ES2201925B1 - Un sistema automatizado y un procedimiento para el estudio de superficies con propiedades dependientes de la irradiacion fotonica. - Google Patents
Un sistema automatizado y un procedimiento para el estudio de superficies con propiedades dependientes de la irradiacion fotonica.Info
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Abstract
Un sistema automatizado y un procedimiento para el estudio de superficies con propiedades dependientes de la irradiación fotónica. El sistema permite caracterizar la superficie de un material, mediante un equipamiento y un protocolo de uso que, en conjunto generan: la expansión del haz láser, la división del haz para extraer una porción que permita medir su estabilidad, la focalización exacta de un haz fotónico sobre la superficie estudiada, la medida del ángulo entre el haz iluminante y la normal al plano de la superficie estudiada, el barrido punto a punto del spot de irradiación sobre la superficie estudiada, la medida promediada de cada una de las señales generadas en la transformación sufrida por la superficie fotodependiente así como la radiación reflejada especularmente, y la obtención de un mapa de la variación espacial de las diversas propiedades con una resolución limitada por la difracción del haz fotónico en el foco.
Description
Un sistema automatizado y un procedimiento para
el estudio de superficies con propiedades dependientes de la
irradiación fotónica.
Industria foto-electrónica y
foto-óptica.
Cuando un material, sistema, o dispositivo, con
una superficie con propiedades fotodependientes es iluminado por un
haz fotónico, parte de los fotones incidentes son absorbidos y
otra parte son reflejados bien especular o bien difusamente. A su
vez, de los fotones que son absorbidos una parte da lugar a la
generación de calor y otra parte genera una transformación de las
propiedades fotodependientes del material. Una forma de
caracterizar el material, sistema o dispositivo es medir qué parte
de la radiación incidente se refleja y qué parte se absorbe para
dar calor o para alterar sus propiedades fotodependientes.
Salvo muy contadas excepciones, la respuesta
generada por el dispositivo es integradora, es decir, con
independencia del tamaño de la zona iluminada o de su localización
física sobre la superficie fotoactiva, el canal de salida de la
información generada es único. Esto implica una pérdida de
información espacial, es decir, de la
foto-respuesta específica de cada punto de la
superficie activa.
Sin embargo, cuando queremos estudiar la
respuesta del sistema a nivel microscópico es necesaria la
obtención de la información con resolución espacial, es decir, con
discernimiento en función de su localización. Así, la presencia de
microheterogeneidades sea cual sea su origen o su evolución,
únicamente pueden ser estudiadas si es posible caracterizar la
respuesta del material, sistema o dispositivo punto a punto. Sólo
así es factible construir un mapa que informe sobre la variación
espacial de sus propiedades fotodependientes.
La utilización de un haz fotónico, estabilizado
en cuanto a su distribución espectral, espacial y de potencia,
para efectuar un barrido punto a punto sobre una superficie del
material fotosensible es una vía de acceso para la obtención de
estos mapas. Si, además, el haz fotónico está altamente focalizado,
es decir, la superficie iluminada es muy pequeña, el mapa de
fotodependencia tendrá una alta resolución espacial.
Efectivamente, cuanto más pequeña sea la
superficie iluminada por el haz de fotones, tanto más podremos
discernir entre puntos contiguos de la superficie activa. Es por
ello que una óptima focalización del haz de fotones incidentes es
condición imprescindible para la confección de mapas de
fotodependencia con alta resolución espacial.
Sin embargo, ésta no es la única condición para
la obtención de un mapa de foto-respuesta con alta
resolución espacial. También es necesario que el dispositivo
optomecánico esté libre de fluctuaciones tanto en su faceta óptica
como en la mecánica, ya que se debe poder controlar con precisión
la posición exacta donde se desea iluminar y la potencia de
irradiación con la que se está iluminando.
El láser, utilizado como fuente de iluminación,
constituye la solución más adecuada ya que, al tener una emisión
altamente monocromática, en forma de haz paralelo, con una mínima
divergencia y con una distribución gaussiana de potencia en el modo
TEM00, permite su focalización con una alta eficiencia y de acuerdo
a patrones matemáticos.
Si estas características del láser las unimos al
uso de elementos optomecánicos conformando caminos ópticos
sencillos, plataformas motorizadas con control informático para el
posicionamiento de los elementos más críticos, diseños mecánicos
que minimizan las fuerzas de torsión por efecto gravitacional,
sensores para el control de la potencia de irradiación, protocolos
adecuados para focalizar, posicionar y recorrer la superficie a
estudiar y medios informáticos, adecuadamente programados, para
controlar todo el sistema, leer datos de los sensores, operar
matemáticamente con ellos y tomar las decisiones más oportunas,
todo ello nos permite configurar un sistema con capacidad de
obtener mapas de alta resolución de la variación superficial de
las diversas propiedades fotodependientes que puede presentar un
material, sistema o dispositivo.
Existe una amplia diversidad de diseños que
sirven para obtener imágenes de foto-respuesta de
muestras macroscópicas a partir de la irradiación electromagnética
con haces de fotones. En general tienen como norma el sacrificio de
la alta resolución espacial en pos de una mayor rapidez o de un
mejor aprovechamiento de la capacidad de información global que es
posible obtener.
El hecho de tener que barrer o recorrer una
determinada superficie con un haz de fotones genera tres opciones
fundamentales en su diseño:
- a)
- la superficie se mantiene estática y es el haz fotónico el que se desplaza.
- b)
- el haz fotónico se mantiene estático y es la superficie la que se desplaza en torno al haz.
- c)
- sistemas mixtos en los que el haz de desplaza al igual que la superficie de una manera coordinada para cubrir la superficie deseada.
Los sistemas diseñados según la opción "a"
funcionan bajo la técnica de deflexión del haz y son, generalmente,
rápidos. Sin embargo presentan problemas en la focalización del haz
ya que, para barrer grandes superficies manteniendo una mínima
focalización, precisan lentes de elevada distancia focal, lo que
hace que la resolución espacial sea pequeña, llegando en algunos
casos a utilizar haces no focalizados [US4301409 (1981), L. Miller
Emmet]. En cuanto a la técnica usada para la deflexión del haz
puede ser muy variada desde el uso de pares de lentes simples que
se desplazan fuera del eje óptico del sistema [US3643015 (1972),
M.D. Egger] hasta el uso de modernas lentes telecéntricas que
permiten la salida de un haz que se desplaza paralelamente al eje
óptico cuando incide un haz con una inclinación axial sobre dicho
eje [US6072624 (2000), US5760951 (1998), US5381224 (1995), A. E.
