EP3403844B1 - Verfahren zum herstellen eines sicherheitselements mit einem metallisierten reliefbereich - Google Patents

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EP3403844B1
EP3403844B1 EP18000456.6A EP18000456A EP3403844B1 EP 3403844 B1 EP3403844 B1 EP 3403844B1 EP 18000456 A EP18000456 A EP 18000456A EP 3403844 B1 EP3403844 B1 EP 3403844B1
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relief
demetallization
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Björn Teufel
Winfried HOFFMÜLLER
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Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH
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Definitions

  • the invention relates to a method for producing a security element with a metallized relief area.
  • Data carriers such as value or identity documents, but also other objects of value such as branded items, are often provided with security elements for protection that allow the authenticity of the data carrier to be checked and / or serve as protection against unauthorized reproduction.
  • the security elements can, for example, be embedded in a bank note in the form of metallized foils or arranged over an opaque area, a window area or a continuous opening in the data carrier.
  • the metallized foils also contain demetallized subareas which are used to represent a desired motif and / or to provide additional authentication of the data carrier. These metal-free areas are usually produced with the aid of a washing process, as described, for example, in the publication WO 99/13157 is described.
  • a translucent carrier film is printed with a desired pattern using a printing ink with a high pigment content. Due to the high pigment content, the printing ink forms a porous, raised color application after drying.
  • a thin metallic cover layer is then formed on the printed carrier film, which only partially covers the color body in the area of the application of color due to its large surface area and the porous structure. The application of paint and the overlying metallic cover layer can then be removed by washing out with a suitable solvent, so that recesses are produced in the cover layer in the originally printed areas of the carrier film.
  • WO 2009/083146 A2 is selectively printed either only on the elevations or only in the depressions of a relief structure.
  • the metallization of an embossed structure which comprises two areas at different levels, is removed in one of the areas with a laser WO 2009/100869 A2 .
  • WO 2017/028950 A1 a multi-layer structure is removed by means of washing ink, whereby a relief structure is not printed with washing ink.
  • EP 1 972 462 A2 discloses a wash dye having a reactive ingredient.
  • the invention is based on the object of avoiding the disadvantages of the prior art and in particular of specifying a method for producing a security element with which filigree demetallization areas can be produced in a metallized relief area in a simple manner.
  • the invention is based on the surprising finding that the thin washing color layer applied in step W) has different effects on the subsequent demetallization in step A) in the flat area and in the relief area. While the thin layer of washing color in the narrow flat area leads to the removal of the metallization, there is no demetallization in the relief area. An explanation of this phenomenon based on current understanding is presented below.
  • relief and flat structures can be produced with great accuracy and the metallization or demetallization produced by the present method matched to these structures, metallized structures can be produced and non-metallized partial areas are aligned with one another and with the underlying relief structure with high precision.
  • the distance between the edge of the relief structure and the demetallization can be kept smaller than 10 ⁇ m, in particular smaller than 3 ⁇ m or even 2 ⁇ m.
  • Such a register accuracy, in general and in particular for fine demetallization structures cannot be achieved with conventional methods. Since the conventional, area-wise printing of washing ink takes place in a separate printing step, a positional tolerance of around 300 ⁇ m was created.
  • the relief area is also often referred to as a height-structured area, since it has elevations and depressions as structural elements. It goes without saying that the relief area of the carrier, in addition to the two sub-areas mentioned, can also have further sub-areas which are separated from one another by narrow flat areas. The following statements on the flat area and the partial areas of the relief area preferably apply to all flat areas and relief partial areas present on the carrier.
  • step W) the washing color layer of small layer thickness in the relief area is selectively applied only to the elevations of the relief structure, preferably to the upper 20%, in particular to the upper 10% of the elevations.
  • the washing color layer with a small layer thickness in the relief area is selectively introduced only into the depressions of the relief structure, preferably into the lower 20%, in particular into the lower 10% of the depressions.
  • the properties of the wash color can be specifically chosen so that selective application or introduction is supported.
  • a high viscosity of the washing color promotes selective application only to the elevations, while a low viscosity promotes selective application only into the depressions of the relief structure.
  • a narrow flat area with a width of less than 1000 ⁇ m is advantageously formed in step R), preferably a flat area with a width between 10 ⁇ m and 1000 ⁇ m, particularly preferably between 10 ⁇ m to 500 ⁇ m, and very particularly preferably between 10 ⁇ m to 250 ⁇ m.
  • the elevations and depressions of the relief structure advantageously form structural elements with a height of more than 0.5 ⁇ m, preferably more than 1 ⁇ m or more than 2 ⁇ m, in particular about 4 ⁇ m.
  • the height of the structures is - in each case - preferably below 8 ⁇ m, that is to say in particular between 0.5 to 8 ⁇ m, 2 to 8 ⁇ m or 3 to 5 ⁇ m.
  • the lateral extension of the structural elements is preferably smaller than 100 ⁇ m and is, for example, 10 ⁇ m to 30 ⁇ m.
  • a particularly small contact surface of the relief area with a printing form, such as a gravure cylinder, can be obtained by means of pointed elevations.
  • the relief structure therefore advantageously has a non-sinusoidal cross section.
  • the relief structure is advantageously designed with pointed elevations, in particular in the form of prisms or three-, four- or more-sided pyramids.
  • Prismatic structural elements are in particular arranged in such a way that one of their edges forms a roof-like tip.
  • the small layer thickness of the washing color layer is preferably less than 20%, in particular in the range from 1 to 20%, preferably between 1 to 10%, of the height of the relief structure.
  • the relief structure is preferably formed by an embossed structure, since the desired structures can be produced easily and with high accuracy by embossing.
  • the relief structure can in particular be a micromirror arrangement, a blaze grating with a sawtooth-like furrow profile, a Fresnel lens arrangement, or else a diffractive structure such as a hologram, a holographic grating image or a hologram-like diffraction structure.
  • the metallized relief structure advantageously acts as a diffuse or metallic reflector, but it is also within the scope of the invention that the relief structure only serves as a spacer for the printing form during the printing process and does not or hardly affects the visual reflection properties of the security element.
  • Suitable solvents are available for washing inks.
  • water can be used as the solvent.
  • the washing ink layer with a small layer thickness is applied to the relief area and the flat area as toning in a gravure printing step in step W).
  • washing ink with normal layer thickness is applied simultaneously in a demetallization area, that in step M) the demetallization area is also metallized, and that in step A) the washing ink of normal layer thickness together with the overlying metallization in the demetallization area removed and the demetallization area is thereby demetallized.
  • a “normal layer thickness” here refers to a layer thickness of the washing color in which more reliable demetallization is ensured in the large-area demetallization areas.
  • the "small layer thickness” is preferably at least (5 or) 10 times smaller than the normal layer thickness.
