EP2588641A2 - Procede de traitement de surface d'un dispositif de distribution de produit fluide - Google Patents
Procede de traitement de surface d'un dispositif de distribution de produit fluideInfo
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- EP2588641A2 EP2588641A2 EP11741628.9A EP11741628A EP2588641A2 EP 2588641 A2 EP2588641 A2 EP 2588641A2 EP 11741628 A EP11741628 A EP 11741628A EP 2588641 A2 EP2588641 A2 EP 2588641A2
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- A61M2205/02—General characteristics of the apparatus characterised by a particular materials
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Definitions
- the present invention relates to a surface treatment method for fluid dispensing devices.
- Dispensing devices for fluid products are well known. They may comprise one or more reservoirs, a dispensing member, such as a pump, a valve or a piston displaceable in the reservoir, and a dispensing head provided with a dispensing orifice. These dispensing devices generally comprise component parts made of various materials.
- the tank may be of plastic or synthetic material, glass or metal.
- Various parts, such as pistons or seals may be made of flexible plastic materials, such as elastomers.
- Other parts are generally metallic, for example crimping capsules, springs or balls forming a valve.
- these interactions may include releasing molecules of these materials into the fluid product. For example, these interactions can degrade certain active ingredients, such as hormones, peptides or enzymes, especially in nasal spray devices.
- the present invention aims to provide a surface treatment method that avoids the aforementioned drawbacks.
- the present invention aims to provide a surface treatment method that is effective, durable, non-polluting and simple to achieve.
- the subject of the invention is in particular a method for treating a polymer part with multicharged and multi-energy ions belonging to the list consisting of helium (He), nitrogen (N), oxygen (O), neon (Ne), argon (Ar), krypton (Kr), xenon (Xe), this polymer part forming part of a fluid dispensing device, in particular pharmaceutical.
- multicharged and multi-energy ions belonging to the list consisting of helium (He), nitrogen (N), oxygen (O), neon (Ne), argon (Ar), krypton (Kr), xenon (Xe), this polymer part forming part of a fluid dispensing device, in particular pharmaceutical.
- the antistatic effect a lowering of the surface resistivity for a few weeks or a few months may be sufficient.
- the dissipation of electrostatic charges it is obtained with dissipative materials and conductors which prevent electric discharges and dissipate the charges resulting from movements at high speed.
- Electromagnetic shielding materials with very low volume resistivity ( ⁇ 1 ohm cm) are required. Standards must be respected to limit the electromagnetic emissions of manufactured products.
- the conductivity can be obtained by different ways:
- non-permanent additives such as fatty amine esters or quaternary amines. These substances, incorporated into a polymer matrix, migrate to the surface and react with the humidity of the air. In forming a wet film on the surface, they reduce the surface resistivity to about 10 14 ⁇ / ⁇ .
- Adhesion is an important phenomenon in the case of polymers which results for example in the bonding of active product on a surface. This adhesion results from the contribution of the Van Der Walls forces produced by the polarity of the molecules located on the surface of the polymer and by the electrostatic forces induced by the very high surface resistivity.
- polymer parts In addition to bonding problems, polymer parts often have to operate in more or less aggressive chemical environments, with ambient humidity, ambient oxygen, etc., which can lead to an increase in their electrical insulating properties by oxidation.
- Some polymers are loaded with chemical agents that protect against UV rays and oxidation.
- the rejection of these chemical agents to the outside has the effect of accelerating the surface oxidation which in turn reinforces the insulating nature of the polymer.
- the aim of the invention is to reduce the aforementioned drawbacks and in particular to allow a sharp reduction in the surface resistivity of a solid polymer part while retaining in the mass its elastic properties and avoiding the use of chemical agents which are detrimental to health.
- the subject of the invention is therefore a process for treating at least one surface of a massive piece of polymer with ions.
- the inventors have for example found that the simultaneous presence of He + and He 2+ ions makes it possible to very significantly improve the surface antistatic properties of the polymers compared with known treatments where only He + or He 2 ions are used. + are implanted. They were able to show that a significant improvement was obtained for RHe less than or equal to 100, for example less than or equal to 20.
- the invention makes it possible to reduce the surface resistivity of a piece of solid polymer, and / or to eliminate the bonding of the dust or even to reduce the polarization of the surface by eliminating strongly polarized chemical groups such as OH, COOH. These functional groups can induce Van der Walls forces which have the effect of sticking ambient chemical molecules to the surface of the polymer.
- the invention also makes it possible to increase the chemical stability of the polymer by creating, for example, a permeation barrier.
- a permeation barrier can slow the propagation of ambient oxygen in the polymer, and / or delay the diffusion of chemical protective agents contained in the polymer to the outside, and / or inhibit the release of toxic agents contained in the polymer. outwards.
- solid means a polymer part produced by mechanical or physical transformation of a block of material, for example by extrusion, molding or any other technique adapted to transform a polymer block.
- PET Polyethylene terephthalate
- the process is low energy, inexpensive and allows its use in an industrial setting without any environmental impact.
- the treatment of a polymer part is performed by simultaneous implantation of multicharged multi-energy ions.
- the latter are obtained in particular by extracting with single and single extraction voltage mono- and multi-charged ions created in the plasma chamber of an ion source with electronic cydotron resonance (source RCE).
- source RCE electronic cydotron resonance
- Each ion produced by said source has an energy that is proportional to its state of charge.
- the ions with the highest charge state therefore the highest energy, are implanted in the polymer part at greater depths.
- An implementation with an ECR source is fast and inexpensive since it does not require a high extraction voltage of the ion source. Indeed, to increase the implantation energy of an ion, it is economically preferable to increase its state of charge rather than increase its extraction voltage. It should be noted that the use of a conventional source, such as sources for implanting plasma immersion ions or filament implants, does not make it possible to obtain a beam suitable for simultaneous implantation. multi-energy ions X + and X 2+ , where the ratio RX is less than or equal to 100. With such sources, it is instead on the contrary generally greater than or equal to 1000.
- the source is an electron cyclotron resonance source producing multi-energy ions which are implanted in the room at a temperature below 50 ° C and the implantation of ions of the implantation beam. is performed simultaneously at a depth controlled by the extraction voltage of the source.
- the ions excite during their passage the electrons of the polymer causing splits of covalent bonds which recombine immediately to generate, by a mechanism said crosslinking, a high density of covalent chemical bonds mainly consisting of carbons.
- Lighter elements such as hydrogen and oxygen are removed from the polymer during degassing.
- This densification in carbon-rich covalent bonds has the effect of superficially increasing the conductivity and reducing or even eliminating the superficial polar groups at the origin of the Van der Walls forces at the origin of the bonding.
- the crosslinking process is all the more effective as the ion is light.
- N nitrogen
- O oxygen
- Ne neon
- Ne argon
- Kr krypton
- Xe xenon
- a preferred mode consists, for example, in combining:
- the extraction voltage of the source enabling implantation of the multi-energy ions He + and He 2+ is between 10 and 400 kV, for example greater than or equal to 20 kV and / or less than or equal to 100 kV;
- the dose of multi-energy ion He + and He 2+ is between 5.10 14 and 10 18 ions / cm 2 , for example greater than or equal to 10 15 ions / cm 2 and / or less than or equal to 5.10 17 ions / cm 2 , or even greater than or equal to 5.10 15 ions / cm 2 and / or less than or equal to 10 17 ions / cm 2 ;
- the variation of a characteristic property of the evolution of the surface of a solid piece of polymer is determined, for example the surface resistivity of the polymer of a polymeric material representative of that of the piece to be treated; based on doses of multi-energy ions He + and He 2+ so as to determine a range of ion doses where the variation of the characteristic property chosen is advantageous and evolves in a differentiated manner in three consecutive zones of doses of ions forming said ion dose domain, with an evolution in the first substantially linear zone and reversible over a period of less than one month, an evolution in the second zone substantially linear and stable over a period of time greater than one month; the third constant and stable zone lasting more than one month and where the He + multi-energy ion dose is chosen and He in the third ion dose zone to treat the massive piece of polymer; reversible evolution (first zone) means that the resistivity decreases and then rises to recover its original value. This phenomenon is due to the persistence of free radicals after implantation which
- Parameters of the source and displacement of the surface of the polymer part to be treated are adjusted so that the surface speed of treatment of the surface of the polymer part to be treated is between 0.5 cm 2 / s and 1000 cm 2 / s, for example greater than or equal to
- parameters of the source and displacement of the surface of the polymer part to be treated are adjusted so that the dose of implanted helium is between 5.10 14 and 10 18 ions / cm 2 , for example greater than or equal to at 5.10 15 ions / cm 2 and / or less than or equal to 10 17 ions / cm 2 ;
- parameters of the source and displacement of the surface of the polymer part to be treated are adjusted so that the depth of penetration of the helium on the surface of the treated polymer part is between 0.05 and 3 ⁇ , for example greater than or equal to 0.1 ⁇ and / or less than or equal to 2 ⁇ ;
- the parameters of the source and the displacement of the surface of the polymer part to be treated are adjusted so that the temperature of the surface of the polymer part being treated is less than or equal to 100.degree. example less than or equal to 50 ° C;
- the polymer part is for example a profiled strip, and said piece scrolls in a processing device, for example at a speed between 5 m / min and 100 m / min; for example, the polymer part is a profiled strip which scrolls longitudinally;
- the helium implantation of the surface of the workpiece is carried out by means of a plurality of He + and He 2+ multi-energy ion beams produced by a plurality of ion sources; for example, ion sources are arranged along a direction of movement of the workpiece; preferably the sources are spaced so that the distance between two ion beams is sufficient to allow the part to cool between successive ion implantation; said sources produce ion beams whose diameter is adapted to the width of the tracks to be treated.