Dixon y otros], pasando por sistemas de deflexión por medio de
pares de espejos que giran en ejes perpendiculares entre sí
[US5334540 (1994), DE4223129 (1992), JP4312942 (1991), Ishii
Tatsuya] [H. J. Hovel, Semicond. Sci. Technol. 7,
Al-A9, 1992]. En ocasiones no se especifica cuál
es la metodología empleada para focalizar o hacer que el haz recorra
una superficie, indicando sin más que existe un subsistema que se
encarga de este fin [US6177989 (2001), Bruce Michael]. Con estos
sistemas se obtienen imágenes de una forma rápida y a bajo coste,
sin embargo el haz o no está perfectamente focalizado a todo lo
largo de la superficie de la muestra o el spot de iluminación es muy
grande, obteniéndose con ello imágenes de escasa calidad.
Los inconvenientes de variar el ángulo de
deflexión se eliminan mediante los sistemas que trabajan según la
opción "b", es decir muestra móvil y haz estático. Estos son
generalmente más lentos que los anteriores [C. J. L. Moore and C. J.
Miner, J. Cristal Growth 103, 21-27, 1990] y la
velocidad de obtención de imágenes está limitada por la del
dispositivo soporte de la muestra. Sin embargo, como contrapartida,
las imágenes pueden obtenerse con una buena resolución espacial y
espectral. No obstante, en la mayoría de los equipos, su diseño no
está dirigido a la obtención de imágenes de alta resolución, sino
a la detección de anomalías e irregularidades en la superficie
estudiada como son las dislocaciones en las células solares
policristalinas o de AsGa [US5406367 (1995), US5581346 (1996),
US5757474 (1998), L. Sopori Bhushan], precisando, para ello,
introducir entre la lente focal y la muestra elementos ópticos
adicionales como divisores de haz o voluminosas esferas
integradoras. En este caso, la lente de focalización vuelve a ser
nuevamente de larga o muy larga distancia focal, generando haces
fotónicos en el foco de poca resolución espacial.
En otras ocasiones se confía en el cabezal de un
microscopio, bien directo o bien invertido, para conducir la
radiación y focalizarla sobre la superficie a estudiar [G. E.
Carver, Semicond. Sci. Technol. 7, A53-A58, 1992],
[US6154039 (2000), Wu Mingde Nevil], [, K. Nishioka, T. Yagi, T.
Hatayama, Y. Uraoka and T. Fuyuki, 17ª European Photovoltaic Solar
Energy Conference, Munich (2001)]. Estos sistemas pueden obtener
mejores resoluciones ya que precisan trabajar a las distancias de
focalización impuestas por el cabezal del microscopio, que suelen
ser pequeñas. En su contra podemos citar que al utilizar un bloque
óptico pensado para otros menesteres ven reducidas sus capacidades
en cuanto a la información que pueden suministrar, como son la
medida de la reflectancia especular o la medida de la estabilidad
de la radiación de excitación.
En cuanto a los sistemas que funcionan según el
modelo "c" es representativo el diseñado según un haz de
radiación que es deflectado siguiendo una trayectoria en forma de
arco al tiempo que una plataforma móvil se va desplazando en cada
barrido del haz [US6335824B1 (2002), James W. Overbeck]. Este
sistema pretende aunar las ventajas de los sistemas anteriores pero
genera una desventaja importante y es que los puntos analizados no
se encuentran según un patrón rectangular por lo que se deben
efectuar complejas e inciertas operaciones de interpolación para su
transformación.
Esta última referencia, junto con la referencia
[US5895915 (1999), Herman DeWeerd y otros], son ejemplos típicos
de sistemas en los que el objeto fundamental de la patente es el
desarrollo de un sistema de barrido, es decir de cómo hacer
recorrer un haz sobre una superficie, sin especificar su
aplicación. En el lado contrario tenemos los sistemas que
presentan un marcado objetivo de aplicación. Entre ellos destacamos
el grupo de los que su interés fundamental es la obtención de
imágenes ampliadas de la superficie estudiada haciendo las veces
de un microscopio, los cuales sólo tienen sentido cuando la
radiación reemitida o reflejada tiene un contenido informativo
como, por ejemplo, son los sistemas destinados al estudio de la
fotoluminiscencia. En muchos de estos casos, pierde sentido el
empleo de un haz que va barriendo la superficie, siendo sustituida
esta metodología por una iluminación amplia y una lectura de la
radiación reemitida mediante un dispositivo CCD ["Life time
mapping of Si-wafers by an infrared camera", M.
Ball y otros, Bavarian center for applied energy research,
University of Erlangen, Germany].
El otro grupo importante es el formado por
aquellos sistemas que están claramente enfocados a la detección de
imperfecciones en la superficie de sustancias semiconductoras en
aras a su eficacia en la construcción de dispositivos electrónicos
o células solares. En estos, es fundamental la discriminación de la
luz dispersada para distinguir entre el tipo de defectos
cristalinos que provocan esta dispersión [US5581346 (1996), Sopori
Bhushan L]. Estos sistemas se basan en la medida de la etch pit
density (EPD) como indicador del número de dislocaciones en el
sustrato cristalino. Estos dispositivos permiten la caracterización
de materiales semiconductores y fotovoltaicos y están basados en el
empleo de un spot de iluminación de gran superficie y en la
utilización de una esfera integradora. En [US4925298 (1990), Paolo
Dobrilla], [JP63304179 (1988), Awamura Daikichi] se compara la
radiación reflejada especularmente por la muestra, con una de
referencia para determinar la EPD. En [US5008542 (1991), C. Dudley
Scout y otros] se aplica una metodología equivalente pero usando
radiación transmitida. Para realizar este tipo de caracterización
en sustratos que sean policristalinos es importante discernir entre
la radiación dispersada por las dislocaciones y las dispersadas por
las fronteras de grano. Esta circunstancia constituye la
justificación principal de las invenciones [US5406367 (1995) y
US5757474 (1998), Sopori Bhushan L].
