ES2272172B1 - Procedimiento para la obtencion de patrones en un sustrato organico conductor y material de naturaleza organica asi obtenido. - Google Patents

Procedimiento para la obtencion de patrones en un sustrato organico conductor y material de naturaleza organica asi obtenido. Download PDF

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Abstract

Procedimiento para la obtención de patrones en un sustrato orgánico conductor y material de naturaleza orgánica así obtenido. La presente invención se refiere a un procedimiento químico que permite de manera directa el diseño de un patrón sobre un sustrato orgánico con propiedades conductoras de tipo semiconductoras, superconductoras o metálicas. La invención también se refiere al material de naturaleza orgánica así obtenido para su aplicación en dispositivos electrónicos tales como resistencias, condensadores, transistores, sensores o electrodos entre los más habituales, u otras aplicaciones en las que sea preciso un patrón determinado de zonas conductoras o semiconductoras respecto zonas menos conductoras o no conductoras o aislantes.

Description

Procedimiento para la obtención de patrones en un sustrato orgánico conductor y material de naturaleza orgánica así obtenido.
Campo de la invención
La presente invención se refiere a un procedimiento para la obtención de patrones en un sustrato orgánico con propiedades conductoras de tipo semiconductoras, superconductoras o metálicas.
La invención también se refiere al material de naturaleza orgánica así obtenido para su aplicación en dispositivos electrónicos tales como resistencias, condensadores, transistores, sensores o electrodos entre los más habituales, u otras aplicaciones en las que sea preciso un patrón determinado de zonas conductoras o semiconductoras respecto zonas menos conductoras o no conductoras o aislantes.
Antecedentes de la invención
Por lo general, los componentes de dispositivos electrónicos se basan en semiconductores inorgánicos y, en particular, en el silicio.
Sin embargo, debido a las características y a las limitaciones de la tecnología del silicio, actualmente se está dedicando un gran esfuerzo científico al desarrollo de la electrónica molecular y de la electrónica basada en materiales plásticos. Los dispositivos electrónicos de naturaleza orgánica ofrecerían propiedades como son flexibilidad, bajo peso, moldeabilidad, manufacturabilidad, bajo coste y bio-compatibilidad comparadas con las de los dispositivos electrónicos actuales basados en silicio.
No obstante, para poder utilizar materiales orgánicos en dispositivos de diversa índole como, por ejemplo, chips es imprescindible desarrollar técnicas que permitan diseñar a voluntad un patrón (lo que se conoce como patterning), las cuales deben ser compatibles con las etapas de procesamiento y permitan además diseñar los circuitos.
Las técnicas existentes de fabricación de patrones o patterning de materiales orgánicos pueden dividirse en cuatro grupos:
1) Litografía óptica: Esta técnica se basa en transferir una forma geométrica de una máscara a un sustrato. Para conseguir este propósito, se cubre el sustrato con un material polimérico determinado y, seguidamente, se expone a radiaciones de ultravioleta a través de la máscara. La parte expuesta a la radiación sufre una modificación en las propiedades de solubilidad del polímero de forma que éste puede volverse más o menos soluble en un determinado disolvente orgánico. La parte del polímero que queda más soluble se puede entonces eliminar por disolución dejando así un patrón en el sustrato. De este modo, es posible depositar un material orgánico sobre las zonas no recubiertas por el material polimérico. Finalmente, por disolución con otro disolvente se puede eliminar la parte restante del polímero quedando en el sustrato el material orgánico con el patrón deseado.
Otra alternativa de esta técnica consiste en exponer a una radiación ultravioleta directamente el compuesto orgánico con el que se desea hacer el patterning. Este proceso, sin embargo, puede resultar en un deterioro químico o físico de la película del material orgánico.
Una de las principales desventajas de estas técnicas es que se requiere utilizar disolventes orgánicos que pueden deteriorar los materiales orgánicos. Además, es un proceso con un coste por unidad de área relativamente elevado y el tamaño del sustrato se ve limitado por el área que se puede exponer a la radiación y por la longitud de onda de la radiación que determina, en parte, el nivel máximo de resolución lateral que se puede alcanzar con esta técnica.