  • the conventionally undesirable toning of the washing color can be used in a targeted manner within the scope of the invention and increased to a value at which demetallization is promoted in the flat area, but undesired demetallization does not yet occur in the relief area.
  • the toning of the wash color can be set by at least one of the following parameters (or combinations thereof): the pigmentation of the wash color, the choice of binder, the electrostatics during the printing process (switching on or off the electrostatic printing aid ESA), the setting of the Squeegee (such as the angle of attack), the type and pressure of the impression roller, the circumference of the printing cylinder and / or the atmosphere of the printing cylinder can be influenced.
  • the demetallization in the flat area does not necessarily have to be complete, since small metal residues are hardly noticeable in the narrow flat areas between the reflective relief partial areas.
  • degrees of demetallization above 70%, preferably above 80% and in particular above 90% have proven useful.
  • the binder of the washing color is advantageously water-soluble and the washing color used advantageously has a particularly high degree of color transfer.
  • the gravure cylinder is expediently provided with a certain roughness in its flat areas, in particular in order to optimize the running of the doctor blade.
  • the washing ink layer with a small layer thickness in step W) is applied as an ultra-thin ink layer in a flexographic printing step on the relief area and the flat area. It is also advantageously provided that in the flexographic printing step washing ink with normal layer thickness is applied simultaneously in a demetallization area, that in step M) the demetallization area is also metallized, and that in step A) the washing ink of normal layer thickness together with the overlying layer in the demetallization area Metallization is removed and the demetallization area is thereby demetallized.
  • the security element on the carrier can also contain a conventional, large-area metallized partial area in which there are no relief structures.
  • the washing color is advantageously applied in a solvent atmosphere.
  • the metallization in step M) is advantageously formed by a single metal layer, preferably with a thickness between 5 nm and 100 nm, or by one or more single metal layers in a multilayer structure.
  • An aluminum, chrome or copper layer for example, can be applied as a single metal layer.
  • the metal layer and possible further layers of the multilayer structure are preferably vapor-deposited (by means of CVD or PVD processes).
  • Multi-layer structures can be produced, for example, in the form of a color-shifting thin-film element with a metallic absorber layer, a dielectric spacer layer and a metallic reflector layer. With the metal layer of the metallization, non-metallic layers can optionally also be removed at the same time.
  • the security element contains a carrier with a metallized relief structure with elevations and depressions and a narrow, demetallized flat area without elevations and depressions that is matched to the relief structure.
  • the flat area separates at least two partial areas of the relief area from one another and has a width below 1000 ⁇ m, preferably a width between 10 ⁇ m and 500 ⁇ m, in particular between 10 ⁇ m and 250 ⁇ m.
  • the relief structure advantageously consists of structural elements with pointed elevations, in particular in the form of prisms or three-, four- or more-sided pyramids.
  • the elevations and depressions of the relief structure advantageously form structural elements with a height of more than 0.5 ⁇ m, preferably more than 1 ⁇ m or more than 2 ⁇ m, in particular about 4 ⁇ m.
  • the height of the structures is - in each case - preferably below 8 ⁇ m, that is to say in particular between 0.5 to 8 ⁇ m, preferably between 2 to 8 ⁇ m or particularly preferably between 3 to 5 ⁇ m.
  • the lateral extent of the structural elements is preferably less than 100 ⁇ m and is, for example, 10 ⁇ m to 30 ⁇ m.
  • the further statements made in the description of the manufacturing process also apply to the security element manufactured using this process.
  • Figure 1 shows a schematic representation of a bank note 10 which is provided with a security element produced according to the invention in the form of a film patch 12.
  • the invention is not limited to the production of the transfer element shown for illustration in banknotes, but can also be used, for example, for security threads, wide security strips or cover films that are arranged over an opaque area, a window area or a continuous opening of any data carrier.
  • the film patch 12 shows a metallized three-dimensional relief motif 14 that bulges out of the xy plane of the security element for the viewer and can be designed, for example, in the form of a portrait, an architectural or technical motif or a natural motif.
  • the relief motif 14 contains not only metallized subareas but also demetallized subareas, which on the one hand have a design function within the image motif, but on the other hand also take on information-carrying functions and can, for example, represent negative writing. If the demetallized subareas are conventionally produced by printing washing ink and a washout step after the metallization, only relatively large subareas with the smallest dimensions of 1 mm or a line width of 100 ⁇ m or more can be introduced.
  • FIG. 2 Show for a more detailed explanation of the special feature according to the invention Figures 2 and 3 a detail section 16 of the relief motif 14, wherein Fig. 2 a supervision and Fig. 3 a cross section along the line III-III of Fig. 2 represents.
  • the detail section could represent a button, an epaulette or (elsewhere in the motif) an eye, for example.
  • the detail section 16 of the relief motif 14 contains a metallized relief area 20 with partial areas 22, 24, a large demetallized area 26 and a narrow, demetallized strip 28 which separates the two metallized partial areas 22, 24 of the relief area 20 from one another.
  • the relief structure of the subregions 22, 24 has a multiplicity of inclined, small micromirrors 30 which, due to their metallization, reflect incident light efficiently in a predetermined direction. Due to their alignment, the micromirrors 30 create the impression of a predetermined three-dimensional relief motif 14 for the viewer, for example the portrait of the Fig. 1 .
  • the demetallized strip 28 separating the two partial areas 22, 24 from one another is very filigree and in the exemplary embodiment has a width of only 50 ⁇ m.
  • the strip 28 is designed as a flat area 38 without elevations and depressions.
  • the demetallized flat area 38 is arranged in perfect register with the metallized relief areas 22, 24.
  • the toning film which is technically unavoidable in gravure printing, can be specifically applied and used to produce filigree, precisely matched demetallized structures 28 within metallized relief structures 22, 24 in a simple and reliable manner.
  • FIG Fig. 4 based on the production of the security element 12 of Fig. 1 described in more detail, with (a) to (d) each showing the detail section 16 of the Figures 2 and 3 show at intermediate steps of the manufacturing process.
  • an embossing lacquer layer 42 is applied to a carrier film 40 and the desired relief structure with the arrangement of micromirrors 30 is embossed into the embossing lacquer layer 42.
  • the relief structure is provided in a relief area with two partial areas 32, 34, the shape and size of which exactly match the shape and size of the areas 22, 24 to be metallized ( Fig. 2 ) is equivalent to.
  • the micromirrors 30 thereby form elevations and depressions in the embossing lacquer layer 42, which in the exemplary embodiment have a structure width of approximately 10 ⁇ m and, depending on the angle of inclination of the micromirrors 30, a structure height of up to approximately 8 ⁇ m.