Finalmente, en la bibliografía podemos encontrar
diversos ejemplos de publicaciones científicas en los que se
muestran imágenes, normalmente de muy baja resolución, de
propiedades fotodependientes detectadas mediante un sistema de
barrido fotónico sobre su superficie. Sin embargo, no se especifica
nada sobre la instrumentación usada para obtener esa información,
tanto si es una instrumentación diseñada por el propio equipo de
investigación o si lo es bajo licencia de alguna de la patentes
existentes ["LBIC measurements on low cost back contact solar
cells", A. Kress y otros, Universitat Konstanz, Fachbereich
Physik, Germany], ["LBIC investigations of the life time
degradation by extended defects in multicrystalline solar
silicon", M. Rinio y otros, Institute for Experimental Physics,
TU Freiberg, Germany], ["Cello: an advanced LBIC measurements for
solar cell local characterization", J. Carstensen y otros,
Faculty of Engineering, Christian-Albrechts
University of Kiel, Germany], ["Mapping of metal contaminants in
photovoltaic grade silicon by X-ray
fluorescence", W, Seifert y otros. Institute of experimental
Physics, Technical University of Freiberg, Germany],
["Consideration of band bending and reduced optical transmittance
at grain boundaries in LBIC analysis", M. BouaYcha y otros,
Phys. Stat. Sol. (a), 175, 561 (1999)]
El sistema automatizado consta de los siguientes
elementos o subsistemas:
- 1.
- Plataforma de trabajo.
- 2.
- Subsistema de fotoexcitación.
- 3.
- Subsistema optomecánico de expansión del haz de radiación.
- 4.
- Subsistema de fotodetección de la potencia de excitación.
- 5.
- Subsistema motorizado de focalización.
- 6.
- Subsistema motorizado de posicionamiento de la superficie fotodependiente.
- 7.
- Subsistema de fotodetección de la señal de reflexión.
- 8.
- Subsistema de acondicionamiento de las señales fotodetectadas y fotodependientes.
- 9.
- Subsistema informatizado de medición y control.
Todos los elementos optomecánicos que se definen
en los puntos siguientes se encuentran anclados a la plataforma
(10) (figura 1). Esta plataforma es una superficie de trabajo
ópticamente plana, la cual está situada según un plano horizontal.
La superficie presenta una desviación en su planitud inferior a 150
micrómetros por metro y tiene mínimas deformaciones por causas
térmicas y de tensión mecánica. Está situada en un espacio físico
con una variación térmica menor de 0,1°C por metro. No es
relevante el sistema de anclaje de los elementos optomecánicos con
la condición de que, una vez anclados, no presenten variación en
su posición salvo las debidas a los efectos térmicos y de tensión
mecánica.
El sistema utiliza el láser (20) con emisión en
la zona del visible y no polarizada. La emisión (02) del láser
define el eje óptico de propagación principal del sistema al cual
se referirán todos los restantes elementos ópticos. El láser se
encuentra soportado sobre los puntos de apoyo (21) y (22) de forma
que ambos son regulables micrométricamente. Los tornillos (23) y
(24) regulan el paralelismo de la emisión respecto al plano de
trabajo mientras que los tornillos (25) y (26) regulan el ángulo
horizontal.
La emisión (02) emergente del láser (20) (figuras
1 y 2), es expandida hasta un diámetro superior a 8 mm, mediante el
empleo del sistema óptico expansor (30) compuesto por la lente
(simple o compuesta) (31), el filtro espacial (32) y la lente
(simple o compuesta) (33). Ambas lentes están situadas en
disposición coaxial y confocal y la lente (31) tiene una distancia
focal respecto a la lente (33) inferior a 1/6. La lente (33) está
situada sobre la plataforma de desplazamiento micrométrico (34)
para facilitar la confocalidad de ambas lentes. En el foco común de
ambas lentes está situado el filtro espacial (32), el cual elimina
radiaciones parásitas y define un foco emisor puntual. La emisión
láser expandida (03) tiene unas características de paralelismo,
divergencia y distribución de potencia similares a la de la
radiación (02) emergente del láser.
Asociado a este sistema pero no dispuesto de
forma permanente se encuentra el dispositivo fotosensor (35) que
permite visualizar y medir la anchura del haz láser emergente del
sistema expansor.
El haz láser emergente (03) de la lente (33)
incide sobre el elemento óptico divisor de haz (40) (figura 1),
construido con un material de alta transparencia (p.e. BK7), con
recubrimiento antirreflectante y preferiblemente no polarizador. La
radiación reflejada o secundaria (05) emergente del divisor de haz
(40) incide en el sistema de medición (41) constituido por el
difusor (42) y el dispositivo fotosensible (43). El dispositivo
fotosensible (43) está calibrado según una ley de proporcionalidad
entre la corriente eléctrica que se genera y la magnitud de la
irradiación recibida. La corriente eléctrica generada es conducida
mediante el cable apantallado (44) al sistema de acondicionamiento
de la señal (80).
La radiación trasmitida (04) a través del divisor
de haz (40) atraviesa el diafragma o abertura circular (45),
ajustado a un tamaño ligeramente inferior al del haz láser
expandido, proporcionando la emisión (06) como salida. Tanto el
divisor de haz (40) como el diafragma (45) están centrados en el
eje óptico principal de propagación del sistema.
La radiación (06) emergente del diafragma (45)
incide en el sistema de focalización (50) el cual está constituido
por la lente (51) y el sistema de posicionamiento motorizado (52).
La lente (51), que puede ser simple o compuesta tiene una distancia
focal inferior a 10 mm y está ópticamente centrada sobre el eje
óptico del sistema. Esta lente está fijada al sistema de
posicionamiento motorizado (52) cuyo eje de desplazamiento es
paralelo al eje óptico de irradiación y controlado por un motor de
giro discontinuo tipo paso a paso. El sistema de posicionamiento
cumple con los siguientes requisitos:
- \bullet
- resolución de paso de avance y retroceso mejor que 0.25 micrómetros.
- \bullet
- reproducibilidad de posicionamiento mejor que 1 micrómetro
- \bullet
- holgura en cabeceo inferior a 0,25 micrómetros.
El control del posicionamiento es atendido por el
ordenador (90) del cual depende el control informático.
La superficie activa del dispositivo con
propiedades fotodependientes (01), se sitúa perpendicularmente al
eje óptico del sistema mediante el soporte (60) y de forma que
sobre ella incida la radiación láser (07) procedente del sistema de
focalización (50). El soporte tiene un sistema de sujeción que no
permite desplazamientos incontrolados de la superficie activa
superiores a 0,1 micrómetros en cualquier dirección espacial. Este
soporte (60) está anclado a un sistema de posicionamiento motorizado
biaxial constituido por las plataformas (61) y (62). Ambas
plataformas tienen un movimiento independiente según dos ejes
espaciales perpendiculares entre sí y ambos perpendiculares al eje
óptico de propagación de la radiación.
La capacidad de movimiento de cada plataforma
tiene las siguientes características básicas:
\bullet resolución de paso de avance y
retroceso de 0,2 micrómetros para cada eje.