2) Utilización de máscaras: Esta técnica se basa en la evaporación de un material orgánico sobre un sustrato a través de una máscara que contiene un patrón. Éste es un proceso seco debido a que no se utilizan disolventes orgánicos que pueden modificar o deteriorar el material activo. La limitación de la técnica es el tamaño de la máscara que típicamente tiene una resolución de unas 25-30 micras, aunque se pueden mejorar mediante la realización de evaporaciones aplicando ángulos. Otra de las limitaciones es que el material orgánico debe evaporarse a una temperatura a la que no se descomponga, lo que a veces no es posible realizar si no es a presiones de trabajo muy reducidas.
3) Técnicas de impresión: Estas técnicas son de un gran interés para la preparación de dispositivos de bajo coste y que requieran recubrimiento de grandes áreas y sustratos flexibles. Entre estas técnicas encontramos:
Screen printing: Consiste en hacer pasar una disolución de un material orgánico a través de una superficie con una máscara. La resolución se limita a estructuras de 75 micras.
Ink-jet printing: Se basa simplemente en sustituir la tinta de una impresora por una disolución de un material orgánico. Las estructuras más pequeñas posibles de dibujar son de unas 25 micras, pero se puede llegar a tamaños de canales de 200 nm si se usan procesos de ruptura de la película orgánica debido a interacciones molécula-sustrato.
Laser thermal transfer printing: Es un proceso seco utilizado para la impresión de grandes áreas. Se basa en transferir una película orgánica por métodos ablativos. Se parte de una película multicapa y se irradia con un láser de infrarrojo sobre la parte posterior de una película en las zonas que se desea transferir un polímero a un sustrato. La radiación se convierte en calor y provoca la formación de burbujas de aire en las zonas en las que el material orgánico descompone. Éstas, consecutivamente, empujan el polímero orgánico sobre el sustrato receptor sin descomponer ni alterar el polímero orgánico.
Microcontact printing: Es un proceso de impresión por microcontacto en el que se transfiere materiales de un sello a un sustrato inducido por las interacciones a escala nanométrica entre el sustrato y el sello. Se pueden tener resoluciones de hasta unos 30 nm.
Embossing: Proceso utilizado para imprimir microestructuras en materiales termoplásticos.
Cold Welding: Hace referencia a la formación de un enlace metálico entre dos superficies metálicas al aplicar presión.
Soft Lamination of Electrodes: Se diseñan los electrodos independientemente en un sustrato y, en una segunda etapa, se hace un laminado de estos sobre un sustrato.
Hot Lift-Off: Es un método sustractivo en el que un sello patrón formado por un polímero epoxi se presiona encima de una película orgánica y se calienta. Una vez se quita el sello, se quita también la parte de la película que ha estado en contacto con éste ya que queda adherida.
4) Polimerización electroquímica selectiva: Películas de polímeros conductores orgánicos se pueden formar por electropolimerización partiendo de soluciones de los monómeros precursores.
En la patente EP134026 se describe un método para la fabricación de una película continua de material compuesto que posee una superficie conductora eléctrica formada por complejos orgánicos de transferencia de carga y el seno de la película se compone de un polímero aislante o semiconductor. Para su obtención se prepara una solución sólida de un compuesto dador y/o aceptor de bajo peso molecular y un polímero no conductor. Por tratamiento con vapores de un disolvente orgánico el polímero reblandece y el material orgánico migra hacia la superficie cristalizando en ella y dando lugar a una superficie conductora.
Sin embargo, con este procedimiento se obtiene una película conductora continua sin contener ningún patrón.
Por lo tanto, quedan todavía aspectos por resolver si se desea, a partir de estas películas conductoras continuas, la obtención de componentes electrónicos de naturaleza orgánica con un diseño de un patrón adecuado para su posterior aplicación.
Breve descripción de la invención
Un primer aspecto de la invención es proporcionar un procedimiento químico que permita la obtención de patrones sobre un sustrato orgánico con propiedades conductoras de tipo semiconductoras, superconductoras o metálicas (en la presente descripción denominado a partir de este punto "sustrato orgánico conductor") a partir de una fuente de calor.
