ES2313640T3 - Procedimiento y sistema de analisis fisico-quimico con la ayuda de una ablacion por pulso laser. - Google Patents
Procedimiento y sistema de analisis fisico-quimico con la ayuda de una ablacion por pulso laser. Download PDFInfo
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Abstract
Procedimiento de análisis físico-químico de un material (24) durante su ablación por un pulso láser (22), usando este procedimiento la relación de las intensidades de dos líneas de emisión de un elemento trazador procedentes del plasma generado por el pulso láser (22), caracterizado porque se determina la concentración de un elemento que se va a medir en este plasma por medio de medidas patrón que indican la correspondencia entre la concentración de este elemento que se va a medir y la intensidad de una línea de emisión, por una parte, y diferentes relaciones R(T) entre las intensidades de al menos dos líneas del elemento trazador, por otra parte, siendo estas relaciones representativas de la temperatura del plasma.
Description
Procedimiento y sistema de análisis
físico-químico con la ayuda de una ablación por
pulso láser.
La presente invención se refiere a un
procedimiento y a un dispositivo de análisis
físico-químico de un material durante su ablación
por un pulso láser, igualmente denominado espectroscopía de emisión
atómica con plasma producido por un láser o LIBS, para "Laser
Induced Breakdown Spectroscopy" en inglés.
El procedimiento LIBS presenta numerosas
ventajas, tales como permitir el análisis elemental de un material
sólido, líquido o gaseoso en tiempo real, pero presenta
inconvenientes relacionados con el difícil control de los
parámetros de interacción entre el haz de láser y el material que se
va a analizar.
En efecto, el procedimiento LIBS usa una
comparación entre las líneas emitidas por el plasma formado durante
el impacto de un haz de láser sobre un material que se va a analizar
y líneas de calibración obtenidas con materiales patrón cuya
composición es conocida.
De este modo, la longitud de onda y,
respectivamente, la intensidad de una línea en el plasma formado,
permiten determinar la presencia de un elemento en el material y,
respectivamente, calcular la concentración de este elemento en el
material.
Sin embargo, el factor de proporcionalidad entre
la intensidad I de la línea de un elemento que se va a medir y la
concentración C de este elemento en el material depende de numerosos
parámetros propios de la realización de la medida como, por
ejemplo, la longitud de onda y/o el enfoque del láser, la geometría
de la recogida de la emisión del plasma, la transmisión de la
óptica, así como de las características
físico-químicas de la muestra que se va a analizar y
del plasma.
Esta dependencia resulta problemática ya que las
condiciones experimentales con las que se establecen las curvas de
calibración no siempre se pueden reproducir durante los análisis,
especialmente en cuanto a la radiación del láser sobre el material
y a las características físico-químicas de éste
último (efecto de matriz), modificando la variación de estos dos
parámetros especialmente la cantidad de materia ablada y la
temperatura del plasma.
Por tanto, las comparaciones efectuadas entre
curvas patrón y medidas experimentales, con intención de analizar
un material, son dependientes de estas diferencias eventuales de
temperatura y de masa ablada propias de las condiciones
experimentales.
Para paliar la variación de temperatura del
plasma entre las curvas patrón y las medidas experimentales, es
conocido calcular la temperatura del plasma.
Tales procedimientos se describen, por ejemplo,
en la publicación titulada "Correction of matrix effects in
quantitative elemental analysis with laser ablation optical emission
spectrometry", de C. Chaléard, P. Mauchien, N. André, J.
Uebbing, J.L. Lacour, C.J. Geertsen, aparecida en la revista "J.
anal. At. Spectrom." vol 12, (1997), 183, que divulga la
normalización de las intensidades de las líneas después de haber
efectuado el cálculo de la temperatura del plasma gracias a la
relación de las intensidades de dos líneas de emisión de un mismo
elemento emitidas por el plasma generado por el haz de láser, o en
la patente WO99/49301 PTC/EP99/01842, que divulga una normalización
de la masa ablada después de haber calculado la temperatura del
plasma.
El documento 4.690.558 describe un procedimiento
y un dispositivo de análisis espectroscópico de emisión por medio de
un láser.
El documento US5.991.020 describe un
procedimiento de determinación de la concentración de especies
atómicas en gases y sólidos.
La presente invención resulta de varias
observaciones propias de la invención, a saber:
- i)
- el error relacionado con la determinación de la temperatura del plasma implica grandes incertidumbres sobre las medidas de concentración de un material, de al menos el 20%, causadas por la incertidumbre sobre los datos espectroscópicos y por la presencia de una función exponencial en el cálculo de la temperatura, como se describe posteriormente, lo que aumenta la imprecisión en los resultados.