\bullet reproducibilidad de posicionamiento
mejor que 1 micrómetro.
\bullet holgura en cabeceo inferior a 0,25
micrómetros.
El sistema está diseñado para que las masas (01),
(60) y (63), suspendidas asimétricamente fuera del eje de
suspensión generen el mínimo par de fuerzas torsional por efectos
gravitacionales.
Acoplado a la superficie activa se encuentra el
transductor (63) que transforma la magnitud fotodependiente en una
corriente eléctrica proporcional al efecto fotodependiente generado
que, conexionado mediante el cable apantallado (64), permite la
medida de la corriente eléctrica generada.
Parte de la radiación incidente sobre la
superficie activa es reflejada especularmente. Cuando el objetivo
de focalización (51) se encuentra posicionado, respecto a la
superficie fotodependiente, a una distancia igual a la de su
distancia focal, la radiación reflejada especularmente viaja por
el mismo camino óptico que el de incidencia pero en sentido
opuesto. Esta radiación incide nuevamente en el divisor de haz (40).
La radiación (08), reflejada a 90° en el divisor de haz (40), es
dirigida hacia el sistema de detección (70) constituido por el
elemento difusor (71) y el dispositivo fotosensible (72). El
dispositivo fotosensible (72) está calibrado según una ley de
proporcionalidad entre la corriente eléctrica que se genera y la
magnitud de la irradiación recibida. La corriente eléctrica
generada es conducida al acondicionador de señal mediante el cable
apantallado (73). La radiación reflejada por la superficie
fotoactiva que no presenta características de reflexión especular
no es medida. Cuando el objetivo de focalización (51) se encuentra
posicionado, respecto a la superficie fotodependiente, a una
distancia distinta a la de su valor focal, se genera una reflexión
especular no coincidente con la trayectoria de incidencia por lo
que no es detectada por el sistema.
Todas las señales eléctricas generadas en los
fotodetectores (43) y (72), así como la señal eléctrica generada
por el transductor (63) acoplado al elemento fotoactivo (01) son
conducidas por los conductores apantallados (44), (73) y (64) hasta
el sistema acondicionador de señal (80). Este sistema transforma
la magnitud corriente eléctrica en una diferencia de potencial
proporcional a su valor, al tiempo que elimina señales secundarias
transitorias mediante filtros electrónicos. Las señales, una vez
acondicionadas, son conducidas, mediante el cable (81) con
apantallamiento antipararasitario al sistema conversor
analógico-digital (A/D) (91) con el fin de que
puedan ser medidas y utilizadas informáticamente.
El sistema informático de control (90) consiste
en un ordenador capaz de procesar las entradas y salidas de
información y está compuesto por tres subsistemas: el subsistema
(91) de medición de las señales procedentes del acondicionador de
señal (80), el subsistema (92) para el control de posicionamiento
de las tres plataformas motorizadas y el subsistema (93) que es
una secuencia de sentencias organizadas según un criterio lógico
de actuación y cuyo conjunto constituye el programa de control.
Todas las señales eléctricas procedentes del
acondicionador (80) son medidas por el sistema de adquisición de
datos (91) que es un conversor A/D con una profundidad de escala
mínima de 2048 divisiones en todo el intervalo de medición y un
tiempo de conversión inferior a 35 microsegundos. Por su parte el
control del movimiento y posicionamiento de las plataformas
motorizadas es acometido por el controlador (92) que permite el
control de los elementos (52), (61) y (62) mediante el envío del
adecuado número de impulsos eléctricos a los respectivos motores
paso a paso.
Ambos subsistemas (91) y (92) están a su vez bajo
el control del programa informático que, mediante su lógica
estructurada, maneja la información requerida para:
- \bullet
- controlar el posicionamiento de la lente de focalización (51) para conseguir una máxima concentración de fotones sobre la superficie fotoactiva (01).
- \bullet
- controlar el movimiento de las plataformas motorizadas (61) y (62) para conseguir que la superficie fotodependiente se posicione de tal forma que el haz láser incida en el punto que específicamente se desee.
- \bullet
- medir la propiedad de la superficie fotodependiente (01) en la zona física donde está incidiendo el láser de excitación.
- \bullet
- normalizar, según la información proporcionada por el fotodetector (43), la magnitud de la propiedad fotodependiente, medida en el apartado anterior.
- \bullet
- medir la radiación reflejada especularmente por la superficie fotoactiva donde está incidiendo el láser de excitación, según la información proporcionada por el fotodector (72).
- \bullet
- controlar el movimiento de las plataformas motorizadas (61) y (62) para conseguir que la superficie fotoactiva se mueva de tal forma que la radiación incidente cubra, punto a punto, una zona siguiendo un patrón de líneas paralelas.
- \bullet
- componer una matriz de información con la medida de la propiedad fotodependiente de la superficie activa asociada a la posición de incidencia del haz láser.
- \bullet
- componer una matriz de información con la medida de la reflectancia especular de la superficie activa asociada a la posición de incidencia del haz láser.
- \bullet
- guardar informáticamente en un soporte de almacenamiento masivo toda la información generada.
Figura 1.- Esquema general del sistema.
Disposición de los distintos elementos y subsistemas que conforman
el sistema según una observación azimutal.
Figura 2.- Perspectiva ortográfica de los
elementos que conforman el sistema expansor del haz y el elemento
usado para el control de paralelismo del haz emergente, con
indicación de los puntos clave donde debe posicionarse.
Figura 3.- Perspectiva ortográfica de los
elementos involucrados en el procedimiento de focalización, con
indicación de las posiciones claves que debe tomar la lente focal y
la superficie fotoactiva para su implementación.
Figura 4.- Perspectiva ortográfica de los
elementos involucrados en el procedimiento de medida de la
propiedad fotodependiente en la superficie del material, sistema o
dispositivo a estudiar.
Figura 5.- Perspectiva ortográfica de los
elementos involucrados en el procedimiento de medida de la
reflectancia especular de la superficie del material, sistema o
dispositivo a estudiar.
Los pasos a efectuar para obtener una imagen de
la variación de la propiedad fotodependiente de la superficie
activa son los siguientes:
- 1.-
- Definición del eje óptico y trayectoria de la radiación excitatriz.
- 2.-
- Posicionamiento del material, sistema o dispositivo con la superficie fotodependiente a estudiar.
- 3.-
- Focalización del haz láser sobre la superficie fotodependiente.
- 4.-
- Medición de la propiedad fotodependiente en la zona objeto de estudio.