  • the two partial areas 32, 34 are separated from one another by a narrow flat area 38 in which there are no micromirrors or other elevations or depressions. Outside of the partial areas 32, 34, a large-area demetallization area 36 is provided, in which there should likewise be no metallization in the finished security element 12.
  • the large demetallization area 36 has a smallest dimension of more than 1 mm and can therefore be demetallized in a conventional manner by printing washing ink and a subsequent washing step, this is not possible for the narrow flat area 38, since washing ink does not have such a small line thickness still with the required accuracy relative to the height-structured subregions 32, 34 can be applied.
  • washing ink is only printed in the gravure printing process on the demetallization areas 36 and other large-area demetallization areas of the carrier 40, 42 and the normally undesired toning is used in a targeted manner.
  • the inventors have surprisingly found that the inevitable toning film in the nominally unprinted surface areas 32, 34, 38 in the flat areas 38 and in the height-structured areas 32, 34 has different effects on the subsequent demetallization: while the thin toning film of the washing color in the narrow If flat areas 38 lead to extensive or even complete demetallization, there is no demetallization in the height-structured areas 32, 34 despite the toning.
  • This thin toning film 48 now forms an essentially continuous thin washing color layer in the flat areas 38.
  • the elevations and depressions of the micromirrors 30 act as small spacers from the ink-carrying gravure cylinder, so that the latter only comes into contact with the tips of the micromirrors 30 comes and only transfers to this wash color 46.
  • a non-contiguous toning film with a significantly lower surface density is created in the height-structured areas 32, 34, as in FIG Fig. 4 (b) illustrated schematically.
  • the surface density of the transferred toning film 46 can be influenced in a targeted manner on the one hand by the shape of the elevations, but on the other hand also by the properties of the washing ink and the process conditions during the printing process.
  • the contact surface of the height-structured areas with the gravure cylinder can be kept very small by means of pointed elevations.
  • the toning of the washing ink can be influenced by the pigmentation of the washing ink, the choice of binder or by the electrostatics during the printing process.
  • the carrier 40, 42 provided with washing ink 44, 46, 48 is then provided with a metal layer 50 over its entire surface in the usual manner, which covers both the demetallization areas 36 and the flat areas 38 and the height-structured micromirror areas 32, 34, as shown in FIG Fig. 4 (c) shown.
  • the metallized carrier is finally subjected to a washing step with a solvent, for example water, in which the washing ink 44 with the metallization 50 is completely removed in the demetallization areas 36 and largely or completely removed in the flat areas 38.
  • a solvent for example water
  • the metallization is retained in the height-structured areas 32, 34 and forms the desired metallized areas 22, 24, since the surface density and the cohesion of the washing ink layer 46 there do not allow for demetallization sufficient.
  • the desired filigree demetallization of the flat area 38 with precise register is also produced.
  • the toning can be increased in a targeted manner to the extent that the demetallization in the flat area 38 is promoted without, however, producing an undesired demetallization in the height-structured areas 32, 34.
  • the demetallization in the flat area 38 is preferably complete, but this is not absolutely necessary for many applications, since small metal residues in the narrow flat areas 38 between the reflective areas 22, 24 are hardly noticeable. The separating effect of the strips already occurs when the metallization of the flat areas is largely removed, for example 70% or more.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Sicherheitselements mit einem metallisierten Reliefbereich.
  • Datenträger, wie Wert- oder Ausweisdokumente, aber auch andere Wertgegenstände, wie etwa Markenartikel, werden zur Absicherung oft mit Sicherheitselementen versehen, die eine Überprüfung der Echtheit des Datenträgers gestatten und/oder als Schutz vor unerlaubter Reproduktion dienen. Die Sicherheitselemente können beispielsweise in Form metallisierter Folien in eine Banknote eingebettet werden oder über einem opaken Bereich, einem Fensterbereich oder einer durchgehenden Öffnung des Datenträgers angeordnet sein.
  • Die metallisierten Folien enthalten neben metallisierten Teilbereichen auch demetallisierte Teilbereiche, die der Darstellung eines gewünschten Motivs und/oder einer zusätzlichen Echtheitsabsicherung des Datenträgers dienen. Erzeugt werden diese metallfreien Bereiche üblicherweise mit Hilfe eines Waschverfahrens, wie es beispielsweise in der Druckschrift WO 99/13157 beschrieben ist. Dabei wird eine transluzente Trägerfolie unter Verwendung einer Druckfarbe mit hohem Pigmentanteil mit einem gewünschten Muster bedruckt. Aufgrund des hohen Pigmentanteils bildet die Druckfarbe nach dem Trocknen einen porigen, erhabenen Farbauftrag. Auf der bedruckten Trägerfolie wird dann eine dünne metallische Abdeckschicht gebildet, die im Bereich des Farbauftrags den Farbkörper wegen seiner großen Oberfläche und der porösen Struktur nur teilweise abdeckt. Der Farbauftrag und die darüber liegende metallische Abdeckschicht können dann durch Auswaschen mit einem geeigneten Lösungsmittel entfernt werden, so dass in der Abdeckschicht in den ursprünglich bedruckten Bereichen der Trägerfolie Aussparungen erzeugt werden.
  • Die mit einem solchen Waschverfahren erreichbare Auflösung liegt allerdings nur bei einer Linienstärke von etwa 100 bis 200 µm. Für die Erzeugung feinerer Strukturen muss auf andere Verfahren, wie etwa eine Laserdemetallisation zurückgegriffen werden, was allerdings mit erheblichem zusätzlichem Zeit- und Kostenaufwand verbunden ist.
  • In WO 2009/083146 A2 wird selektiv entweder nur auf die Erhöhungen oder nur in die Vertiefungen einer Reliefstruktur gedruckt. Die Metallisierung einer Prägestruktur, die zwei Bereiche auf unterschiedlichen Niveauhöhen umfasst, wird in einem der Bereiche mit einem Laser entfernt in WO 2009/100869 A2 . In WO 2017/028950 A1 wird ein Mehrschichtaufbau mittels Waschfarbe entfernt, wobei eine Reliefstruktur nicht mit Waschfarbe bedruckt wird. EP 1 972 462 A2 offenbart eine Waschfarbe mit einem reaktiven Bestandteil.
  • Davon ausgehend liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, die Nachteile des Standes der Technik zu vermeiden und insbesondere ein Verfahren zum Herstellen eines Sicherheitselements anzugeben, mit dem in einfacher Weise filigrane Demetallisierungsbereiche in einem metallisierten Reliefbereich erzeugt werden können.
  • Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des unabhängigen Anspruchs gelöst. Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.
