EP4594823A1 - Kühlvorrichtung zum kühlen einer positionssensitiven komponente einer lithographieanlage - Google Patents

Kühlvorrichtung zum kühlen einer positionssensitiven komponente einer lithographieanlage

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EP4594823A1
EP4594823A1 EP23758333.1A EP23758333A EP4594823A1 EP 4594823 A1 EP4594823 A1 EP 4594823A1 EP 23758333 A EP23758333 A EP 23758333A EP 4594823 A1 EP4594823 A1 EP 4594823A1
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EP
European Patent Office
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cooling
gas
liquid
space
cooling device
Prior art date
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Pending
Application number
EP23758333.1A
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English (en)
French (fr)
Inventor
Matthias Fetzer
Luca Mettenleiter
Richard STEIJNS
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
ASML Netherlands BV
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
ASML Netherlands BV
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Filing date
Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation

Definitions

  • the present invention relates to a cooling device for cooling a position-sensitive component of a lithography system, a corresponding lithography system and a method for operating a cooling device of a lithography system.
  • the content of the priority application DE 102022125354.6 is fully incorporated by reference.
  • Microlithography is used to produce microstructured components, such as integrated circuits. The microlithography process is carried out with a lithography system which has an illumination system and a projection system.
  • EUV lithography systems are currently being developed that use light with a wavelength in the range of 0.1 nm to 30 nm, in particular 13.5 nm. Since most materials absorb light of this wavelength, such EUV lithography systems must use reflective optics, i.e. mirrors, instead of - as was previously the case - refractive optics, i.e. lenses.
  • one object of the present invention is to provide an improved cooling device for a lithography system, a corresponding lithography system and a method for operating a cooling device of a lithography system.
  • a cooling device for cooling a position-sensitive component of a lithography system is proposed.
  • the cooling device has: a cooling line with a liquid space for transporting a cooling liquid to the position-sensitive component and a gas space for receiving a gas, and an elastic separating membrane arranged within the cooling line, which separates the gas space from the liquid space.
  • the position-sensitive component of the lithography system can be an optical or a mechanical component of the lithography system, e.g. a projection optics of the lithography system.
  • the position-sensitive component is in particular a component that must be held in a precise position with only small tolerances during operation of the lithography system. Carl Zeiss SMT GmbH et al.
  • the position-sensitive component of the lithography system is, for example, a mirror of the lithography system, e.g. a mirror of the projection optics of the lithography system.
  • the mirrors of a projection optics of an EUV lithography system are usually movably attached to a support frame by means of actuators in order to be able to precisely adjust the position of the respective mirror.
  • the position-sensitive component of the lithography system can also be a frame structure that serves as a (e.g. optical) reference.
  • the position-sensitive component can, for example, be a sensor frame of the lithography system, e.g. the projection optics of the lithography system.
  • a sensor frame usually has a sensor device for measuring a current position of one or more optical components of the lithography system relative to the sensor frame.
  • the sensor frame is mounted in a vibration-decoupled manner with respect to a support frame of the optical component(s).
  • the sensor device e.g. comprises a sensor frame for measuring the current position of one or more optical components of the lithography system.
  • the optical component(s) can, for example, have reflector elements for reflecting a light emitted by the sensors (e.g. laser light).
  • the one or more sensors are used to detect a position of the optical component(s) in six degrees of freedom.
  • the six degrees of freedom include in particular three translational degrees of freedom (e.g. in three mutually perpendicular spatial directions) and three rotational degrees of freedom (e.g. with respect to a rotation around the three mutually perpendicular spatial directions).
  • the proposed cooling device with the compressible gas volume integrated in the cooling line can dampen pressure fluctuations in the cooling liquid and reduce or avoid transmission to the position-sensitive component. Consequently, a greater precession can be achieved.
  • Carl Zeiss SMT GmbH et al. 5 the position and thus the optical properties or reference properties of the position-sensitive component can be achieved. Consequently, an imaging property of the lithography system can be improved.
  • interference excitation can be better compensated even in increasingly complex lithography systems with an increasing number of interference sources.
  • the lithography system is, for example, an EUV or a DUV lithography system.
  • EUV stands for "extreme ultraviolet” (EUV) and refers to a wavelength of the working light in the range of 0.1 nm to 30 nm, in particular 13.5 nm.
  • DUV also stands for “deep ultraviolet” (DUV) and refers to a wavelength of the working light between 30 nm and 250 nm.
  • EUV or DUV lithography system comprises an illumination system and a projection system.
  • the image of a mask (reticle) illuminated by means of the illumination system is projected by means of the projection system onto a substrate coated with a light-sensitive layer (photoresist) and arranged in the image plane of the projection system, for example a silicon wafer, in order to transfer the mask structure onto the light-sensitive coating of the substrate.
  • the cooling line is, for example, a pipe for passing the cooling liquid through.
  • the cooling line has, for example, a metal pipe and/or a stainless steel pipe.
  • the cooling line can, for example, have a circular cross-section.
  • the cooling liquid is or comprises, for example, water.
  • the cooling line serves, for example, to transport the cooling liquid to and/or from the position-sensitive component.
  • the cooling line serves, for example, to transport the cooling liquid from a cooling unit of the cooling device to the position-sensitive component and/or from the Carl Zeiss SMT GmbH et al. 6 position-sensitive component (back) to the cooling unit.
  • the cooling device can also have more than one cooling line.
  • the cooling device is used in particular to avoid high temperatures and temperature fluctuations in the position-sensitive component.
  • mirrors of an EUV lithography system (as an example of position-sensitive components) heat up as a result of absorption of the high-energy EUV radiation.
  • the high temperatures and temperature fluctuations in the mirror caused by this and the associated thermal deformations of the mirror can lead to wavefront aberrations and thus impair the imaging properties of the mirrors.
  • mirrors of the lithography system can be actively cooled.
  • the cooling device can also be used (in addition to or instead of this) to cool, for example, a sensor frame (as an example of a position-sensitive component). This can prevent the sensor frame from heating up due to thermal radiation. Thermal radiation is caused in particular by working light of the lithography system absorbed by mirror surfaces or structural elements. Other heat sources can be, for example, actuators and heating heads. With the help of the cooling device, a stable temperature environment can be created for the sensor frame. As a result, a position measurement of the mirror or the multiple mirrors can be carried out with greater accuracy using the sensor device held by the sensor frame.
  • the cooling device further comprises, for example, a cooling unit for cooling the cooling liquid, one or more pumps for generating a Carl Zeiss SMT GmbH et al. 7 required coolant flow rate of the cooling liquid and one or more valves to control the cooling flow.
  • a certain coolant flow rate is required for cooling, which is implemented via a pump system.
  • coolant sound water sound, longitudinal water sound wave
  • every change in cross-section and every deflection of the liquid line as well as every installed valve in the cooling circuit can represent a source of disturbance that causes local pressure fluctuations in the liquid. This type of dynamic disturbance is also called flow-induced vibrations (FIV).
  • FMV flow-induced vibrations
  • the disturbance is transmitted to the cooled position-sensitive component via water sound.
  • This causes the position of the position-sensitive component to deviate from a target position.
  • a pressure surge from the coolant acts on surfaces of the cooled position-sensitive component.
  • the pressure surge is converted into a force on the surfaces on which it acts. Due to this force, the position of the position-sensitive component deviates from the target position.
  • the liquid space of the cooling line is arranged inside the cooling line and serves for the flow of the coolant.
  • the gas space is arranged inside the cooling line and serves for holding a gas.
  • the elastic separating membrane which separates the liquid space from the gas space, means that the volume of the liquid space and the gas space is variable.
  • the elastic separating membrane means that the volume of the coolant and the volume of the gas are variable.
  • the cooling device is in operation, e.g. when the lithography system is in operation, the liquid space is completely filled with the coolant when viewed in the cross-section of the cooling line.
  • the Carl Zeiss SMT GmbH et al. 8 Gas space is completely filled with gas when viewed in the cross-section of the cooling line.
  • the elastic separating membrane is particularly designed to form a gas bubble together with a gas contained in the gas space.
  • the gas bubble is, for example, an axial gas bubble in relation to a central longitudinal axis of the liquid line.
  • the elastic separating membrane is, in particular, (reversibly) deformable to adapt the volume of the liquid space and thus of the cooling liquid to a pressure of the cooling liquid in the liquid space.
  • the elastic separating membrane is, for example, liquid-tight and/or gas-tight.
  • the elastic separating membrane has, for example, an elastic material (e.g. thin-walled).
  • a material of the elastic separating membrane includes, for example, polyurethane, silicone, rubber, natural rubber, silicone rubber, fluororubber and/or another elastic material. Fluororubber is particularly well suited for use in a vacuum due to its resistance to aging and low outgassing.
  • a material of the elastic separation membrane can also comprise, for example, a fluorothermoplastic such as tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene and/or vinylidene fluoride.
  • the elastic material e.g. a highly dampened polymer
  • the gas space can be a closed gas space for holding a gas in a static state.
  • the gas space can also be part of a gas circuit in which the gas flows through the gas space during operation. For example, in this case a gas flow can be realized using a gas pump.
  • the gas is, for example, a gas that includes air, high-purity room air, helium and/or one or more noble gases.
  • the cooling device includes a gas that is held in the gas space.
  • the gas space is a closed gas space in which the gas remains (e.g. permanently).
  • the cooling line with the integrated gas volume is designed to dampen and/or suppress pressure fluctuations of the cooling liquid in a frequency range of 1 to 2 kHz, 1 to 1 kHz, 1 to 800 Hz, 1 to 500 Hz, 1 to 400 Hz, 1 to 200 Hz, 1 to 100 Hz and/or 50 to 150 Hz.
  • the elastic separating membrane is a pressure membrane which is designed to deform when the pressure of the cooling liquid changes, so that a volume of the gas space changes accordingly.
  • the separating membrane deforms in accordance with the pressure change.
  • the gas in the gas space is in particular compressed or expands.
  • Carl Zeiss SMT GmbH et al. 10 the gas space separated by the elastic separating membrane is rotationally symmetrical when viewed in the cross-section of the cooling line. Due to a rotationally symmetrical design of the gas space and thus of the gas volume, all forces acting on the gas bubble formed by the separating membrane and the gas in the gas space balance each other out and a force-free system is present.
  • the liquid space and the gas space separated from the liquid space by the elastic separating membrane are arranged coaxially when viewed in the cross-section of the cooling line. This enables even better damping of a pressure fluctuation caused by the gas volume.
  • the gas space is an internal gas space or an external gas space when viewed in the cross-section of the cooling line and in relation to the liquid space.
  • the advantage of an internal gas space and thus an internal compressible gas volume is that the gas volume is arranged where the greatest flow velocity of the cooling liquid occurs. This makes dampening pressure fluctuations in the coolant particularly effective.
  • the advantage of an external gas chamber is that the gas chamber is easier to access from the outside and the gas can therefore be filled and/or refilled more easily.
  • the gas can be fed into the gas chamber via an opening and/or a valve in a wall of the cooling line.
  • Carl Zeiss SMT GmbH et al. 11 In the case of an internal gas space, the gas space is, for example, exclusively delimited by the separating membrane, but not by an inner wall of the cooling line. In the case of an external gas space, the gas space is, for example, delimited by both the separating membrane and an inner wall of the cooling line.
  • the cooling device has an elastic hose that surrounds the elastic separating membrane to form the gas space. This enables a gas volume integrated into a cooling line to be particularly easily implemented.
  • the gas space is formed inside the hose (an example of an internal gas space).
  • the liquid space is then formed outside the hose (e.g. between an outside of the hose and an inner wall of the cooling line).
  • the gas space can also be formed outside the hose (an example of an external gas space) (e.g. between an outside of the hose and an inner wall of the cooling line).
  • the liquid space is then formed inside the hose.
  • the cooling device has at least one spacer arranged between the elastic separating membrane and an inner wall of the cooling line. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 12 The at least one spacer can improve the arrangement of the elastic separating membrane within the cooling line, for example also during operation of the cooling device.
  • a movement of the elastic separating membrane within the cooling line, in particular during operation of the cooling device, can be restricted (but without restricting a deformation of the elastic separating membrane).
  • a position of the gas space relative to the liquid space can be limited.
  • a rotationally symmetrical and/or coaxial arrangement of the gas space relative to the liquid space can also be maintained during operation (e.g. essentially).
  • the at least one spacer is arranged, for example, in the gas space or in the liquid space.
  • the cooling device can also have several spacers. The several spacers can be arranged (e.g. radially) at a longitudinal position of the cooling line and/or (e.g. spaced apart from one another) at several longitudinal positions of the cooling line.
  • the cooling device has several spacers which are formed by knobs arranged on an outer side of the elastic separating membrane.
  • the knobs e.g. projections
  • the knobs can, for example, be made of the same material as the separating membrane.
  • the separating membrane with the knobs can, for example, also be manufactured in one piece. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 13
  • the cooling device has fastening means for fastening the elastic separating membrane to an inner wall of the cooling line.
  • the cooling device has a device for adjusting a pressure of a gas in the gas space.
  • a gas pressure preload pressure
  • the set gas pressure is in particular a gas pressure in a resting state (i.e. an undeformed state) of the separating membrane.
  • a damping effect of the gas volume is in particular dependent on a relative pressure between the gas pressure of the gas volume and a pressure of the liquid.
  • the cooling device has two or more elastic separating membranes arranged within the cooling line, which accordingly form two or more gas spaces separated from one another and from the liquid space.
  • pressure fluctuations can be dampened even more precisely.
  • the gas pressure of a gas in the several gas spaces can be different from one another, so that pressure surges with different frequencies can be dampened.
  • Carl Zeiss SMT GmbH et al. 14 gas spaces and thus gas volumes can also be specifically designed for individual position-sensitive components.
  • a gas pressure of a gas in a respective gas space can be specifically set to dampen a disturbance excitation of a respective position-sensitive component.
  • a respective gas space can be arranged adjacent to and in relation to a flow direction (flow direction) of the cooling liquid (e.g. immediately) in front of a respective position-sensitive component.
  • the two or more gas spaces seen in the cross section of the cooling line, are separated from one another and from the liquid space, and/or the two or more gas spaces are separated from one another and from the liquid space in relation to a flow direction of the cooling liquid.
  • the two or more gas spaces are separated from one another and from the liquid space in relation to a flow direction of the cooling liquid, the cooling device has a gas in each of the two or more gas spaces, and the respective gases have different pressures from one another.
  • the cooling device comprises one or more devices that are designed to adjust a pressure of a gas in the respective gas space. This allows, for example, a gas pressure and thus a damping frequency to be set in a targeted manner in each gas space.
  • the cooling device has a foam-like and/or sponge-like element with several bubbles and an elastic material surrounding the several bubbles, wherein the gas space is formed by the several bubbles of the foam-like and/or sponge-like element. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 15 and the separating membrane is formed by the elastic material surrounding the plurality of bubbles.
  • the foam-like and/or sponge-like element can be used to provide the gas space separated by the separating membrane in an alternative way.
  • the cooling device is designed so that a cooling liquid flows through the cooling line in a flow direction, and a diameter of the cooling line tapers along the flow direction.
  • This changed shape of the cooling line can influence the flow speed of the cooling liquid and thus set a frequency range of the damping.
  • the diameter of the cooling line tapers evenly along the flow direction.
  • the cooling line extends (e.g. straight) in a longitudinal direction and the cooling liquid flows along the longitudinal direction through the cooling line.
  • the diameter of the cooling line tapers along the longitudinal direction.
  • the cooling line can also be curved, e.g. B. also run helically (often also called spiral).
  • the diameter of the cooling line tapers along the helically curved cooling line.
  • a lithography system in particular an EUV lithography system, is proposed.
  • the lithography system comprises a cooling device as described above. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 16
  • the lithography system has, for example, at least one position-sensitive component.
  • a method for operating a cooling device is proposed.
  • the cooling device serves to cool a position-sensitive component of a lithography system.
  • the cooling device has a cooling line with a liquid space for transporting a cooling liquid to the position-sensitive component and a gas space for receiving a gas, and an elastic separating membrane arranged within the cooling line, which separates the gas space from the liquid space.
  • the method comprises the steps: a) flowing a cooling liquid through the liquid space of the cooling line, and b) changing a volume of the liquid space by deforming the elastic separating membrane in response to a pressure change of the cooling liquid in the liquid space.
  • Changing a volume of the liquid space means in particular changing a volume of the cooling liquid in the liquid space.
  • the position-sensitive component is preferably a position-sensitive component of a projection optics of the lithography system (projection exposure system).
  • the position-sensitive component can also be a position-sensitive component of an illumination system of the lithography system.
  • a tempering device for tempering a position-sensitive component of a lithography system has: Carl Zeiss SMT GmbH et al. 17 a liquid line with a liquid space for transporting a tempering liquid to the position-sensitive component and a gas space for receiving a gas, and an elastic separating membrane arranged within the liquid line, which separates the gas space from the liquid space.
  • the tempering device can be used to influence a thermal condition of the position-sensitive component.
  • the position-sensitive component can be tempered, i.e. cooled or heated, using the tempering device.
  • the tempering device is a cooling device or a heating device.
  • the tempering liquid is a cooling liquid or a heating liquid.