- 5.-
- Medición de la reflectancia especular en la zona objeto de estudio.
Todos los elementos se anclarán sobre la
plataforma (10), ópticamente plana, montada según un plano
horizontal. Una vez colocada la plataforma se ajusta la emisión
(02) del láser de excitación (20) para que sea paralela al plano de
la plataforma o plano de trabajo. Esta emisión define el eje
óptico de trabajo sobre el cual se centrarán todos los demás
elementos optomecánicos. El proceso de ajuste del eje óptico,
respecto al plano de trabajo, se lleva a cabo por medio de los
tornillos de paso micrométrico (23) y (24) que regulan el
paralelismo de la emisión láser y los tornillos de paso
micrométrico (25) y (26) que regulan el ángulo horizontal de
dirección de la emisión.
Una vez definido el eje óptico principal, se
sitúan los elementos ópticos del sistema expansor del haz (30):
lente concentradora (31), filtro espacial (32) y lente expansora
(33). Esta última está montada sobre la plataforma de desplazamiento
micrométrico (34), lo cual permite su ajuste a lo largo del eje
óptico de forma que la radiación emergente (03) forme un haz de
rayos paralelos, que es la condición de confocalidad. La bondad de
su emplazamiento se comprueba mediante el dispositivo fotosensor
(35), que permite medir la anchura del haz a dos distancias
diferentes de la lente expansora (33):
- a)
- punto P1 situado a 5 cm o menos del punto P0 de emergencia del haz (figura 2).
- b)
- punto P2 situado a 50 cm o más del punto P0 de emergencia del haz.
Los valores de anchura medidos a estas dos
distancias deben de diferir en menos de 0,5 mm para considerar que
el haz emergente es un haz de rayos paralelos con una divergencia
inferior a 1 milirradián.
Una vez logrado esto, se sitúa el dispositivo
filtro espacial (32) en el foco común de las lentes. Para
determinar la posición correcta se desplazará ligeramente el filtro
espacial (32) a lo largo del eje óptico, fijándolo en aquella a la
cual la intensidad de la radiación recibida en el fotosensor (35)
es máxima.
Una vez expandido el haz láser se coloca el
divisor de haz (40) que, para minimizar las distorsiones en las
trayectorias del desplazamiento fotónico, es del tipo biprismático
rectangular en montaje cúbico, de alta transmitancia, con
recubrimiento externo antirreflectante y no polarizador. La
colocación del divisor de haz es tal que no perturba la
trayectoria del haz principal, por lo que el haz trasmitido (04)
sigue definiendo el eje óptico del experimento. Por su parte, el
haz reflejado (05) define el eje óptico secundario que es
perpendicular al principal. Este haz (05) incide en el dispositivo
fotosensible (43), previo paso por el difusor de luz (42). La
intensidad de corriente generada por el dispositivo fotosensible
(43) es conducida por medio del cable (44) con apantallamiento
antiparasitario hacia el acondicionador de señales (80).
El material, sistema o dispositivo a estudiar
(01) se posiciona en la trayectoria del eje óptico de forma que su
superficie fotodependiente quede perpendicular a la trayectoria de
iluminación. El sistema de soporte (60) no es relevante y puede
variarse dependiendo de la morfología del sistema fotodependiente.
En cualquier caso, el sistema de soporte tendrá una sujeción, a la
base de la plataforma motorizada de traslación vertical (61),
suficientemente firme como para conseguir que los movimientos
incontrolados no sean mayores de 0,1 micrómetros, para lo cual la
masa suspendida asimétricamente respecto a los diferentes ejes de
suspensión debe ser minimizada. En el caso de que la propiedad
fotodependiente no genere una señal eléctrica, se acoplará un
dispositivo transductor (63) que transforme la señal generada en
otra caracterizable eléctricamente.
Una vez situado en el soporte el dispositivo a
estudiar, se determina la zona que se desea estudiar mediante su
desplazamiento en un plano vertical, perpendicular al eje óptico.
Este desplazamiento, que se consigue mediante el movimiento
combinado de las plataformas motorizadas (61) y (62), está
controlado por el sistema informático. Cada uno de los dos
posibles movimientos tiene un control individualizado a partir de
secuencias de órdenes específicas del programa de control del
sistema (93) y a través del sistema de control de motores (92).
Los motores de ambas plataformas son motores tipo paso a paso con
una capacidad mínima de control de desplazamiento de 0,2
micrómetros.
La zona objeto de estudio se define como una
superficie cuadrangular concretada por la introducción de 4 datos
significativos, siendo los dos primeros las coordenadas de
posición de una de las esquinas del paralelogramo y los dos segundos
los equivalentes de la esquina opuesta. Igualmente se definirá el
paso o incremento de distancia mínima que se debe recorrer en cada
eje para conseguir que después de M desplazamientos en uno de los
ejes y N en el otro se llegue a la posición final definida para
cada eje.
Una vez posicionada la superficie a estudiar el
haz láser (04) procedente del divisor de haz es diafragmado a un
valor específico, ligeramente menor que el valor teórico de tamaño
de haz. Esta operación se efectúa mediante el uso del diafragma de
apertura variable (45). A continuación, entre el haz láser
diafragmado (06) y la superficie fotodependiente, se intercala la
lente de focalización (51) montada sobre una plataforma motorizada
con control numérico (52). Esta lente tiene como misión la
focalización del haz láser para minimizar su tamaño de forma que el
haz focalizado (07) genere una superficie irradiada lo más pequeña
posible. De esta forma, la capacidad de discernir entre dos puntos
contiguos es máxima, siendo ésta la condición fundamental para la
obtención de una alta resolución espacial en el estudio de las
superficies fotodependientes.
Aunque la distancia focal de una lente pueda ser
un dato conocido, su posicionamiento manual a dicha distancia con
precisión micrométrica generalmente ocasiona errores, aún cuando
se utilicen precisos elementos reguladores. El procedimiento de
focalización del haz láser utilizado en este sistema está basado en
el hecho de que el barrido de un haz de fotones sobre una
superficie con propiedades fotodependientes y no homogénea, genera
una respuesta variable del sistema en función del acoplamiento
entre el tamaño del haz fotónico y el tamaño de las heterogeneidades
presentes. En consecuencia, el tamaño detectable de éstas depende
del de la superficie iluminada, el cual es mínimo cuando el haz
está perfectamente enfocado.