- the polymer of the part is chosen from polycarbonates, polyethylenes, polyethylene terephthalates, polyamides, polymethylacrylates and polypropylenes.
- the list is not exhaustive. Other types of polymer are conceivable given the generic nature of the crosslinking process.
- the invention also relates to a part where the thickness where the helium is implanted is greater than or equal to 50 nm, for example greater than or equal to 200 nm and whose surface resistivity p, is less than or equal to 10 14 ⁇ / ⁇ , for example less than or equal to 10 9 ⁇ / ⁇ , or even less than or equal to 10 5 ⁇ / ⁇ .
- surface resistivity refer to the IEC 60093 standard.
- the subject of the present invention is therefore a method for surface treatment of a fluid product dispensing device, said method comprising the step of modifying by ion implantation, by means of multicharged and multi-energy ion beams, at least a surface to be treated with at least a portion of said device in contact with said fluid product, said modified treatment surface having barrier properties preventing interactions between said fluid product and said modified treatment surface, said multicharged ions being selected from helium (He), nitrogen (N), oxygen (O), neon (Ne), argon (Ar), krypton (Kr), xenon (Xe), ion implantation being carried out at a depth of 0 to 3 ⁇ .
- FIG. 1 represents an example of helium implantation distribution according to the invention in a polycarbonate
- FIG. 2 shows the scales according to different standards describing the electrostatic properties of a material
- FIG. 3 represents the variation of the surface resistivity of the surface of a polycarbonate sample treated according to the invention, as a function of time, for a plurality of doses of helium; the surface resistivity was measured according to the IEC 60093 standard, by implementing an electrode consisting of a disc of diameter d, surrounded by a ring of internal diameter D where D is greater than d;
- FIG. 4 represents the variation of the surface resistivity of the surface of a polycarbonate sample treated according to the invention, as a function of time, for three types of He, N, Ar ions in a plurality of doses; surface resistivity was measured according to IEC 60093; and
- FIG. 5 represents the variation of the surface resistivity of the surface of a treated polycarbonate sample according to the invention, as a function of time, for a plurality of nitrogen doses but according to two speeds of beam displacement; the surface resistivity was measured according to the IEC 60093 standard.
- the present invention provides for the use of a method similar to that described in document WO 2005/085491, which concerns an ion implantation process, and more particularly the use of a multicharged multi-energy ion beam in order to to structurally modify the surface of metallic materials on depths around the ⁇ to give them particular physical properties.
- This implantation method has in particular been used to treat parts made of aluminum alloy which are used as molds for series production of plastic parts.
- the surfaces to be treated may be metal, glass, elastomer, but also synthetic, such as hard plastics or soft plastics, comprising for example polyethylene (PE) and / or polypropylene (PP) and / or polychloride vinyl (PVC) and / or polytetrafluoroethylene (PTFE).
- PE polyethylene
- PP polypropylene
- PVC polychloride vinyl
- PTFE polytetrafluoroethylene
- the method consists in using one or more ion sources, such as an electron cyclotron resonance source, referred to as ECR source.
- ECR source can deliver an initial beam of multi-energy ions, for example having a total current of about 10 mA (all loads combined), under an extraction voltage that can vary from 20 kV to 200 kV.
- the RCE source emits the ion beam towards adjustment means which focus and adjust the initial beam emitted by the ECR source into an ion implantation beam that strikes a workpiece.
- the ions can be selected from helium, boron, carbon, nitrogen, oxygen, neon, argon, krypton and xenon.
- the maximum temperature of the workpiece varies depending on its nature.
- the typical implantation depth is between 0 and 3 ⁇ , and depends not only on the surface to be treated, but also on the properties that one wishes to improve.
- RCE ions The specificity of a source of RCE ions lies notably in the fact that it delivers mono- and multicharged ions, which makes it possible to simultaneously implant multi-energy ions with the same extraction voltage. It is thus possible to obtain simultaneously, over the entire thickness treated, a better distributed implantation profile. This improves the quality of the surface treatment.
- the process is carried out in a vacuum chamber using a vacuum pump.
- This vacuum is intended in particular to prevent the beam from being intercepted by residual gases and to prevent contamination of the surface of the part by these same gases during implantation.
- the adjustment means mentioned above can comprise, from the ECR source to the part to be treated, the following elements:
- a mass spectrometer able to filter the ions according to their charge and their mass.
- a spectrometer is however optional if a pure gas is injected, for example a pure nitrogen gas (N2). It is then possible to recover all the mono- and multicharged ions produced by the source to obtain a multi-energy ion beam.
- N2 pure nitrogen gas
- one or more lenses for giving the ion beam a predetermined shape, for example a cylindrical shape, with a predetermined radius.
- a profiler for analyzing, during the first implantation, the intensity of the beam in a perpendicular section plane.
- an intensity transformer for continuously measuring the intensity of the ion beam without intercepting it.
- One of the functions of this instrument is to detect any interruption of the ion beam and to allow the recording of beam intensity variations during the treatment.
- a shutter which may for example be a Faraday cage, for interrupting the trajectory of the ions at certain times, for example during a displacement without treatment of the part.
- the workpiece is movable relative to the ECR source.
- the piece can for example be mounted on a movable support whose movement can be controlled by a numerically controlled machine.
- the displacement of the workpiece is calculated according to the radius of the beam, the external and internal contours of the zones to be treated, the constant or variable speed of movement as a function of the angle of the beam relative to the surface and the number previously completed.
- One possible implementation of the treatment method is as follows.
- the workpiece is fixed on a suitable support in an enclosure, then the enclosure is closed and a high vacuum is introduced by means of a vacuum pump.
- a vacuum pump As soon as the vacuum conditions are reached, the production and adjustment of the ion beam is carried out.
- the shutter When said beam is adjusted, the shutter is raised and the numerically controlled machine is actuated, which then performs the displacement in position and speed of the workpiece in front of the beam in one or more passes.
- the shutter is lowered to cut the beam, the production of the beam is stopped, the vacuum is broken by opening the chamber to the ambient air, the cooling circuit is eventually stopped and take the treated part out of the enclosure.
- the ratio RHe is less than or equal to 100, for example less than 20, and preferably greater than 1.
- the He + and He2 + ions are advantageously produced simultaneously by an ECR source.
- the extraction voltage of the source allowing implantation of the multi-energy ions He + and He + 2 can be between 10 and 400 kV, for example greater than or equal to 20 kV and / or less than or equal to 100 kV.
- the multi-energy ion He + and He2 + dose is between 1014 and 1018 ions / cm 2 , for example greater than or equal to 1015 ions / cm 2 and / or less than or equal to 1017 ions / cm 2 , or even greater or equal to 1015 ions / cm 2 and / or less than or equal to 1016 ions / cm 2 .
- the implantation depth is advantageously between 0.05 and 3 ⁇ , for example between 0.1 and 2 ⁇ .
- the temperature of the elastomeric surface being treated is advantageously less than 100 ° C., preferably less than 50 ° C.
- different ion implantations are performed on the same surface to be treated, to give several properties to this surface to be treated.
- the fluid product may be likely to stick to a surface with which it is in contact, which may in particular have a detrimental effect on the reproducibility of the dispensed dose.
- the invention advantageously provides to modify the surface to prevent sticking of the fluid product on the surface to be treated.
- some parts move relative to others, and blockages due to friction are likely to hinder the proper operation of the device.
- the invention advantageously provides for modifying the surface to be treated in order to limit the friction between two component parts that move relative to each other during actuation.
- These additional surface treatments can be applied during successive ion implantation steps. It should be noted that the order of these successive steps of ion implantation can be any.
- the different properties could also be granted to the same surface to be treated in a single ion implantation step.