  • Gemäß der Erfindung ist bei dem in Anspruch 1 definierten Verfahren zum Herstellen eines Sicherheitselements mit einem metallisierten Reliefbereich und einem dazu gepasserten, schmalen, demetallisierten Flachbereich vorgesehen, dass
  • R)
    ein Träger so mit einer Reliefstruktur mit Erhebungen und Vertiefungen versehen wird, dass ein Reliefbereich und ein dazu gepasserter schmaler Flachbereich ohne Erhebungen und Vertiefungen gebildet werden, wobei der Flachbereich zumindest zwei Teilbereiche des Reliefbereichs voneinander trennt,
    W)
    für den Träger im Reliefbereich und im Flachbereich eine Waschfarbenschicht geringer Schichtdicke bereitgestellt und auf den Träger aufgebracht wird,
    M)
    der mit Waschfarbe versehene Träger zumindest im Reliefbereich und Flachbereich metallisiert wird, und
    A)
    der metallisierte Träger einem Auswaschschritt mit einem Lösungsmittel unterworfen wird, bei dem in dem Flachbereich die Waschfarbe zusammen mit der darüberliegenden Metallisierung entfernt und der Flachbereich dadurch demetallisiert wird, während die Metallisierung im Reliefbereich auf dem Träger verbleibt und den metallisierten Reliefbereich bildet.
  • Die Erfindung beruht dabei auf der überraschenden Erkenntnis, dass die im Schritt W) aufgebrachte dünne Waschfarbenschicht im Flachbereich und im Reliefbereich unterschiedliche Auswirkungen auf die nachfolgende Demetallisierung im Schritt A) hat. Während die dünne Waschfarbenschicht im schmalen Flachbereich zu einer Entfernung der Metallisierung führt, findet im Reliefbereich keine Demetallisierung statt. Eine dem gegenwärtigem Verständnis entsprechende Erklärung dieses Phänomens wird weiter unten vorgestellt.
  • Da Relief- und Flachstrukturen mit großer Genauigkeit hergestellt werden können und die Metallisierung bzw. Demetallisierung durch das vorliegende Verfahren gepassert zu diesen Strukturen entstehen, können metallisierte und nicht-metallisierte Teilbereiche hochgenau aufeinander und auf die zugrundliegende Reliefstruktur ausgerichtet werden. Der Abstand zwischen dem Rand der Reliefstruktur und der Demetallisierung kann dabei kleiner als 10 µm, insbesondere kleiner als 3 µm oder sogar 2 µm gehalten werden. Mit herkömmlichen Verfahren ist eine solche Passergenauigkeit, allgemein und insbesondere für feine Demetallisierungs-Strukturen, nicht erreichbar. Da das herkömmliche, bereichsweise Aufdrucken von Waschfarbe in einem eigenständigen Druckschritt erfolgt, entstand eine Lagetoleranz von etwa 300 µm.
  • Der Reliefbereich wird im Rahmen dieser Beschreibung auch oft als höhenstrukturierter Bereich bezeichnet, da er als Strukturelemente Erhebungen und Vertiefungen aufweist. Es versteht sich, dass der Reliefbereich des Trägers neben den beiden genannten Teilbereichen auch weitere Teilbereiche aufweisen kann, die voneinander durch schmale Flachbereiche getrennt sind. Die nachfolgenden Ausführungen zu dem Flachbereich und den Teilbereichen des Reliefbereichs gelten vorzugsweise für alle auf dem Träger vorliegenden Flachbereiche und Relief-Teilbereiche.
  • Insbesondere wird für den Träger im Reliefbereich und im Flachbereich die Waschfarbenschicht geringer Schichtdicke auf einer Druckform bereitgestellt. Die Druckform wird mit dem Träger in Kontakt gebracht. Die Waschfarbenschicht wird durch den Kontakt mit den unterschiedlichen Bereichen, Reliefbereich und Flachbereich, unterschiedlich aufgebracht. Im Flachbereich des Trägers wird die Waschfarbenschicht geringer Schichtdicke durch den Kontakt mit der Druckform (vollflächig) aufgebracht. Im Reliefbereich des Trägers wird die Waschfarbenschicht geringer Schichtdicke durch den Kontakt mit der Druckform nur selektiv übertragen. Die Waschfarbenschicht wird auf der Druckform strukturfrei (unstrukturiert) bereitgestellt. Herkömmliche Beschränkungen bezüglich Strukturbreiten sind somit nicht relevant. Insbesondere wird die Waschfarbenschicht geringer Schichtdicke für den Träger im Reliefbereich und im Flachbereich unstrukturiert (und auf einer unstrukturierten Fläche der Druckform) bereitgestellt.
  • In einer vorteilhaften Ausgestaltung wird in Schritt W) die Waschfarbenschicht geringer Schichtdicke im Reliefbereich selektiv nur auf die Erhebungen der Reliefstruktur aufgebracht, bevorzugt auf die oberen 20%, insbesondere auf die oberen 10% der Erhebungen. In einer alternativen Gestaltung wird die Waschfarbenschicht geringer Schichtdicke im Reliefbereich selektiv nur in die Vertiefungen der Reliefstruktur eingebracht, bevorzugt in die unteren 20%, insbesondere in die unteren 10% der Vertiefungen.
  • In beiden Varianten können die Eigenschaften der Waschfarbe gezielt so gewählt werden, dass eine selektive Aufbringung bzw. Einbringung unterstützt wird. Eine hohe Viskosität der Waschfarbe fördert dabei ein selektives Aufbringen nur auf die Erhebungen, während eine niedrige Viskosität ein selektives Einbringen nur in die Vertiefungen der Reliefstruktur unterstützt.
  • Mit Vorteil wird in Schritt R) ein schmaler Flachbereich mit einer Breite unterhalb von 1000 µm gebildet wird, vorzugsweise ein Flachbereich mit einer Breite zwischen 10 µm und 1000 µm, besonders bevorzugt zwischen 10 µm bis 500 µm, und ganz besonders bevorzugt zwischen 10 µm bis 250 µm.
  • Die Erhebungen und Vertiefungen der Reliefstruktur bilden vorteilhaft Strukturelemente mit einer Höhe von mehr als 0,5 µm, vorzugsweise von mehr als 1 µm oder von mehr als 2 µm, insbesondere von etwa 4 µm. Die Höhe der Strukturen liegt dabei - jeweils - bevorzugt unter 8 µm, also insbesondere zwischen 0,5 bis 8 µm, 2 bis 8 µm bzw. 3 bis 5 µm. Die laterale Ausdehnung der Strukturelemente ist vorzugsweise kleiner als 100 µm und liegt beispielsweise bei 10 µm bis 30 µm.