El procedimiento se lleva a cabo mediante un
programa informático que controla la utilización combinada de:
- \bullet
- el posicionamiento de la lente de focalización (51) a partir del desplazamiento de la plataforma (52) mediante el envío de órdenes del control informático (90) al controlador (92).
- \bullet
- el posicionamiento de la superficie fotoactiva (01) anclada en el soporte (60) a partir del desplazamiento individualizado de las plataformas motorizadas (61) y (62), mediante el envío de órdenes del control informático (90) al controlador (92).
- \bullet
- la medida de la corriente, generada por el transductor (63) al incidir el haz láser sobre la superficie fotoactiva (01), a través del acondicionador (80) y del conversor A/D (91).
- \bullet
- la medida de la estabilidad de la radiación de excitación a partir de los valores de corriente generados por el fotodetector (43) a través del acondicionador (80) y del conversor A/D (91).
Todas las medidas eléctricas serán la
consecuencia de una acumulación de medidas individuales en número
no inferior a 1000 con un posterior promediado de las mismas.
El procedimiento utilizado por el programa
informático es el siguiente:
- 3.1.1.-
- Posiciona la lente de focalización de forma que la distancia FI entre la lente (51) y el plano de la superficie activa (01) sea distinto al de la distancia focal teórica FT (figura 3). Este posicionamiento a una distancia distinta de la focal teórica se hace mediante el envío de las adecuadas órdenes a la plataforma motorizada (52).
- 3.1.2.-
- Se efectúa un desplazamiento lineal de la superficie activa (01) de forma que el haz láser incida a lo largo de un recorrido L entre las posiciones LI y LF, en el cual se encuentre alguna heterogeneidad que genere una variación en la eficacia conversora. Este desplazamiento se efectuará, enviando las adecuadas órdenes a las plataformas motorizadas (61) y (62) a través del controlador (92), para generar pequeños saltos discretos de valor DL, de forma que para recorrer toda la distancia L sea necesario dar N saltos.
- 3.1.3.-
- Para cada posición definida con cada nuevo salto de los N totales se efectúa una medida de la corriente generada IG en la superficie fotoactiva (01) y de la potencia medida PL por el dispositivo fotosensible de control (43). Todos los valores de corriente generados por la superficie fotoactiva (01) y el fotodetector (43) son medidos por el conversor A/D (91) después de su acondicionamiento en (80) y serán un resultado de un promediado de al menos 1000 medidas individuales. El valor de la corriente IG es corregido por normalización a un valor de potencia incidente constante dividiendo por PL, obteniendo como valor normalizado de corriente generada IN. Después de completar totalmente el desplazamiento L se obtendrá un total de N+1 datos de valores IN.
- 3.1.4.-
- A partir de la colección de los N+1 datos de IN se obtiene una nueva colección de datos DI generada a partir de restar cada dos datos contiguos. El primer elemento de esta nueva colección DI(1) se corresponderá con la diferencia entre IN(1) menos IN(2), el segundo DI(2) a IN(2) menos IN(3) y así sucesivamente.
- 3.1.5.-
- La nueva colección de datos DI contará con N elementos a partir de los cuales se calculará la diferencia entre el de más valor y el de menos valor. El valor obtenido constituirá el primer elemento de una nueva colección de datos que llamamos MM.
- 3.1.6.-
- Se cambia la posición de la lente de focalización mediante el desplazamiento de una cierta cantidad DF de forma que si antes estaba a mayor distancia de la superficie fotodependiente que la de la focalización teórica se acerque y si estaba más cerca se aleje. En esta nueva posición de la lente se repite todo el proceso definido en los puntos 3.1.2, 3.1.3, 3.1.4 y 3.1.5. De esta forma se obtiene el segundo punto de la colección MM.
- 3.1.7.-
- El proceso 3.1.6 se repite iterativamente hasta que nos encontremos a una distancia FF entre la lente de focalización y el plano de la superficie activa de forma que en el recorrido se haya sobrepasado la distancia teórica de focalización en una cantidad simétrica a la existente entre este punto y el punto inicial. Como resultado de este proceso iterativo se tendrá una colección de datos MM formada por tantos puntos como saltos de valor DF se hayan producido para cubrir la distancia entre FI y FF.
- 3.1.8.-
- La colección de datos MM, relacionada con cada una de las posiciones de la lente de focalización, se ajusta matemáticamente, con prioridad decreciente, a una curva de pico del tipo Pseudo Voig t-II, Pearson VII, Lorenz o Gauss. El valor calculado para la posición del máximo de la curva ajustada es la posición óptima de la lente de focalización FO.
- 3.1.9.-
- Se envían las órdenes oportunas al controlador (92) para que la plataforma motorizada (52) posicione la lente de focalización a la distancia FO.
La focalización en un punto dentro de la
superficie que se desea estudiar no es suficiente para la obtención
de un mapa de variabilidad de alta resolución. Siempre existe una
probabilidad no nula de que el plano de la superficie
fotodependiente no esté dispuesto totalmente perpendicular al eje
óptico o que en su desplazamiento punto a punto los cuatro vértices
no se encuentren a una distancia equidistante de la lente de
focalización. Para corregir este hecho es preciso determinar el
plano focal a través del siguiente procedimiento:
- 3.2.1.-
- Se escogen tres puntos de la superficie de forma que queden lo más alejados posible entre sí (p.e. tres de los cuatro vértices del paralelogramo a estudiar).
- 3.2.2.-
- Se obtiene la distancia de focalización, según el procedimiento explicado en el punto 3.1, para cada uno de estos tres puntos.
- 3.2.3.-
- Se resuelve matemáticamente la ecuación matricial [A]x[B] = [C], siendo [A] una matriz de [3x3] datos donde cada fila corresponde a la información de cada punto de focalización y está formada por tres datos que son las 2 coordenadas de posición del punto donde se ha focalizado y un dato independiente que es la unidad, [B] una matriz de [3x1] datos formada por las tres distancias de focalización obtenidas para cada punto y [C] una matriz de [3x1] datos formada por los coeficientes que definen la ecuación del plano focal.
- 3.2.4.-
- La posición de óptima focalización para cada punto de la superficie a estudiar se obtiene como suma de los siguientes datos:
- a)
- el producto del dato C1 del vector [C] por la primera coordenada de posición definida por el desplazamiento de la plataforma motorizada (61).
- b)
- el producto del dato C2 del vector [C] por la segunda coordenada de posición definida por el desplazamiento de la plataforma motorizada (62).
- c)
- el término C3.
Este procedimiento es llevado a cabo de forma
automática por el programa informático de control (93).