De acuerdo con el primer aspecto de la invención se proporciona un procedimiento de obtención de patrones que permite de manera directa el diseño de un patrón sobre un sustrato orgánico conductor.
Un segundo aspecto de la invención es el material de naturaleza orgánica obtenible a partir del procedimiento definido según el primer aspecto de la invención. De acuerdo con el segundo aspecto de la invención se proporciona un material de naturaleza orgánica con diferentes propiedades eléctricas en su superficie diseñadas a medida.
Descripción detallada de la invención
En la presente invención por:
Sustrato orgánico conductor se entiende una sal o complejo de transferencia de carga con propiedades conductoras que comprende una molécula B y un dopante F, donde
dicha molécula B es una molécula o macromolécula orgánica dadora o aceptora de electrones capaz de formar una sal o complejo conductor pero que sin estar dopada no presenta conductividad y
dicho dopante F es un compuesto aceptor o dador de electrones, con propiedades oxidantes o reductoras, capaz de formar una sal o complejo conductor con la molécula o macromolécula B.
Dicha molécula o macromolécula B puede ser un derivado del aceno, del coroneno, del tetratiafulvaleno, del tetracianoquinodimetano o un polímero conjugado como el politiofeno, polianilina, polivinilfenileno, etc.
Preferiblemente, dicha molécula B es bis(etilentio)tetratiafulvaleno (BET-TTF), bis(etilenditxo)tetratiafulvaleno (BEDT-TTF) o bis(etilendioxo)tetratiafulvaleno (BEDO-TTF).
Preferiblemente, dicho dopante F es una especie volátil. Ventajosamente, dicha especie volátil se selecciona entre yodo, bromo o bromuro de yodo.
Ventajosamente dicha sal se selecciona entre \alpha-(BEDT-TTF)_{2}I_{3} y \beta-(BET-TTF)_{2,5}I_{3}, donde BET-TTF es bis(etilentio)tetratiafulvaleno y BEDT-TTF es bis(etilenditio)tetratiafulvaleno.
De acuerdo con el primer aspecto de la invención se proporciona un procedimiento para la obtención de patrones sobre un sustrato orgánico conductor que comprende:
exponer un sustrato orgánico conductor a una fuente de calor,
donde dicho sustrato orgánico conductor es una sal o complejo conductor que comprende una molécula B y un dopante F, siendo dicha molécula B una molécula o macromolécula orgánica dadora o aceptora de electrones capaz de formar una sal o complejo conductor y siendo dicho dopante F un compuesto aceptor o dador de electrones, preferiblemente volátil, capaz de formar una sal o complejo conductor con la molécula o macromolécula B,
de manera que tiene lugar una reacción térmica que modifica la composición química de dicho sustrato orgánico dejando zonas exentas de dopante F de acuerdo con la siguiente reacción:
B_{x}F \ \xrightarrow{\hskip0,5cm\textstyle{\Delta}\hskip0,5cm} x B + F
Opcionalmente, la fuente de calor puede aplicarse localizadamente sobre el sustrato orgánico conductor siguiendo un patrón diseñado a escala milimétrica, micrométrica o nanométrica, o bien de manera general en toda la superficie mediante la utilización de máscaras intermedias aislantes térmicamente que poseen el patrón determinado diseñado previamente.
Opcionalmente, también se puede utilizar una máscara sobre el sustrato orgánico que se calienta, de forma que en la parte de la máscara en contacto con el sustrato orgánico tiene lugar la reacción térmica.
Por lo tanto, forma parte del conocimiento general de un experto en la materia seleccionar el tipo de fuente de calor dependiendo de si dicha exposición se realiza de manera local como, por ejemplo, con radiación electromagnética, o se realiza de manera general en toda la superficie como, por ejemplo, con una fuente de calor luminosa o electrónica irradiada a través de la máscara.
El tipo de máscaras más utilizadas son de tipo polimérico, aunque forma igualmente parte del conocimiento general de un experto en la materia seleccionar el tipo de máscara más adecuada en función del tipo de fuente de calor
escogida.