  • Durch spitze Erhebungen kann eine besonders kleine Kontaktfläche des Reliefbereichs mit einer Druckform, wie etwa einem Tiefdruckzylinder, erhalten werden. Vorteilhaft weist die Reliefstruktur daher einen nichtsinusförmigen Querschnitt auf. Insbesondere ist die Reliefstruktur mit Vorteil mit spitzen Erhebungen, insbesondere in Form von Prismen oder von drei-, vier- oder mehrseitigen Pyramiden ausgebildet. Prismenförmige Strukturelemente sind dabei insbesondere so angeordnet, dass eine ihrer Kanten dachartig eine linienförmige Spitze ausbildet. Die geringe Schichtdicke der Waschfarbenschicht liegt bevorzugt unter 20%, insbesondere im Bereich von 1 bis 20%, vorzugsweise zwischen 1 bis 10%, der Reliefstrukturhöhe.
  • Bevorzugt ist die Reliefstruktur durch eine Prägestruktur gebildet, da sich durch Prägung die gewünschten Strukturen einfach und mit hoher Genauigkeit erzeugen lassen. Die Reliefstruktur kann insbesondere eine Mikrospiegelanordnung, ein Blazegitter mit einem sägezahnartigen Furchenprofil, eine Fresnellinsen-Anordnung, oder auch eine diffraktive Struktur, wie etwa ein Hologramm, ein holographisches Gitterbild oder eine hologrammähnliche Beugungsstruktur sein. Vorteilhaft wirkt die metallisierte Reliefstruktur als diffuser oder metallischer Reflektor, es liegt jedoch auch im Rahmen der Erfindung, dass die Reliefstruktur lediglich als Abstandhalters für die Druckform beim Aufdruckvorgang dient und die visuellen Reflexionseigenschaften des Sicherheitselements nicht oder kaum beeinflusst.
  • Für Waschfarben sind jeweils geeignete Lösungsmittel verfügbar. In einer einfachen Ausgestaltung kann Wasser als Lösungsmittel verwendet werden. In einer gegenwärtig besonders vorteilhaften Ausgestaltung ist vorgesehen, dass die Waschfarbenschicht geringer Schichtdicke im Schritt W) als Tonung in einem Tiefdruckschritt auf den Reliefbereich und den Flachbereich aufgebracht wird. Weiter ist mit Vorteil vorgesehen, dass in dem Tiefdruckschritt gleichzeitig in einem Demetallisierungsbereich Waschfarbe mit normaler Schichtdicke aufgebracht wird, dass in Schritt M) auch der Demetallisierungsbereich metallisiert wird, und dass in Schritt A) in dem Demetallisierungsbereich die Waschfarbe normaler Schichtdicke zusammen mit der darüberliegenden Metallisierung entfernt und der Demetallisierungsbereich dadurch demetallisiert wird.
  • Eine "normale Schichtdicke" bezeichnet dabei eine Schichtdicke der Waschfarbe, bei der eine sicherere Demetallisierung in den großflächigen Demetallisierungsbereichen gewährleistet ist. Die "geringe Schichtdicke" ist vorzugsweise mindestens (5-mal oder) 10-mal kleiner als die normale Schichtdicke.
  • Die herkömmlich unerwünschte Tonung der Waschfarbe kann im Rahmen der Erfindung gezielt eingesetzt und auf einen Wert erhöht werden, bei dem die Demetallisierung im Flachbereich gefördert wird, eine unerwünschte Demetallisierung im Reliefbereich aber noch nicht auftritt. Die Tonung der Waschfarbe kann dabei durch mindestens einen der folgenden Parameter (bzw. Kombinationen hieraus) eingestellt sein: die Pigmentierung der Waschfarbe, die Wahl des Bindemittels , durch die Elektrostatik beim Druckvorgang (Ein- oder Ausschalten der elektrostatischen Druckhilfe ESA), die Einstellung des Rakel (wie Anstellwinkel), Art und Druck des Presseurs, Umfang des Druckzylinders und/oder der Atmosphäre des Druckzylinders beeinflusst werden.
  • Die Demetallisierung im Flachbereich muss nicht zwingend vollständig sein, da kleine Metallreste in den schmalen Flachbereichen zwischen den reflektierenden Relief-Teilbereichen kaum auffallen. In der Praxis haben sich Demetallisierungsgrade oberhalb von 70%, vorzugsweise oberhalb von 80% und insbesondere oberhalb von 90% bewährt.
  • Das Bindemittel der Waschfarbe ist mit Vorteil wasserlöslich und die verwendete Waschfarbe hat vorteilhaft einen besonders hohen Farbübertrag. Weiter ist der Tiefdruckzylinder in seinen flachen Bereichen zweckmäßig mit einer gewissen Rauigkeit versehen, insbesondere um den Lauf des Rakels zu optimieren.
  • In einer anderen, ebenfalls vorteilhaften Ausgestaltung ist vorgesehen, dass die Waschfarbenschicht geringer Schichtdicke im Schritt W) als ultradünne Farbschicht in einem Flexodruckschritt auf den Reliefbereich und den Flachbereich aufgebracht wird. Dabei ist weiter mit Vorteil vorgesehen, dass in dem Flexodruckschritt gleichzeitig in einem Demetallisierungsbereich Waschfarbe mit normaler Schichtdicke aufgebracht wird, dass in Schritt M) auch der Demetallisierungsbereich metallisiert wird, und dass in Schritt A) in dem Demetallisierungsbereich die Waschfarbe normaler Schichtdicke zusammen mit der darüberliegenden Metallisierung entfernt und der Demetallisierungsbereich dadurch demetallisiert wird. Die obigen Ausführungen zur normalen bzw. geringen Schichtdicke der Waschfarbe und deren Eigenschaften gelten bei dieser Ausgestaltung entsprechend.
  • Neben den genannten Bereichen kann das Sicherheitselement auf dem Träger auch einen herkömmlichen, großflächig metallisierten Teilbereich enthalten, in dem keine Reliefstrukturen vorliegen.
  • Um ein Austrocknen der Waschfarbe auf der Rolle zu verhindern, wird die Waschfarbe vorteilhaft in einer Lösungsmittelatmosphäre aufgebracht.
    Die Metallisierung in Schritt M) ist vorteilhaft durch eine Einzelmetallschicht, vorzugsweise mit einer Dicke zwischen 5 nm und 100 nm, oder durch eine oder mehrere Einzelmetallschichten in einem Mehrschichtaufbau gebildet. Als Einzelmetallschicht kann beispielsweise eine Aluminium-, Chrom- oder Kupferschicht aufgebracht werden. Die Metallschicht und mögliche weitere Schichten des Mehrschichtaufbaus werden bevorzugt aufgedampft (mittels CVD- oder PVD-Verfahren). Mehrschichtaufbauten können beispielsweise in Form eines farbkippenden Dünnschichtelements mit einer metallischen Absorberschicht, einer dielektrischen Abstandsschicht und einer metallischen Reflektorschicht erzeugt werden. Mit der Metallschicht der Metallisierung können optional also zugleich auch Nicht-metallische Schichten entfernt werden.