  • a cooling device cooling, cooling liquid, cooling line, method for operating a cooling device, etc.
  • a heating device heating, heating liquid, heating line, method for operating a heating device, etc.
  • Any other counting word used here is also not to be understood as meaning that there is a restriction to exactly the number of elements mentioned. Rather, numerical deviations upwards and downwards are possible unless otherwise stated.
  • Fig.1 shows a schematic meridional section of a projection exposure system for EUV projection lithography
  • Fig.2 shows a positioning system with an optical component of the projection exposure system from Fig.1 according to an embodiment
  • Fig.3 shows a cooling device for cooling the optical component from Fig.2 according to an embodiment, wherein the cooling device comprises a cooling line device with an integrated compressible gas volume
  • Fig.4 shows a cross-sectional view of a functional principle of the cooling line device from Fig.3
  • Fig.5 shows a cross-sectional view of the cooling line device from Fig.3, wherein an elastic separating membrane of the cooling line device is in a resting state
  • Fig.6 shows a view similar to Fig.5, wherein the elastic separating membrane is in an elastically deformed state
  • Fig.7 shows a cross-sectional view of a further embodiment of the cooling line device of the cooling device from Fig.3
  • Fig.8 shows a cross-sectional view of a further embodiment of the cooling line device of the cooling device from Fig.3
  • Fig.9 shows a cross-sectional view of a further embodiment of the cooling line device of the cooling device from Fig.3
  • Fig.10 shows a cross-sectional view of a further embodiment of the cooling line device of the cooling device from Fig.3, wherein the separating membrane of the cooling line device has spacers
  • Fig.11 shows a perspective view of a further embodiment of the cooling line device of the cooling device from Fig.3, wherein the cooling line device has fastening means according to a first variant
  • Fig.12 shows a perspective view of a further embodiment of the cooling line device of the cooling device from Fig.3, where
  • Fig.15 shows a side view of another embodiment of the cooling line device of the cooling device from Fig.3; and Fig.16 shows a flow chart of a method for operating a cooling device of a projection exposure system according to an embodiment.
  • Fig.1 shows an embodiment of a projection exposure system 1 (lithography system), in particular an EUV lithography system.
  • One embodiment of an illumination system 2 of the projection exposure system 1 has, in addition to a light or radiation source 3, an illumination optics 4 for illuminating an object field 5 in an object plane 6.
  • the light source 3 can also be provided as a separate module from the rest of the illumination system 2.
  • the illumination system 2 does not include the light source 3.
  • a reticle 7 arranged in the object field 5 is exposed.
  • the reticle 7 is held by a reticle holder 8.
  • the reticle holder 8 can be displaced via a reticle displacement drive 9, in particular in a scanning direction.
  • a Cartesian coordinate system with an x-direction x, a y-direction y and a z-direction z is shown in Fig. 1.
  • the x-direction x runs perpendicularly into the plane of the drawing.
  • the y-direction y runs horizontally and the z-direction z runs vertically.
  • the scanning direction runs in Carl Zeiss SMT GmbH et al. 21 of Fig. 1 along the y-direction y.
  • the z-direction z runs perpendicular to the object plane 6.
  • the projection exposure system 1 comprises a projection optics 10.
  • the projection optics 10 are used to image the object field 5 in an image field 11 in an image plane 12.
  • the image plane 12 runs parallel to the object plane 6. Alternatively, an angle other than 0° between the object plane 6 and the image plane 12 is also possible.
  • a structure on the reticle 7 is imaged onto a light-sensitive layer of a wafer 13 arranged in the area of the image field 11 in the image plane 12.
  • the wafer 13 is held by a wafer holder 14.
  • the wafer holder 14 can be displaced via a wafer displacement drive 15, in particular along the y-direction y.
  • the displacement of the reticle 7 on the one hand via the reticle displacement drive 9 and the wafer 13 on the other hand via the wafer displacement drive 15 can be synchronized with each other.
  • the light source 3 is an EUV radiation source.
  • the light source 3 emits in particular EUV radiation 16, which is also referred to below as useful radiation, illumination radiation or illumination light.
  • the useful radiation 16 has in particular a wavelength in the range between 5 nm and 30 nm.
  • the light source 3 can be a plasma source, for example an LPP source (Laser Produced Plasma, plasma generated with the aid of a laser) or a DPP source (Gas Discharged Produced Plasma, plasma generated by means of gas discharge). It can also be a synchrotron-based radiation source.
  • the light source 3 can be a free-electron laser (FEL). Carl Zeiss SMT GmbH et al. 22
  • the illumination radiation 16, which emanates from the light source 3, is bundled by a collector 17.
  • the collector 17 can be a collector with one or more ellipsoidal and/or hyperboloidal reflection surfaces. The at least one reflection surface of the collector 17 can be exposed to the illumination radiation 16 in grazing incidence (GI), i.e.
  • GI grazing incidence
  • the collector 17 can be structured and/or coated on the one hand to optimize its reflectivity for the useful radiation and on the other hand to suppress stray light.
  • the intermediate focus plane 18 can represent a separation between a radiation source module, having the light source 3 and the collector 17, and the illumination optics 4.
  • the illumination optics 4 comprise a deflection mirror 19 and a first facet mirror 20 arranged downstream of this in the beam path.
  • the deflection mirror 19 can be a flat deflection mirror or alternatively a mirror with a beam-influencing effect beyond the pure deflection effect.
  • the deflection mirror 19 can be designed as a spectral filter that separates a useful light wavelength of the illumination radiation 16 from false light of a different wavelength.
  • the first facet mirror 20 is arranged in a plane of the illumination optics 4 that is optically conjugated to the object plane 6 as a field plane, it is also referred to as a field facet mirror.
  • the first facet mirror 20 comprises a plurality of individual first facets 21, which can also be referred to as field facets. Only a few of these first facets 21 are shown in Fig. 1 as examples. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 23
  • the first facets 21 can be designed as macroscopic facets, in particular as rectangular facets or as facets with an arcuate or partially circular edge contour.
  • the first facets 21 can be designed as flat facets or alternatively as convex or concave curved facets. As is known, for example, from DE 102008009600 A1, the first facets 21 themselves can also be composed of a large number of individual mirrors, in particular a large number of micromirrors.
  • the first facet mirror 20 can in particular be designed as a microelectromechanical system (MEMS system). For details, reference is made to DE 102008009600 A1.
  • MEMS system microelectromechanical system
  • the second facet mirror 22 is arranged in a pupil plane of the illumination optics 4, it is also referred to as a pupil facet mirror.
  • the second facet mirror 22 can also be arranged at a distance from a pupil plane of the illumination optics 4.
  • the combination of the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22 is also referred to as a specular reflector. Specular reflectors are known from US 2006/0132747 A1, EP 1614 008 B1 and US 6,573,978.
  • the second facet mirror 22 comprises a plurality of second facets 23. In the case of a pupil facet mirror, the second facets 23 are also referred to as pupil facets. Carl Zeiss SMT GmbH et al.
  • the second facets 23 can also be macroscopic facets, which can be round, rectangular or hexagonal, for example, or alternatively facets composed of micromirrors. In this regard, reference is also made to DE 102008009600 A1.
  • the second facets 23 can have flat or alternatively convex or concave curved reflection surfaces.
  • the illumination optics 4 thus form a double-faceted system. This basic principle is also referred to as a fly's eye integrator. It can be advantageous not to arrange the second facet mirror 22 exactly in a plane that is optically conjugated to a pupil plane of the projection optics 10. In particular, the second facet mirror 22 can be arranged tilted relative to a pupil plane of the projection optics 10, as described, for example, in DE 102017220586 A1.
  • the second facet mirror 22 is the last bundle-forming or actually the last mirror for the illumination radiation 16 in the beam path in front of the object field 5.
  • a transmission optics can be arranged in the beam path between the second facet mirror 22 and the object field 5, which in particular contributes to the image of the first facets 21 in the object field 5.
  • the transmission optics can have exactly one mirror, but alternatively also two or more mirrors, which are arranged one behind the other in the beam path of the illumination optics 4.
  • the transmission optics can in particular have one or two mirrors for Carl Zeiss SMT GmbH et al.
  • the illumination optics 4 has exactly three mirrors after the collector 17, namely the deflection mirror 19, the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22.
  • the deflection mirror 19 can also be omitted, so that the illumination optics 4 can then have exactly two mirrors after the collector 17, namely the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22.
  • the imaging of the first facets 21 by means of the second facets 23 or with the second facets 23 and a transmission optics in the object plane 6 is usually only an approximate imaging.
  • the projection optics 10 comprises a plurality of mirrors Mi, which are numbered according to their arrangement in the beam path of the projection exposure system 1.
  • the projection optics 10 comprises six mirrors M1 to M6. Alternatives with four, eight, ten, twelve or another number of mirrors Mi are also possible.
  • the projection optics 10 is a double-obscured optic.
  • the penultimate mirror M5 and the last mirror M6 each have a passage opening for the illumination radiation 16.
  • the projection optics 10 have a numerical aperture on the image side that is greater than 0.5 and can also be greater than 0.6 and can be, for example, 0.7 or 0.75. Carl Zeiss SMT GmbH et al.
  • Reflection surfaces of the mirrors Mi can be designed as free-form surfaces without a rotational symmetry axis.
  • the reflection surfaces of the mirrors Mi can be designed as aspherical surfaces with exactly one rotational symmetry axis of the reflection surface shape.
  • the mirrors Mi just like the mirrors of the illumination optics 4, can have highly reflective coatings for the illumination radiation 16. These coatings can be designed as multilayer coatings, in particular with alternating layers of molybdenum and silicon.
  • the projection optics 10 have a large object-image offset in the y-direction y between a y-coordinate of a center of the object field 5 and a y-coordinate of the center of the image field 11.
  • This object-image offset in the y-direction y can be approximately as large as a z-distance between the object plane 6 and the image plane 12.
  • the projection optics 10 can in particular be designed anamorphically. In particular, it has different imaging scales ⁇ x, ⁇ y in the x and y directions x, y.
  • a positive imaging scale ⁇ means an image without image inversion.
  • a negative sign for the image scale ⁇ means an image with image inversion.
  • the projection optics 10 thus lead to a reduction in the ratio 4:1 in the x-direction x, i.e.
  • the projection optics 10 lead to a reduction in the y-direction y, i.e. in the scanning direction, of 8:1.
  • Carl Zeiss SMT GmbH et al. 27 Other image scales are also possible. Image scales with the same sign and absolutely the same in the x and y directions x, y, for example with absolute values of 0.125 or 0.25, are also possible.
  • the number of intermediate image planes in the x and y directions x, y in the beam path between the object field 5 and the image field 11 can be the same or can be different, depending on the design of the projection optics 10.
  • Examples of projection optics with different numbers of such intermediate images in the x and y directions x, y are known from US 2018/0074303 A1.
  • One of the second facets 23 is assigned to exactly one of the first facets 21 to form a respective illumination channel for illuminating the object field 5. This can in particular result in illumination according to the Köhler principle.
  • the far field is broken down into a plurality of object fields 5 using the first facets 21.
  • the first facets 21 generate a plurality of images of the intermediate focus on the second facets 23 assigned to them.
  • the first facets 21 are each imaged onto the reticle 7 by an assigned second facet 23, superimposed on one another, to illuminate the object field 5.
  • the illumination of the object field 5 is in particular as homogeneous as possible.
  • the field uniformity can be achieved by superimposing different illumination channels.
  • the illumination of the entrance pupil of the projection optics 10 can be defined geometrically by arranging the second facets 23. By selecting the illumination channels, in particular the subset of the second facets 23 that guide light, the intensity distribution in the entrance pupil of the Carl Zeiss SMT GmbH et al. 28 projection optics 10. This intensity distribution is also referred to as illumination setting or illumination pupil filling.
  • a pupil uniformity that is also preferred in the area of defined illuminated sections of an illumination pupil of the illumination optics 4 can be achieved by redistributing the illumination channels. Further aspects and details of the illumination of the object field 5 and in particular of the entrance pupil of the projection optics 10 are described below.
  • the projection optics 10 can in particular have a homocentric entrance pupil. This can be accessible. It can also be inaccessible.
  • the entrance pupil of the projection optics 10 cannot usually be illuminated exactly with the second facet mirror 22.
  • the projection optics 10 images the center of the second facet mirror 22 telecentrically onto the wafer 13, the aperture rays often do not intersect at a single point.
  • a surface can be found in which the pairwise determined distance of the aperture rays is minimal.
  • This surface represents the entrance pupil or a surface conjugated to it in spatial space. In particular, this surface shows a finite curvature. It may be that the projection optics 10 have different positions of the entrance pupil for the tangential and the sagittal beam path.
  • an imaging element in particular an optical component of the transmission optics, should be provided between the second facet mirror 22 and the reticle 7.
  • this optical element With the help of this optical element, the different positions of the tangential entrance pupil and the sagittal entrance pupil can be taken into account.
  • Carl Zeiss SMT GmbH et al. 29 In the arrangement of the components of the illumination optics 4 shown in Fig.1, the second facet mirror 22 is arranged in a surface conjugated to the entrance pupil of the projection optics 10.
  • the first facet mirror 20 is arranged tilted to the object plane 6.
  • the first facet mirror 20 is arranged tilted to an arrangement plane that is defined by the deflection mirror 19.
  • the first facet mirror 20 is arranged tilted to an arrangement plane that is defined by the second facet mirror 22.
  • Fig.2 shows a positioning system 100 with an optical component 102 (as an example of a position-sensitive component) according to an embodiment.
  • the optical component 102 is, for example, a mirror of the projection exposure system 1 (lithography system), in particular the projection optics 10, from Fig.1.
  • the optical component 102 is, for example, one of the mirrors M1 - M6.
  • the optical component 102 is described as a mirror; in other examples, however, it can also be an optical component other than a mirror.
  • the mirror 102 comprises a coating 104 with an optically active surface 106.
  • the mirror 102 also comprises a substrate 108.
  • Cooling lines 110 are arranged in the substrate 108, through which a cooling liquid 112, such as water, is passed in order to actively cool the mirror 102. Cooling the mirror 102 serves to avoid thermal deformations of the mirror 102, even when exposed to high-energy EUV radiation 16 (Fig.1).
  • the mirror 102 is movably attached to a support frame 116 by means of an actuator device 114.
  • the actuator device 114 has, for example, several Carl Zeiss SMT GmbH et al. 30 actuators 118 and a drive unit (not shown).
  • the actuator device 114 serves, for example, to position the mirror 102 with respect to six degrees of freedom (translation in the X, Y and Z directions and rotation about the X, Y and Z directions).
  • the positioning system 100 also has a sensor device 120 to detect a current position of the mirror 102.
  • the sensor device 120 is only indicated schematically in Fig.2.
  • the sensor device 120 has one or more sensors, such as interferometers.
  • the sensors of the sensor device 120 are, for example, attached to a sensor frame (not shown).
  • the sensor frame is, for example, attached to the support frame 116 in a vibration-decoupled manner.
  • a current position of the mirror 102 is detected using laser beams 122.
  • a cooling device 200 for cooling the mirror 102 is shown.
  • the cooling device has a cooling circuit 202.
  • the cooling device 200 comprises a cooling unit 204 for cooling a cooling liquid 112 (Fig.2) and cooling lines 206, 110 for transporting the cooling liquid 112.
  • the cooling device 200 also comprises one or more pumps 208 for generating a required coolant flow rate of the cooling liquid 112.
  • the cooling device 202 further comprises one or more valves 210 for controlling the cooling flow.
  • the cooling device 200 can be used to cool several components of the lithography system 1.
  • the mirror 102 from Fig.2 is shown in Fig.3 as a cooled component.
  • the cooling lines 110 (Fig.2), which are arranged in the mirror substrate 108, are shown schematically in Fig.3.
  • two further mirrors 102' and 102" - similar to the mirror 102 from Fig.2 - are shown as additional cooled components in Fig.3. Carl Zeiss SMT GmbH et al.
  • Pumps of the cooling device 200 such as the pump 208, cause local pressure fluctuations in the liquid 112, which generates a dynamic disturbance. These pressure fluctuations are transmitted through the entire cooling circuit 202 via longitudinal water sound waves. Furthermore, cross-sectional changes (not shown) of the cooling line 206, deflections 212 of the cooling line 206 and valves 210 of the cooling device 200 can also represent sources of disturbance that cause local pressure fluctuations in the liquid 112. Such acoustic disturbance is transmitted to the cooled optical component 102, 102', 102" (the mirror 102, 102', 102") via water sound.
  • the cooling device 200 serves, for example, to cool the mirrors 102, 102', 102". In other examples, however, the cooling device 200 can also serve to cool other position-sensitive components, such as other mirrors and/or a sensor frame (not shown) of the projection exposure system 1 (lithography system). To dampen pressure fluctuations of the cooling liquid 112, the cooling device 200 comprises a cooling line device 214 with an integrated compressible gas volume 216.
  • the cooling line device 214 comprises the cooling line 206 or a section of the cooling line 206, a liquid space 218 for the cooling liquid 112 to flow through and a gas space 220 for receiving a gas 222 (gas volume 216). Furthermore, the cooling line device 214 comprises an elastic separating membrane 224 which separates the gas space 220 from the liquid space 218.