De acuerdo con el procedimiento según el primer aspecto de la invención se proporciona un patrón deseado sobre la superficie conductora del sustrato orgánico utilizando una fuente de calor local, que puede consistir en una radiación láser o una punta caliente, o bien una fuente de calor no local si se utiliza una máscara intermedia.
Forma igualmente objeto de la presente invención, llevar a cabo el procedimiento según el primer aspecto sobre un sustrato orgánico conductor que comprende un sustrato base de distinta naturaleza. Dicho sustrato base puede ser una capa de distinta composición a la del sustrato orgánico conductor íntimamente unida a éste o una capa adherida por medios físicos o químicos al sustrato orgánico conductor.
Sorprendentemente, con el procedimiento de la invención se obtiene un patrón a partir de una reacción química, definida más arriba, en la que el calor provoca la eliminación del dopante F dejando consecuentemente a su paso una superficie no conductora. Así, por ejemplo, el dopante F se elimina por evaporación cuando éste es una especie
volátil.
El resultado final es, por lo tanto, la obtención de un material de naturaleza orgánica con diferentes propiedades conductoras en su superficie diseñadas por un patrón previamente escogido a la medida de las necesidades de la aplicación final de dicho material.
Forma parte igualmente objeto de la presente invención un material de naturaleza orgánica obtenible de acuerdo con el primer aspecto de la invención que comprende un sustrato base. Dicho sustrato base puede ser inorgánico como, por ejemplo, óxido de silicio, óxido de alúmina, metálico o polimérico y flexible, o sobre un cristal de tres dimensiones. Preferiblemente, dicho sustrato base es un polímero orgánico no conductor. Todavía más preferiblemente se selecciona entre policarbonato, polimetilmetacrilato, polietileno o polipropileno.
\newpage
Ventajosamente, con el procedimiento definido en el primer aspecto de la invención se evita la utilización de disolventes orgánicos sobre el material de naturaleza orgánica conductor y se evitan las etapas de transferencia del material entre diferentes sustratos ya que la obtención del patrón según el procedimiento de la invención se realiza directamente sobre la superficie deseada empleando una fuente puntual que genera calor localmente, como puede ser un rayo láser, una punta de microscopia de fuerza atómica, entre otras, u otro tipo de fuente de calor con presencia de una máscara térmicamente aislante intermedia.
Ventajosamente, con el procedimiento de la invención sólo se requieren pequeñas cantidades de material conductor lo que sin duda constituye un procedimiento muy económico, útil para la fabricación de patrones de elementos de circuitos electrónicos tales como resistencias, condensadores o transistores entre otros y también para el diseño de electrodos orgánicos o la fabricación de sensores.
Si bien no forma parte del objeto de la presente invención proporcionar un procedimiento para la obtención de dicho sustrato orgánico conductor, se incluye a continuación de forma detallada una de las posibles vías para la obtención de un sustrato orgánico conductor, seguido de la obtención de patrones sobre dicho sustrato de acuerdo con el procedimiento de la invención.
Para mayor comprensión de dicha descripción detallada se define previamente que por:
Molécula orgánica B se entiende una molécula o macromolécula orgánica dadora o aceptora de electrones que puede formar una sal o complejo conductor. Preferentemente será un derivado del tetratiafulvaleno.
Polímero C se entiende un polímero orgánico no conductor y soluble en algún disolvente orgánico. Preferiblemente, este polímero será poli-carbonato, poli-metilmetracrilato, polietileno o polipropileno.
Disolvente D se entiende cualquier disolvente en el que B y C son solubles a una determinada temperatura y que no altera estos dos compuestos.
Disolución A se entiende la disolución homogénea de B, C y D. Cuando se deposita dicha solución sobre un sustrato y se deja evaporar el disolvente se obtiene la película sólida A'.
Película A' se entiende una solución sólida, por lo general, formada por B y C, pudiendo quedar también una proporción residual del disolvente D atrapado.
Disolvente E se entiende un disolvente orgánico volátil que solubiliza el dopante F.
Dopante F se entiende un compuesto aceptor o dador de electrones que puede tener propiedades oxidantes o reductoras capaz de formar una sal o complejo conductor con la molécula o macromolécula B. Preferiblemente es una especie volátil como el iodo, bromo o el bromuro de iodo.