- ii)
- la temperatura del plasma disminuye durante el tiempo después de la ablación de materia efectuada por un pulso láser, como se muestra en la figura 1, que representa la temperatura de un plasma (eje de ordenadas, en Kelvin) en función del tiempo (eje de abscisas, en \mus) transcurrido desde la ablación.
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Por tanto, el retardo de adquisición t_{d}, es
decir, el retardo entre el pulso de láser y la medida de los
fotones emitidos por el plasma, se puede elegir para permitir la
medida de los parámetros del plasma a una temperatura deseada.
\vskip1.000000\baselineskip
Por eso, la invención se refiere a procedimiento
de análisis físico-químico de un material durante su
ablación por un pulso láser que usa la relación de las intensidades
de dos líneas de emisión procedentes de un elemento trazador
presente en el plasma generado por el haz de láser, caracterizado
porque se determina la concentración de un elemento que se va a
medir en este plasma por medio de medidas patrón que indican una
correspondencia entre la concentración de este elemento que se va a
medir y la intensidad de una línea de emisión, por una parte, y
diferentes relaciones entre las intensidades de dos líneas de un
elemento trazador, por otra parte, siendo estas relaciones
representativas de la temperatura del plasma.
En una forma de realización preferida de la
invención, las diferentes relaciones de intensidades de las dos
líneas de un elemento trazador se seleccionan haciendo variar el
retardo de adquisición.
Gracias a la invención, la temperatura del
plasma está caracterizada por la relación R(T) de dos líneas
de un elemento elegido como trazador. En otras palabras, la
temperatura del plasma está caracterizada por un parámetro que se
puede determinar y/o modificar fácilmente.
De este modo, es posible predeterminar, con la
ayuda de un material patrón, diferentes temperaturas de un plasma
que se pueden encontrar en LIBS, especialmente debidas al desenfoque
del láser o a los efectos de matriz, estando cada temperatura
caracterizada por una relación R(T) entre las intensidades de
dos líneas de un elemento trazador mientras que cada medida se
puede obtener con diferentes retardos.
Por tanto, cuando se comparan medidas
experimentales con medidas de calibración que presentan una misma
relación R(T), nos situamos en las condiciones
experimentales de temperaturas próximas a las condiciones de
temperatura de establecimiento de medidas patrón, lo que permite
liberarse de las incertidumbres ya destacadas entre la
concentración de un material y la intensidad de sus líneas durante
las variaciones de temperatura del plasma.
En una forma de realización, se modifica el
retardo de adquisición (td), es decir, el retardo entre el pulso de
ablación láser y la medida de intensidades de líneas en el plasma,
para modificar R(T), la relación representativa de la
temperatura del plasma.
Según una forma de realización, se utiliza un
elemento trazador distinto del elemento que se va a medir.
En una forma de realización, se indica la
variación de la concentración del elemento que se va a medir en
tablas de forma que, para una misma relación R(T)
representativa de la temperatura, medidas de la intensidad de al
menos una línea del elemento que se va a medir son función de
diferentes concentraciones de este elemento que se va a medir
presente en los materiales patrón.
Según una forma de realización, a partir de las
tablas, se establecen curvas que relacionan las medidas de la
intensidad de al menos una línea del elemento que se va a medir en
función de diferentes concentraciones de este elemento que se va a
medir, por ejemplo, por medio de una regresión de tipo lineal o de
orden 2.
En una forma de realización, se usa un método de
normalización de la masa ablada y/o un método de normalización con
respecto al elemento preponderante o un elemento de concentración
conocida.
Según una forma de realización, se determina la
concentración de un elemento que se va a medir efectuando la media
de medidas obtenidas por diferentes disparos de haz de laser.
En una forma de realización, se usa como
elemento trazador el propio elemento que se va a medir.
La invención se refiere igualmente a un sistema
de análisis físico-químico de un material durante su
ablación por un pulso láser, usando este sistema la relación de las
intensidades de dos líneas de emisión de un elemento trazador
procedentes del plasma generado por el haz de láser, caracterizado
porque comprende medios para determinar la concentración de un
elemento que se va a medir en este plasma por medio de medidas
patrón que indican la correspondencia entre la concentración de
este elemento que se va a medir, la variación de la intensidad de
una línea de emisión y diferentes relaciones R(T) entre las
intensidades de dos líneas del elemento trazador, siendo estas
relaciones representativas de la temperatura del plasma.