Una vez determinado el plano de máxima
focalización y máxima resolución, se procede a la medida de la
propiedad fotodependiente en cada punto de la superficie
anteriormente definida (figura 4). Para ello, el programa
informático procede a realizar los siguientes pasos:
- 4.1.-
- Envía las órdenes oportunas al controlador de las plataformas motorizadas (61) y (62) para que la incidencia del haz de fotones se produzca en una de las esquinas del paralelogramo a estudiar.
- 4.2.-
- Envía las órdenes oportunas al controlador de la plataforma motorizada (52) para que la focalización del haz (07) sea óptima en dicho punto de acuerdo con la ecuación matemática que define la superficie de focalización deducida en el apartado 3.2.
- 4.3.-
- Conduce, mediante el cable con apantallamiento antiparasitario (64), la corriente generada por el transductor (63) acoplado al dispositivo fotoactivo hacia el acondicionador de señal (80), el cual transforma el valor de la corriente eléctrica en una diferencia de potencial proporcional.
- 4.4.-
- Conduce, mediante el cable con apantallamiento antiparasitario (44), la corriente generada por el dispositivo fotovoltaico (43) hacia el acondicionador de señal (80), el cual transforma el valor de la corriente eléctrica en una diferencia de potencial proporcional.
- 4.5.-
- Determina, mediante el sistema (91), el valor numérico de la diferencia de potencial proporcionada por el acondicionador (80), tanto para la señal procedente de la superficie fotoactiva estudiada como del dispositivo fotovoltaico de control de potencia. Este proceso se repite iterativamente un número D de veces de forma que los valores numéricos obtenidos sean un promedio del total de las D medidas efectuadas.
- 4.6.-
- Normaliza el valor de la señal procedente de la superficie fotoactiva en función de la potencia de excitación medida. Este dato es almacenado informáticamente y constituye el primer dato de la matriz que va a representar la variabilidad de la superficie fotodependiente a estudiar.
- 4.7.-
- Envía las órdenes oportunas al controlador de una de las plataformas motorizadas ((61) ó (62)) para que la incidencia del haz de fotones se produzca en el siguiente punto de los N que define la línea de barrido sobre la que estamos actuando y se repiten los pasos 4.2 a 4.6 en esta nueva posición. Este proceso se repite hasta completar el recorrido de la primera línea.
- 4.8.-
- Finalizada la toma de datos de la primera línea, se envían las órdenes oportunas al segundo controlador de las plataformas motorizadas ((62) ó (61)) para que, según el procedimiento seguido en los apartados 4.1 a 4.7, se obtenga la información correspondiente a la segunda línea. Este proceso se repite iterativamente hasta completar las M líneas de N puntos que definen la superficie a estudiar.
La colocación de la lente de focalización (51) a
una distancia exacta a la de su valor focal genera una reflexión
especular coincidente con la trayectoria de incidencia (figura 5).
Esto significa que los fotones reflejados especularmente por la
superficie fotodependiente llegan nuevamente al divisor del haz
(40). Sin embargo, la disposición óptica del divisor del haz (40)
hace que ahora el haz secundario o haz reflejado salga por el
camino óptico (08). En la zona de emergencia del haz secundario se
posiciona el sistema de detección de la radiación reflejada
compuesto por el difusor (71) y el dispositivo fotosensible (72).
La corriente eléctrica generada por el dispositivo (72), al incidir
en él los fotones reflejados por la superficie fotoactiva, es
conducida mediante el cable (73) con apantallamiento
antiparasitario hacia el acondicionador de señal (80).
La repetición de todo el proceso de
posicionamiento y medición descrito en el apartado 4, pero
sustituyendo la medida generada por el transductor (63) acoplado a
la superficie fotodependiente (01) por la medida de la señal
eléctrica generada por el dispositivo fotosensible (72), genera un
mapa de la variabilidad de la reflectancia especular de la
superficie fotoactiva en la zona objeto de estudio.
Claims (26)
1. Un sistema automatizado y un procedimiento
para el estudio de superficies con propiedades dependientes de la
irradiación fotónica, cuya instrumentación comprende:
- a)
- una fuente de excitación que define un camino óptico directo hasta el material o dispositivo a estudiar a lo largo del cual se encuentran todos los elementos ópticos,
- b)
- un sistema de sujeción del material o dispositivo a estudiar con mínimo par de fuerzas de torsión en todo su desplazamiento,
- c)
- un procedimiento para la óptima focalización de la radiación de excitación,
- d)
- medios para controlar con un ordenador los movimientos de la lente de focalización y los desplazamientos del material o dispositivo a estudiar,
- e)
- medios para medir la potencia de la radiación de excitación, la radiación reflejada y la variabilidad de la fotodependencia del material o dispositivo a estudiar.
2. Un sistema automatizado y un procedimiento
para el estudio de superficies con propiedades dependientes de la
irradiación fotónica según reivindicación 1, caracterizado
por su capacidad para la cuantificación de la variabilidad de la
fotorrespuesta superficial de materiales o dispositivos con
propiedades fotodependientes.
3. Un sistema automatizado y un procedimiento
para el estudio de superficies con propiedades dependientes de la
irradiación fotónica, según reivindicación 1, caracterizado
por su capacidad para determinar propiedades fotoeléctricas,
fototérmicas o fotorreflectantes.
4. Un sistema automatizado y un procedimiento
según reivindicaciones 1 y 3, en el cual las propiedades
fotoeléctricas de la superficie pueden ser fotovoltaicas,
fotoconductoras, foto-resistentes o
fotocapacitivas.
5. Un sistema automatizado y un procedimiento
según reivindicaciones 1 y 3, en el cual las propiedades
fototérmicas de la superficie pueden ser transformadas en una señal
eléctrica mediante un transductor.
6. Un sistema automatizado según reivindicación
1, en el cual un láser actúa como fuente de luz para la excitación
del material o dispositivo con propiedades fotodependientes situado
frente a él.
7. Un sistema automatizado según reivindicación
1, en el que el camino óptico de la radiación de excitación está
configurado según una línea recta horizontal, incluyéndose en él un
expansor de haz, un divisor de haz, un diafragma y una lente de
focalización.
8. Un sistema automatizado según reivindicación
1, en el que la lente de focalización está montada sobre una
plataforma motorizada capaz de ser controlada por un ordenador,
siendo esta desplazable a lo largo del eje óptico.
9. Un sistema automatizado según reivindicación
1, en el que la superficie con propiedades fotodependientes está
montada sobre dos plataformas motorizadas, capaces de ser
controladas por un ordenador, que efectúan desplazamientos
perpendiculares e independientes entre sí al tiempo que
perpendiculares al eje óptico.