  • Carl Zeiss SMT GmbH et al. 32 Fig.4 shows a functional principle of the cooling line device 200' from Fig.3. On the left side of Fig.4, a cooling line device 214' with a cooling line 206' and an elastic separating membrane 224' arranged in the cooling line 206' is shown, which is in a rest state.
  • the elastic separating membrane 224' on the left side of Fig.4 is in a relaxed, undeformed state.
  • the elastic separating membrane 224' separates the cooling liquid 112 in the liquid space 218' from the gas 222 in the gas space 220'.
  • a volume of the cooling liquid 112 is VF1 in the rest state and a volume of the gas 222 is VG1 in the rest state.
  • the cooling line device 214' with the elastic separating membrane 224' is shown in a state in which the elastic separating membrane 224' is in an elastically deformed state.
  • the separating membrane 224' was deformed by an increase in the pressure of the cooling liquid 112, so that the volume V F2 of the liquid space 218' increased and at the same time the volume VG2 of the gas space 220' decreased accordingly.
  • an increase in the pressure of the cooling liquid 112 can be dampened by expanding the liquid 112 and compressing the gas 222 in the gas space 220'.
  • the dashed line in Fig.4 illustrates a deformation of the separating membrane 224' in the event of a reduction in the pressure of the cooling liquid 112 in the liquid space 218', which would lead to an increase in the volume of the gas space 220'. Accordingly, periodic pressure fluctuations of the cooling liquid 112 can also be dampened using the compressible gas bubble 216'.
  • Fig.5 shows a cross-sectional view of the cooling line device 214 from Fig.3 along line VV.
  • the elastic separating membrane 224 is a hose 226, in the interior 228 of which the gas 220 is located.
  • the gas space 220 is an internal space with respect to the liquid space 218. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 33 Gas space 220.
  • the liquid space 218 through which the cooling liquid 112 flows is formed between an outer wall 230 of the hose 226 and an inner wall 232 of the cooling line 206.
  • the gas space 220 is arranged and designed rotationally symmetrically with respect to the cooling line 206.
  • the gas space 220, the liquid space 218 and the cooling line 206 are arranged coaxially with respect to one another.
  • a central axis of the cooling line 206 is identified by the reference symbol A1
  • a central axis of the liquid space 218 is identified by the reference symbol A2
  • a central axis of the gas space 220 is identified by the reference symbol A3.
  • the elastic separating membrane 224 ie the hose 226) is in a resting state.
  • a volume of the gas 222 is V G1 ' and a volume of the cooling liquid 112 is V F1 '.
  • Fig.6 shows the cooling line device 214 from Fig.5, wherein the elastic separating membrane 224 is in an elastically deformed state.
  • Fig.7 shows a cross-sectional view of another embodiment of a cooling line device 314 of a cooling device 300 of the lithography system 1.
  • the cooling line device 314 comprises a cooling line 306 with a Carl Zeiss SMT GmbH et al. 34 with respect to a liquid space 318 external gas space 320.
  • a separating membrane 324 in this embodiment is designed in the form of a hose 326.
  • Fig.8 shows a cross-sectional view of another embodiment of a cooling line device 414 of a cooling apparatus 400 of the lithography system 1.
  • the cooling line device 414 comprises a cooling line 406 with two separating membranes 424 and 424', which are arranged coaxially. It can also be said that the two separating membranes 424 and 424' are concentric when viewed in the cross section of the cooling line 406.
  • three spaces are created which are separated from one another by means of the two separating membranes 424 and 424' in the cross-section of the cooling line 406: two gas spaces 420 and 420' for receiving a gas 222 and a liquid space 418 for the cooling liquid 112 to flow through.
  • the liquid space 418 which is annular in cross-section, is in contact with a respective gas space 420 and gas space 420' for pressure equalization from both sides, i.e. both on its inner side 434 and on its outer side 436.
  • an annular gas space can also be flanked by two liquid spaces.
  • Fig.9 shows a cross-sectional view of another embodiment of a cooling line device 514 of a cooling device 500 of the lithography system 1.
  • the cooling line device 514 comprises a cooling line 506 with two separating membranes 524 and 524', each in the form of a hose 526, 526'.
  • the separating membranes 524 and 524' are not arranged coaxially when viewed in cross section, but rather next to one another.
  • Each of the hoses 526, 526' is filled with a gas 222 to provide a compressible gas volume 516, 516' for damping Carl Zeiss SMT GmbH et al. 35 Pressure fluctuations of the cooling liquid 112.
  • Fig.9 is an example of two internal gas spaces 520, 520'.
  • two liquid spaces formed within the hoses 526, 526' can also be provided.
  • a gas space arranged between an outer wall 530, 530' of the hoses 526, 526' and an inner wall 532 of the cooling line 506 can be provided.
  • Fig.10 shows a cross-sectional view of another embodiment of a cooling line device 614 of a cooling apparatus 600 of the lithography system 1.
  • the cooling line device 614 is a variant of the cooling line device 214 shown in Fig.5.
  • the cooling line device 614 according to the embodiment of Fig.10 differs from the cooling line device 214 according to the embodiment of Fig.5 in that several spacers 638 are arranged on the separating membrane 624.
  • three of the spacers 638 shown in Fig.10 are provided with a reference number.
  • the spacers 638 are arranged in particular between an outer wall 630 of the elastic separating membrane 624 and an inner wall 632 of the cooling line 606.
  • the spacers 638 are formed by knobs 640 arranged on the outer wall 630 of the elastic separating membrane 624.
  • the nubs 640 can in particular be made of the same material as the elastic separating membrane 624.
  • the nubs can also be formed in one piece with the elastic separating membrane 624.
  • Fig.11 shows a perspective view of another embodiment of a cooling line device 714 of a cooling device 700 of the lithography system 1.
  • the cooling line device 714 comprises in particular fastening means 742 for fastening the elastic separating membrane 724 to an inner wall 732 of the cooling line 706.
  • the elastic separating membrane 724 is in particular in Carl Zeiss SMT GmbH et al. 36 form of a hose 726.
  • the fastening means 742 comprise, for example, a pipe clamp 744 which is arranged around the hose 726 and is clamped to the hose 726.
  • the fastening means 742 also comprise, for example, a strut and/or a web 746 which connects the pipe clamp 744 to an inner wall 732 of the cooling line 706.
  • the strut/web 746 is fastened on one side to the pipe clamp 744 and on its other side to the inner wall 732 of the cooling line 706.
  • the strut/web 746 represents in particular an example of a spacer which holds the hose 726 in position within the liquid space 718 filled with the cooling liquid 112.
  • Fig.12 shows a perspective view of a further embodiment of a cooling line device 814 of a cooling apparatus 800 of the lithography system 1.
  • the cooling line device 814 has fastening means 842 according to a further variant.
  • the fastening means 842 comprise struts 844 arranged between an outer wall 830 of the separating membrane 824 and an inner wall 832 of the cooling line 806.
  • the struts are arranged radially in particular. In Fig.12, five struts are shown as an example, three of which have been provided with a reference number. In Fig.12, an internal gas space 820 is shown which is surrounded by an annular liquid space 818, but this arrangement can also be reversed so that there is an external gas space and an internal liquid space.
  • the embodiments of the cooling line devices 214, 214', 214", 314, 414, 514, 614, 714 and 814 shown in Figures 3 to 12 can be combined with one another in many ways.
  • the spacers 638 shown in Figure 10, the fastening means 742 shown in Figure 11 and the fastening means 842 shown in Figure 12 can be combined with any of the embodiments and variants shown and/or described in connection with Figures 3 to 9.
  • Figures 8 and 9 show two examples of cooling line devices 414 and 514 in which more than one separating membrane 424, 524 is provided in order to provide more than one gas space 420, 520 for dampening pressure fluctuations of the cooling liquid 112, as seen in the cross section of the cooling line 406, 506.
  • two separating membranes 424 and 424' or 524 and 524' are shown in each case in Figures 8 and 9 for forming two gas spaces 420 and 420' or 520 and 520'.
  • more than two separating membranes can also be provided in such a way that more than two gas spaces are provided, as seen in the cross section of the cooling line 406, 506.
  • more than two separating membranes 224, 224" can be provided such that they are separated from one another and from the liquid space 218 with respect to a flow direction (flow direction) R of the cooling liquid 112.
  • the cooling device 200 can have two or more gas spaces 220, 220" which are separated from the liquid space 218 by means of the two or more separating membranes 224, 224".
  • the two or more gas spaces 220, 220" are separated from one another and from the liquid space 218 in particular with respect to the flow direction (flow direction) R of the cooling liquid 112.
  • a gas 222, 222" is accommodated in each of the two or more gas spaces 220, 220", wherein the gases 222, 222" can have different pressures P, P".
  • the pressures P, P" refer in particular to pressures of the gases 222, 222" (preload pressures) in a resting state of the separating membrane 224, 224".
  • a frequency range of a dampening can be set by setting the preload pressure P, P" of the respective gas volume 216, 216".
  • Carl Zeiss SMT GmbH et al. 38 For example, low-frequency pressure surges can be dampened by a first gas volume 216 in the cooling circuit 202 in Fig.3.
  • the first gas volume 216 can be specifically designed for low-frequency suppression and this can be implemented as close to the water cabinet as possible.
  • higher frequency pressure surges can be dampened, for example, by a second gas volume 216" in the cooling circuit 202 in Fig.3.
  • the preload pressure P" of the second gas volume 216" is set to a higher value than the preload pressure P of the first gas volume 216.
  • the position control of the mirrors 102 results in a sensitive frequency range between approximately 50 and 150 Hz.
  • the second gas volume 216" could be arranged directly in front of the actively controlled and cooled mirrors 102, which shows good suppression precisely in this frequency range.
  • a cascading of the pressure damping in the cooling circuit 202 can also be realized in this way.
  • gas volumes 216, 216" can also be specifically adapted to the damping requirements of individual position-sensitive components 102, 102', 102".
  • the three gas volumes 216" which are connected upstream of the three optical components 102, 102', 102" in the flow direction R, have the same preload pressure P".
  • a respective preload pressure P" of a gas volume 216" can also be specifically adapted to the damping requirements of a respective optical component 102, 102', 102".
  • the cooling device 200 can comprise one or more devices 250 for adjusting a pressure P, P" of the gas 222, 222" of one or more gas volumes 216, 216".
  • the one or more pressure adjusting devices 250 can be used to selectively adjust damping properties of closed gas volumes 216, 216" over the entire cooling circuit 202.
  • the pre-tension pressures P, P" are set before starting up the cooling device 200 and/or the lithography system 1.
  • the embodiments of the cooling devices 300, 400, 500, 600, 700, 800 can also comprise one or more devices similar to the device 250 (Fig. 3) for setting a pressure of the gas 222 in one or more gas spaces 320, 420, 420', 520, 520', 620, 720, 820.
  • FIG. 13 shows a cross-sectional view of a further embodiment of a cooling line device 914 of a cooling device 900 of the lithography system 1.
  • the cooling device 900 comprises a cooling line 906 with a liquid space 918, a gas space 920 and a separating membrane 924 separating the liquid space 918.
  • the cooling device 900 further comprises a foam-like and/or sponge-like element 952.
  • the foam-like and/or sponge-like element 952 comprises a plurality of bubbles 954 (gas bubbles 954) and an elastic material 956 surrounding the plurality of bubbles 954.
  • the gas space 920 is formed in particular by the plurality of bubbles 954 of the foam-like and/or sponge-like element 952.
  • the elastic material 956 surrounding the plurality of bubbles 954 forms the separating membrane 924.
  • Fig. 14 shows a side view of another embodiment of a cooling line device 1014 of a cooling device 1000 of the lithography system 1.
  • the cooling device 1000 comprises a cooling line 1006.
  • the cooling line 1006 - like the cooling lines described above - has a liquid space, a gas space and a separating membrane separating the liquid space.
  • the cooling device 1000 is designed so that a cooling liquid flows through the cooling line 1006 in a flow direction R. Furthermore, a diameter D1 of the cooling line 1006 tapers (e.g. evenly) along the flow direction R.
  • the reference symbol D1 designates a first diameter and D2 a second diameter which is smaller than the first diameter D1.
  • the flow speed of the cooling liquid can be influenced. In this way, a frequency range for damping pressure waves of the cooling liquid can be set. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 41
  • the cooling line 1006 extends straight in a longitudinal direction L and the cooling liquid flows along the longitudinal direction L through the cooling line 1006.
  • the flow direction R and the longitudinal direction L are arranged parallel to one another.
  • the diameter D1 of the cooling line 1006 tapers along the longitudinal direction L.
  • Fig.15 shows a further variant of a cooling line 1114 of a cooling device 1100 that tapers along a flow direction R' of a cooling liquid.
  • the cooling line 1114 in Fig.15 is in particular curved.
  • the cooling line 1114 is shaped like a spiral W.
  • the diameter D1 of the cooling line 1114 tapers along the helically curved W cooling line 1114.
  • the reference symbol D1' denotes a first diameter and D2' a second diameter which is smaller than the first diameter D1'.
  • a method for operating a cooling device 200, 200', 300, 400, 500, 600, 700, 800, 900, 1000, 1100 (Figs. 4 to 15) of a projection exposure system 1 (Fig. 1) according to an embodiment is described with reference to Fig. 16.
  • the cooling device 200, 200', 300, 400, 500, 600, 700, 800, 900, 1000, 1100 serves to cool a position-sensitive component 102, 102', 102" (Fig.3) of the projection exposure system 1 (Fig.1).
  • the cooling device 200, 200', 300, 400, 500, 600, 700, 800, 900, 1000, 1100 comprises a cooling line device 214, 214', 314, 414, 514, 614, 714, 814, 914, 1014, 1114 (Fig.4 to 15) with a cooling line 206, 206', 306, 406, 506, 606, 706, 806, 906, 1006, 1106.
  • the cooling line device 214, 214', 314, 414, 514, 614, 714, 814, 914, 1014, 1114 also comprises a liquid space 218, 218', 318, 418, 518, 618, 718, 818, 918 for transporting a cooling liquid 112 to the position-sensitive component 102, 102', 102".
  • a liquid space 218, 218', 318, 418, 518, 618, 718, 818, 918 for transporting a cooling liquid 112 to the position-sensitive component 102, 102', 102".
  • the cooling line device 214, 214', 314, 414, 514, 614, 714, 814, 914, 1014, 1114 also comprises one or more gas spaces 220, 220', 320, 420, 420', 520, 520', 620, 720, 820, 920 for receiving a gas 222.
  • the respective gas space 220, 220', 320, 420, 420', 520, 520', 620, 720, 820, 920 is connected by means of an elastic separating membrane 224, 224', 324, 424, 424', 524, 524', 624, 724, 824, 924 are separated from the liquid space 218, 218', 318, 418, 518, 618, 718, 818, 918.
  • a first step S1 of the method the liquid space 218, 218', 318, 418, 518, 618, 718, 818, 918 of the cooling line 206, 206', 306, 406, 506, 606, 706, 806, 906, 1006, 1106 is flowed through by the cooling liquid 112.
  • a volume VF1 of the liquid space 218, 218', 318, 418, 518, 618, 718, 818, 918 (and thus a volume V F1 of the cooling liquid 112) is changed by deforming the elastic separating membrane 224, 224', 324, 424, 424', 524, 524', 624, 724, 824, 924.
  • the volume VF1 of the liquid space 218, 218', 318, 418, 518, 618, 718, 818, 918 is changed in response to a pressure change of the cooling liquid 112.
  • a pressure change e.g. a pressure fluctuation
  • a transmission of a pressure fluctuation to the position-sensitive component 102, 102', 102" can be reduced or avoided.
  • Cooling line 112 Cooling liquid 114
  • Actuator device 116 Support frame 118
  • Actuator 120 Sensor device 122
  • Laser beam 200 Cooling device 202
  • Cooling circuit 204 Cooling unit 206
  • Cooling line 208 Pump 210
  • Valve 212 Deflection 214, 214' Cooling line device 216, 216', 216" Gas volume 218, 218' Liquid space 220, 220', 220" Gas space 222, 222" Gas 224, 224', 224" Separating membrane 226 Hose 228 Interior 230
  • Cooling device 306 Cooling line 314
  • Cooling line device 316 Gas volume 318 Liquid space Carl Zeiss SMT GmbH et al.
  • Cooling device 632 Inner wall 638 Spacer 640 Stud 700 Cooling device 706 Cooling line 714 Cooling line device 716 Gas volume 718 Liquid space 720 Gas space 724 Separating membrane 726 Hose 732 Inner wall 742 Fastener 744 Pipe clamp 746 Web/strut 800 Cooling device 806 Cooling line 814 Cooling line device 816 Gas volume 818 Liquid space 820 Gas space 824 Separating membrane 830 Outer wall 832 Inner wall 842 Fastener 844 Strut 900 Cooling device 906 Cooling line 914 Cooling line device 918 Liquid space Carl Zeiss SMT GmbH et al.

