 있어서, 공지된 측정면은 환자의 눈의 입구 동공면인 방법.
- 제20항에 있어서, 상기 교정 단계는 수차 측정값의 장치 유도 회전에 대해 교정하는 단계를 포함하는 방법.
- 제20항에 있어서, 상기 색채적 수차 교정 결정 단계는 눈의 생체 계측학적 측정값을 획득하고 이용하여 색채적 수차 교정을 최적화하는 단계를 포함하는 방법.
- 제20항에 있어서, 눈의 생체 계측학적 측정값은 각막의 국소 해부학적 측정값, 각막계측적 측정값, 눈의 축 길이 측정값 및 투명 렌즈 두께 측정값 중 하나를 포함하는 방법.
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