- the method of the invention is non-polluting, especially since it does not require chemicals. It is carried out dry, which avoids the relatively long drying periods of the liquid treatment processes. It does not require a sterile atmosphere outside the vacuum chamber, and so it can be done at any desired location.
- a particular advantage of this method is that it can be integrated into the assembly line of the fluid dispenser device, and operate continuously in this chain. This integration of the treatment process with the production tool simplifies and accelerates the manufacturing and assembly process as a whole, and therefore positively impacts its cost.
- the present invention is applicable to multidose devices, such as pump or valve devices mounted on a reservoir and operated for the successive delivery of doses. For example, it applies to the treatment of internal surfaces of the tanks or cans containing the pharmaceutical fluid product. It also applies to multi-dose devices comprising a plurality of individual reservoirs each containing a dose of fluid, such as pre-dosed powder inhalers. For example, it applies to the treatment of blisters or capsules used in pharmaceutical dry powder inhalers. It also applies to single-dose or bidose devices, in which a piston moves directly into a reservoir each time it is actuated.
- the invention is particularly applicable to nasal or oral spray devices, ophthalmic dispensing devices and syringe-type needle devices.
- FIGS 1 to 5 illustrate advantageous embodiments of the invention.
- FIG. 1 represents a schematic example of helium implantation distribution as a function of the depth according to the invention, in a polycarbonate.
- Curve 101 corresponds to the distribution of He + and curve 102 corresponds to that of He 2+ .
- He 2+ travels an average distance of about 800 nm for an average ionization energy of 10 eV / Angstrom.
- He + travels an average distance of about 500 nm for an average ionization energy of 4 eV / Angstrom.
- the ionization energy of an ion is related to its crosslinking power.
- FIG. 2 represents, according to the DOD HDBK 263 standard, the resistivity values qualifying the electrostatic properties of a material.
- a polymer has insulating properties for surface resistivity values greater than 10 14 ⁇ / ⁇ (ZONE I), antistatic properties for surface resistivity values of between 10 14 ⁇ / ⁇ and 10 9 ⁇ / ⁇ (zone A) .
- the electrostatic dissipative properties appear for surface resistivity values between 10 5 ⁇ / ⁇ and 10 9 ⁇ / ⁇ (zone D) and conductive properties for values below 10 5 ⁇ / ⁇ (zone C).
- the resistivity measurement was carried out according to IEC 60093.
- the resistivity measurement technique used does not make it possible to measure resistivities greater than 10 15 ⁇ / ⁇ corresponding to the zone N, it saturates at 10 15 ⁇ / ⁇ .
- the abscissa axis corresponds to the time separating the treatment of the sample to the measurement of its surface resistivity.
- the ordinate axis corresponds to the measurement of the surface resistivity expressed in ⁇ / ⁇ .
- a first zone is distinguished for doses less than or equal to 10 15 ions / cm 2 , the resistivity superficial decreases for less than a month by about 3 orders of magnitude (passing 1, 5.10 16 ⁇ / ⁇ to 5.10 12 ⁇ / ⁇ ) before recovering its original value around 1, 5.10 16 ⁇ / ⁇ (curve 1).
- the antistatic properties are ephemeral, the free radicals still present recombine with the oxygen and the ambient air.
- the antistatic properties (curve 2 and 3) strengthen to become dissipative of electrostatic charges (curve 4).
- the resistivities remain constant over more than 140 days.
- doses greater than 2.5 ⁇ 10 16 ions / cm 2 a third zone is reached where the resistivity evolution saturates as a function of the dose around a value which is estimated at 10 8 ⁇ / ⁇ and remains stable over time for more than 140 days.
- the beam has a diameter of 15 mm and an intensity of
- the extraction voltage is approximately 35 kV.
- the abscissa represents dose in ions per unit area expressed in October 15 ions / cm 2.
- the ordinate axis represents the surface resistivity expressed in ⁇ / ⁇ .
- the resistivity measurement was carried out according to the standard IEC 60093. For the same dose the heavier ions are the most effective for reducing the surface resistivity, the PC treated with nitrogen at a surface resistivity at least 10 times lower than that of the PC treated with helium, the PC treated with argon at a surface resistivity at least 10 times lower than that of the PC treated with nitrogen and 100 times lower than that of the PC treated with 'helium.
- the beam has a diameter of 15 mm and an intensity of 0.150 mA, the extraction voltage is about 35 kV.
- the abscissa represents dose in ions per unit area expressed in October 15 ions / cm 2.
- the ordinate axis represents the surface resistivity expressed in ⁇ / ⁇ .
- the resistivity measurement was carried out according to IEC 60093. From these curves, it appears that the reduction in speed by a factor of 2 has the effect of reducing by a factor of 10 the surface resistivity of the PC. Without wishing to be bound by any scientific theory, it may be thought that reducing the speed of the beam increases the surface temperature of the PC. This temperature strongly favors the recombination of the free radicals with each other, thereby promoting the formation of a dense and conductive layer of amorphous carbon. The heating also has the effect of expelling the residual gases produced by the ion-bombardment-induced cleavage / crosslinking mechanisms.
- the inventors have deduced from this experiment that for any polymer treated with a beam of known diameter and power, there is a minimum speed of displacement of the beam causing a maximum reduction of the surface resistivity of the polymer without risk of degradation of the polymer under the effect of heat produced.
- the thermal degradation of the polymer has for signature a significant degassing followed by a rise in pressure at the extraction system of the source RCE. This rise in pressure results in electrical breakdowns.
- the extraction system is used to extract ions from the plasma from the ECR source to form the beam.
- the inventors recommend a test step which consists in progressively reducing the speed of the beam while retaining the other characteristics:
- the polymer thermally degrades under the effect of heat, when the rise in pressure measured by a gauge located both in the extraction system and in the treatment chamber, makes a jump of 10 "5 mbar in a few seconds The tests must be stopped immediately in order to keep only the beam displacement speed of the previous test.This jump of 10 -5 mbar in a few seconds or even less is the sign of a thermal degradation of the polymer.
- the treatment of at least one surface of a solid polymer part by implantation of helium ions He + and He 2+ has been carried out with He + and He 2+ multi-energy ions. , produced simultaneously by an ECR source.
- the treated polymers include the following: polypropylene (PP), polymethylacrilate (PMMA).
- the surface antistatic properties of a polymer are significantly improved from a dose greater than 5 ⁇ 10 15 ions / cm 2 , which represents a treatment speed of about 15 cm 2 / s for a Helium beam consisting of 9 mA of He + ion and 1 mA of He 2+ ions.
- the simultaneous implantation of helium ions can be done at varying depths, depending on the needs and the shape of the piece to be treated. These depths depend in particular on the implantation energies of the ions of the implantation beam; they may for example vary from 0.1 to about 3 ⁇ for a polymer. For applications where one looks for properties such as anti-gluing, for example, one could be content with a thickness less than one micron, reducing the processing times accordingly.
- the implantation conditions of the He + and He 2+ ions are chosen so that the polymer part retains its elastic mass properties by maintaining the workpiece at treatment temperatures of less than 50 ° C.
- This result can be achieved in particular for a beam with a diameter of 4 mm delivering a total intensity of 60 microamperes with an extraction voltage of 40 kV, moving at 40 mm / s on displacement amplitudes of 100 mm.
- This beam has a power per unit area of 20 W / cm 2 .
- the beam can have a diameter of 40 mm to maintain a pfd of 20 W / cm 2 .
- the invention is not limited to these embodiments and should be interpreted in a nonlimiting manner, and encompassing the treatment of any type of polymer.
- the method according to the invention is not limited to the use of an ECR source, and even if it may be thought that other sources would be less advantageous, it is possible to implement the method according to the invention with mono-ion sources or other multi-ion sources, as long as these sources are configured so as to allow simultaneous implantation of multi-energy ions belonging to the list consisting of helium (He), nitrogen, (N) oxygen (O), neon (Ne), argon (Ar), krypton (Kr), xenon (Xe).
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Abstract
Procédé de traitement de surface d'un dispositif de distribution de produit fluide, ledit procédé comprenant l'étape de modifier par implantation ionique, au moyen de faisceaux d'ions multichargés et multi-énergies, au moins une surface à traiter d'au moins une partie dudit dispositif en contact avec ledit produit fluide, ladite surface à traiter modifiée ayant des propriétés barrières empêchant les interactions entre ledit produit fluide et ladite surface à traiter modifiée, lesdits ions multichargés étant choisis parmi l'hélium, le bore, le carbone, l'azote, l'oxygène, le néon, l'argon, le krypton et le xénon, l'implantation ionique étant réalisée à une profondeur de 0 à 3 μm.
Description
Procédé de traitement de surface d'un dispositif de distribution de produit fluide
La présente invention concerne un procédé de traitement de surface pour des dispositifs de distribution de produits fluides.