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Abstract

Kühlvorrichtung (200) zum Kühlen einer positionssensitiven Komponente (102) einer Lithographieanlage (1), aufweisend eine Kühlleitung (206) mit einem Flüssigkeitsraum (218) zum Transportieren einer Kühlflüssigkeit (112) zu der positionssensitiven Komponente (102) und einem Gasraum (220) zum Aufnehmen eines Gases (222), und eine innerhalb der Kühlleitung (206) angeordnete elastische Trennmembran (224), die den Gasraum (220) von dem Flüssigkeitsraum (218) abtrennt.

Description

Carl Zeiss SMT GmbH et al. 1 KÜHLVORRICHTUNG ZUM KÜHLEN EINER POSITIONSSENSITIVEN KOMPONENTE EINER LITHOGRAPHIEANLAGE Die vorliegende Erfindung betrifft eine Kühlvorrichtung zum Kühlen einer positi- onssensitiven Komponente einer Lithographieanlage, eine entsprechende Litho- graphieanlage und ein Verfahren zum Betreiben einer Kühlvorrichtung einer Lithographieanlage. Der Inhalt der Prioritätsanmeldung DE 102022125354.6 wird durch Bezug- nahme vollumfänglich miteinbezogen Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithogra- phieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Be- leuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Pro- jektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) be- schichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen. Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstel- lung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen entwi- ckelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, ins- besondere 13,5 nm, verwenden. Da die meisten Materialien Licht dieser Wellen- länge absorbieren, müssen bei solchen EUV-Lithographieanlagen reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von - wie bisher - brechenden Optiken, das heißt Linsen, eingesetzt werden. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 2 Die Anforderungen an die Genauigkeit und Präzision der Abbildungseigenschaf- ten von Lithographieanlagen steigen ständig an. Aus dynamischer Sicht gilt es im Zuge dessen den Einfluss von Störeinträgen auf die Bewegung verschiedener positionssensitiver Bauteile der Lithographieanlage zu minimieren. Beispiels- weise ist eine sehr genaue Positionierung von optischen Komponenten, insbeson- dere Spiegeln, der Lithographieanlage erforderlich. Dynamische Störanregungen von optischen Komponenten können zum Beispiel durch die Bewegung anderer Bauteile der Lithographieanlage oder durch akustische Störungen erzeugt wer- den. Akustische Störungen werden beispielsweise als Druckschwankungen von Kühlflüssigkeiten in Kühlleitungen einer Kühlvorrichtung der Lithographiean- lage an positionssensitive Bauteile der Lithographieanlage übertragen. Mit weiterer Zunahme der Komplexität von Lithographieanlagen sind weitere dynamische Störanregungen innerhalb und außerhalb des Systems zu erwarten, sodass zusätzliche Mechanismen für deren Unterdrückung bzw. Kompensierung wünschenswert und erforderlich sind. Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, eine verbesserte Kühlvorrichtung für eine Lithographieanlage, eine entspre- chende Lithographieanlage und ein Verfahren zum Betreiben einer Kühlvorrich- tung einer Lithographieanlage bereitzustellen. Gemäß einem ersten Aspekt wird eine Kühlvorrichtung zum Kühlen einer positi- onssensitiven Komponente einer Lithographieanlage vorgeschlagen. Die Kühl- vorrichtung weist auf: eine Kühlleitung mit einem Flüssigkeitsraum zum Transportieren einer Kühlflüssigkeit zu der positionssensitiven Komponente und einem Gasraum zum Aufnehmen eines Gases, und eine innerhalb der Kühlleitung angeordnete elastische Trennmembran, die den Gasraum von dem Flüssigkeitsraum abtrennt. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 3 Durch Einbringen eines komprimierbaren Gasvolumens innerhalb der Kühllei- tung können Druckschwankungen der Kühlflüssigkeit gedämpft werden. Damit kann eine Ausbreitung von Druckschwankungen über die Kühlflüssigkeit deut- lich verringert werden. Insbesondere ist die elastische Trennmembran dazu ein- gerichtet, sich zu verformen und dadurch ein Volumen des Flüssigkeitsraums auf Kosten eines Volumens des Gasraums zu verändern. Beispielsweise führt eine Druckerhöhung der Kühlflüssigkeit, im Querschnitt der Kühlleitung gesehen, zu einer Verformung der Trennmembran in den ursprüng- lichen Gasraum hinein, sodass sich das Volumen des Flüssigkeitsraums vergrö- ßert und gleichzeitigt das Volumen des Gasraums entsprechend verkleinert. So- mit kann eine Druckerhöhung der Kühlflüssigkeit durch Ausdehnen der Flüssig- keit im Flüssigkeitsraum und Komprimieren des Gases im Gasraum gedämpft werden. Analog verhält es sich bei einer Druckverkleinerung der Kühlflüssigkeit im Flüs- sigkeitsraum der Kühlleitung, die zu einer Vergrößerung des Volumens des Gas- raums führt. Dadurch kann sich das Gas im Gasraum ausdehnen und die Kühl- flüssigkeit im Flüssigkeitsraum wird komprimiert, wodurch die Druckverkleine- rung der Kühlflüssigkeit gedämpft wird. Entsprechend können auch periodische Druckschwankungen der Kühlflüssigkeit mithilfe des komprimierbaren Gasvolumens gedämpft werden. Die positionssensitive Komponente der Lithographieanlage kann eine optische oder eine mechanische Komponente der Lithographieanlage, z. B. einer Projekti- onsoptik der Lithographieanlage, sein. Die positionssensitive Komponente ist ins- besondere ein Bauteil, das im Betrieb der Lithographieanlage mit nur kleinen Toleranzen auf einer genauen Position gehalten werden muss. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 4 Die positionssensitive Komponente der Lithographieanlage ist beispielsweise ein Spiegel der Lithographieanlage, z. B. ein Spiegel der Projektionsoptik der Litho- graphieanlage. Die Spiegel einer Projektionsoptik einer EUV-Lithographieanlage sind üblicherweise mittels Aktoren an einem Tragrahmen beweglich befestigt, um eine Position des jeweiligen Spiegels genau anpassen zu können. Die positionssensitive Komponente der Lithographieanlage kann auch eine Rah- menstruktur sein, die als (z. B. optische) Referenz dient. Die positionssensitive Komponente kann zum Beispiel ein Sensorrahmen der Lithographieanlage, z. B. der Projektionsoptik der Lithographieanlage, sein. Ein Sensorrahmen weist übli- cherweise eine Sensorvorrichtung zum Messen einer aktuellen Position einer oder mehrerer optischer Komponenten der Lithographieanlage relativ zu dem Sensorrahmen auf. Der Sensorrahmen ist beispielsweise bezüglich eines Tragrahmens der optischen Komponente(n) schwingungsentkoppelt gelagert. Die Sensorvorrichtung umfasst z. B. einen oder mehrere Sensoren, wie zum Beispiel Interferometer und/oder andere Messvorrichtungen zum Erfassen einer Position der optischen Komponente(n). Die optische Komponente(n) kann/können bei- spielsweise Reflektorelemente aufweisen zum Reflektieren eines von den Senso- ren ausgesendeten Lichts (z. B. Laserlichts). Beispielswiese dienen der eine oder die mehreren Sensoren zum Erfassen einer Position der optischen Kompo- nente(n) in sechs Freiheitsgraden. Die sechs Freiheitsgrade umfassen insbeson- dere drei Translationsfreiheitgrade (z. B. in drei zueinander senkrechten Raum- richtungen) und drei Rotationsfreiheitgrade (z. B. bezüglich einer Rotation um die drei zueinander senkrechten Raumrichtungen). Durch die vorgeschlagene Kühlvorrichtung mit dem in der Kühlleitung integrier- ten komprimierbaren Gasvolumen können Druckschwankungen der Kühlflüssig- keit gedämpft werden und eine Übertragung an die positionssensitive Kompo- nente reduziert oder vermieden werden. Folglich kann eine größere Präzession Carl Zeiss SMT GmbH et al. 5 der Position und damit der optischen Eigenschaften bzw. der Referenzeigenschaf- ten der positionssensitiven Komponente erreicht werden. Folglich kann eine Ab- bildungseigenschaft der Lithographieanlage verbessert werden. Zudem können Störanregung auch bei zunehmend komplexer werdenden Lithographieanlagen mit einer zunehmenden Anzahl an Störquellen besser kompensiert werden. Die Lithographieanlage ist zum Beispiel eine EUV- oder eine DUV- Lithographieanlage. Dabei steht EUV für "extremes Ultraviolett" (Engl.: ext- reme ultraviolet, EUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts im Be- reich von 0,1 nm bis 30 nm, insbesondere 13,5 nm. Weiterhin steht DUV für "tie- fes Ultraviolett" (Engl.: deep ultraviolet, DUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm. Die EUV- oder DUV-Lithographieanlage umfasst ein Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem. Insbesondere wird mit der EUV- oder DUV- Lithographieanlage das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindli- chen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssys- tems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen. Die Kühlleitung ist beispielsweise eine Rohrleitung zum Durchleiten der Kühl- flüssigkeit. Die Kühlleitung weist beispielsweise ein Metallrohr und/oder ein Edelstahlrohr auf. Die Kühlleitung kann beispielsweise einen kreisförmigen Querschnitt aufweisen. Die Kühlflüssigkeit ist oder umfasst beispielsweise Was- ser. Die Kühlleitung dient beispielsweise zum Transportieren der Kühlflüssigkeit zu und/oder von der positionssensitiven Komponente. Die Kühlleitung dient bei- spielsweise zum Transportieren der Kühlflüssigkeit von einer Kühleinheit der Kühlvorrichtung zu der positionssensitiven Komponente und/oder von der Carl Zeiss SMT GmbH et al. 6 positionssensitiven Komponente (zurück) zur Kühleinheit. Die Kühlvorrichtung kann auch mehr als eine Kühlleitung aufweisen. Die Kühlvorrichtung dient insbesondere zur Vermeidung hoher Temperaturen und Temperaturschwankungen der positionssensitiven Komponente. Insbesondere Spiegel einer EUV-Lithographieanlage (als Beispiel für positions- sensitive Komponenten) erwärmen sich infolge einer Absorption der energierei- chen EUV-Strahlung. Dadurch hervorgerufene hohe Temperaturen und Tempe- raturschwankungen im Spiegel und damit einhergehende thermische Verformun- gen des Spiegels können zu Wellenfrontaberrationen führen und damit die Abbil- dungseigenschaften der Spiegel beeinträchtigen. Zur Vermeidung von thermisch induzierten Deformationen können Spiegel der Lithographieanlage aktiv gekühlt werden. Die Kühlvorrichtung kann auch (zusätzlich oder stattdessen) zum Kühlen bei- spielsweise eines Sensorrahmens (als Beispiel einer positionssensitiven Kompo- nente) dienen. Dadurch kann eine Erwärmung des Sensorrahmens durch Wär- mestrahlung verhindert werden. Wärmestrahlung wird insbesondere durch von Spiegeloberflächen oder Strukturelementen absorbiertes Arbeitslicht der Litho- graphieanlage verursacht. Weitere Wärmequellen können beispielsweise Aktoren und Heizköpfe sein. Mithilfe der Kühlvorrichtung kann eine stabile Temperatu- rumgebung für den Sensorrahmen geschaffen werden. Dadurch kann eine Positi- onsmessung des Spiegels oder der mehreren Spiegel mit Hilfe der von dem Sen- sorrahmen gehaltenen Sensorvorrichtung mit einer höheren Genauigkeit durch- geführt werden. Die Kühlvorrichtung umfasst ferner beispielsweise eine Kühleinheit zum Kühlen der Kühlflüssigkeit, ein oder mehrere Pumpen zum Erzeugen einer Carl Zeiss SMT GmbH et al. 7 erforderlichen Kühlmittelflussrate der Kühlflüssigkeit und ein oder mehrere Ventile zum Steuern des Kühlflusses. Zur Kühlung wird eine bestimmte Kühlmittelflussrate benötigt, welche über ein Pumpensystem realisiert wird. Dadurch kommt es zu einer dynamischen Störan- regung, denn jede Pumpe erzeugt lokale Druckschwankungen. Diese werden über einen Kühlmittelschall (Wasserschall, longitudinale Wasserschallwelle) durch den gesamten Kühlkreislauft übertragen. Weiterhin kann jede Quer- schnittsänderung und jede Umlenkung der Flüssigkeitsleitung sowie jedes einge- baute Ventil des Kühlkreislaufs eine Störquelle darstellen, die lokale Druck- schwankungen der Flüssigkeit verursacht. Diese Art von dynamischen Störanre- gungen wird auch flussinduzierte Vibrationen (Engl. "Flow Induced Vibrations", FIV) genannt. Durch Wasserschall wird die Störanregung an die gekühlte positi- onssensitive Komponente weitergeleitet. Dies verursacht, dass die Position der positionssensitiven Komponente von einer Sollposition abweicht. Insbesondere wirkt ein Druckstoß der Kühlflüssigkeit auf Flächen der gekühlten positionssen- sitiven Komponente ein. Der Druckstoß wird an den Flächen, auf die er wirkt, in eine Kraft gewandelt. Aufgrund dieser Kraft kommt es zu einer Abweichung der Position der positionssensitiven Komponente von der Sollposition. Der Flüssigkeitsraum der Kühlleitung ist im Inneren der Kühlleitung angeord- net und dient zum Durchströmen der Kühlflüssigkeit. Weiterhin ist der Gasraum im Inneren der Kühlleitung angeordnet und dient zum Aufnehmen eines Gases. Durch die elastische Trennmembran, die den Flüssigkeitsraum vom Gasraum ab- trennt, ist ein Volumen des Flüssigkeitsraums und des Gasraums variable. Folg- lich ist durch die elastische Trennmembran ein Volumen der Kühlflüssigkeit und ein Volumen des Gases variable. Im Betrieb der Kühlvorrichtung, z. B. im Betrieb der Lithographieanlage, ist der Flüssigkeitsraum im Querschnitt der Kühlleitung gesehen beispielsweise voll- ständig von der Kühlflüssigkeit ausgefüllt. Weiterhin ist beispielsweise der Carl Zeiss SMT GmbH et al. 8 Gasraum im Querschnitt der Kühlleitung gesehen vollständig von dem Gas aus- gefüllt. Die elastische Trennmembran ist insbesondere dazu eingerichtet, zusammen mit einem im Gasraum aufgenommenen Gas eine Gasblase zu bilden. Die Gasblase ist in Bezug auf eine zentrale Längsachse der Flüssigkeitsleitung beispielsweise eine axiale Gasblase. Die elastische Trennmembran ist insbesondere (reversibel) verformbar zur An- passung des Volumens des Flüssigkeitsraums und damit der Kühlflüssigkeit an einen Druck der Kühlflüssigkeit im Flüssigkeitsraum. Die elastische Trennmembran ist beispielsweise flüssigkeitsdicht und/oder gas- dicht. Die elastische Trennmembran weist beispielsweise ein (z. B. dünnwandiges) elas- tisches Material auf. Ein Material der elastischen Trennmembran umfasst zum Beispiel Polyurethan, Silikon, Gummi, Kautschuk, Naturkautschuk, Silikonkaut- schuk, Fluorkautschuk und/oder ein anderes elastisches Material. Fluorkaut- schuk ist aufgrund seiner Alterungsbeständigkeit und geringen Ausgasung be- sonders gut für eine Anwendung im Vakuum geeignet. Ein Material der elasti- schen Trennmembran kann zum Beispiel auch ein Fluorthermoplast umfassen, wie beispielsweise Tetrafluoroethylen, Hexafluoropropylen und/oder Vinyliden Fluorid. Durch das elastische Material (z. B ein hochgedämpftes Polymer) kann zusätzlich zur Komprimierung des damit abgetrennten Gasvolumens eine weitere Dämp- fung von Druckschwankungen der Kühlflüssigkeit bereitgestellt werden. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 9 Der Gasraum kann ein abgeschlossener Gasraum sein zur Aufnahme eines Gases in einem statischen Zustand. Alternativ kann der Gasraum auch Teil eines Gas- kreislaufs sein, bei dem das Gas im Betrieb durch den Gasraum strömt. Bei- spielsweise kann in diesem Fall ein Gasfluss mithilfe einer Gaspumpe realisiert werden. Bei dem Gas handelt es sich zum Beispiel um ein Gas, das Luft, hochreine Raum- luft, Helium und/oder ein oder mehrere Edelgase umfasst. In Ausführungsformen umfasst die Kühlvorrichtung ein Gas, das in dem Gas- raum aufgenommen ist. Beispielsweise ist der Gasraum in diesen Ausführungs- formen ein abgeschlossener Gasraum, in dem das Gas (z. B. dauerhaft) verbleibt. In Ausführungsformen ist die Kühlleitung mit dem integrierten Gasvolumen dazu eingerichtet, Druckschwankungen der Kühlflüssigkeit in einem Frequenz- bereich von 1 bis 2 kHz, 1 bis 1 kHz, 1 bis 800 Hz, 1 bis 500 Hz, 1 bis 400 Hz, 1 bis 200 Hz, 1 bis 100 Hz und/oder 50 bis 150 Hz zu dämpfen und/oder zu unter- drücken. Gemäß einer Ausführungsform ist die elastische Trennmembran eine Druck- membran, welche dazu eingerichtet ist, sich bei einer Druckänderung der Kühl- flüssigkeit zu verformen, sodass sich ein Volumen des Gasraums entsprechend ändert. Insbesondere verformt sich die Trennmembran bei einer Druckänderung der Kühlflüssigkeit entsprechend der Druckänderung. Das Gas im Gasraum wird als Folge insbesondere komprimiert oder dehnt sich aus. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 10 Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist der von der elastischen Trennmemb- ran abgetrennte Gasraum im Querschnitt der Kühlleitung gesehen rotationssym- metrisch. Durch eine rotationssymmetrische Ausgestaltung des Gasraums und damit des Gasvolumens gleichen sich alle wirkenden Kräfte auf die von der Trennmembran und dem Gas in dem Gasraum gebildeten Gasblase aus und es liegt ein kräfte- freies System vor. Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind der Flüssigkeitsraum und der mit- tels der elastischen Trennmembran von dem Flüssigkeitsraum abgetrennte Gas- raum im Querschnitt der Kühlleitung gesehen koaxial angeordnet. Dadurch ist eine noch bessere Dämpfung einer Druckschwankung durch das Gasvolumen möglich. Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist der Gasraum im Querschnitt der Kühlleitung gesehen und in Bezug auf den Flüssigkeitsraum ein innenliegender Gasraum oder ein außenliegender Gasraum. Der Vorteil eines innenliegenden Gasraums und damit eines innenliegenden komprimierbaren Gasvolumens ist, dass das Gasvolumen dort angeordnet ist, wo die größte Strömungsgeschwindigkeit der Kühlflüssigkeit auftritt. Somit ist eine Dämpfung von Druckschwankungen der Kühlflüssigkeit besonders effektiv. Der Vorteil eines außenliegenden Gasraums ist, dass der Gasraum einfacher von außen zugänglich ist und somit das Gas leichter eingefüllt und/oder nachgefüllt werden kann. Beispielsweise kann das Gas über eine Öffnung und/oder ein Ven- til in einer Wand der Kühlleitung in den Gasraum geführt werden. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 11 Bei einem innenliegenden Gasraum wird der Gasraum beispielsweise ausschließ- lich durch die Trennmembran begrenzt, nicht aber durch eine Innenwand der Kühlleitung. Bei einem außenliegender Gasraum wird der Gasraum beispielsweise sowohl durch die Trennmembran als auch durch eine Innenwand der Kühlleitung be- grenzt. Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Kühlvorrichtung einen die elastische Trennmembran umfassenden elastischen Schlauch zur Bildung des Gasraums auf. Dies ermöglicht eine besonders einfache Realisierung eines in eine Kühlleitung integrierten Gasvolumens. Beispielsweise wird der Gasraum innerhalb des Schlauchs gebildet (ein Beispiel eines innenliegenden Gasraums). Dann wird der Flüssigkeitsraum entsprechend außerhalb des Schlauchs (z. B. zwischen einer Außenseite des Schlauchs und ei- ner Innenwand der Kühlleitung) gebildet. Alternativ kann der Gasraum beispielsweise auch außerhalb des Schlauchs (ein Beispiel eines außenliegenden Gasraums) gebildet sein (z. B. zwischen einer Au- ßenseite des Schlauchs und einer Innenwand der Kühlleitung). Dann wird der Flüssigkeitsraum entsprechend innerhalb des Schlauchs gebildet. Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Kühlvorrichtung mindestens einen zwischen der elastischen Trennmembran und einer Innenwand der Kühl- leitung angeordneten Abstandshalter auf. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 12 Durch den mindestens einen Abstandshalter kann eine Anordnung der elasti- schen Trennmembran innerhalb der Kühlleitung, beispielsweise auch im Betrieb der Kühlvorrichtung, verbessert werden. Beispielsweise kann eine Bewegung der elastischen Trennmembran innerhalb der Kühlleitung, insbesondere im Betrieb der Kühlvorrichtung, eingeschränkt werden (ohne jedoch eine Verformung der elastischen Trennmembran einzuschränken). Beispielsweise kann eine Position des Gasraums relativ zu dem Flüssigkeitsraum eingegrenzt werden. Beispiels- weise kann eine rotationssymmetrische und/oder koaxiale Anordnung des Gas- raums relativ zu dem Flüssigkeitsraum auch im Betrieb (z. B. im Wesentlichen) beibehalten werden. Der mindestens eine Abstandshalter ist beispielsweise im Gasraum oder im Flüs- sigkeitsraum angeordnet. Die Kühlvorrichtung kann auch mehrere Abstandshalter aufweisen. Die mehre- ren Abstandshalter können (z. B. radial) an einer Längsposition der Kühlleitung und/oder (z. B. voneinander beabstandet) an mehreren Längspositionen der Kühlleitung angeordnet sein. Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Kühlvorrichtung mehrere Ab- standshalter auf, welche durch an einer Außenseite der elastischen Trennmemb- ran angeordnete Noppen gebildet werden. Die Noppen (z. B. Vorsprünge) stehen insbesondere von einer Außenseite der elastischen Trennmembran, z. B. in Richtung der Innenwand der Kühlleitung und/oder in einer radialen Richtung der Kühlleitung, hervor. Die Noppen können beispielsweise aus demselben Material wie die Trennmembran gebildet sein. Die Trennmembran mit den Noppen kann beispielsweise auch einstückig hergestellt sein. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 13 Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Kühlvorrichtung Befestigungs- mittel zur Befestigung der elastischen Trennmembran an einer Innenwand der Kühlleitung auf. Dadurch kann eine Position der Trennmembran innerhalb der Kühlleitung ein- geschränkt und/oder fixiert werden. Die Befestigungsmittel können beispiels- weise auch den mindestens einen Abstandshalter umfassen oder bilden. Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Kühlvorrichtung eine Einrich- tung zum Einstellen eines Drucks eines Gases in dem Gasraum auf. Damit kann ein Gasdruck (Vorspanndruck) eines Gases in dem Gasraum und da- mit eine Dämpfungsfrequenz des Gasvolumens gezielt eingestellt werden. Der eingestellte Gasdruck ist insbesondere ein Gasdruck in einem Ruhezustand (d.h. einem unverformten Zustand) der Trennmembran. Eine Dämpfungswirkung des Gasvolumens ist insbesondere von einem Relativdruck zwischen dem Gasdruck des Gasvolumens und einem Druck der Flüssigkeit abhängig. Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Kühlvorrichtung zwei oder mehr innerhalb der Kühlleitung angeordnete elastische Trennmembrane auf, welche entsprechend zwei oder mehr voneinander und von dem Flüssigkeitsraum abgetrennte Gasräume bilden. Durch Bereitstellen mehrerer separater (z. B. abgeschlossener) Gasräume und damit Gasvolumina kann eine Dämpfung von Druckschwankungen noch geziel- ter erfolgen. Beispielsweise kann ein Gasdruck eines Gases in den mehreren Gas- räumen voneinander verschieden sein, sodass Druckstöße mit unterschiedlichen Frequenzen gedämpft werden können. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 14 Beispielsweise können auch Gasräume und damit Gasvolumina gezielt für ein- zelne positionssensitive Komponenten ausgelegt sein. Zum Beispiel kann ein Gasdruck eines Gases in einem jeweiligen Gasraum gezielt für die Dämpfung ei- ner Störanregung einer jeweiligen positionssensitiven Komponente eingestellt sein. Zum Beispiel kann ein jeweiliger Gasraum benachbart und in Bezug auf eine Strömungsrichtung (Flussrichtung) der Kühlflüssigkeit (z. B. unmittelbar) vor einer jeweiligen positionssensitiven Komponente angeordnet sein. Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind die zwei oder mehr Gasräume, im Querschnitt der Kühlleitung gesehen, voneinander und von dem Flüssigkeits- raum abgetrennt, und/oder sind die zwei oder mehr Gasräume in Bezug auf eine Strömungsrichtung der Kühlflüssigkeit voneinander und von dem Flüssigkeitsraum abgetrennt. Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind die zwei oder mehr Gasräume in Bezug auf eine Strömungsrichtung der Kühlflüssigkeit voneinander und von dem Flüssigkeitsraum abgetrennt, weist die Kühlvorrichtung in jedem der zwei oder mehr Gasräume ein Gas auf, und haben die jeweiligen Gase voneinander ver- schiedene Drücke. Beispielsweise umfasst die Kühlvorrichtung eine oder mehrere Einrichtungen, die zum Einstellen eines Drucks eines Gases in dem jeweiligen Gasraum einge- richtet ist/sind. Damit kann z. B. in jedem Gasraum ein Gasdruck und damit eine Dämpfungsfrequenz gezielt eingestellt werden. Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Kühlvorrichtung ein schaumar- tiges und/oder schwammartiges Element mit mehreren Blasen und einem die meh- reren Blasen umgebenden elastischen Material auf, wobei der Gasraum durch die mehreren Blasen des schaumartigen und/oder schwammartigen Elements gebildet Carl Zeiss SMT GmbH et al. 15 wird, und die Trennmembran durch das die mehreren Blasen umgebende elasti- sche Material gebildet wird. Durch das schaumartige und/oder schwammartige Element kann der mit der Trennmembran abgetrennte Gasraum auf eine alternative Weise bereitgestellt werden. Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die Kühlvorrichtung dazu eingerich- tet, dass eine Kühlflüssigkeit in einer Strömungsrichtung durch die Kühlleitung strömt, und verjüngt sich ein Durchmesser der Kühlleitung entlang der Strö- mungsrichtung. Durch diese veränderte Form der Kühlleitung kann Einfluss auf die Strömungs- geschwindigkeit der Kühlflüssigkeit genommen werden und somit ein Frequenz- bereich der Dämpfung eingestellt werden. Beispielsweise verjüngt sich der Durchmesser der Kühlleitung gleichmäßig ent- lang der Strömungsrichtung. Beispielsweise erstreckt sich die Kühlleitung (z. B. geradlinig) in einer Längs- richtung und strömt die Kühlflüssigkeit entlang der Längsrichtung durch die Kühlleitung. Beispielsweise verjüngt sich der Durchmesser der Kühlleitung ent- lang der Längsrichtung. Alternativ kann die Kühlleitung auch gekrümmt sein, z. B. auch wendelförmig (oft auch spiralförmig genannt) verlaufen. Beispielsweise verjüngt sich der Durchmesser der Kühlleitung entlang der wendelförmig ge- krümmten Kühlleitung. Gemäß einem zweiten Aspekt wird eine Lithographieanlage, insbesondere eine EUV-Lithographieanlage vorgeschlagen. Die Lithographieanlage umfasst eine wie vorstehend beschriebene Kühlvorrichtung. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 16 Die Lithographieanlage weist beispielsweise mindestens eine positionssensitive Komponente auf. Gemäß einem dritten Aspekt wird ein Verfahren zum Betreiben einer Kühlvor- richtung vorgeschlagen. Die Kühlvorrichtung dient zum Kühlen einer positions- sensitiven Komponente einer Lithographieanlage. Die Kühlvorrichtung weist eine Kühlleitung mit einem Flüssigkeitsraum zum Transportieren einer Kühl- flüssigkeit zu der positionssensitiven Komponente und einem Gasraum zum Auf- nehmen eines Gases und eine innerhalb der Kühlleitung angeordnete elastische Trennmembran, die den Gasraum von dem Flüssigkeitsraum abtrennt, auf. Das Verfahren umfasst die Schritte: a) Durchströmen des Flüssigkeitsraums der Kühlleitung mit einer Kühlflüs- sigkeit, und b) Ändern eines Volumens des Flüssigkeitsraums durch Verformen der elas- tischen Trennmembran als Reaktion auf eine Druckänderung der Kühlflüssigkeit in dem Flüssigkeitsraum. Ein Ändern eines Volumens des Flüssigkeitsraums bedeutet insbesondere ein Ändern eines Volumens der Kühlflüssigkeit in dem Flüssigkeitsraum. Die positionssensitive Komponente ist bevorzugt eine positionssensitive Kompo- nente einer Projektionsoptik der Lithographieanlage (Projektionsbelichtungsan- lage). Die positionssensitive Komponente kann jedoch auch eine positionssensi- tive Komponente eines Beleuchtungssystems der Lithographieanlage sein. Gemäß einem vierten Aspekt wird eine Temperiervorrichtung zum Temperieren einer positionssensitiven Komponente einer Lithographieanlage vorgeschlagen. Die Temperiervorrichtung weist auf: Carl Zeiss SMT GmbH et al. 17 eine Flüssigkeitsleitung mit einem Flüssigkeitsraum zum Transportieren ei- ner Temperierflüssigkeit zu der positionssensitiven Komponente und einem Gas- raum zum Aufnehmen eines Gases, und eine innerhalb der Flüssigkeitsleitung angeordnete elastische Trennmemb- ran, die den Gasraum von dem Flüssigkeitsraum abtrennt. Mithilfe der Temperiervorrichtung kann eine thermale Bedingung der positions- sensitiven Komponente beeinflusst werde. Insbesondere kann mithilfe der Tem- periervorrichtung die positionssensitive Komponente temperiert werden, das heißt gekühlt oder geheizt werden. Entsprechend handelt es sich bei der Tempe- riervorrichtung um eine Kühlvorrichtung oder eine Heizvorrichtung. Weiterhin handelt es sich bei der Temperierflüssigkeit entsprechend um eine Kühlflüssig- keit oder eine Heizflüssigkeit. Soweit in der vorliegenden Anmeldung von Kühlvorrichtung, Kühlen, Kühlflüs- sigkeit, Kühlleitung, Verfahren zum Betreiben einer Kühlvorrichtung etc. ge- sprochen wird, kann entsprechend auch eine Heizvorrichtung, Heizen, Heizflüs- sigkeit, Heizleitung, Verfahren zum Betreiben einer Heizvorrichtung etc. verwen- det werden. "Ein" ist vorliegend nicht zwingend als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine Beschränkung auf genau die genannte Anzahl von Elementen gegeben ist. Vielmehr sind zahlenmäßige Abweichungen nach oben und nach unten möglich, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Die für die Kühlvorrichtung (erster Aspekt) beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für die weiteren Aspekte (zweiter, dritter und vierter As- pekt) entsprechend und umgekehrt. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 18 Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht expli- zit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausfüh- rungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen. Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegen- stand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungs- beispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzug- ten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher er- läutert. Fig.1 zeigt einen schematischen Meridionalschnitt einer Projektionsbelichtungs- anlage für die EUV-Projektionslithographie; Fig.2 zeigt ein Positioniersystem mit einer optischen Komponente der Projekti- onsbelichtungsanlage aus Fig.1 gemäß einer Ausführungsform; Fig.3 zeigt eine Kühlvorrichtung zum Kühlen der optischen Komponente aus Fig.2 gemäß einer Ausführungsform, wobei die Kühlvorrichtung eine Kühllei- tungseinrichtung mit einem integrierten komprimierbaren Gasvolumen umfasst; Fig.4 zeigt in einer Querschnittsansicht ein Funktionsprinzip der Kühlleitungs- einrichtung aus Fig.3; Fig.5 zeigt eine Querschnittsansicht der Kühlleitungseinrichtung aus Fig.3, wo- bei sich eine elastische Trennmembran der Kühlleitungseinrichtung in einem Ruhezustand befindet; Carl Zeiss SMT GmbH et al. 19 Fig.6 zeigt eine Ansicht ähnlich Fig.5, wobei sich die elastische Trennmembran in einem elastisch verformten Zustand befindet; Fig.7 zeigt in einer Querschnittsansicht eine weitere Ausführungsform der Kühl- leitungseinrichtung der Kühlvorrichtung aus Fig.3; Fig.8 zeigt in einer Querschnittsansicht eine weitere Ausführungsform der Kühl- leitungseinrichtung der Kühlvorrichtung aus Fig.3; Fig.9 zeigt in einer Querschnittsansicht eine weitere Ausführungsform der Kühl- leitungseinrichtung der Kühlvorrichtung aus Fig.3; Fig.10 zeigt in einer Querschnittsansicht eine weitere Ausführungsform der Kühlleitungseinrichtung der Kühlvorrichtung aus Fig.3, wobei die Trennmemb- ran der Kühlleitungseinrichtung Abstandshalter aufweist; Fig.11 zeigt in einer perspektivischen Ansicht eine weitere Ausführungsform der Kühlleitungseinrichtung der Kühlvorrichtung aus Fig.3, wobei die Kühlleitungs- einrichtung Befestigungsmittel gemäß einer ersten Variante aufweist; Fig.12 zeigt in einer perspektivischen Ansicht eine weitere Ausführungsform der Kühlleitungseinrichtung der Kühlvorrichtung aus Fig.3, wobei die Kühlleitungs- einrichtung Befestigungsmittel gemäß einer zweiten Variante aufweist; Fig.13 zeigt eine Querschnittsansicht einer weiteren Ausführungsform der Kühl- leitungseinrichtung der Kühlvorrichtung aus Fig.3; Fig.14 zeigt eine Seitenansicht einer weiteren Ausführungsform der Kühllei- tungseinrichtung der Kühlvorrichtung aus Fig.3; Carl Zeiss SMT GmbH et al. 20 Fig.15 zeigt eine Seitenansicht einer weiteren Ausführungsform der Kühllei- tungseinrichtung der Kühlvorrichtung aus Fig.3; und Fig.16 zeigt ein Flussablaufdiagramm eines Verfahrens zum Betreiben einer Kühlvorrichtung einer Projektionsbelichtungsanlage gemäß einer Ausführungs- form. In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Be- zugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendiger- weise maßstabsgerecht sind. Fig.1 zeigt eine Ausführungsform einer Projektionsbelichtungsanlage 1 (Litho- graphieanlage), insbesondere einer EUV-Lithographieanlage. Eine Ausführung eines Beleuchtungssystems 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Licht- beziehungsweise Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Be- leuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Bei einer alternativen Ausführung kann die Lichtquelle 3 auch als ein zum sonstigen Beleuchtungssys- tem 2 separates Modul bereitgestellt sein. In diesem Fall umfasst das Beleuch- tungssystem 2 die Lichtquelle 3 nicht. Belichtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Retikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverla- gerungsantrieb 9, insbesondere in einer Scanrichtung, verlagerbar. In der Fig.1 ist zur Erläuterung ein kartesisches Koordinatensystem mit einer x- Richtung x, einer y-Richtung y und einer z-Richtung z eingezeichnet. Die x-Rich- tung x verläuft senkrecht in die Zeichenebene hinein. Die y-Richtung y verläuft horizontal und die z-Richtung z verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in Carl Zeiss SMT GmbH et al. 21 der Fig.1 längs der y-Richtung y. Die z-Richtung z verläuft senkrecht zur Objekt- ebene 6. Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst eine Projektionsoptik 10. Die Projek- tionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in einer Bildebene 12. Die Bildebene 12 verläuft parallel zur Objektebene 6. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 6 und der Bild- ebene 12 möglich. Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhal- ter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y-Rich- tung y verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Retikel- verlagerungsantrieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Waferverlage- rungsantrieb 15 kann synchronisiert zueinander erfolgen. Bei der Lichtquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Licht- quelle 3 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 16, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungsstrahlung oder Beleuchtungslicht bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung 16 hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um eine Plasmaquelle han- deln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (Engl.: Laser Produced Plasma, mit Hilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle (Engl.: Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser (Engl.: Free-Electron-Laser, FEL) handeln. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 22 Die Beleuchtungsstrahlung 16, die von der Lichtquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektor 17 gebündelt. Bei dem Kollektor 17 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflä- chen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 17 kann im streifenden Einfall (Engl.: Grazing Incidence, GI), also mit Einfallswinkeln grö- ßer als 45°, oder im normalen Einfall (Engl.: Normal Incidence, NI), also mit Ein- fallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 16 beaufschlagt wer- den. Der Kollektor 17 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht struktu- riert und/oder beschichtet sein. Nach dem Kollektor 17 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 16 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 18. Die Zwischenfokusebene 18 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Lichtquelle 3 und den Kollektor 17, und der Beleuchtungsoptik 4 darstellen. Die Beleuchtungsoptik 4 umfasst einen Umlenkspiegel 19 und diesem im Strah- lengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 20. Bei dem Umlenkspiegel 19 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wir- kung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 19 als Spekt- ralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungsstrah- lung 16 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Sofern der erste Facettenspiegel 20 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, die zur Objektebene 6 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird dieser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 20 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 21, welche auch als Feldfacetten bezeich- net werden können. Von diesen ersten Facetten 21 sind in der Fig.1 nur beispiel- haft einige dargestellt. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 23 Die ersten Facetten 21 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, ins- besondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teil- kreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 21 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein. Wie beispielsweise aus der DE 102008009600 A1 bekannt ist, können die ers- ten Facetten 21 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbe- sondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Fa- cettenspiegel 20 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS-System) ausgebildet sein. Für Details wird auf die DE 102008009600 A1 verwiesen. Zwischen dem Kollektor 17 und dem Umlenkspiegel 19 verläuft die Beleuch- tungsstrahlung 16 horizontal, also längs der y-Richtung y. Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 ist dem ersten Facettenspiegel 20 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 22. Sofern der zweite Facettenspiegel 22 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 22 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 20 und dem zweiten Facettenspiegel 22 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der US 2006/0132747 A1, der EP 1614 008 B1 und der US 6,573,978. Der zweite Facettenspiegel 22 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 23. Die zweiten Facetten 23 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 24 Bei den zweiten Facetten 23 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facetten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die DE 102008009600 A1 verwiesen. Die zweiten Facetten 23 können plane oder alternativ konvex oder konkav ge- krümmte Reflexionsflächen aufweisen. Die Beleuchtungsoptik 4 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Wabenkondensor (Engl.: Fly's Eye Integra- tor) bezeichnet. Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 optisch konjugiert ist, anzuordnen. Insbesondere kann der zweite Facettenspiegel 22 gegenüber ei- ner Pupillenebene der Projektionsoptik 10 verkippt angeordnet sein, wie es zum Beispiel in der DE 102017220586 A1 beschrieben ist. Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 22 werden die einzelnen ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 22 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungs- strahlung 16 im Strahlengang vor dem Objektfeld 5. Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Ob- jektfeld 5 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbil- dung der ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufwei- sen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für Carl Zeiss SMT GmbH et al. 25 senkrechten Einfall (NI-Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (GI-Spiegel, Grazing Incidence Spiegel) um- fassen. Die Beleuchtungsoptik 4 hat bei der Ausführung, die in der Fig.1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 17 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 19, den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22. Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann der Umlenkspiegel 19 auch entfallen, so dass die Beleuchtungsoptik 4 nach dem Kollektor 17 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22. Die Abbildung der ersten Facetten 21 mittels der zweiten Facetten 23 bezie- hungsweise mit den zweiten Facetten 23 und einer Übertragungsoptik in die Ob- jektebene 6 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung. Die Projektionsoptik 10 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durch- nummeriert sind. Bei dem in der Fig.1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 10 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Bei der Projektionsoptik 10 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungs- strahlung 16. Die Projektionsoptik 10 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die beispielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 26 Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssym- metrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Refle- xionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 4, hochreflektierende Beschichtungen für die Beleuch- tungsstrahlung 16 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer-Be- schichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Sili- zium, gestaltet sein. Die Projektionsoptik 10 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung y zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 5 und einer y-Koor- dinate des Zentrums des Bildfeldes 11. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y-Rich- tung y kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12. Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe βx, βy in x- und y-Rich- tung x, y auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe βx, βy der Projektionsoptik 10 lie- gen bevorzugt bei (βx, βy) = (+/- 0,25, +/- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr. Die Projektionsoptik 10 führt somit in x-Richtung x, das heißt in Richtung senk- recht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 4:1. Die Projektionsoptik 10 führt in y-Richtung y, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung von 8:1. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 27 Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung x, y, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich. Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung x, y im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 5 und dem Bildfeld 11 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 10, unterschiedlich sein. Bei- spiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwi- schenbilder in x- und y-Richtung x, y sind bekannt aus der US 2018/0074303 A1. Jeweils eine der zweiten Facetten 23 ist genau einer der ersten Facetten 21 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der ersten Facetten 21 in eine Vielzahl an Objektfeldern 5 zerlegt. Die ersten Facetten 21 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten zweiten Facetten 23. Die ersten Facetten 21 werden jeweils von einer zugeordneten zweiten Facette 23 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 auf das Retikel 7 ab- gebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 5 ist insbesondere möglichst homo- gen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2 % auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuch- tungskanäle erreicht werden. Durch eine Anordnung der zweiten Facetten 23 kann geometrisch die Ausleuch- tung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 definiert werden. Durch Aus- wahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der zweiten Facetten 23, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Carl Zeiss SMT GmbH et al. 28 Projektionsoptik 10 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting oder Beleuchtungspupillenfüllung bezeichnet. Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchte- ter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden. Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objekt- feldes 5 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 beschrie- ben. Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein. Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 lässt sich regelmäßig mit dem zwei- ten Facettenspiegel 22 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projekti- onsoptik 10, welche das Zentrum des zweiten Facettenspiegels 22 telezentrisch auf den Wafer 13 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung. Es kann sein, dass die Projektionsoptik 10 unterschiedliche Lagen der Ein- trittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bauele- ment der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Retikel 7 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Elements kann die un- terschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Ein- trittspupille berücksichtigt werden. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 29 Bei der in der Fig.1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuch- tungsoptik 4 ist der zweite Facettenspiegel 22 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 konjugierten Fläche angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zur Objektebene 6 angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom Umlenkspiegel 19 defi- niert ist. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene an- geordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 22 definiert ist. Fig.2 zeigt ein Positioniersystem 100 mit einer optischen Komponente 102 (als ein Beispiel einer positionssensitiven Komponente) gemäß einer Ausführungs- form. Die optische Komponente 102 ist beispielsweise ein Spiegel der Projektionsbe- lichtungsanlage 1 (Lithographieanlage), insbesondere der Projektionsoptik 10, aus Fig.1. Die optische Komponente 102 ist beispielsweise einer der Spiegel M1 – M6. Im Folgenden wird die optische Komponente 102 als Spiegel beschrieben; in anderen Beispielen kann es sich jedoch auch um eine andere optische Kompo- nente als ein Spiegel handeln. Wie in Fig.2 gezeigt, umfasst der Spiegel 102 eine Beschichtung 104 mit einer optisch aktiven Fläche 106. Der Spiegel 102 umfasst außerdem ein Substrat 108. In dem Substrat 108 sind Kühlleitungen 110 angeordnet, durch welche eine Kühlflüssigkeit 112, wie beispielsweise Wasser, geleitet wird, um den Spiegel 102 aktiv zu kühlen. Eine Kühlung des Spiegels 102 dient dazu, thermische Deforma- tionen des Spiegels 102, auch bei Einstrahlung energiereicher EUV-Strahlung 16 (Fig.1), zu vermeiden. Der Spiegel 102 ist mittels einer Aktoreinrichtung 114 beweglich an einem Trag- rahmen 116 befestigt. Die Aktoreinrichtung 114 weist zum Beispiel mehrere Carl Zeiss SMT GmbH et al. 30 Aktoren 118 und eine Antriebseinheit (nicht gezeigt) auf. Die Aktoreinrichtung 114 dient zum Beispiel dazu, den Spiegel 102 in Bezug auf sechs Freiheitsgrade (Translation in X-, Y- und Z-Richtung und Rotation um die X-, Y- und Z-Rich- tung) zu positionieren. Das Positioniersystem 100 weist weiterhin eine Sensoreinrichtung 120 auf, um eine aktuelle Position des Spiegels 102 zu erfassen. Die Sensoreinrichtung 120 ist in Fig.2 lediglich schematisch angedeutet. Die Sensoreinrichtung 120 weist ein oder mehrere Sensoren, wie beispielsweise Interferometer, auf. Die Sensoren der Sensoreinrichtung 120 sind beispielsweise an einem Sensorrahmen (nicht ge- zeigt) befestigt. Der Sensorrahmen ist zum Beispiel schwingungsentkoppelt an dem Tragrahmen 116 befestigt. Beispielsweise wird eine aktuelle Position des Spiegels 102 mithilfe von Laserstrahlen 122 erfasst. In Fig.3 ist eine Kühlvorrichtung 200 zum Kühlen des Spiegels 102 gezeigt. Die Kühlvorrichtung weist einen Kühlkreislauf 202 auf. Die Kühlvorrichtung 200 umfasst eine Kühleinheit 204 zum Kühlen einer Kühlflüssigkeit 112 (Fig.2) und Kühlleitungen 206, 110 zum Transportieren der Kühlflüssigkeit 112. Die Kühl- vorrichtung 200 umfasst zudem ein oder mehrere Pumpen 208 zum Erzeugen ei- ner erforderlichen Kühlmittelflussrate der Kühlflüssigkeit 112. Die Kühlvorrich- tung 202 umfasst weiterhin ein oder mehrere Ventile 210 zum Steuern des Kühl- flusses. Die Kühlvorrichtung 200 kann zum Kühlen mehrerer Komponenten der Lithographieanlage 1 dienen. Beispielhaft ist in Fig.3 der Spiegel 102 aus Fig.2 als eine gekühlte Komponente eingezeichnet. Die Kühlleitungen 110 (Fig.2), die in dem Spiegelsubstrat 108 angeordnet sind, sind schematisch in Fig.3 einge- zeichnet. Weiterhin sind in Fig.3 beispielhaft zwei weitere Spiegel 102' und 102" – ähnlich dem Spiegel 102 aus Fig.2 – als weitere gekühlte Komponenten einge- zeichnet. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 31 Pumpen der Kühlvorrichtung 200, wie die Pumpe 208, verursachen lokale Druck- schwankungen in der Flüssigkeit 112, wodurch eine dynamische Störanregung erzeugt wird. Diese Druckschwankungen werden über longitudinale Wasser- schallwelle durch den gesamten Kühlkreislauft 202 übertragen. Weiterhin kön- nen auch Querschnittsänderungen (nicht gezeigt) der Kühlleitung 206, Umlen- kungen 212 der Kühlleitung 206 und Ventile 210 der Kühlvorrichtung 200 Stör- quellen darstellen, die lokale Druckschwankungen der Flüssigkeit 112 verursa- chen. Durch Wasserschall wird eine solche akustische Störanregung an die ge- kühlte optische Komponente 102, 102', 102" (den Spiegel 102, 102', 102") weiter- geleitet. Dadurch kann es zu einer Positionsänderung des jeweiligen Spiegels 102, 102', 102" kommen, sodass die tatsächliche Position des jeweiligen Spiegels 102, 102', 102" von einer Sollposition abweicht. In dem in Fig.3 gezeigten Beispiel und der folgenden Beschreibung dient die Kühlvorrichtung 200 beispielhaft zum Kühlen der Spiegel 102, 102', 102". In an- deren Beispielen kann die Kühlvorrichtung 200 jedoch auch zum Kühlen anderer positionssensitiver Komponenten, wie beispielsweise anderer Spiegel und/oder ei- nes Sensorrahmens (nicht gezeigt) der Projektionsbelichtungsanlage 1 (Lithogra- phieanlage) dienen. Zur Dämpfung von Druckschwankungen der Kühlflüssigkeit 112 umfasst die Kühlvorrichtung 200 eine Kühlleitungseinrichtung 214 mit einem integrierten komprimierbaren Gasvolumen 216. Insbesondere umfasst die Kühlleitungsein- richtung 214 die Kühlleitung 206 oder einen Abschnitt der Kühlleitung 206, ei- nen Flüssigkeitsraum 218 zum Durchströmen der Kühlflüssigkeit 112 und einen Gasraum 220 zum Aufnehmen eines Gases 222 (Gasvolumen 216). Weiterhin umfasst die Kühlleitungseinrichtung 214 eine elastische Trennmembran 224 wel- che den Gasraum 220 von dem Flüssigkeitsraum 218 abtrennt. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 32 In Fig.4 ist ein Funktionsprinzip der Kühlleitungseinrichtung 200' aus Fig.3 veranschaulicht. Auf der linken Seite von Fig.4 ist eine Kühlleitungseinrichtung 214' mit einer Kühlleitung 206' und einer in der Kühlleitung 206' angeordneten elastischen Trennmembran 224' gezeigt, die sich in einem Ruhezustand befindet. Insbesondere ist die elastische Trennmembran 224' auf der linken Seite von Fig.4 in einem entspannten, unverformten Zustand. Die elastische Trennmemb- ran 224' trennt die Kühlflüssigkeit 112 in dem Flüssigkeitsraum 218' von dem Gas 222 in dem Gasraum 220'. Ein Volumen der Kühlflüssigkeit 112 ist im Ruhe- zustand VF1 und ein Volumen des Gases 222 ist im Ruhezustand VG1. Auf der rechten Seite von Fig.4 ist die Kühlleitungseinrichtung 214' mit der elas- tischen Trennmembran 224' in einem Zustand gezeigt, in dem sich die elastische Trennmembran 224' in einem elastisch verformten Zustand befindet. Durch eine Druckerhöhung der Kühlflüssigkeit 112 wurde die Trennmembran 224' verformt, sodass sich das Volumen VF2 des Flüssigkeitsraums 218' vergrößert und gleich- zeitigt das Volumen VG2 des Gasraums 220' entsprechend verkleinert hat. Somit kann eine Druckerhöhung der Kühlflüssigkeit 112 durch Ausdehnen der Flüssig- keit 112 und Komprimieren des Gases 222 im Gasraum 220' gedämpft werden. Mit gestrichelter Linie ist in Fig.4 ein Verformen der Trennmembran 224' im Fall einer Druckverkleinerung der Kühlflüssigkeit 112 im Flüssigkeitsraum 218' veranschaulicht, die zu einer Vergrößerung des Volumens des Gasraums 220' führen würde. Entsprechend können auch periodische Druckschwankungen der Kühlflüssigkeit 112 mithilfe der komprimierbaren Gasblase 216' gedämpft wer- den. Fig.5 zeigt eine Querschnittsansicht der Kühlleitungseinrichtung 214 aus Fig.3 entlang Linie V-V. In dieser Ausführungsform ist die elastische Trennmembran 224 ein Schlauch 226, in dessen Innenraum 228 sich das Gas 220 befindet. Somit ist der Gasraum 220 ein in Bezug auf den Flüssigkeitsraum 218 innenliegender Carl Zeiss SMT GmbH et al. 33 Gasraum 220. Der Flüssigkeitsraum 218, durch den die Kühlflüssigkeit 112 strömt, ist zwischen einer Außenwand 230 des Schlauchs 226 und einer Innen- wand 232 der Kühlleitung 206 gebildet. Weiterhin ist in dieser Ausführungsform der Gasraum 220 rotationssymmetrisch in Bezug auf die Kühlleitung 206 angeordnet und ausgestaltet. Insbesondere sind der Gasraum 220, der Flüssigkeitsraum 218 und die Kühlleitung 206 koaxial zu- einander angeordnet. In Fig.5 ist eine Mittelachse der Kühlleitung 206 mit dem Bezugszeichen A1 gekennzeichnet, ist eine Mittelachse des Flüssigkeitsraum 218 mit dem Bezugszeichen A2 gekennzeichnet, und ist eine Mittelachse des Gas- raum 220 mit dem Bezugszeichen A3 gekennzeichnet. In Fig.5 befindet sich die elastische Trennmembran 224 (d. h. der Schlauch 226) in einem Ruhezustand. Ein Volumen des Gases 222 ist VG1' und ein Volumen der Kühlflüssigkeit 112 ist VF1'. Fig.6 zeigt die Kühlleitungseinrichtung 214 aus Fig.5, wobei sich die elastische Trennmembran 224 in einem elastisch verformten Zustand befindet. Durch eine Druckerhöhung der Kühlflüssigkeit 112 wurde die Trennmembran 224 so ver- formt, dass sich das Volumen VF2' des Flüssigkeitsraums 218 vergrößert hat und gleichzeitigt das Volumen VG2' des Gasraums 220 entsprechend verkleinert hat. Insbesondere hat sich ein Durchmesser D des Schlauches 226, der die Trenn- membran 224 aufweist, verkleinert. Aufgrund der Rotationssymmetrie wirkt die Druckerhöhung der Kühlflüssigkeit 112 gleichmäßig auf den Schlauch 226. Dadurch kann eine Druckerhöhung der Kühlflüssigkeit 112 durch Komprimieren des Gases 222 im Gasraum 220 gut gedämpft werden. Fig.7 zeigt eine Querschnittsansicht einer weiteren Ausführungsform einer Kühlleitungseinrichtung 314 einer Kühlvorrichtung 300 der Lithographiean- lage 1. Die Kühlleitungseinrichtung 314 umfasst eine Kühlleitung 306 mit einem Carl Zeiss SMT GmbH et al. 34 in Bezug auf einen Flüssigkeitsraum 318 außenliegenden Gasraum 320. Insbe- sondere ist eine Trennmembran 324 in dieser Ausführungsform in Form eines Schlauches 326 ausgebildet. Dies ist ein weiteres Beispiel eines rotationssymmet- rischen Gasraums 220. Fig.8 zeigt eine Querschnittsansicht einer weiteren Ausführungsform einer Kühlleitungseinrichtung 414 einer Kühlvorrichtung 400 der Lithographiean- lage 1. Die Kühlleitungseinrichtung 414 umfasst eine Kühlleitung 406 mit zwei Trennmembranen 424 und 424', die koaxial angeordnet sind. Man kann auch sa- gen, dass die beiden Trennmembrane 424 und 424' im Querschnitt der Kühllei- tung 406 gesehen konzentrisch sind. In dieser Ausführungsform ergeben sich drei mittels der beiden Trennmembrane 424 und 424' im Querschnitt der Kühl- leitung 406 gesehen voneinander abgetrennte Räume: zwei Gasräume 420 und 420' zum Aufnehmen eines Gases 222 und ein Flüssigkeitsraum 418 zum Durch- strömen der Kühlflüssigkeit 112. Insbesondere ist der im Querschnitt ringför- mige Flüssigkeitsraum 418 von beiden Seiten, das heißt sowohl an seiner Innen- seite 434 als auch an seiner Außenseite 436 mit einem jeweiligen Gasraum 420 und Gasraum 420' zum Druckausgleich in Kontakt. In einer (nicht gezeigten) Variante der Ausführungsform von Fig.8 kann auch ein ringförmiger Gasraum von zwei Flüssigkeitsräumen flankiert sein. Fig.9 zeigt eine Querschnittsansicht einer weiteren Ausführungsform einer Kühlleitungseinrichtung 514 einer Kühlvorrichtung 500 der Lithographiean- lage 1. Die Kühlleitungseinrichtung 514 umfasst eine Kühlleitung 506 mit zwei Trennmembranen 524 und 524' jeweils in Form eines Schlauches 526, 526'. Im Gegensatz zur Ausführungsform in Fig.8 sind die Trennmembrane 524 und 524' jedoch nicht im Querschnitt gesehen koaxial angeordnet, sondern nebeneinander. Jeder der Schläuche 526, 526' ist mit einem Gas 222 gefüllt zur Bereitstellung ei- nes komprimierbaren Gasvolumens 516, 516' zur Dämpfung von Carl Zeiss SMT GmbH et al. 35 Druckschwankungen der Kühlflüssigkeit 112. Die in Fig.9 gezeigte Ausfüh- rungsform ist ein Beispiel zweier innenliegender Gasräume 520, 520'. In einer (nicht gezeigten) Variante der Ausführungsform von Fig.9 können auch zwei innerhalb der Schläuche 526, 526' gebildete Flüssigkeitsräume vorgesehen sein. Weiterhin kann ein zwischen einer Außenwand 530, 530' der Schläuche 526, 526' und einer Innenwand 532 der Kühlleitung 506 angeordneter Gasraum vorgesehen sein. Fig.10 zeigt eine Querschnittsansicht einer weiteren Ausführungsform einer Kühlleitungseinrichtung 614 einer Kühlvorrichtung 600 der Lithographiean- lage 1. Die Kühlleitungseinrichtung 614 ist eine Variante der in Fig.5 gezeigten Kühlleitungseinrichtung 214. Die Kühlleitungseinrichtung 614 gemäß der Aus- führungsform von Fig.10 unterscheidet sich von der Kühlleitungseinrichtung 214 gemäß der Ausführungsform von Fig.5 dadurch, dass an der Trennmembran 624 mehrere Abstandshalter 638 angeordnet sind. Beispielhaft sind in Fig.10 drei der gezeigten Abstandshalter 638 mit einem Bezugszeichen versehen. Die Abstandshalter 638 sind insbesondere zwischen einer Außenwand 630 der elasti- schen Trennmembran 624 und einer Innenwand 632 der Kühlleitung 606 ange- ordnet. Beispielsweise sind die Abstandshalter 638 durch an der Außenwand 630 der elastischen Trennmembran 624 angeordnete Noppen 640 gebildet. Die Nop- pen 640 können insbesondere aus demselben Material wie die elastische Trenn- membran 624 gebildet sein. Beispielsweise können die Noppen auch einstückig mit der elastischen Trennmembran 624 ausgebildet sein. Fig.11 zeigt eine perspektivische Ansicht einer weiteren Ausführungsform einer Kühlleitungseinrichtung 714 einer Kühlvorrichtung 700 der Lithographiean- lage 1. Die Kühlleitungseinrichtung 714 umfasst insbesondere Befestigungsmit- tel 742 zur Befestigung der elastischen Trennmembran 724 an einer Innenwand 732 der Kühlleitung 706. Die elastische Trennmembran 724 ist insbesondere in Carl Zeiss SMT GmbH et al. 36 Form eines Schlauches 726 ausgebildet. Weiterhin umfassen die Befestigungs- mittel 742 zum Beispiel eine Rohrschelle 744, die um den Schlauch 726 angeord- net ist und an dem Schlauch 726 angeklemmt ist. Die Befestigungsmittel 742 umfassen zum Beispiel außerdem eine Strebe und/oder einen Steg 746, welcher die Rohrschelle 744 mit einer Innenwand 732 der Kühlleitung 706 verbindet. Ins- besondere ist die Strebe/der Steg 746 an seiner einen Seite an der Rohrschelle 744 befestigt und an seiner anderen Seite an der Innenwand 732 der Kühlleitung 706 befestigt. Die Strebe/der Steg 746 stellt insbesondere ein Beispiel eines Ab- standshalters dar, der den Schlauch 726 innerhalb des mit der Kühlflüssigkeit 112 gefüllten Flüssigkeitsraums 718 in Position hält. Fig.12 zeigt eine perspektivische Ansicht einer weiteren Ausführungsform einer Kühlleitungseinrichtung 814 einer Kühlvorrichtung 800 der Lithographiean- lage 1. Die Kühlleitungseinrichtung 814 weist Befestigungsmittel 842 gemäß ei- ner weiteren Variante auf. Die Befestigungsmittel 842 umfassen zwischen einer Außenwand 830 der Trennmembran 824 und einer Innenwand 832 der Kühllei- tung 806 angeordnete Streben 844. Die Streben sind insbesondere radial ange- ordnet. In Fig.12 sind beispielhaft fünf Streben gezeigt, von denen drei mit ei- nem Bezugszeichen versehen wurden. In Fig.12 ist ein innenliegender Gasraum 820 gezeigt, der von einem ringförmigen Flüssigkeitsraum 818 umgeben ist, je- doch kann diese Anordnung auch umgedreht sein, sodass ein außenliegender Gasraum und ein innenliegender Flüssigkeitsraum vorliegt. Die in den Figuren 3 bis 12 gezeigten Ausführungsformen der Kühlleitungsein- richtungen 214, 214', 214", 314, 414, 514, 614, 714 und 814 sind vielseitig mitei- nander kombinierbar. Beispielsweise können die in Fig.10 gezeigten Abstands- halter 638, die in Fig.11 gezeigten Befestigungsmittel 742 und die in Fig.12 ge- zeigten Befestigungsmittel 842 mit jeder der im Zusammenhang mit den Fig.3 bis 9 gezeigten und/oder beschriebenen Ausführungsformen und Varianten kom- biniert werden. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 37 In den Figuren 8 und 9 sind zwei Beispiele für Kühlleitungseinrichtungen 414 und 514 gezeigt, bei denen mehr als eine Trennmembran 424, 524 vorgesehen ist, um im Querschnitt der Kühlleitung 406, 506 gesehen, mehr als einen Gasraum 420, 520 zur Dämpfung von Druckschwankungen der Kühlflüssigkeit 112 bereit- zustellen. Insbesondere sind in den Figuren 8 und 9 jeweils zwei Trennmemb- rane 424 und 424' bzw.524 und 524' zur Ausbildung von jeweils zwei Gasräumen 420 und 420' bzw.520 und 520' gezeigt. Es können jedoch auch mehr als zwei Trennmembrane derart vorgesehen sein, dass im Querschnitt der Kühlleitung 406, 506 gesehen mehr als zwei Gasräume bereitgestellt werden. Wie in Fig.3 gezeigt, können zusätzlich oder alternativ auch mehr als zwei Trennmembrane 224, 224" derart vorgesehen sein, dass sie in Bezug auf eine Strömungsrichtung (Flussrichtung) R der Kühlflüssigkeit 112 voneinander und von dem Flüssigkeitsraum 218 getrennt sind. Weiterhin kann die Kühlvorrich- tung 200 zwei oder mehr Gasräume 220, 220" aufweisen, die mithilfe der zwei oder mehr Trennmembrane 224, 224" von dem Flüssigkeitsraum 218 abgetrennt sind. Die zwei oder mehr Gasräume 220, 220" sind insbesondere in Bezug auf die Strömungsrichtung (Flussrichtung) R der Kühlflüssigkeit 112 voneinander und von dem Flüssigkeitsraum 218 getrennt. In jedem der zwei oder mehr Gasräume 220, 220" ist ein Gas 222, 222" aufgenommen, wobei die Gase 222, 222" voneinan- der verschiedene Drücke P, P" haben können. Die Drücke P, P" bezeichnen insbe- sondere Drücke der Gase 222, 222" (Vorspanndrücke) in einem Ruhezustand der Trennmembran 224, 224". Durch Bereitstellen mehrerer Gasvolumina 216, 216" mit unterschiedlichen Vor- spanndrücken P, P" in dem Kühlkreislauf 202 können Druckschwankungen der Kühlflüssigkeit 112 in dem Kühlkreislauf 202 gezielt gedämpft werden. Insbe- sondere kann ein Frequenzbereich einer Dämpfung durch das Einstellen des Vor- spanndrucks P, P" des jeweiligen Gasvolumens 216, 216" eingestellt werden. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 38 Beispielsweise können durch ein erstes Gasvolumen 216 in dem Kühlkreislauf 202 in Fig.3 niederfrequente Druckstöße gedämpft werden. So ist beispielsweise bekannt, dass Anregungen aus dem Wasserkabinett eher niederfrequenter Natur sind. Daher kann das erste Gasvolumen 216 gezielt auf niederfrequente Unter- drückung ausgelegt werden und dieses möglichst nah am Wasserkabinett reali- siert werden. Weiterhin können beispielsweise durch ein zweites Gasvolumen 216" in dem Kühlkreislauf 202 in Fig.3 höherfrequente Druckstöße gedämpft werden. Dazu wird insbesondere der Vorspanndruck P" des zweiten Gasvolumens 216" auf ei- nen höheren Wert eingestellt als der Vorspanndruck P des ersten Gasvolumens 216. Es ist bekannt, dass durch die Positionsregelung der Spiegel 102 ein sensiti- ver Frequenzbereich zwischen etwa 50 und 150 Hz vorliegt. Damit könnte direkt vor den aktiv geregelten und gekühlten Spiegeln 102 das zweite Gasvolumen 216" angeordnet werden, das genau in diesem Frequenzbereich eine gute Unter- drückung zeigt. Zum Beispiel kann auf diese Weise auch eine Kaskadierung der Druckdämpfung in dem Kühlkreislauf 202 realisiert werden. Bei der Kaskadierung werden bei- spielsweise in Strömungsrichtung R der Kühlflüssigkeit 112 gesehen zuerst Druckschwankungen mit niedrigen Frequenzen gedämpt (z. B. durch das erste Gasvolumen 216). In Strömungsrichtung R nachfolgend werden dann beispiels- weise Druckschwankungen mit höheren Frequenzen gedämpft (z. B. durch das zweite Gasvolumen 216"). In Fig.3 sind beispielhaft zwei Gasvolumina 216, 216" mit verschiedenen Vor- spanndrücken P, P" und damit unterschiedlichen Dämpfungseigenschaften ge- zeigt. Es können jedoch auch mehr als zwei Gasvolumina 216, 216" mit verschie- denen Vorspanndrücken P, P" und Dämpfungseigenschaften in dem Kühlkreis- lauf 202 vorgesehen sein. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 39 Außerdem können auch Gasvolumina 216, 216" gezielt an Dämpfungserforder- nisse einzelner positionssensitiver Komponenten, 102, 102', 102" angepasst sein. In Fig.3 haben die drei Gasvolumina 216", welche den drei optischen Komponen- ten 102, 102', 102" in Strömungsrichtung R vorgeschaltet sind, einen gleichen Vorspanndruck P". Jedoch kann ein jeweiliger Vorspanndruck P" eines Gasvolu- mens 216" auch gezielt an Dämpfungserfordernisse einer jeweiligen optischen Komponente 102, 102', 102" angepasst sein. Wie in Fig.3 gestrichelt gezeigt, kann die Kühlvorrichtung 200 eine oder meh- rere Einrichtungen 250 zum Einstellen eines Druckes P, P" des Gases 222, 222" eines oder mehrerer Gasvolumina 216, 216" umfassen. Durch die eine oder meh- reren Druckeinstelleinrichtungen 250 können Dämpfungseigenschaften von ab- geschlossenen Gasvolumina 216, 216" über den gesamten Kühlkreislauf 202 se- lektiv eingestellt werden. Beispielsweise werden die Vorspanndrücke P, P" vor Inbetriebnahme der Kühlvorrichtung 200 und/oder der Lithographieanlage 1 ein- gestellt. Obwohl in den Figuren 4 bis 12 nicht gezeigt, können auch die Ausführungsfor- men der Kühlvorrichtungen 300, 400, 500, 600, 700, 800 eine oder mehrere Ein- richtungen ähnlich der Einrichtung 250 (Fig.3) zum Einstellen eines Druckes des Gases 222 in einem oder mehreren Gasräumen 320, 420, 420', 520, 520', 620, 720, 820 umfassen. In den Figuren 3 bis 12 sind jeweils in Strömungsrichtung R gesehen abgeschlos- sene Gasräume 320, 420, 420', 520, 520', 620, 720, 820 gezeigt. Jedoch kann in anderen Beispielen auch ein einziger Gasraum durch den gesamten Kühlkreis- lauf 202 geführt sein. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 40 Fig. 13 zeigt eine Querschnittsansicht einer weiteren Ausführungsform einer Kühlleitungseinrichtung 914 einer Kühlvorrichtung 900 der Lithographiean- lage 1. Die Kühlvorrichtung 900 umfasst eine Kühlleitung 906 mit einem Flüssig- keitsraum 918, einem Gasraum 920 und eine den Flüssigkeitsraum 918 abtren- nende Trennmembran 924. Gemäß dieser Ausführungsform weist die Kühlvorrich- tung 900 ferner ein schaumartiges und/oder schwammartiges Element 952 auf. Das schaumartige und/oder schwammartige Element 952 weist mehrere Blasen 954 (Gasblasen 954) und ein die mehreren Blasen 954 umgebendes elastisches Ma- terial 956 auf. Der Gasraum 920 wird insbesondere durch die mehreren Blasen 954 des schaumartigen und/oder schwammartigen Elements 952 gebildet. Weiter- hin bildet das die mehreren Blasen 954 umgebende elastische Material 956 die Trennmembran 924. Fig.14 zeigt eine Seitenansicht einer weiteren Ausführungsform einer Kühllei- tungseinrichtung 1014 einer Kühlvorrichtung 1000 der Lithographieanlage 1. Die Kühlvorrichtung 1000 umfasst eine Kühlleitung 1006. Obwohl in Fig.14 nicht zu sehen, weist die Kühlleitung 1006 – wie die vorstehend beschriebenen Kühlleitungen – einen Flüssigkeitsraum, einen Gasraum und eine den Flüssig- keitsraum abtrennende Trennmembran auf. Gemäß dieser Ausführungsform ist die Kühlvorrichtung 1000 dazu eingerichtet, dass eine Kühlflüssigkeit in einer Strömungsrichtung R durch die Kühlleitung 1006 strömt. Weiterhin verjüngt sich ein Durchmesser D1 der Kühlleitung 1006 (z. B. gleichmäßig) entlang der Strömungsrichtung R. Das Bezugszeichen D1 bezeichnet einen ersten Durchmes- ser und D2 einen zweiten Durchmesser, der kleiner als der erste Durchmesser D1 ist. Durch die Verjüngung des Kühlleitungsdurchmessers D1 kann Einfluss auf die Strömungsgeschwindigkeit der Kühlflüssigkeit genommen werden. Auf diese Weise kann ein Frequenzbereich der Dämpfung von Druckwellen der Kühl- flüssigkeit eingestellt werden. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 41 In dem in Fig.14 gezeigten Beispiel erstreckt sich die Kühlleitung 1006 geradlinig in einer Längsrichtung L und strömt die Kühlflüssigkeit entlang der Längsrich- tung L durch die Kühlleitung 1006. Mit anderen Worten sind hier die Strömungs- richtung R und die Längsrichtung L parallel zueinander angeordnet. In Fig. 14 verjüngt sich der Durchmesser D1 der Kühlleitung 1006 entlang der Längsrich- tung L. Fig.15 zeigt eine weitere Variante einer sich entlang einer Strömungsrichtung R' einer Kühlflüssigkeit verjüngenden Kühlleitung 1114 einer Kühlvorrichtung 1100. Die Kühlleitung 1114 in Fig.15 ist insbesondere gekrümmt. In dem gezeig- ten Beispiel ist die Kühlleitung 1114 wendelförmig W geformt. Der Durchmesser D1 der Kühlleitung 1114 verjüngt sich entlang der wendelförmig W gekrümmten Kühlleitung 1114. Das Bezugszeichen D1' bezeichnet einen ersten Durchmesser und D2' einen zweiten Durchmesser, der kleiner als der erste Durchmesser D1' ist. Im Folgenden wird mit Bezug zu Fig.16 ein Verfahren zum Betreiben einer Kühlvorrichtung 200, 200', 300, 400, 500, 600, 700, 800, 900, 1000, 1100 (Fig.4 bis 15) einer Projektionsbelichtungsanlage 1 (Fig.1) gemäß einer Ausführungs- form beschrieben. Die Kühlvorrichtung 200, 200', 300, 400, 500, 600, 700, 800, 900, 1000, 1100 dient zum Kühlen einer positionssensitiven Komponente 102, 102', 102" (Fig.3) der Projektionsbelichtungsanlage 1 (Fig.1). Die Kühlvorrichtung 200, 200', 300, 400, 500, 600, 700, 800, 900, 1000, 1100 um- fasst eine Kühlleitungseinrichtung 214, 214', 314, 414, 514, 614, 714, 814, 914, 1014, 1114 (Fig.4 bis 15) mit einer Kühlleitung 206, 206', 306, 406, 506, 606, 706, 806, 906, 1006, 1106. Die Kühlleitungseinrichtung 214, 214', 314, 414, 514, 614, 714, 814, 914, 1014, 1114 umfasst außerdem einen Flüssigkeitsraum 218, 218', 318, 418, 518, 618, 718, 818, 918 zum Transportieren einer Kühlflüssigkeit 112 zu der positionssensitiven Komponente 102, 102', 102". Zum Dämpfen von Carl Zeiss SMT GmbH et al. 42 Druckschwankungen der Kühlflüssigkeit 112 umfasst die Kühlleitungseinrich- tung 214, 214', 314, 414, 514, 614, 714, 814, 914, 1014, 1114 zudem einen oder mehrere Gasräume 220, 220', 320, 420, 420', 520, 520', 620, 720, 820, 920 zum Aufnehmen eines Gases 222. Der jeweilige Gasraum 220, 220', 320, 420, 420', 520, 520', 620, 720, 820, 920 ist mithilfe einer elastische Trennmembran 224, 224', 324, 424, 424', 524, 524', 624, 724, 824, 924 von dem Flüssigkeitsraum 218, 218', 318, 418, 518, 618, 718, 818, 918 abgetrennt. In einem ersten Schritt S1 des Verfahrens wird der Flüssigkeitsraum 218, 218', 318, 418, 518, 618, 718, 818, 918 der Kühlleitung 206, 206', 306, 406, 506, 606, 706, 806, 906, 1006, 1106 von der Kühlflüssigkeit 112 durchströmt. In einem zweiten Schritt S2 des Verfahrens wird ein Volumen VF1 des Flüssig- keitsraums 218, 218', 318, 418, 518, 618, 718, 818, 918 (und damit ein Volumen VF1 der Kühlflüssigkeit 112) durch Verformen der elastischen Trennmembran 224, 224', 324, 424, 424', 524, 524', 624, 724, 824, 924 geändert. Insbesondere wird das Volumen VF1 des Flüssigkeitsraums 218, 218', 318, 418, 518, 618, 718, 818, 918 als Reaktion auf eine Druckänderung der Kühlflüssigkeit 112 geändert. Durch das Ändern des Volumens VF1 des Flüssigkeitsraums 218, 218', 318, 418, 518, 618, 718, 818, 918 und damit der Kühlflüssigkeit 112 kann eine Druckände- rung, z. B. eine Druckschwankung, der Kühlflüssigkeit 112 gedämpft werden. Dadurch kann ein Übertragen einer Druckschwankung an die positionssensitive Komponente 102, 102', 102" reduziert oder vermieden werden. Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen beschrie- ben wurde, ist sie vielfältig modifizierbar. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 43 BEZUGSZEICHENLISTE 1 Projektionsbelichtungsanlage 2 Beleuchtungssystem 3 Lichtquelle 4 Beleuchtungsoptik 5 Objektfeld 6 Objektebene 7 Retikel 8 Retikelhalter 9 Retikelverlagerungsantrieb 10 Projektionsoptik 11 Bildfeld 12 Bildebene 13 Wafer 14 Waferhalter 15 Waferverlagerungsantrieb 16 Beleuchtungsstrahlung 17 Kollektor 18 Zwischenfokusebene 19 Umlenkspiegel 20 erster Facettenspiegel 21 erste Facette 22 zweiter Facettenspiegel 23 zweite Facette 100 Positioniersystem 102, 102', 102" optische Komponente 104 Beschichtung 106 optisch aktive Fläche 108 Substrat Carl Zeiss SMT GmbH et al. 44 110, 110', 110" Kühlleitung 112 Kühlflüssigkeit 114 Aktoreinrichtung 116 Tragrahmen 118 Aktor 120 Sensoreinrichtung 122 Laserstrahl 200 Kühlvorrichtung 202 Kühlkreislauf 204 Kühleinheit 206 Kühlleitung 208 Pumpe 210 Ventil 212 Umlenkung 214, 214' Kühlleitungseinrichtung 216, 216', 216" Gasvolumen 218, 218' Flüssigkeitsraum 220, 220', 220" Gasraum 222, 222" Gas 224, 224', 224" Trennmembran 226 Schlauch 228 Innenraum 230 Außenwand 232 Innenwand 250 Einrichtung (Druckeinstelleinrichtung) 300 Kühlvorrichtung 306 Kühlleitung 314 Kühlleitungseinrichtung 316 Gasvolumen 318 Flüssigkeitsraum Carl Zeiss SMT GmbH et al. 45 320 Gasraum 324 Trennmembran 326 Schlauch 400 Kühlvorrichtung 406 Kühlleitung 414 Kühlleitungseinrichtung 416 Gasvolumen 418 Flüssigkeitsraum 420, 420' Gasraum 424, 424' Trennmembran 434 Innenseite 436 Außenseite 500 Kühlvorrichtung 506 Kühlleitung 514 Kühlleitungseinrichtung 516 Gasvolumen 518 Flüssigkeitsraum 520 Gasraum 524, 524' Trennmembran 526, 526' Schlauch 530, 530' Außenwand 532 Innenwand 600 Kühlvorrichtung 606 Kühlleitung 614 Kühlleitungseinrichtung 616 Gasvolumen 618 Flüssigkeitsraum 620 Gasraum 624 Trennmembran 630 Außenwand Carl Zeiss SMT GmbH et al. 46 632 Innenwand 638 Abstandshalter 640 Noppe 700 Kühlvorrichtung 706 Kühlleitung 714 Kühlleitungseinrichtung 716 Gasvolumen 718 Flüssigkeitsraum 720 Gasraum 724 Trennmembran 726 Schlauch 732 Innenwand 742 Befestigungsmittel 744 Rohrschelle 746 Steg/Strebe 800 Kühlvorrichtung 806 Kühlleitung 814 Kühlleitungseinrichtung 816 Gasvolumen 818 Flüssigkeitsraum 820 Gasraum 824 Trennmembran 830 Außenwand 832 Innenwand 842 Befestigungsmittel 844 Strebe 900 Kühlvorrichtung 906 Kühlleitung 914 Kühlleitungseinrichtung 918 Flüssigkeitsraum Carl Zeiss SMT GmbH et al. 47 920 Gasraum 924 Trennmembran 952 Element 954 Blase 956 Material 1000 Kühlvorrichtung 1006 Kühlleitung 1100 Kühlvorrichtung 1106 Kühlleitung A1-A3 Achse D Durchmesser D1, D1' Durchmesser D2, D2' Durchmesser L Längsrichtung M1-M6 Spiegel P, P" Druck R, R' Strömungsrichtung S1-S2 Verfahrensschritte VF1, VF1' Volumen VF2, VF2' Volumen VG1, VG1' Volumen VG2, VG2' Volumen W Wendelform X Richtung Y Richtung Z Richtung

Claims

Carl Zeiss SMT GmbH et al. 48 PATENTANSPRÜCHE 1. Kühlvorrichtung (200) zum Kühlen einer positionssensitiven Komponente (102) einer Lithographieanlage (1), aufweisend eine Kühlleitung (206) mit einem Flüssigkeitsraum (218) zum Transportieren einer Kühlflüssigkeit (112) zu der positionssensitiven Komponente (102) und ei- nem Gasraum (220) zum Aufnehmen eines Gases (222), und eine innerhalb der Kühlleitung (206) angeordnete elastische Trennmembran (224), die den Gasraum (220) von dem Flüssigkeitsraum (218) abtrennt. 2. Kühlvorrichtung nach Anspruch 1, wobei die elastische Trennmembran (224) eine Druckmembran ist, welche dazu eingerichtet ist, sich bei einer Druckände- rung der Kühlflüssigkeit (112) zu verformen, sodass sich ein Volumen (VG1', VG2') des Gasraums (220) entsprechend ändert. 3. Kühlvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, wobei der von der elastischen Trennmembran (224) abgetrennte Gasraum (220) im Querschnitt der Kühlleitung (206) gesehen rotationssymmetrisch ist. 4. Kühlvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei der Flüssigkeits- raum (218) und der mittels der elastischen Trennmembran (224) von dem Flüssig- keitsraum (218) abgetrennte Gasraum (220) im Querschnitt der Kühlleitung (206) gesehen koaxial angeordnet sind. 5. Kühlvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei der Gasraum (220, 320) im Querschnitt der Kühlleitung (206, 306) gesehen und in Bezug auf den Flüs- sigkeitsraum (218, 318) ein innenliegender Gasraum (220) oder ein außenliegen- der Gasraum (320) ist. Carl Zeiss SMT GmbH et al. 49 6. Kühlvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, aufweisend einen die elastische Trennmembran (224) umfassenden elastischen Schlauch (226) zur Bil- dung des Gasraums (220). 7. Kühlvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, aufweisend mindestens einen zwischen der elastischen Trennmembran (624) und einer Innenwand (632) der Kühlleitung (606) angeordneten Abstandshalter (638). 8. Kühlvorrichtung nach Anspruch 7, aufweisend mehrere Abstandshalter (638), welche durch an einer Außenseite (630) der elastischen Trennmembran (624) angeordnete Noppen (640) gebildet werden. 9. Kühlvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, aufweisend Befesti- gungsmittel (742, 842) zur Befestigung der elastischen Trennmembran (724, 824) an einer Innenwand (732, 832) der Kühlleitung (706, 806). 10. Kühlvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, aufweisend eine Einrich- tung (250) zum Einstellen eines Drucks (P) eines Gases (222) in dem Gasraum (220). 11. Kühlvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, aufweisend zwei oder mehr innerhalb der Kühlleitung (206, 406, 506) angeordnete elastische Trenn- membrane (224, 224", 424, 424', 524, 524'), welche entsprechend zwei oder mehr voneinander und von dem Flüssigkeitsraum (218, 418, 518) abgetrennte Gasräume (220, 220", 420, 420', 520, 520') bilden. 12. Kühlvorrichtung nach Anspruch 11, wobei die zwei oder mehr Gasräume (420, 420', 520, 520'), im Querschnitt der Kühl- leitung (406, 506) gesehen, voneinander und von dem Flüssigkeitsraum (318, 518) abgetrennt sind, und/oder Carl Zeiss SMT GmbH et al. 50 die zwei oder mehr Gasräume (220, 220") in Bezug auf eine Strömungsrich- tung (R) der Kühlflüssigkeit (112) voneinander und von dem Flüssigkeitsraum (218) abgetrennt sind. 13. Kühlvorrichtung nach Anspruch 11 oder 12, wobei die zwei oder mehr Gas- räume (220, 220") in Bezug auf eine Strömungsrichtung (R) der Kühlflüssigkeit (112) voneinander und von dem Flüssigkeitsraum (218) abgetrennt sind, die Kühl- vorrichtung (200) in jedem der zwei oder mehr Gasräume (220, 220") ein Gas (222, 222") aufweist, und die jeweiligen Gase (222, 222") voneinander verschiedene Drü- cke (P, P") haben. 14. Kühlvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 13, aufweisend ein schaum- artiges und/oder schwammartiges Element (952) mit mehreren Blasen (954) und einem die mehreren Blasen (954) umgebenden elastischen Material (956), wobei der Gasraum (920) durch die mehreren Blasen (954) des schaumartigen und/oder schwammartigen Elements (952) gebildet wird, und die Trennmembran (924) durch das die mehreren Blasen (954) umgebende elastische Material (956) gebildet wird. 15. Kühlvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 14, wobei die Kühlvorrich- tung dazu eingerichtet ist, dass eine Kühlflüssigkeit (112) in einer Strömungsrich- tung (R) durch die Kühlleitung (206, 1006, 1106) strömt, und sich ein Durchmesser (D1, D1') der Kühlleitung (206, 1006, 1106) entlang der Strömungsrichtung (R) verjüngt. 16. Lithographieanlage (1), insbesondere EUV-Lithographieanlage, mit einer Kühlvorrichtung (200) nach einem der Ansprüche 1 bis 15. 17. Verfahren zum Betreiben einer Kühlvorrichtung (200) zum Kühlen einer po- sitionssensitiven Komponente (102) einer Lithographieanlage (1), wobei die Carl Zeiss SMT GmbH et al. 51 Kühlvorrichtung (200) eine Kühlleitung (206) mit einem Flüssigkeitsraum (218) zum Transportieren einer Kühlflüssigkeit (112) zu der positionssensitiven Kompo- nente (102) und einem Gasraum (220) zum Aufnehmen eines Gases (222) und eine innerhalb der Kühlleitung (206) angeordnete elastische Trennmembran (224), die den Gasraum (220) von dem Flüssigkeitsraum (218) abtrennt, aufweist, und wobei das Verfahren die Schritte aufweist: a) Durchströmen (S1) des Flüssigkeitsraums (218) der Kühlleitung (206) mit einer Kühlflüssigkeit (112), und b) Ändern (S2) eines Volumens (VF1', VF2') des Flüssigkeitsraums (218) durch Verformen der elastischen Trennmembran (224) als Reaktion auf eine Druckände- rung der Kühlflüssigkeit (112) in dem Flüssigkeitsraum (218).
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Inventor name: METTENLEITER, LUCA

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