\newpage
Otras características y ventajas de la invención
serán evidentes con la descripción efectuada más abajo, a título
ilustrativo y no limitativo, efectuada en referencia a las figuras
adjuntas en las que:
la fig. 1, ya descrita, representa una variación
de temperatura de un plasma después de una ablación láser, en
función del tiempo;
la fig. 2, representa un sistema conforme a la
invención;
la fig. 3, representa curvas de calibración
determinadas según la invención.
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El procedimiento de análisis
físico-químico por ablación láser puesto en práctica
por un sistema 20 (figura 2) conforme a la invención comprende
medios, por ejemplo, un ordenador 21, para determinar la
concentración de un elemento que se va a medir en un material por
medio de medidas previas que representan la variación de la
concentración de este elemento en función de la variación de la
intensidad de al menos una línea de emisión y de diferentes
relaciones R(T) entre las intensidades de dos líneas de un
elemento trazador, siendo estas relaciones representativas de la
temperatura del plasma.
Con este fin, un haz de láser 22 se enfoca sobre
un material 24 que se va a analizar. El calentamiento de la
superficie de este material 24 induce la creación de un plasma
emisor de de luz compuesta por líneas de diferentes longitudes de
onda, siendo cada longitud de onda de emisión característica de una
transición atómica determinada y, por tanto, de un elemento.
La radiación 26 se recupera, en este ejemplo,
por una fibra óptica 28 analizada después por un espectrómetro 30.
Una cámara 32 permite medir la intensidad de las líneas de emisión
en un intervalo de tiempo elegido por el usuario, permitiendo la
intensidad de las líneas de emisión obtener, a partir de curvas de
calibración, información sobre la composición del material.
Con este fin, se supone que el plasma está en
equilibrio termodinámico local (LTE), lo que permite utilizar la
ley de Boltzmann que describe la evolución de la población de los
niveles electrónicos de los átomos y de los iones. Esta condición
se cumple, en general, cuando la medida de los fotones emitidos por
el plasma se realiza tiempo después suficiente tras el disparo
láser (típicamente de 250 ns a 1 \mus), llamándose este retardo
respecto a la ablación láser retardo de adquisición t_{d}.
Por otra parte, la duración durante la cual se
efectúa el recuento de fotones se denomina duración de adquisición
t_{g} (típicamente de 250 ns a 10 \mus).
Durante esta duración de adquisición, la
intensidad medida de una línea a la longitud de onda \lambda de
un elemento i se puede escribir con la fórmula:
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\vskip1.000000\baselineskip
Donde h es la constante de Planck, c la
velocidad de la luz en el vacío, \lambda la longitud de onda de
los fotones emitidos para esta transición, C_{i} la concentración
atómica o iónica del elemento i en el plasma, N_{0} el número
total de átomos y de iones presentes en el plasma,
Z_{i}(T) la función de partición del elemento i a una
temperatura T, gA la probabilidad para la transición considerada,
E_{j} la energía del nivel superior de la transición, k la
constante de Boltzmann, T la temperatura del plasma y
K(\lambda) un factor que tiene en cuenta los rendimientos
de detección de la emisión del plasma.
Es evidente, por tanto, que la intensidad de una
línea de emisión depende de los parámetros espectroscópicos
(\lambda, Z_{i}(T), gA, E), de K(\lambda) y de
las características del plasma (C_{i}, N_{0}, T), pudiendo
medirse esta intensidad experimentalmente.
Los parámetros espectroscópicos son generalmente
conocidos o se pueden eliminar durante la medida relativa con
respecto a un patrón.
De forma análoga a los parámetros
espectroscópicos, el factor de proporcionalidad K(\lambda)
se puede eliminar durante la medida relativa usando las curvas de
calibración.
Para conocer la concentración C_{i} del
elemento que se va a analizar, sólo quedan, por tanto, dos
parámetros restantes desconocidos que son la temperatura del plasma
T y el número total de átomos y de iones N_{0} que participan en
el plasma.
Según la invención, aplicando la ecuación de
Boltzmann (1) y para un mismo elemento, la relación de intensidad
de las dos líneas de emisión se puede escribir:
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\vskip1.000000\baselineskip
donde los índices "_{1}" y
"_{2}" designan respectivamente los parámetros que se aplican
a la transición 1 y 2 del elemento trazador, I_{1} y I_{2} son
las intensidades de las dos líneas del elemento trazador
considerado, mientras que esta relación R(T) evoluciona
porque la temperatura disminuye con el tiempo, como ya se ha
mostrado en la figura
1.