Les dispositifs de distribution de produits fluides sont bien connus. Ils peuvent comporter un ou plusieurs réservoirs, un organe de distribution, tel qu'une pompe, une valve ou un piston déplaçable dans le réservoir, et une tête de distribution pourvue d'un orifice de distribution. Ces dispositifs de distribution comportent généralement des pièces constitutives réalisées en divers matériaux. Ainsi, le réservoir peut être en matériau plastique ou synthétique, en verre ou en métal. Diverses pièces, comme les pistons ou les joints peuvent être en matériaux plastiques souples, tels que des élastomères. D'autres pièces sont généralement métalliques, par exemple les capsules de sertissage, les ressorts ou les billes formant clapet. En particulier dans le domaine pharmaceutique, les risques d'interaction entre le produit fluide à distribuer et ces différents matériaux peuvent être néfastes pour ledit produit fluide. Ces interactions peuvent comprendre des relarguage de molécules de ces matériaux dans le produit fluide. Par exemple, ces interactions peuvent dégrader certains principes actifs, tels que les hormones, les peptides ou les enzymes, notamment dans les dispositifs de pulvérisation nasale.
Les procédés de traitement de surface existants présentent tous des inconvénients. Ainsi, certains procédés ne sont utilisables que sur des surfaces planes. D'autres procédés imposent un choix limité de substrat, par exemple de l'or. La polymérisation de molécules induite par plasma est complexe, coûteuse, et la couche de revêtement obtenue est difficile à contrôler et présente des problèmes de vieillissement. De même, la polymérisation de molécules induite par ultraviolets est également complexe et coûteuse, et ne fonctionne qu'avec des molécules photosensibles. Il en est de même de la polymérisation radicalaire par transfert d'atomes (ATRP), qui
est aussi complexe et coûteuse. Enfin, les procédés d'électro-greffage sont complexes et nécessitent des surfaces de support conductrices.
La présente invention a pour but de proposer un procédé de traitement de surface qui évite les inconvénients susmentionnés.
En particulier, la présente invention a pour but de fournir un procédé de traitement de surfaces qui soit efficace, durable, non polluant et simple à réaliser.
L'invention a en particulier pour objet un procédé de traitement d'une pièce en polymère par des ions multichargés et multi-énergies appartenant à la liste constituées de l'hélium (He), de l'azote (N), de l'oxygène (O), du néon (Ne), de l'argon (Ar), du krypton (Kr), du xénon (Xe), cette pièce en polymère faisant partie d'un dispositif de distribution de produit fluide, notamment pharmaceutique.
La plupart des polymères commercialisés ne conduisent pas le courant électrique. Leur résistivité superficielle se situe entre 1015 et 1017 Ω/α.
Mais la conduction électrique peut être recherchée pour plusieurs raisons, parmi lesquelles:
- l'effet antistatique : un abaissement de la résistivité superficielle pendant quelques semaines ou quelques mois peut être suffisant.
- La dissipation de charges électrostatiques : elle est obtenue avec des matériaux dissipatifs et des conducteurs qui préviennent des décharges électriques et dissipent les charges résultant des mouvements à grande vitesse.
- Le blindage électromagnétique : il faut des matériaux avec une très faible résistivité volumique (<1 ohm. cm). Des normes sont à respecter pour limiter les émissions électromagnétiques des produits fabriqués.
La conductivité peut être obtenue par différentes voies :
- les additifs non permanents comme les esters d'amines gras ou les aminés quaternaires. Ces substances, incorporées dans une matrice polymère, migrent à la surface et réagissent avec l'humidité de l'air. En
formant un film humide à la surface, ils diminuent la résistivité superficielle à environ 1014 Ω/α.
- Les charges qui abaissent la résistivité superficielle et volumique de façon permanente. Il s'agit notamment de noirs de carbone, de fibres de carbone, de graphite, de fibres d'inox, de paillettes d'aluminium, de nanotubes de carbone. Ces charges surenchérissent le coût d'élaboration du polymère lorsqu'on ne cherche que des propriétés électriques superficielles antistatiques, ou dissipatrices de charges électrostatiques.
- Les polymères intrinsèquement conducteurs. Ces derniers sont à la fois chers et sensibles aux conditions d'utilisation. La chaleur et l'humidité ont vite fait de dégrader ses propriétés électriques.
L'adhésion est un phénomène important dans le cas des polymères qui se traduit par exemple par le collage de produit actif sur une surface. Cette adhésion résulte de la contribution des forces de Van Der Walls produites par la polarité des molécules situées à la surface du polymère et par les forces électrostatiques induites par la très haute résistivité superficielle.
Outre les problèmes de collage, les pièces en polymère doivent souvent fonctionner dans des milieux chimiques plus ou moins agressifs, à l'humidité ambiante, à l'oxygène ambiant etc., ce qui peut entraîner par oxydation un accroissement de leur caractère isolant électrique.
Certains polymères sont chargés en agents chimiques de protection contre les UV, l'oxydation. Le rejet de ces agents chimiques vers l'extérieur a pour effet d'accélérer l'oxydation superficielle qui renforce à son tour le caractère isolant du polymère.
L'invention a pour but de diminuer les inconvénients précités et notamment de permettre une forte diminution de la résistivité superficielle d'une pièce en polymère massive tout en conservant dans la masse ses propriétés élastiques et en évitant l'utilisation d'agents chimiques préjudiciables à la santé.
L'invention a donc notamment pour objet un procédé de traitement d'au moins une surface d'une pièce massive en polymère par des ions
d'hélium caractérisée en ce qu'on implante simultanément des ions multi- énergies X+ et X2+, où le ratio RX, où RX = X+/X2+ ou X appartient à la liste constituée de l'hélium (He), l'azote (N), l'oxygène (O), le néon (Ne), l'argon (Ar), le krypton (Kr), le xénon (Xe) avec X+ et X2+ exprimés en pourcentage atomique est inférieur ou égal à 100, par exemple inférieur à 20.
Les inventeurs ont pu par exemple constater que la présence simultanée d'ions He+ et He2+ permet d'améliorer très significativement des propriétés antistatiques de surface des polymères par rapport aux traitements connus où seuls des ions de He+ ou d'He2+ sont implantés. Ils ont pu démontrer qu'une amélioration significative était obtenue pour RHe inférieur ou égal à 100, par exemple inférieur ou égal à 20.
On note que l'invention permet de réduire la résistivité superficielle d'une pièce en polymère massif, et/ou de supprimer le collage de la poussière voire de réduire la polarisation de la surface en supprimant des groupes chimiques fortement polarisées comme OH, COOH. Ces groupes fonctionnels peuvent induire des forces de Van der Walls qui ont pour effet de coller des molécules chimiques ambiantes à la surface du polymère.
L'invention permet par ailleurs d'augmenter la stabilité chimique du polymère en créant par exemple une barrière de perméation. Cette dernière peut ralentir la propagation de l'oxygène ambiant dans le polymère, et/ou retarder la diffusion d'agents de protection chimiques contenus dans le polymère vers l'extérieur, et/ou inhiber le relargage d'agents toxiques contenu dans le polymère vers l'extérieur.
Avantageusement, elle permet de supprimer l'ajout d'agents chimiques ou de charges et de leur substituer un procédé physique applicable à tout type de polymère qui est peu coûteux en consommation de matière et d'énergie.
Dans le cadre de la présente invention, on entend par « massive » une pièce en polymère produite par transformation mécanique ou physique d'un bloc de matière, par exemple par extrusion, moulage ou toute autre technique adaptée à transformer un bloc polymère.
A titre d'exemples et parmi les polymères on peut citer les matériaux suivants qu'il est intéressant de traiter selon l'invention :
• Les polycarbonates (PC)
• Les polyéthylènes (PE)
• Les polyéthylènes téréphtalates (PET)
• Les polyméthylacrylates (PMMA)
• Les polypropylènes (PP)
• Les polymamides (PA)
Grâce au procédé de la présente invention, on peut traiter des profondeurs beaucoup plus importante présentant une grande stabilité chimique se traduisant par une très longue conservation des propriétés électriques superficielles (antistatiques, dissipatrices de charges électrostatiques).
On constate que les temps de traitement ne sont pas longs au regard des exigences industrielles.
En outre, le procédé est peu énergétique, peu coûteux et permet son utilisation dans un cadre industriel sans aucun impact environnemental.
Le traitement d'une pièce en polymère est effectué par implantation simultanée d'ions multichargés multi-énergies. Ces derniers sont notamment obtenus en extrayant avec une même et unique tension d'extraction des ions mono- et multi-chargés créés dans la chambre à plasma d'une source d'ions à résonance cydotronique électronique (source RCE). Chaque ion produit par ladite source présente une énergie qui est proportionnelle à son état de charge. Il en découle que les ions dont l'état de charge est le plus élevé, donc d'énergie la plus élevée, s'implantent dans la pièce en polymères à des profondeurs plus importantes.