Sustrato orgánico conductor es una sal o complejo BF de transferencia de carga formada por la molécula o macromolécula B y el dopante F y que presenta propiedades conductoras (semiconductora, superconductora o metálica).
Para la obtención del sustrato orgánico conductor se llevan a cabo las siguientes etapas:
1) Preparación de una disolución sólida de A formada por una proporción, preferiblemente, de entre un 0,5 y un 4% en masa de una molécula o macromolécula orgánica B en un polímero no conductor C y en un disolvente orgánico D. Para la preparación de esta disolución puede ser necesario calentar la mezcla.
2) A partir de la disolución A se prepara una película sólida A' preferentemente por el método de drop-casting (deposición directa de la disolución sobre un sustrato) o por spin-coating (deposición de la disolución sobre un sustrato giratorio). En esta etapa también puede ser necesario el calentamiento del sustrato para evaporar el disolvente de la disolución.
3) La película A' se somete a exposición de vapores de un disolvente orgánico E que contiene un dopante volátil F. Este proceso induce un hinchamiento del polímero provocando una migración de la molécula o macromolécula B hacia la(s) superficie(s) que han sido tratadas. A su vez, la molécula o macromolécula B reacciona con el dopante F dando lugar a una sal o complejo BF que presenta propiedades conductoras.
La película o sustrato orgánico conductor también puede prepararse por otros métodos como puede ser por evaporación directa de los compuestos precursores B y F, dando lugar directamente a una película o sustrato orgánico conductor de la sal o complejo BF. Por consiguiente, las etapas 1-3 pueden modificarse.
Para la obtención de un patrón sobre dicho sustrato de acuerdo con el procedimiento de la invención se lleva a cabo otra etapa:
4) Dicha etapa consiste en exponer dicho sustrato orgánico conductor a una fuente de calor,
de manera que tiene lugar una reacción térmica que modifica la composición química de dicho sustrato orgánico dejando zonas exentas de dopante F de acuerdo con la siguiente reacción:
B_{x}F \ \xrightarrow{\hskip0,5cm\textstyle{\Delta}\hskip0,5cm} x B + F
Ventajosamente, con esta última etapa se consigue dibujar el patrón deseado sobre la superficie conductora del sustrato orgánico mediante la eliminación del dopante F.
El resultado es la obtención de un material de naturaleza orgánica que contiene un patrón diseñado a medida sobre un sustrato base que será un polímero flexible si la preparación de las películas se hace siguiendo el procedimiento descrito en las etapas 1-3 definidas más arriba.
El patrón de la superficie conductora puede ser especialmente diseñado para la preparación de elementos eléctricos como electrodos orgánicos o sensores o la preparación de elementos electrónicos como resistencia, condensador o transistor.
La resolución del procedimiento de la invención vendrá determinada por el diámetro del haz de la radiación en el caso que se utilice una fuente luminosa. Sin embargo, también se pueden llegar a resoluciones nanométricas si se utilizan puntas calientes de AFM o litografía de electrones.
Descripción de las figuras
La figura 1 muestra la resistencia medida sobre un sustrato orgánico conductor antes y después de llevar a cabo el procedimiento según el primer aspecto de la invención, siendo la longitud y anchura media de los ocho canales conductores de 75 y 8 micrómetros, respectivamente.
La figura 2 muestra el perfil en el análisis de contenido de azufre (S) e yodo (I), antes de llevar a cabo el procedimiento de la invención, de un sustrato orgánico conductor que comprende un sustrato base no conductor. A partir de dicha figura puede observarse que el sustrato, orgánico, en este caso la sal \beta-(BET-TTF)_{2,5}I_{3}, es conductor.
La figura 3 muestra los valores en el análisis por espectroscopia de dispersión de energía de rayos X (EDX) de la zona C conductora (oscura) y de la zona N-C no conductora (clara) formados al llevar a cabo el procedimiento de la invención.