Luego, se usa R(T) como parámetro
representativo de la temperatura del plasma en el momento de la
adquisición, lo que permite crear un ábaco a partir de una curva de
calibración usual pero a la cual se añade una dimensión adicional,
siendo esta dimensión adicional la relación R(T) que
caracteriza la temperatura del plasma.
Típicamente, la adquisición comienza entre 250
ns y 1 \mus después de la ablación láser y el intervalo de
exposición de la cámara varía entre 250 ns y 10 \mus.
Según otras variantes, se puede usar al menos
uno de los elementos siguientes en el sistema: un policromador o un
espectrómetro tipo "echelle", una recogida de la señal
directamente por lentes o directamente por fibra o incluso un
enfoque del haz de láser por medio de un objetivo de microscopio en
vez de por lentes clásicas.
Las adquisiciones de líneas se pueden efectuar
de modo secuencial, disparo a disparo, también pueden resultar de
una media o de una suma de varias adquisiciones efectuadas en
condiciones análogas de análisis.
Conviene señalar que el elemento trazador usado
para calcular R(T) puede ser el propio elemento que se va a
medir.
Ábacos conforme a la invención, tal como los
representados en la figura 3 y detallados posteriormente, presentan,
por tanto, la intensidad de una línea en función, por una parte, de
la concentración del elemento que se va a medir y, por otra parte,
de la relación de dos líneas de un elemento trazador.
I=f([C],
R(T))
La creación de un ábaco de este tipo se efectúa
a partir de materiales patrón que contienen cada uno el elemento
trazador en una concentración cualquiera y el elemento que se va a
medir en diferentes concentraciones conocidas.
Midiendo para cada material patrón la intensidad
de una línea de emisión del elemento que se va a medir en función
de la concentración del elemento que se va a medir y de la relación
R(T), los resultados se pueden presentar en forma de tabla
del tipo: I=f ([C], R(T)).
En el ejemplo de la tabla (A) anterior, se miden
tres líneas de emisión (una línea del elemento que se va a analizar
y dos líneas del elemento trazador) para un retardo de adquisición
t_{d1} con el primer patrón de concentración C_{1}.
Luego se determina el valor de R(T)
(R_{1}(T_{1})) y se traslada el valor de intensidad de la
línea del elemento que se va a medir a la tabla.
Repitiendo esta medida con otro retardo
t_{d2}, se obtiene un nuevo valor de la intensidad así como un
nuevo valor de R (R_{2}(T_{2})), siendo este nuevo valor
igualmente trasladado a la tabla.
La operación prosigue con tantas medidas como se
desee y para todos los otros patrones requeridos, debiendo los
valores Ri(Ti) medidos ser iguales a los valores obtenidos
con el primer patrón con incertidumbres cercanas.
En el caso de que el valor R(T) no sea
exactamente igual al valor R_{i}(T_{i}) del primer patrón
para el mismo retardo t_{di}, es posible ajustar ligeramente el
retardo t_{di} de manera que se hagan coincidir los valores de
R_{i}(T_{i}) con los valores obtenidos por el primer
patrón.
Una vez construida, la tabla permite obtener
curvas de calibración, por ejemplo, efectuando una regresión de
tipo lineal o potencial de orden 2 entre los puntos medidos. Las
curvas con estos parámetros se pueden escribir de la forma
I(R)= a_{2}(R).C^{2} + a_{1}(R).C +
a_{0}(R). En caso de que las curvas de calibración sean
rectas, las ecuaciones se escriben de manera más simple de la forma
I(R)= a1(R).C + a0(R). Los parámetros a2, a1,
a0 se determinarán a partir de los puntos medidos.
Cada curva corresponde entonces a una
temperatura de plasma caracterizada por la relación
R_{i}(T_{i}). La figura 3 representa las tres curvas
R_{i}(T_{i}) obtenidas según el procedimiento descrito
anteriormente.
Durante la creación del ábaco y en el caso de
que la cantidad de materia ablada sea diferente para los diferentes
patrones, es posible usar además un método de normalización de la
masa ablada y/o un método conocido de normalización respecto al
elemento preponderante o un elemento de concentración conocido.
En este último caso, las intensidades de líneas
de los elementos que se van a medir se dividen por la intensidad de
una línea del elemento mayoritario.