Une implantation avec une source RCE est rapide et peu coûteuse puisqu'elle ne nécessite pas une tension d'extraction élevée de la source d'ions. En effet, pour augmenter l'énergie d'implantation d'un ion, il est économiquement préférable d'augmenter son état de charge plutôt que d'augmenter sa tension d'extraction.
Il convient de noter que l'utilisation d'une source classique, comme notamment les sources permettant l'implantation d'ions par immersion plasma ou les implanteurs à filament, ne permet pas d'obtenir un faisceau adapté à l'implantation simultanée d'ions multi-énergies X+ et X2+, où le ratio RX est inférieur ou égal à 100. Avec de telles sources, il est au contraire généralement supérieur ou égal à 1000.
Les inventeurs ont pu constater que ce procédé permet de traiter superficiellement une pièce en polymère sans altérer les propriétés élastiques de masse.
Selon un mode de réalisation de la présente invention, la source est une source à résonance cyclotronique électronique produisant des ions multi-énergies qui sont implantés dans la pièce à une température inférieure à 50°C et l'implantation des ions du faisceau d'implantation est effectuée simultanément à une profondeur contrôlée par la tension d'extraction de la source.
Sans vouloir être lié par une quelconque théorie scientifique, on peut penser que dans le procédé, selon l'invention, les ions excitent lors de leur passage les électrons du polymère provoquant des scissions de liaisons covalentes qui se recombinent aussitôt pour engendrer, par un mécanisme dit de réticulation, une haute densité de liaisons chimiques covalentes majoritairement constituées de carbones. Les éléments plus légers comme l'hydrogène et l'oxygène sont évacués du polymère lors d'un dégazage. Cette densification en liaisons covalentes riches en carbone a pour effet d'augmenter superficiellement conductivité et de réduire voire de supprimer les groupements polaires superficiels à l'origine des forces de Van der Walls à l'origine du collage. Le processus de réticulation est d'autant plus efficace que l'ion est léger.
L'hélium est à ce titre un projectile avantageux que l'on favorisera puisque :
· il est très rapide au regard de la vitesse des électrons des liaisons de covalence donc très efficace pour exciter ces mêmes électrons qui n'ont pas le temps de modifier en conséquence leurs orbitales,
• il pénètre des profondeurs importantes, de l'ordre du micron,
• il n'est pas dangereux,
• il n'intervient pas en tant que gaz noble dans la composition chimique du polymère.
D'autres types d'ions faciles dans la mise en œuvre sans risque pour la santé sont envisageables comme l'azote (N), l'oxygène (O), le néon (Ne), l'argon (Ar), le krypton (Kr), le xénon (Xe).
Selon différents modes préférentiels de réalisation du procédé de la présente invention, qui peuvent être combinés entre eux. Un mode préféré consiste par exemple à combiner:
- le ratio RHe, où RHe = He+/He2+ avec He+ et He2+ exprimés en pourcentage atomique, est supérieur ou égal à 1 ;
- la tension d'extraction de la source permettant l'implantation des ions multi-énergies He+ et He2+ est comprise entre 10 et 400 kV, par exemple supérieure ou égale à 20 kV et/ou inférieure ou égale à 100 kV ;
- la dose d'ion multi-énergie He+ et He2+ est comprise entre 5.1014 et 1018 ions/cm2, par exemple supérieure ou égale à 1015 ions/cm2 et/ou inférieure ou égale à 5.1017 ions/cm2, voire supérieure ou égale à 5.1015 ions/cm2 et/ou inférieure ou égale à 1017 ions/cm2 ;
- on détermine dans une étape préalable la variation d'une propriété caractéristique de l'évolution de la surface d'une pièce massive en polymère, par exemple de la résistivité superficielle du polymère d'un matériau polymère représentatif de celui de la pièce à traiter en fonction de doses d'ions multi-énergie He+ et He2+ de manière à déterminer un domaine de doses d'ions où la variation de la propriété caractéristique choisie est avantageuse et évolue de manière différenciée dans trois zones consécutives de doses d'ions formant ledit domaine de doses d'ions, avec une évolution dans la première zone sensiblement linéaire et réversible sur une durée inférieure à un mois, une évolution dans la deuxième zone sensiblement linéaire et stable sur une durée supérieure à un mois enfin une évolution dans la troisième zone constante et stable sur une durée supérieure à un mois et où l'on choisit la dose d'ions multi énergie He+ et
He dans la troisième zone de doses d'ions pour traiter la pièce massive en polymère; on entend par évolution réversible (première zone) le fait que la résistivité diminue puis remonte pour retrouver sa valeur d'origine. Ce phénomène est dû à la persistance de radicaux libres après implantation qui se recombinent avec l'oxygène de l'air ambiant provoquant ainsi une augmentation de la résistivité superficielle.
- on règle des paramètres de la source et de déplacement de la surface de la pièce en polymère à traiter de manière à ce que la vitesse surfacique de traitement de la surface de la pièce en polymère à traiter soit comprise entre 0,5 cm2/s et 1000 cm2/s, par exemple supérieure ou égale à
1 cm2/s et/ou inférieure ou égale à 100 cm2/s ;
- on règle des paramètres de la source et de déplacement de la surface de la pièce en polymère à traiter de manière à ce que la dose d'hélium implantée soit comprise entre 5.1014 et 1018 ions/cm2, par exemple supérieure ou égale à 5.1015 ions/cm2 et/ou inférieure ou égale à 1017 ions/cm2 ;
- on règle des paramètres de la source et de déplacement de la surface de la pièce en polymère à traiter de manière à ce que la profondeur de pénétration de l'hélium sur la surface de la pièce en polymère traitée soit comprise entre 0,05 et 3 μιτι, par exemple supérieure ou égale à 0,1 μιτι et/ou inférieure ou égale à 2 μιτι ;
- on règle des paramètres de la source et de déplacement de la surface de la pièce en polymère à traiter de manière à ce que la température de la surface de la pièce en polymère en cours de traitement soit inférieure ou égale à 100°C, par exemple inférieure ou égale à 50°C ;
- la pièce en polymère est par exemple une bande profilée, et ladite pièce défile dans un dispositif de traitement, par exemple à une vitesse comprise entre 5 m/min et 100 m/min ; à titre d'exemple, la pièce en polymère est une bande profilée qui défile longitudinalement ;
- l'implantation d'hélium de la surface de la pièce à traiter est effectuée grâce à une pluralité de faisceaux d'ions multi énergies He+ et He2+ produits par une pluralité de sources d'ions ; à titre d'exemple, les sources d'ions sont
disposées le long d'une direction de déplacement de la pièce à traiter ; de préférence les sources sont espacées de manière à ce que la distance entre deux faisceaux d'ions soit suffisante pour permettre à la pièce de se refroidir entre chaque implantation d'ions successive; lesdites sources produisent des faisceaux d'ions dont le diamètre est adapté à la largeur des pistes à traiter. En diminuant le diamètre des faisceaux à par exemple 5 mm on est capable de mettre un système de vide différentiel très efficace entre la source et la chambre de traitement, permettant de traiter les polymères à 10~2 mbar alors que le vide au niveau du système d'extraction de la source est de 10"6 mbar ;
- le polymère de la pièce est choisi parmi les polycarbonates, les polyéthylènes, les polyéthylènes téréphtalates, les polyamides, les polyméthylacrylate, les polypropylènes. La liste n'est pas exhaustive. D'autres types de polymère sont envisageables compte tenu du caractère générique du processus de réticulation.
L'invention porte également sur une pièce où l'épaisseur où l'hélium est implanté est supérieure ou égale à 50 nm, par exemple supérieure ou égale à 200 nm et dont la résistivité superficielle p, est inférieure ou égale à 1014 Ω/α, par exemple inférieure ou égale à 109 Ω/α, voire inférieure ou égale à 105 Ω/α. Pour la mesure de résistivité superficielle on se reportera à la norme CEI 60093.
La présente invention a donc pour objet un procédé de traitement de surface d'un dispositif de distribution de produit fluide, ledit procédé comprenant l'étape de modifier par implantation ionique, au moyen de faisceaux d'ions multichargés et multi-énergies, au moins une surface à traiter d'au moins une partie dudit dispositif en contact avec ledit produit fluide, ladite surface à traiter modifiée ayant des propriétés barrières empêchant les interactions entre ledit produit fluide et ladite surface à traiter modifiée, lesdits ions multichargés étant choisis parmi l'hélium (He), l'azote (N), l'oxygène (O), le néon (Ne), l'argon (Ar), le krypton (Kr), le xénon (Xe), l'implantation ionique étant réalisée à une profondeur de 0 à 3 μιτι.