  • Offenbart wird auch ein Sicherheitselement zur Absicherung von Wertgegenständen, das mit einem Verfahren der genannten Art herstellbar ist. Das Sicherheitselement enthält einen Träger mit einer metallisierten Reliefstruktur mit Erhebungen und Vertiefungen und einen zu der Reliefstruktur gepasserten, schmalen, demetallisierten Flachbereich ohne Erhebungen und Vertiefungen. Der Flachbereich trennt zumindest zwei Teilbereiche des Reliefbereichs voneinander und weist eine Breite unterhalb von 1000 µm, bevorzugt eine Breite zwischen 10 µm und 500 µm, insbesondere zwischen 10 µm und 250 µm auf.
    Die Reliefstruktur besteht mit Vorteil aus Strukturelementen mit spitzen Erhebungen, insbesondere in Form von Prismen oder von drei-, vier- oder mehrseitigen Pyramiden. Die Erhebungen und Vertiefungen der Reliefstruktur bilden vorteilhaft Strukturelemente mit einer Höhe von mehr als 0,5 µm, vorzugsweise von mehr als 1 µm oder von mehr als 2 µm, insbesondere von etwa 4 µm. Die Höhe der Strukturen liegt dabei - jeweils - bevorzugt unter 8 µm, also insbesondere zwischen 0,5 bis 8 µm, bevorzugt zwischen 2 bis 8 µm bzw. besonders bevorzugt zwischen 3 bis 5 µm. Die laterale Ausdehnung der Strukturelemente ist vorzugsweise kleiner als 100 µm und liegt beispielsweise bei 10 µm bis 30 µm. Im Übrigen gelten die weiteren, bei der Schilderung des Herstellungsverfahrens gemachten Ausführungen auch für das mit diesem Verfahren hergestellte Sicherheitselement.
  • Weitere Ausführungsbeispiele sowie Vorteile der Erfindung werden nachfolgend anhand der Figuren erläutert, bei deren Darstellung auf eine maßstabs- und proportionsgetreue Wiedergabe verzichtet wurde, um die Anschaulichkeit zu erhöhen.
  • Es zeigen:
  • Fig. 1
    eine schematische Darstellung einer Banknote mit einem erfindungsgemäß hergestellten Sicherheitselement in Form eines Folienpatches mit einem Reliefmotiv,
    Fig. 2
    einen Detailausschnitt des Reliefmotivs der Fig. 1 in Aufsicht,
    Fig. 3
    einen Querschnitt des Detailausschnitts der Fig. 2 entlang der Linie III-III, und
    Fig. 4
    in (a) bis (d) jeweils den Detailausschnitt der Figuren 2 und 3 bei Zwischenschritten des Herstellungsprozesses.
  • Die Erfindung wird nun am Beispiel von Sicherheitselementen für Banknoten und andere Wertdokumente erläutert. Figur 1 zeigt dazu eine schematische Darstellung einer Banknote 10, die mit einem erfindungsgemäß hergestellten Sicherheitselement in Form eines Folienpatches 12 versehen ist. Die Erfindung ist allerdings nicht auf die Herstellung des zur Illustration gezeigten Transferelement bei Banknoten beschränkt, sondern kann beispielsweise auch bei Sicherheitsfäden, breiten Sicherheitsstreifen oder Abdeckfolien eingesetzt werden, die über einem opaken Bereich, einem Fensterbereich oder einer durchgehenden Öffnung eines beliebigen Datenträgers angeordnet sind.
  • Der Folienpatch 12 zeigt ein metallisiertes, sich für den Betrachter aus der x-y-Ebene des Sicherheitselements herauswölbendes, dreidimensionales Reliefmotiv 14, das beispielsweise in Form eines Portraits, eines architektonischen oder technischen Motivs oder eines Naturmotivs ausgebildet sein kann. Das Reliefmotiv 14 enthält neben metallisierten Teilbereichen auch demetallisierte Teilbereiche, die einerseits gestalterische Funktion innerhalb des Bildmotivs haben, andererseits aber auch informationstragende Funktion übernehmen und beispielsweise eine Negativschrift darstellen können. Werden die demetallisierte Teilbereiche herkömmlich durch den Aufdruck von Waschfarbe und einen Auswaschschritt nach der Metallisierung erzeugt, können nur relativ großflächige Teilbereiche mit kleinsten Abmessung von 1 mm oder einer Linienstärke von 100µm oder mehr eingebracht werden. Zur näheren Erläuterung der erfindungsgemäßen Besonderheit zeigen Figuren 2 und 3 einen Detailausschnitt 16 des Reliefmotivs 14, wobei Fig. 2 eine Aufsicht und Fig. 3 einen Querschnitt entlang der Linie III-III der Fig. 2 darstellt. Der Detailausschnitt könnte einen Knopf, eine Schulterklappe oder (an anderer Stelle des Motivs) beispielsweise ein Auge darstellen. Der Detailausschnitt 16 des Reliefmotivs 14 enthält einen metallisierten Reliefbereich 20 mit Teilbereichen 22, 24, einen großflächigen demetallisierten Bereich 26 und einem schmalen, demetallisierten Streifen 28, der die beiden metallisierten Teilbereiche 22, 24 des Reliefbereichs 20 voneinander trennt.
  • Wie am besten im Querschnitt der Fig. 3 zu erkennen, weist die Reliefstruktur der Teilbereiche 22, 24 eine Vielzahl geneigter, kleiner Mikrospiegel 30 auf, die aufgrund ihrer Metallisierung einfallendes Licht effizient in eine vorgegebene Richtung reflektieren. Durch ihre Ausrichtung erzeugen die Mikrospiegel 30 für den Betrachter den Eindruck eines vorbestimmten dreidimensionalen Reliefmotivs 14, beispielsweise des Portraits der Fig. 1.
  • Der die beiden Teilbereiche 22, 24 voneinander trennende demetallisierte Streifen 28 ist sehr filigran und weist im Ausführungsbeispiel eine Breite von nur 50 µm auf. Der Streifen 28 ist im Gegensatz zu den Teilbereichen 22, 24, in denen die geneigten Mikrospiegel 30 Erhebungen und Vertiefungen bilden, als Flachbereich 38 ohne Erhebungen und Vertiefungen ausgebildet.