I_{i\_normalizada} =
\frac{I_{i}}{I_{elemento\_máx}}
Otro método conocido permite tener en cuenta la
cantidad de materia ablada normalizando la suma de las
concentraciones.
Con este fin, se multiplican las concentraciones
de los elementos medidos por un mismo coeficiente \alpha tal
que
\alpha\sum(C_{i})=1, pero este procedimiento presenta el inconveniente de requerir la medida de todos los elementos presentes en el material que se va a analizar.
\alpha\sum(C_{i})=1, pero este procedimiento presenta el inconveniente de requerir la medida de todos los elementos presentes en el material que se va a analizar.
Cuando los análisis tienen lugar a presión
atmosférica, es posible relacionar de forma lineal la masa ablada
con la intensidad de la onda sonora emitida por la creación del
plasma, como describe M. Chaléard en la publicación ya
mencionada.
Luego, el uso del ábaco para el análisis de una
muestra desconocida no requiere más que la medida de las
intensidades simultáneas de la línea de interés del elemento que se
va a medir y de las dos líneas del elemento trazador para un retardo
t_{d} cualquiera.
Está claro que conviene, en este caso, situarse
en las condiciones en las que la relación
señal-ruido sea la mejor.
Como ya se ha indicado, la relación de las dos
líneas (I_{1}/I_{2}=R_{medida}) permite saber en qué curva
se debe hacer la lectura y así, trasladando el valor de la
intensidad medida a la curva R_{medida}, deducir la concentración
del elemento.
Por ejemplo, en la figura 3, suponemos que una
medida de la intensidad de un elemento que se va a medir ha
revelado una intensidad de 2250 u.a. (unidades arbitrarias) para
condiciones experimentales tales que R_{medida}=R_{2}.
Cuando el valor R_{medida} se sitúa entre dos
valores patrón del ábaco, es posible bien usar una interpolación
lineal o bien jugar con el retardo t_{d} para situarse exactamente
en el caso R_{medida}=R_{1} o R_{2} o R_{3}.
En el caso de que R_{medida}=R_{2} de la
figura 3, una interpolación lineal de la curva R_{2} permite
determinar, proyectando el valor de la intensidad sobre la curva
R_{2}, que la concentración del elemento que se va a medir es de
aproximadamente el 65% del material analizado.
El procedimiento puede, ventajosamente, ponerse
en práctica por un ordenador o un microprocesador que puede estar
bien integrado en el sistema de la figura 3, especialmente en el
espectrofotómetro, o bien alejado para permitir un análisis a
distancia y/o a posteriori de las medidas.
En resumen, es claramente evidente que las
ventajas de un procedimiento o de un método conforme a la invención
son numerosas, a saber:
- -
- el método necesita una diversidad reducida de patrones en el sentido físico-químico para el análisis de materiales de características físico-químicas muy variadas.
Durante la creación del ábaco para un mismo
patrón, la cantidad de materia ablada es siempre la misma cualquiera
que sea el valor de R. Además,
- El método se aplica al material de composición
físico-química completamente desconocida.
- El método se aplica cuando la energía del
láser depositada sobre la superficie es diferente de la usada
durante la creación de los ábacos.
- El elemento trazador puede ser uno de los
propios elementos que se van a analizar.
- Este método es preciso porque funciona en
relativo, como las técnicas de calibración clásicas. No hay cálculo
del parámetro K(\lambda) ni determinación de datos
espectroscópicos gA_{i} y Z_{i}(T), siendo estas
determinaciones fuentes de error.
- El método permite una ganancia de tiempo
durante las medidas (mayor necesidad de una calibración sistemática
para cada tipo de material que se va a analizar).
- El método permite liberarse de la necesidad de
disponer de patrones representativos (a veces inexistentes).
- El método permite aumentar el campo de
aplicación de la técnica haciendo posible el análisis de muestras
heterogéneas o de matrices desconocidas.
La presente invención se refiere a todos los
métodos de análisis que usan la emisión óptica de un plasma y, en
particular, a la técnica LIBS. A título de ejemplo, la invención se
puede aplicar en industria metalúrgica para el control en línea de
aleaciones fundidas o sólidas, en la industria del plástico para el
control de calidad o la clasificación de plásticos, en la industria
farmacéutica para controlar la composición de los productos a la
salida de la cadena, en el campo de la clasificación de residuos
como el plástico o los metales, en las medidas medioambientales
(control de la atmósfera, de suelos, de aguas), en geología durante
análisis rápidos de rocas, en la industria nuclear, especialmente
en el análisis a distancia y sin contacto de sólidos o líquidos, en
el mantenimiento o protección del patrimonio, por ejemplo, durante
dataciones y/o análisis del origen de las pinturas, en la
realización de cartografía por técnica LIBS.