Des modes de réalisation avantageux sont décrits dans les revendications dépendantes.
En particulier, ledit procédé comprend de traiter au moins une surface d'une pièce massive en polymère par des ions, ledit procédé comprenant un bombardement ionique par un faisceau d'ion constitué d'ions multi-énergies X+ et X2+, où X est le symbole atomique de l'ion choisi parmi la liste comprenant l'hélium (He), l'azote (N), l'oxygène (O), le néon (Ne), l'argon (Ar), le krypton (Kr), le xénon (Xe), dans lequel RX = X7X2+ avec X+ et X2+ exprimés en pourcentage atomique est inférieur ou égal à 100, par exemple inférieur à 20, dans lequel la vitesse de déplacement du faisceau est déterminée dans une étape préalable où l'on identifie la plus petite vitesse de déplacement du faisceau qui ne provoque pas une dégradation thermique du polymère se manifestant par une remontée de pression de 10"5 mbar.
Ces caractéristiques et avantages et d'autres de la présente invention apparaîtront plus clairement dans la description détaillée ci-après, faite notamment en référence aux dessins joints, donnés à titre d'exemples non limitatifs, et sur lesquels
- la figure 1 représente un exemple de distribution d'implantation d'hélium selon l'invention dans un polycarbonate ;
- la figure 2 représente les échelles selon différentes normes qualifiant les propriétés électrostatiques d'un matériau ;
- la figure 3 représente la variation de la résistivité superficielle de la surface d'un échantillon polycarbonate traité selon l'invention, en fonction du temps, pour une pluralité de doses d'hélium ; la résistivité superficielle a été mesurée selon la norme CEI 60093, en mettant en œuvre une électrode constituée d'un disque de diamètre d, entourée par une couronne de diamètre intérieur D où D est supérieur à d ;
- la figure 4 représente la variation de la résistivité superficielle de la surface d'un échantillon polycarbonate traité selon l'invention, en fonction du temps, pour trois types d'ions He, N, Ar selon une pluralité de doses ; la résistivité superficielle a été mesurée selon la norme CEI 60093 ; et
- la figure 5 représente la variation de la résistivité superficielle de la surface d'un échantillon polycarbonate traité selon l'invention, en fonction du temps, pour une pluralité de doses d'azote mais selon deux vitesses de
déplacement faisceau ; la résistivité superficielle a été mesurée selon la norme CEI 60093.
En particulier, la présente invention prévoit d'utiliser un procédé similaire à celui décrit dans le document WO 2005/085491 , qui concerne un procédé d'implantation ionique, et plus particulièrement l'utilisation d'un faisceau d'ions multichargés multi énergies afin de modifier structureNement la surface de matériaux métalliques sur des profondeurs autour du μιτι pour leur conférer des propriétés physiques particulières. Ce procédé d'implantation a notamment été utilisé pour traiter des pièces réalisées en alliage d'aluminium qui sont utilisées comme moules de fabrication en série de pièces en matière plastique.
De manière surprenante, ce type de procédé s'est avéré adapté pour modifier des surfaces destinées à venir en contact avec un produit fluide pharmaceutique dans des dispositifs de distribution, pour empêcher les interactions avec ledit produit fluide. Une telle application de ce procédé d'implantation ionique n'avait jamais été envisagée. La totalité de la description de ce document WO 2005/085491 est donc incorporé dans la présente description à titre de référence.
Les surfaces à traiter peuvent être en métal, en verre, en élastomère, mais également synthétiques, tels que les plastiques durs ou les plastiques mous, comprenant par exemple du polyéthylène (PE) et/ou du polypropylène (PP) et/ou du polychlorure de vinyle (PVC) et/ou du polytétrafluoroéthylène (PTFE).
De manière simplifiée, le procédé consiste à utiliser une ou plusieurs sources d'ions, telles qu'une source à résonance cyclotronique électronique, dite source RCE. Cette source RCE peut délivrer un faisceau initial d'ions multi-énergies, par exemple ayant un courant total d'environ 10 mA (toutes charges confondues), sous une tension d'extraction pouvant varier de 20 kV à 200 kV. La source RCE émet le faisceau d'ions en direction de moyens de réglage qui assurent la focalisation et le réglage du faisceau initial émis par la source RCE en un faisceau d'implantation d'ions qui vient frapper une pièce à traiter. Selon les applications et les matériaux à traiter, les ions
peuvent être choisis parmi l'hélium, le bore, le carbone, l'azote, l'oxygène, le néon, l'argon, le krypton et le xénon. De même, la température maximale de la pièce à traiter varie en fonction de sa nature. La profondeur d'implantation typique est entre 0 et 3 μιτι, et dépend non seulement de la surface à traiter mais aussi des propriétés qu'on souhaite améliorer.
La spécificité d'une source d'ions RCE réside notamment dans le fait qu'elle délivre des ions mono- et multichargés, ce qui permet d'implanter simultanément des ions multi-énergies avec la même tension d'extraction. Il est ainsi possible d'obtenir simultanément sur toute l'épaisseur traitée un profil d'implantation mieux réparti. Ceci améliore la qualité du traitement de surface.
Avantageusement, le procédé est effectué dans une enceinte mise sous vide grâce à une pompe à vide. Ce vide a pour but notamment d'empêcher l'interception du faisceau par des gaz résiduels et d'éviter la contamination de la surface de la pièce par ces mêmes gaz lors de l'implantation.
Avantageusement, comme notamment décrit dans le document WO 2005/085491 , les moyens de réglage ci-dessus mentionnés peuvent comporter, de la source RCE vers la pièce à traiter, les éléments suivants:
- un spectromètre de masse apte à filtrer les ions en fonction de leur charge et de leur masse. Un tel spectromètre est toutefois facultatif si l'on injecte un gaz pur, par exemple un gaz d'azote pur (N2). Il est alors possible de récupérer l'ensemble des ions mono- et multichargés produits par la source pour obtenir un faisceau d'ions multi-énergies.
- une ou plusieurs lentilles pour donner au faisceau d'ions une forme prédéterminée, par exemple cylindrique, avec un rayon prédéterminé.
- un profileur pour analyser lors de la première implantation l'intensité du faisceau dans un plan de coupe perpendiculaire.
- un transformateur d'intensité pour mesurer en continu l'intensité du faisceau d'ions sans l'intercepter. Cet instrument a notamment pour fonction de détecter toute interruption du faisceau d'ions et de permettre l'enregistrement des variations d'intensité du faisceau durant le traitement.
- un obturateur, qui peut par exemple être une cage de Faraday, pour interrompre la trajectoire des ions à certains moments, par exemple lors d'un déplacement sans traitement de la pièce.
Selon une forme avantageuse de réalisation, la pièce à traiter est mobile par rapport à la source RCE. La pièce peut par exemple être montée sur un support mobile dont le déplacement peut être commandé par une machine à commande numérique. Le déplacement de la pièce à traiter est calculé en fonction du rayon du faisceau, des contours externes et internes des zones à traiter, de la vitesse de déplacement constante ou variable en fonction de l'angle du faisceau par rapport à la surface et du nombre de passes précédemment réalisées.
Une mise en œuvre possible du procédé de traitement est la suivante. On fixe la pièce à traiter sur un support approprié dans une enceinte, puis on ferme l'enceinte et on y instaure un vide poussé au moyen d'une pompe à vide. Dès que les conditions de vide sont atteintes, on procède à la production et au réglage du faisceau d'ions. Lorsque ledit faisceau est réglé, on lève l'obturateur et on actionne la machine à commande numérique qui exécute alors le déplacement en position et en vitesse de la pièce à traiter devant le faisceau en une ou plusieurs passes. Lorsque le nombre de passes requis est atteint, on baisse l'obturateur pour couper le faisceau, on arrête la production du faisceau, on casse le vide en ouvrant l'enceinte à l'air ambiant, on arrête éventuellement le circuit de refroidissement et on sort la pièce traitée hors de l'enceinte.
Pour diminuer la température liée au passage du faisceau d'ions en un point donné de la pièce à traiter, on peut soit augmenter le rayon du faisceau (donc réduire la puissance par cm2), soit augmenter la vitesse de déplacement. Si la pièce est trop petite pour évacuer par rayonnement la chaleur liée au traitement, on peut soit diminuer la puissance du faisceau (donc augmenter la durée de traitement), soit mettre en marche le circuit de refroidissement.
Concernant plus particulièrement les élastomères, il est avantageux d'implanter simultanément des ions d'hélium multi-énergies He+ et He2+.