Ejemplos
Ejemplo 1
Fabricación de patrones sobre películas basadas en \alpha-(BEDT-TTF)_{2}I_{3} y policarbonato
Se prepara una mezcla de 0,98 g de poli-(bisfenol-A-carbonato) (PC) y 0,02 g de bis(etilenoditio)-tetratiafulvaleno (BEDT-TTF) en 50 ml de 1,2-diclorobenceno y se calienta a 80ºC hasta disolución total. La solución resultante se deposita sobre una superficie de vidrio que se encuentra a 130ºC y se deja que se evapore el disolvente obteniendo así una película de unas 20 micras de grosor. A continuación, se expone la superficie de la película a vapores de una disolución saturada de yodo en cloruro de metileno. Esto da lugar a la formación de una capa superficial semiconductora formada por micro y nanocristales de la sal \alpha-(BEDT-TTF)_{2}I_{3}. Estas películas se han caracterizado por rayos X, microscopia electrónica y espectroscopia de dispersión de energía de rayos X (EDX). También se han caracterizado sus propiedades eléctricas; su conductividad a temperatura ambiente es de 10 S/cm.
Por irradiación con un láser Nd:Yag (1064 nm) directamente sobre la superficie conductora se dibuja el patrón deseado. El calor provocado por la radiación causa la eliminación del halógeno y, consiguientemente, la zona irradiada deja de ser conductora. Este hecho se ha verificado estudiando las respuestas corriente-voltaje obtenidas localmente con la punta de un microscopio de fuerza atómica. Por análisis de EDX también se ha comprobado que el porcentaje atómico relativo de azufre (proveniente del derivado de tetratiafulvaleno) y yodo pasa a ser de un 85% y un 15%, respectivamente, en las zonas no irradiadas, hasta un 98% y un 2%, respectivamente, en las zonas irradiadas. Esta pérdida de yodo es la causante de que la película deje de ser conductora.
Ejemplo 2
Fabricación de patrones y dispositivos electrónicos basados en \beta-(BET-TTF)_{2,5}I_{3} y policarbonato
Se disuelve a 80ºC en 50 ml de 1,2-diclorobenceno 0,98 g de poli-(bisfenol-A-carbonato) (PC) y 0,02 g de bis(etilenotio)tetratiafulvaleno (BET-TTF). La solución resultante se deposita sobre una superficie de vidrio que se encuentra a 130ºC y se deja que se evapore el disolvente, lo que resulta en la obtención de una película de grosor entre 15-30 micras. La superficie de la película se expone a vapores de una disolución saturada de yodo en cloruro de metileno, dando lugar a la formación en la superficie de una capa metálica formada por una malla basada en micro y nanocristales entrelazados de \beta-(BET-TTF)_{2,5}I_{3}. La caracterización de estas películas se ha llevado a cabo mediante rayos X, microscopia electrónica y espectroscopia de dispersión de energía de rayos X (EDX). Su conductividad a temperatura ambiente es de 10 S/cm. Por microscopio electrónico también se ha visto que el grosor de la capa conductora es de unas 1-1.5 micras.
Utilizando un láser Nd:Yag (1064 nm) directamente sobre la superficie conductora se dibuja el patrón deseado. También en este caso, la zona irradiada deja de ser conductora debido a que el calor provocado por la radiación causa la pérdida del halógeno. Este hecho se ha verificado nuevamente estudiando las respuestas corriente-voltaje obtenidas localmente con la punta de un microscopio de fuerza atómica. El resultado del análisis de EDX sobre el porcentaje atómico relativo de azufre y yodo es de un 83% y un 17%, respectivamente, en las zonas no irradiadas, y de un 93% y un 7%, respectivamente, en las zonas irradiadas.
Además, se han dibujado sobre la película elementos que podrían formar parte de circuitos electrónicos como son resistencias y condensadores, así como un posible diseño de electrodos orgánicos. Para ello, se irradió con el láser sobre la superficie conductora. El láser estaba alineado con un microscopio invertido de forma que el haz se enfocaba a través del objetivo sobre el portamuestras. La potencia sobre el plano de la muestra era de 0,9 mW, dando lugar a una densidad de potencia de aproximadamente 1 kW/cm^{2} utilizando un diámetro de haz de 5 micras. El movimiento del portamuestras relativo al haz del láser se monitorizó utilizando un controlador en dos direcciones. Esto permitió controlar la velocidad de movimiento así como la dirección de éste. La velocidad utilizada en este experimento fue de 360 \mum/s.