  • Trotz seiner geringen Breite ist der demetallisierte Flachbereich 38 in perfektem Passer zu den metallisierten Reliefbereichen 22, 24 angeordnet. Wie oben erläutert, lassen sich mit einem herkömmlichen Druck von Waschfarbe keine derart schmalen demetallisierten Strukturen erzeugen. Das erfindungsgemäße Verfahren beruht auf der überraschenden Erkenntnis der Erfinder, dass der im Tiefdruck prozesstechnisch unvermeidliche Tonungsfilm gezielt eingesetzt und genutzt werden kann, um in einfacher und zuverlässiger Weise filigrane, exakt gepasserte demetallisierte Strukturen 28 innerhalb von metallisierten Reliefstrukturen 22, 24 zu erzeugen.
  • Das erfindungsgemäße Prinzip wird nun mit Bezug auf Fig. 4 anhand der Herstellung des Sicherheitselements 12 der Fig. 1 näher beschrieben, wobei (a) bis (d) jeweils den Detailausschnitt 16 der Figuren 2 und 3 bei Zwischenschritten des Herstellungsprozesses zeigen.
  • Mit Bezug zunächst auf Fig. 4(a) wird auf eine Trägerfolie 40 eine Prägelackschicht 42 aufgebracht und die gewünschte Reliefstruktur mit der Anordnung von Mikrospiegeln 30 in die Prägelackschicht 42 eingeprägt. Im Detailausschnitt 16 ist die Reliefstruktur in einem Reliefbereich mit zwei Teilbereichen 32, 34 vorgesehen, deren Form und Größe gerade der Form und Größe der zu metallisierenden Bereiche 22, 24 (Fig. 2) entspricht.
  • Die Mikrospiegel 30 bilden dabei Erhebungen und Vertiefungen in der Prägelackschicht 42, welche im Ausführungsbeispiel eine Strukturbreite von etwa 10 µm und, abhängig vom Neigungswinkel der Mikrospiegel 30, eine Strukturhöhe von bis zu etwa 8 µm aufweisen.
  • Die beiden Teilbereiche 32, 34 sind voneinander durch einen schmalen Flachbereich 38 getrennt, in dem keine Mikrospiegel oder andere Erhebungen oder Vertiefungen vorliegen. Außerhalb der Teilbereiche 32, 34 ist ein großflächiger Demetallisierungsbereich 36 vorgesehen, in dem im fertigen Sicherheitselement 12 ebenfalls keine Metallisierung vorliegen soll.
  • Während der großflächige Demetallisierungsbereich 36 eine kleinste Abmessung von mehr als 1 mm aufweist und daher durch den Aufdruck von Waschfarbe und einen nachfolgenden Waschschritt in herkömmlicher Weise demetallisiert werden kann, ist dies für den schmalen Flachbereich 38 nicht möglich, da Waschfarbe weder mit einer so geringen Strichstärke noch mit der erforderlichen Genauigkeit relativ zu den höhenstrukturierten Teilbereichen 32, 34 aufgebracht werden kann.
  • Um dennoch die gewünschte hochgenaue Demetallisierung im Flachbereich 38 zu erreichen, wird Waschfarbe im Tiefdruckverfahren nur auf die Demetallisierungsbereiche 36 und andere großflächige Demetallisierungsbereiche des Trägers 40, 42 aufgedruckt und dabei gezielt die normalerweise unerwünschte Tonung ausgenutzt. Die Erfinder haben nämlich überraschend gefunden, dass der in den nominell unbedruckten Flächenbereichen 32, 34, 38 unvermeidliche Tonungsfilm in den Flachbereichen 38 und in den höhenstrukturierten Bereichen 32, 34 unterschiedliche Auswirkungen auf die spätere Demetallisierung hat: Während der dünne Tonungsfilm der Waschfarbe in den schmalen Flachbereichen 38 zu einer weitgehenden oder sogar vollständigen Demetallisierung führt, findet in den höhenstrukturierten Bereichen 32, 34 trotz der Tonung keine Demetallisierung statt.
  • Ohne an eine bestimmte Erklärung gebunden sein zu wollen wird dieses Phänomen gegenwärtig wie folgt verstanden: Mit Bezug auf Fig. 4(b) wird die Waschfarbe 44 in den großflächigen Demetallisierungsbereichen 36 in einer für eine sicherere Demetallisierung ausreichenden Schichtdicke d aufgedruckt. In den Bereiche 32, 34, 38, die nominell unbedruckte Flächenbereiche darstellen, entsteht dabei durch die im Tiefdruck unvermeidliche Tonung ein dünner Tonungsfilm 46, 48.
  • Dieser dünne Tonungsfilm 48 bildet nun in den Flachbereichen 38 eine im Wesentlichen durchgehende dünne Waschfarbenschicht. In den höhenstrukturierten Bereichen 32, 34 wirken dagegen die Erhebungen und Vertiefungen der Mikrospiegel 30 als kleine Abstandhalter zum farbführenden Tiefdruckzylinder, so dass dieser nur mit den Spitzen der Mikrospiegel 30 in Kontakt kommt und nur auf diese Waschfarbe 46 überträgt. In den höhenstrukturierten Bereichen 32, 34 entsteht dadurch ein nicht-zusammenhängender Tonungsfilm mit einer wesentlich geringeren Flächendichte, wie in Fig. 4(b) schematisch illustriert. Die Flächendichte des übertragenen Tonungsfilms 46 kann einerseits durch die Form der Erhebungen, andererseits aber auch durch die Eigenschaften der Waschfarbe und die Prozessbedingungen beim Druckvorgang gezielt beeinflusst werden. Beispielsweise kann die Kontaktfläche der höhenstrukturierten Bereiche mit dem Tiefdruckzylinder durch spitz ausgebildete Erhebungen sehr klein gehalten werden. Die Tonung der Waschfarbe kann durch die Pigmentierung der Waschfarbe, die Wahl des Bindemittels oder auch durch die Elektrostatik beim Druckvorgang beeinflusst werden.
  • Anschließend wird der mit Waschfarbe 44, 46, 48 versehene Träger 40, 42 in üblicher Weise vollflächig mit einer Metallschicht 50 versehen, die sowohl die Demetallisierungsbereiche 36 als auch die Flachbereiche 38 und die höhenstrukturierten Mikrospiegel-Bereiche 32, 34 bedeckt, wie in Fig. 4(c) dargestellt. Als Metallschicht 50 kommen dabei einfache Metallisierungen aus Al, Cr, Cu und dergleichen, aber auch Mehrschichtaufbauten mit einer oder mehreren Metallschichten in Betracht.