Ceci a notamment été décrit dans le document PCT/FR2010/050379, qui est incorporé ici à titre de référence, et qui concerne plus particulièrement le traitement des balais d'essuie-glace pour véhicules. Avantageusement, le ratio RHe, où RHe = He+/He2+ avec He+ et He2+ exprimés en pourcentage atomique, est inférieur ou égal à 100, par exemple inférieur à 20, et de préférence supérieur à 1 . Les ions He+ et He2+ sont avantageusement produits simultanément par une source RCE. La tension d'extraction de la source permettant l'implantation des ions multi-énergies He+ et He2+ peut être comprise entre 10 et 400 kV, par exemple supérieure ou égale à 20 kV et/ou inférieure ou égale à 100 kV. Avantageusement, la dose d'ion multi- énergie He+ et He2+ est comprise entre 1014 et 1018 ions/cm2, par exemple supérieure ou égale à 1015 ions/cm2 et/ou inférieure ou égale à 1017 ions/cm2, voire supérieure ou égale à 1015 ions/cm2 et/ou inférieure ou égale à 1016 ions/cm2. La profondeur d'implantation est avantageusement entre 0,05 et 3 μιτι, par exemple entre 0,1 et 2 μιτι. La température de la surface élastomère en cours de traitement est avantageusement inférieure à 100°C, de préférence inférieure à 50°C.
Dans un mode de réalisation avantageux, différentes implantations ioniques sont réalisées sur une même surface à traiter, pour donner plusieurs propriétés à cette surface à traiter. Ainsi, le produit fluide peut être susceptible de coller à une surface avec laquelle il est en contact, ce qui peut notamment avoir un effet néfaste sur la reproductibilité de la dose distribuée. L'invention prévoit avantageusement de modifier la surface pour empêcher le collage du produit fluide sur la surface à traiter. De plus, dans les dispositifs de distributions de produit fluides, certaines pièces se déplacent par rapport à d'autres, et des blocages dus aux frottements sont susceptibles de gêner le bon fonctionnement du dispositif. L'invention prévoit avantageusement de modifier la surface à traiter pour limiter les frottements entre deux pièces constitutives qui se déplacent l'une par rapport à l'autre lors de l'actionnement. Ces traitements de surfaces supplémentaires peuvent être appliqués lors d'étapes d'implantations ioniques successives. Il est à noter que l'ordre des ces étapes successives d'implantations ioniques peut être
quelconque. En variante, les différentes propriétés pourraient aussi être octroyées à une même surface à traiter lors d'une seule et même étape d'implantation ionique.
Le procédé de l'invention est non polluant, notamment du fait qu'il ne nécessite pas de produits chimiques. Il est réalisé à sec, ce qui évite les périodes de séchages relativement longues des procédés de traitement liquides. Il ne nécessite pas une atmosphère stérile en dehors de l'enceinte à vide, et il peut donc être réalisé en tout endroit souhaité. Un avantage particulier de ce procédé est qu'il peut être intégré dans la chaîne de montage du dispositif de distribution de produit fluide, et opérer en continu dans cette chaîne. Cette intégration du procédé de traitement à l'outil de production simplifie et accélère le processus de fabrication et d'assemblage dans son ensemble, et impacte donc positivement son coût.
La présente invention s'applique aux dispositifs multidoses, tels que les dispositifs à pompe ou valve monté sur un réservoir et actionnés pour la distribution successive de doses. Par exemple, elle s'applique au traitement des surfaces internes des réservoirs ou bidons contenant le produit fluide pharmaceutique. Elle s'applique aussi aux dispositifs multidoses comportant une pluralité de réservoirs individuels contenant chacun une dose de produit fluide, tel que les inhalateurs de poudre prédosée. Par exemple, elle s'applique au traitement des blisters ou capsules utilisés dans les inhalateurs de poudre sèche pharmaceutique. Elle s'applique également aux dispositifs unidoses ou bidoses, dans lesquels un piston se déplace directement dans un réservoir à chaque actionnement. L'invention s'applique en particulier aux dispositifs de pulvérisation nasale ou orale, aux dispositifs de distribution à usage ophtalmique et aux dispositifs à aiguille, type seringue.
Les figures 1 à 5 illustrent des modes de réalisation avantageux de l'invention.
La figure 1 représente un exemple schématique de distribution d'implantation de l'hélium en fonction de la profondeur selon l'invention, dans un polycarbonate. La courbe 101 correspond à la distribution d'He+ et la courbe 102 à celle d'He2+. On peut estimer que pour des énergies de
100 keV, He2+ parcourt une distance moyenne d'environ 800 nm pour une énergie d'ionisation moyenne de 10 eV/Angstrœm. Pour des énergies de 50 keV, He+ parcourt une distance moyenne d'environ 500 nm pour une énergie d'ionisation moyenne de 4 eV/Angstrœm. L'énergie d'ionisation d'un ion est en rapport avec son pouvoir de réticulation. Dans le cas où (He+/He2+) est inférieur ou égal à 100, on peut estimer que l'épaisseur maximale traitée est de l'ordre de 1000 nm soit 1 micron. Ces estimations sont cohérentes avec des observations effectuées par microscopie électronique qui ont démontré que pour un faisceau extrait à 40 kV et une dose totale de 5.1015 ions/cm2 et (He+/He2+) = 10, on observe une couche réticulée d'environ 750 à 850 nm.
La figure 2 représente selon la norme DOD HDBK 263, les valeurs de résistivité qualifiant les propriétés électrostatiques d'un matériau. Un polymère a des propriétés isolantes pour des valeurs de résistivité superficielle supérieures à 1014 Ω/α (ZONE I), des propriétés antistatiques pour des valeurs de résistivité superficielle comprises entre 1014 Ω/α et 109 Ω/α (zone A). Les propriétés dissipatrices de charges électrostatiques apparaissent pour des valeurs de résistivité superficielle comprises entre 105 Ω/α et 109 Ω/α (zone D) et des propriétés conductrices pour des valeurs inférieures à 105 Ω/α (zone C).
La figure 3 représente l'évolution expérimentale de la résistivité superficielle d'un polycarbonate en fonction du temps, pour différentes doses d'hélium égales à 1015 (courbe 1 ), 2,5.1015 (courbe 2), 5.1015 ions/cm2 (courbe 3), 2,5.1016 ions/cm2 (courbe 4) avec (He+/He2+) = 10, la tension d'extraction est d'environ 40 kV. La mesure de résistivité a été effectuée selon la norme CEI 60093. La technique de mesure de résistivité mise en œuvre ne permet pas de mesurer des résistivités supérieures à 1015 Ω/α correspondant à la zone N, elle sature à 1015 Ω/α. L'axe des abscisses correspond au temps séparant le traitement de l'échantillon à la mesure de sa résistivité superficielle. L'axe des ordonnées correspond à la mesure de la résistivité superficielle exprimée en Ω/α. On discerne une première zone pour les doses inférieures ou égales à 1015 ions/cm2, la résistivité
superficielle diminue pendant moins d'un mois d'environs 3 ordres de grandeur (passant 1 ,5.1016 Ω/α à 5.1012 Ω/α) avant de retrouver sa valeur d'origine située au alentour de 1 ,5.1016 Ω/α (courbe 1 ). Dans cette zone les propriétés antistatiques sont éphémères, les radicaux libres encore présents se recombinent avec l'oxygène et l'air ambiant. Une deuxième zone ou l'on observe une évolution dégressive de la résistivité en fonction de la dose: entre 2,5.1015, 5.1015, 2,5.1016 ions/cm2, la résistivité diminue passant de 1011 Ω/α à 5.109 Ω/α jusqu'à atteindre un plancher de saturation estimé aux alentours de 1 ,5.108 Ω/α. Les propriétés antistatiques (courbe 2 et 3) se renforcent pour devenir dissipatrices de charges électrostatiques (courbe 4).
Pour ces doses, les résistivités restent constantes sur plus de 140 jours. Pour des doses supérieures à 2,5.1016 ions/cm2, on atteint une troisième zone ou l'évolution de la résistivité sature en fonction de la dose autour d'une valeur que l'on estime à 108 Ω/α et reste stable dans le temps sur plus de 140 jours.