Claims (18)

  1. \global\parskip0.890000\baselineskip
    1. Procedimiento para la obtención de patrones sobre un sustrato orgánico conductor que comprende:
    exponer un sustrato orgánico conductor a una fuente de calor,
    donde dicho sustrato orgánico conductor es una sal o complejo conductor que comprende una molécula B y un dopante F, siendo dicha molécula B una molécula o macromolécula orgánica dadora o aceptora de electrones capaz de formar una sal o complejo conductor y siendo dicho dopante F un compuesto aceptor o dador de electrones capaz de formar una sal o complejo conductor con la molécula o macromolécula B,
    de manera que tiene lugar una reacción térmica que modifica la composición química de dicho sustrato orgánico dejando zonas exentas de dopante F de acuerdo con la siguiente reacción:
    B_{x}F \ \xrightarrow{\hskip0,5cm\textstyle{\Delta}\hskip0,5cm} x B + F
  2. 2. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado por el hecho de que dicha fuente de calor se aplica de forma local.
  3. 3. Procedimiento según la reivindicación 2, donde dicha fuente de calor se selecciona entre radiación láser, una punta caliente o un haz de electrones.
  4. 4. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado por el hecho de que dicha fuente de calor se aplica de forma general en toda la superficie con presencia de una máscara intermedia.
  5. 5. Procedimiento según la reivindicación 1 y 4, donde dicha fuente de calor se selecciona entre una fuente de calor luminosa o electrónica.
  6. 6. Procedimiento según la reivindicación 4, donde dicha máscara posee una naturaleza polimérica.
  7. 7. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado por el hecho de que dicha molécula B se selecciona entre un derivado del aceno, coroneno, tetratiafulvaleno, tetracianoquinodimetano o un polímero conjugado como el politiofeno, polianilina o polivinilfenileno.
  8. 8. Procedimiento según la reivindicación 7, caracterizado por el hecho que dicho derivado de tetratiafulvaleno se selecciona entre bis(etilentio)tetratiafulvaleno (BET-TTF), el bis(etilenditio)tetratiafulvaleno (BEDT-TTF) o bis(etilendioxo)tetratiafulvaleno (BEDO-TTF).
  9. 9. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado por el hecho de que dicho dopante F es una especie volátil.
  10. 10. Procedimiento según la reivindicación 9, caracterizado por el hecho de que dicha especie volátil se selecciona entre yodo, bromo o bromuro de yodo.
  11. 11. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado por el hecho de que dicha sal se selecciona entre \alpha-(BEDT-TTF)_{2}I_{3} y \beta-(BET-TTF)_{2,5}I_{3}, donde BET-TTF es bis(etilentio)tetratiafulvaleno y BEDT-TTF es bis(etilenditio)tetratiafulvaleno.
  12. 12. Material de naturaleza orgánica que puede obtenerse de acuerdo con el procedimiento definido en cualquiera de las reivindicaciones anteriores 1 a 11 que comprende un sustrato base.
  13. 13. Material según la reivindicación 12, caracterizado por el hecho de que dicho sustrato base se selecciona entre un óxido o compuesto inorgánico, un metal, o un material polimérico flexible o un cristal de tres dimensiones.
  14. 14. Material según la reivindicación 13, donde dicho material polimérico flexible es un polímero orgánico no conductor.
  15. 15. Material según la reivindicación 14, donde dicho polímero orgánico no conductor se selecciona entre policarbonato, polimetilmetacrilato, polietileno o polipropileno.
  16. 16. Utilización de un material de naturaleza orgánica que puede obtenerse de acuerdo con el procedimiento definido en cualquiera de las reivindicaciones anteriores 1 a 11 para la fabricación de un componente eléctrico o un componente electrónico.
  17. 17. Utilización según la reivindicación 16, donde dicho componente electrónico se selecciona entre una resistencia, condensador o transistor.
  18. 18. Utilización según la reivindicación 16, donde dicho componente eléctrico se selecciona entre un electrodo o un sensor.
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