  • Mit Bezug auf Fig. 4(d) wird der metallisierte Träger schließlich einem Auswaschschritt mit einem Lösungsmittel, beispielsweise Wasser, unterworfen, bei dem die Waschfarbe 44 mit der Metallisierung 50 in den Demetallisierungsbereichen 36 vollständig, und in den Flachbereichen 38 weitgehend oder ebenfalls vollständig entfernt wird. Dagegen bleibt die Metallisierung in den höhenstrukturierten Bereichen 32, 34 erhalten und bildet die gewünschten metallisierten Bereiche 22, 24, da die Flächendichte und der Zusammenhalt der Waschfarbenschicht 46 dort für eine Demetallisierung nicht ausreichen. Auf diese Weise entsteht neben der großflächigen Demetallisierung in den Bereichen 36 auch die gewünschte passergenaue filigrane Demetallisierung des Flachbereichs 38.
  • Da die normalerweise unerwünschte Tonung der Waschfarbe bei der erfindungsgemäßen Vorgehensweise vorteilhaft ist, kann die Tonung gezielt soweit erhöht werden, dass die Demetallisierung im Flachbereich 38 gefördert wird, ohne jedoch eine unerwünschte Demetallisierung in den höhenstrukturierten Bereichen 32, 34 zu erzeugen. Weiter ist die Demetallisierung im Flachbereich 38 zwar vorzugsweise vollständig, dies ist jedoch für viele Anwendungen nicht zwingend erforderlich, da kleine Metallreste in den schmalen Flachbereichen 38 zwischen den reflektierenden Bereichen 22, 24 kaum auffallen. Die trennende Wirkung der Streifen 28 tritt bereits dann auf, wenn die Metallisierung der Flachbereiche weitgehend, also beispielsweise zu 70% oder mehr, entfernt ist.
  • Bezugszeichenliste
  • 10
    Banknote
    12
    Folienpatch
    14
    Reliefmotiv
    16
    Detailausschnitt
    20
    metallisierter Reliefbereich
    22, 24
    Teilbereiche
    26
    großflächiger demetallisierter Bereich
    28
    schmaler demetallisierter Streifen
    30
    Mikrospiegel
    32, 34
    Teilbereiche des Reliefbereichs
    36
    großflächiger Demetallisierungsbereich
    38
    Flachbereich
    40
    Trägerfolie
    42
    Prägelackschicht
    44
    Waschfarbe
    46, 48
    Tonungsfilm
    50
    Metallschicht

Claims (13)

  1. Verfahren zum Herstellen eines Sicherheitselements mit einem metallisierten Reliefbereich (20) und einem dazu gepasserten, schmalen, demetallisierten Flachbereich (28), bei dem
    R) ein Träger (40) so mit einer Reliefstruktur mit Erhebungen und Vertiefungen versehen wird, dass ein Reliefbereich (30) und ein dazu gepasserter schmaler Flachbereich (38) ohne Erhebungen und Vertiefungen gebildet werden, wobei der Flachbereich (28) zumindest zwei Teilbereiche (32,34) des Reliefbereichs (30) voneinander trennt,
    W) für den Träger (40) im Reliefbereich (30) und im Flachbereich (38) eine Waschfarbenschicht (46, 48) geringer Schichtdicke bereitgestellt und auf den Träger (40) aufgebracht wird,
    M) der mit Waschfarbe versehene Träger zumindest im Reliefbereich (30) und Flachbereich (38) metallisiert wird, und
    A) der metallisierte Träger einem Auswaschschritt mit einem Lösungsmittel unterworfen wird, bei dem in dem Flachbereich (38) die Waschfarbe (48) zusammen mit der darüberliegenden Metallisierung (50) entfernt und der Flachbereich dadurch demetallisiert wird, während die Metallisierung (50) im Reliefbereich (30) auf dem Träger (40) verbleibt und den metallisierten Reliefbereich (20) bildet.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass in Schritt W) die Waschfarbenschicht (48) geringer Schichtdicke im Reliefbereich (30) selektiv nur auf die Erhebungen der Reliefstruktur aufgebracht wird, bevorzugt auf die oberen 20%, insbesondere auf die oberen 10% der Erhebungen.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass in Schritt R) ein schmaler Flachbereich (38) mit einer Breite unterhalb von 1000 µm gebildet wird, vorzugsweise ein Flachbereich (38) mit einer Breite zwischen 10 µm und 1000 µm.
  4. Verfahren nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Erhebungen und Vertiefungen der Reliefstruktur Strukturelemente mit einer Höhe von mehr als 0,5 µm, vorzugsweise von mehr als 1 µm bilden.
  5. Verfahren nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Reliefstruktur mit spitzen Erhebungen, insbesondere in Form von Prismen oder von drei-, vier- oder mehrseitigen Pyramiden ausgebildet ist.
  6. Verfahren nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Reliefstruktur eine Prägestruktur ist.
  7. Verfahren nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Reliefstruktur eine Mikrospiegelanordnung, ein Blazegitter mit einem sägezahnartigen Furchenprofil, eine Fresnellinsen-Anordnung, oder eine diffraktive Struktur, wie etwa ein Hologramm, ein holographisches Gitterbild oder eine hologrammähnliche Beugungsstruktur ist.
  8. Verfahren nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Waschfarbenschicht (48) geringer Schichtdicke im Schritt W) als Tonung in einem Tiefdruckschritt auf den Reliefbereich (30) und den Flachbereich (38) aufgebracht wird.
  9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Tiefdruckschritt gleichzeitig in einem Demetallisierungsbereich Waschfarbe (44) mit normaler Schichtdicke aufgebracht wird, dass in Schritt M) auch der Demetallisierungsbereich (36) metallisiert wird, und dass in Schritt A) in dem Demetallisierungsbereich (36) die Waschfarbe (44) normaler Schichtdicke zusammen mit der darüberliegenden Metallisierung (50) entfernt und der Demetallisierungsbereich (36) dadurch demetallisiert wird.
  10. Verfahren nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Waschfarbenschicht (48) geringer Schichtdicke im Schritt W) als ultradünne Farbschicht in einem Flexodruckschritt auf den Reliefbereich (30) und den Flachbereich (38) aufgebracht wird.
  11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Flexodruckschritt gleichzeitig in einem Demetallisierungsbereich (36) Waschfarbe (44) mit normaler Schichtdicke aufgebracht wird, dass in Schritt M) auch der Demetallisierungsbereich (36) metallisiert wird, und dass in Schritt A) in dem Demetallisierungsbereich (36) die Waschfarbe (44) normaler Schichtdicke zusammen mit der darüberliegenden Metallisierung (50) entfernt und der Demetallisierungsbereich (36) dadurch demetallisiert wird.
  12. Verfahren nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Waschfarbe in einer Lösungsmittelatmosphäre aufgebracht wird.
  13. Verfahren nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Metallisierung (50) durch eine Einzelmetallschicht, vorzugsweise mit einer Dicke zwischen 5 nm und 100 nm, oder durch eine oder mehrere Metallschichten in einem Mehrschichtaufbau gebildet ist, der insbesondere auch nicht-metallische Schichten umfassen kann.
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