10. Un sistema automatizado según reivindicación
1, en el que la variación del punto de incidencia de la radiación
sobre la superficie fotodependiente se consigue manteniendo
estática la radiación y desplazando perpendicularmente la
superficie.
11. Un sistema automatizado según reivindicación
1, en el que el material a estudiar y su soporte son las únicas
masas que generan un par de fuerza de torsión fuera del eje de
apoyo y ninguna fuera del plano de desplazamiento.
12. Un sistema automatizado según reivindicación
1, en el que los elementos con movilidad tienen una fluctuabilidad
incontrolada menor de 0,1 micrómetro.
13. Un sistema automatizado según reivindicación
1, en el que la que la radiación secundaria emergente del divisor
de haz incide en un fotodetector que genera una señal
eléctricamente medible.
14. Un sistema automatizado según reivindicación
1, en el que la disposición óptica es tal que la radiación
reflejada especularmente por la superficie fotoactiva retorna por
el mismo camino óptico de excitación hasta llegar al divisor de haz
en el cual la radiación secundaria reflejada incide sobre un
fotodetector que genera una señal eléctricamente medible.
15. Un procedimiento para el estudio de
superficies con propiedades dependientes de la irradiación
fotónica, que utiliza la instrumentación según reivindicación 1,
por el que se pueden estudiar superficies fotoactivas planas aunque
su posicionamiento no sea totalmente perpendicular a la radiación
de excitación.
16. Un procedimiento según reivindicaciones 1 y
15, caracterizado porque el haz láser de excitación se
focaliza automáticamente en cada punto a estudiar según un plano
focal.
17. Un procedimiento según reivindicaciones 1, 15
y 16, caracterizado porque se determina el plano focal
mediante la óptima focalización en tres puntos de la superficie a
estudiar.
18. Un procedimiento según reivindicaciones 1,
15, 16 y 17, caracterizado porque para focalizar óptimamente
en cada uno de los puntos de referencia se aplica un protocolo que
implica la obtención de la fotorrespuesta lineal a varias
distancias de la lente focal, un análisis matemático de dicha
información y la deducción de la distancia de óptima
focalización.
19. Un procedimiento según reivindicaciones 1,
15, 16, 17 y 18, caracterizado porque el análisis matemático
del protocolo implica obtener la variabilidad de la señal a
diferentes distancias de la lente focal cuando se efectúa un
barrido lineal atravesando una heterogeneidad.
20. Un procedimiento según reivindicaciones 1,
15, 16, 17, 18 y 19, caracterizado porque los datos de
variabilidad frente a la distancia se ajustan a una función de pico
para determinar la posición de máxima variabilidad.
21. Un procedimiento según reivindicaciones 1,
15, 16, 17, 18, 19 y 20, caracterizado porque la función de
pico puede ser una función Pseudo Voig t- II. Pearson VII, de
Lorentz o de Gauss.
22. Un programa de ordenador que, según la
reivindicación 1 y los procedimientos descritos en las
reivindicaciones 15, 16, 17, 18, 19, 20 y 21, es capaz de llevar a
cabo dichos procedimientos de acuerdo con una lógica
informática.
23. Un programa de ordenador que según las
reivindicaciones 1, 8, 9 y 22, es capaz de detectar la posición en
la que se encuentran las bases móviles de las plataformas
motorizadas de posicionamiento de la lente de focalización y de la
superficie con propiedades fotodependientes.
24. Un programa de ordenador que según las
reivindicaciones 1, 8, 9, 22 y 23, es capaz de modificar la
posición de las bases móviles de las plataformas motorizadas de
posicionamiento de la lente de focalización y de la superficie con
propiedades fotodependientes y controlar que la nueva posición es
la
deseada.
deseada.
25. Un programa de ordenador que según las
reivindicaciones 1, 2, 4, 5, 13, 14 y 22, es capaz de adquirir la
información suministrada por los fotosensores y transductores del
sistema automatizado.
26. Un programa de ordenador que según las
reivindicaciones 1, 22, 24 y 25, es capaz de representar en un
diagrama tridimensional el valor de la propiedad fotodependiente
respecto a las coordenadas de desplazamiento de la superficie
fotodependiente.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| ES200202069A ES2201925B1 (es) | 2002-09-11 | 2002-09-11 | Un sistema automatizado y un procedimiento para el estudio de superficies con propiedades dependientes de la irradiacion fotonica. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| ES200202069A ES2201925B1 (es) | 2002-09-11 | 2002-09-11 | Un sistema automatizado y un procedimiento para el estudio de superficies con propiedades dependientes de la irradiacion fotonica. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2201925A1 ES2201925A1 (es) | 2004-03-16 |
| ES2201925B1 true ES2201925B1 (es) | 2005-03-01 |
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ID=32011138
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|---|---|---|---|
| ES200202069A Expired - Fee Related ES2201925B1 (es) | 2002-09-11 | 2002-09-11 | Un sistema automatizado y un procedimiento para el estudio de superficies con propiedades dependientes de la irradiacion fotonica. |
Country Status (1)
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|---|---|
| ES (1) | ES2201925B1 (es) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011036318A2 (es) * | 2009-09-28 | 2011-03-31 | Universidad De Cádiz (Otri) | Sistema para el mapeo de la eficiencia de superficies fotovoltaicas bajo condiciones de irradiación solar. |
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| NZ244186A (en) * | 1991-09-06 | 1995-04-27 | Commw Scient Ind Res Org | Determination of parameters of object optically and validation of object |
| US5757474A (en) * | 1993-05-10 | 1998-05-26 | Midwest Research Institute | System for characterizing semiconductor materials and photovoltaic devices through calibration |
| GB9705105D0 (en) * | 1997-03-12 | 1997-04-30 | Brown & Sharpe Limited | Optical surface measurement apparatus and methods |
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2002
- 2002-09-11 ES ES200202069A patent/ES2201925B1/es not_active Expired - Fee Related
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| WO2011036318A2 (es) * | 2009-09-28 | 2011-03-31 | Universidad De Cádiz (Otri) | Sistema para el mapeo de la eficiencia de superficies fotovoltaicas bajo condiciones de irradiación solar. |
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| ES2365002A1 (es) * | 2009-09-28 | 2011-09-20 | Universidad De Cádiz | Sitema para el mapeo de la eficiencia de superficies fotovoltaicas bajo condiciones de irradiación solar. |
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|---|---|
| ES2201925A1 (es) | 2004-03-16 |
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