Claims (10)
1. Procedimiento de análisis
físico-químico de un material (24) durante su
ablación por un pulso láser (22), usando este procedimiento la
relación de las intensidades de dos líneas de emisión de un elemento
trazador procedentes del plasma generado por el pulso láser (22),
caracterizado porque se determina la concentración de un
elemento que se va a medir en este plasma por medio de medidas
patrón que indican la correspondencia entre la concentración de
este elemento que se va a medir y la intensidad de una línea de
emisión, por una parte, y diferentes relaciones R(T) entre
las intensidades de al menos dos líneas del elemento trazador, por
otra parte, siendo estas relaciones representativas de la
temperatura del plasma.
2. Procedimiento según la reivindicación 1,
caracterizado porque se modifica el retardo de adquisición
(td), es decir, el retardo entre el pulso de ablación láser y la
medida de intensidades de líneas en el plasma, para modificar la
relación R(T) representativa de la temperatura del
plasma.
3. Procedimiento según la reivindicación 1 o 2,
caracterizado porque se utiliza un elemento trazador distinto
del elemento que se va a medir.
4. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 1 o 2, caracterizado porque se usa como
elemento trazador el propio elemento que se va a medir.
5. Procedimiento según una de las
reivindicaciones precedentes, caracterizado porque se indica
la variación de la concentración del elemento que se va a medir en
tablas de forma que, para una misma relación R(T)
representativa de la temperatura, las medidas de la intensidad de
al menos una línea del elemento que se va a medir son función de
diferentes concentraciones de este elemento que se va a medir
presente en los materiales patrón.
6. Procedimiento según una de las
reivindicaciones precedentes, caracterizado porque, a partir
de tablas, se establecen curvas que relacionan las medidas de la
intensidad de al menos una línea del elemento que se va a medir en
función de diferentes concentraciones de este elemento que se va a
medir, por ejemplo, por medio de una regresión de tipo lineal o de
orden 2.
7. Procedimiento según la reivindicación 5 o 6,
caracterizado porque se usa un método de normalización de la
masa ablada y/o un método de normalización con respecto al elemento
preponderante o un elemento de concentración conocida.
8. Procedimiento según una de las
reivindicaciones precedentes, caracterizado porque se
determina la concentración de un elemento que se va a medir
efectuando la media de medidas obtenidas por diferentes disparos de
haz de laser.
9. Sistema de análisis
físico-químico de un material durante su ablación
por un pulso láser, usando este sistema la relación de las
intensidades de dos líneas de emisión de un mismo elemento trazador
procedentes del plasma generado por el haz de láser,
caracterizado porque comprende medios para determinar la
concentración de un elemento que se va a medir en este plasma por
medio de medidas patrón que indican la correspondencia entre la
concentración de este elemento que se va a medir y la variación de
la intensidad de una línea de emisión, por una parte, y diferentes
relaciones R(T) entre las intensidades de dos líneas del
elemento trazador, por otra parte, siendo estas relaciones
representativas de la temperatura del plasma.
10. Medios de software destinados al análisis
físico-químico de un material durante su ablación
por un pulso láser, usando estos medios de software la relación de
las intensidades de dos líneas de emisión de un elemento trazador
procedentes del plasma generado por el haz de láser,
caracterizados porque determinan la concentración de un
elemento que se va a medir y diferentes intensidades de una línea de
emisión, por una parte, y diferentes relaciones R(T) entre
las intensidades de dos líneas del elemento trazador, por otra
parte, siendo estas relaciones representativas de la temperatura
del plasma, según el procedimiento según una de las reivindicaciones
1 a 8.
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
| FR0550533 | 2005-02-28 | ||
| FR0550533A FR2882593B1 (fr) | 2005-02-28 | 2005-02-28 | Procede et systeme d'analyse physicochimique a l'aide d'une ablation par pulse laser |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2313640T3 true ES2313640T3 (es) | 2009-03-01 |
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| ES06726196T Active ES2313640T3 (es) | 2005-02-28 | 2006-02-22 | Procedimiento y sistema de analisis fisico-quimico con la ayuda de una ablacion por pulso laser. |
Country Status (8)
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