La figure 4 représente l'évolution expérimentale de la résistivité superficielle d'un polycarbonate (PC) en fonction du temps, pour trois types d'ions He (courbe 1 ), N (courbe 2) et Ar (courbe 3) pour différentes doses égales à 1015, 5.1015 et 2,5.1016 ions/cm2 avec (He+/He2+) = 10, (N+/N2+) = 2 et (Ar+/Ar2+) = 1 ,8. Le faisceau a un diamètre de 15 mm et une intensité de
0,225 mA, la tension d'extraction est d'environ 35 kV. L'axe des abscisses représente la dose en ions par unité de surface exprimée 1015 ions/cm2. L'axe des ordonnées représente la résistivité superficielle exprimée en Ω/α. La mesure de résistivité a été effectuée selon la norme CEI 60093. Pour une même dose les ions les plus lourds sont les plus efficaces pour réduire la résistivité superficielle, le PC traité avec l'azote à une résistivité superficielle au moins 10 fois plus faible que celle du PC traité avec l'hélium, le PC traité avec de l'argon à une résistivité superficielle au moins 10 fois plus faible que celle du PC traité avec de l'azote et 100 fois plus faible que celle du PC traité avec de l'hélium. Les inventeurs préconisent l'emploi d'ions encore plus lourds comme le xénon pour réduire davantage la résistivité du polycarbonate.
La figure 5 représente l'évolution expérimentale de la résistivité superficielle d'un polycarbonate en fonction du temps, pour un même type d'ions mais deux vitesses de déplacement faisceau différentes, une vitesse de déplacement égale à 80 mm/s (courbe 1 ), une vitesse de déplacement égale à 40 mm/s (courbe 2) pour différentes doses égales à 1015, 5.1015 et 2,5.1016 ions/cm2 (N+/N2+) = 2. Le faisceau a d'un diamètre de 15 mm et une intensité de 0,150 mA, la tension d'extraction est d'environ 35 kV. L'axe des abscisses représente la dose en ions par unité de surface exprimée 1015 ions/cm2. L'axe des ordonnées représente la résistivité superficielle exprimée en Ω/α. La mesure de résistivité a été effectuée selon la norme CEI 60093. De ces courbes il ressort que la réduction de la vitesse d'un facteur 2 a pour effet de réduire d'un facteur 10 la résistivité superficielle du PC. Sans vouloir être lié par une quelconque théorie scientifique, on peut penser que qu'en réduisant la vitesse du faisceau on augmente la température superficielle du PC. Cette température favorise fortement la recombinaison des radicaux libres entre eux, favorisant du même coup la formation d'une couche dense et conductrice de carbone amorphe. L'échauffement à également pour effet d'expulser les gaz résiduels produits par les mécanismes de scission/réticulation induits par le bombardement ioniques. Les inventeurs ont déduit de cette expérience que pour tout polymère traité avec un faisceau d'un diamètre et d'une puissance connus, il existe une vitesse minimale de déplacement du faisceau provoquant une réduction maximale de la résistivité superficielle du polymère sans risque de dégradation du polymère sous l'effet de la chaleur produite. La dégradation thermique du polymère a pour signature un dégazage important suivie d'une remontée de pression au niveau du système d'extraction de la source RCE. Cette remontée de pression se traduit par des claquages électriques. Le système d'extraction sert à extraire les ions du plasma de la source RCE pour former le faisceau. Il est constituée de deux électrodes, la première est mise à la terre, la seconde est portée à une haute tension de plusieurs dizaines de kV (kilovolts) dans des conditions de vide inférieures à 5x10"6 mbar de préférence inférieures à 2x10"6 mbar. Au delà de ces pressions, des arcs
électriques se produisent). C'est le cas lorsque la dégradation thermique du polymère survient. Il convient donc de détecter très tôt ces remontées de pressions en réduisant progressivement la vitesse de déplacement du faisceau et en suivant l'évolution de la pression au niveau du système d'extraction.
Pour déterminer cette vitesse de déplacement faisceau les inventeurs préconisent une étape d'essais qui consiste à réduire progressivement la vitesse du faisceau en conservant les autres caractéristiques :
• le caractéristique faisceau: diamètre, puissance autrement dit intensité et tension d'extraction,
• les caractéristiques cinématiques : amplitude de déplacement, pas d'avancement.
Le polymère se dégrade thermiquement sous l'effet de la chaleur, lorsque la remontée de pression mesurée par une jauge située aussi bien au niveau du système d'extraction que dans la chambre de traitement, effectue un bond de 10"5 mbar en quelques secondes voire moins. Il faut arrêter immédiatement les essais pour ne conserver que la vitesse de déplacement du faisceau de l'essai précédent. Ce bond de 10"5 mbar en quelques seconde voire moins, constitue la signature d'une dégradation thermique du polymère.
Plusieurs méthodes de caractérisation ont permis de faire ressortir les avantages de la présente invention.
Dans les exemples qui suivent, le traitement d'au moins une surface d'une pièce en polymère massive par implantation d'ions d'hélium He+ et He2+ a été effectué avec des ions He+ et He2+ multi-énergies, produits simultanément par une source RCE. Les polymères traités ont notamment été les suivants : le polypropylène (PP), le polyméthylacrilate (PMMA).
Des essais comparatifs relatifs aux propriétés antistatiques avec des petits morceaux de papier jetés sur des échantillons traités ont permis de montrer que celle ci apparaissent pour des doses supérieures à 5.1015 ions/cm2. Pour ces doses les morceaux de papier se détachent et tombent
lorsque l'on retourne ces échantillons, ce qui n'est pas le cas pour des doses inférieures à 5.1015 ions/cm2.
Pour le polypropylène, on a pu mesurer selon la norme CEI 60093 et pour des doses de 1015 et 5.10 15 ions/cm2, une résistivité de 1014 Ω/α. Pour une dose de 2.10 16 ions/cm2, on a pu mesurer une résistivité de 5.1011 Ω/α correspondant à l'apparition de ces propriétés antistatiques.
Selon un mode de réalisation, on estime que les propriétés antistatiques de surface d'un polymère sont significativement améliorées à partir d'une dose supérieure à 5.1015 ions/cm2, ce qui représente une vitesse de traitement d'environ 15 cm2/s pour un faisceau d'Hélium constitué de 9 mA d'ion He+ et 1 mA d'ions He2+.
L'implantation simultanée des ions d'hélium peut se faire à des profondeurs variables, en fonction des besoins et de la forme de la pièce à traiter. Ces profondeurs dépendent notamment des énergies d'implantation des ions du faisceau d'implantation ; elles peuvent par exemple varier de 0,1 à environ 3 μιτι pour un polymère. Pour des applications ou l'on recherche plutôt des propriétés par exemple d'anti collage, on pourrait se contenter par exemple d'épaisseur inférieure au micron, réduisant d'autant les temps de traitement.
Selon un mode de réalisation, on choisit les conditions d'implantation des ions He+ et He2+ de manière à ce que la pièce en polymère conserve ses propriétés élastiques de masse grâce à un maintien de la pièce à des températures de traitement inférieures à 50°C. Ce résultat peut notamment être atteint pour un faisceau d'un diamètre de 4 mm délivrant une intensité totale de 60 microampères avec une tension d'extraction de 40 kV, se déplaçant à 40 mm/s sur des amplitudes de déplacement de 100 mm. Ce faisceau a une puissance par unité de surface de 20 W/cm2. Pour utiliser avec la même tension d'extraction et la même puissance par unité de surface, des faisceaux d'intensité plus importante et conserver les propriétés élastiques de masse, on peut suggérer une règle d'échelle qui consiste à augmenter le diamètre du faisceau, à augmenter la vitesse de déplacement et à augmenter les amplitudes de déplacements, dans un rapport
correspondant à la racine carrée (intensité désirée / 60 microampères). Par exemple pour une intensité de 6 milliampères (soit 100 fois 60 microampères), le faisceau peut avoir un diamètre de 40 mm pour conserver une puissance surfacique de 20 W/cm2. Il convient dans ces conditions de multiplier la vitesse par un facteur 10 et les amplitudes de déplacement par un facteur 10, ce qui donne une vitesse de 40 cm/s et des amplitudes de déplacement de 1 m. Il convient également de multiplier le nombre de passes par ce même facteur pour avoir au final la même dose de traitement exprimée en ion/cm2. Dans le cas d'un défilement en continu, on peut multiplier selon le même rapport le nombre de micro accélérateurs placés par exemple sur le parcours d'une bande.
On constate en outre que d'autres propriétés de surface sont très significativement améliorées grâce à un traitement selon l'invention et que des performances qui ne semblent pas pouvoir être atteintes avec d'autres techniques ont été mises en évidence.
L'invention ne se limite pas à ces types de réalisation et doit être interprétée de façon non limitative, et englobant le traitement de tout type de polymère.
De même le procédé selon l'invention n'est pas limité à l'utilisation d'une source RCE, et même si on peut penser que d'autres sources seraient moins avantageuses, on peut mettre en œuvre le procédé selon l'invention avec des sources mono-ions ou d'autres sources multi-ions, du moment que ces sources sont configurées de manière à permettre une implantation simultanée d'ions multi-énergies appartenant à liste constituée de l'hélium (He), l'azote, (N) l'oxygène (O), le néon (Ne), l'argon (Ar), le krypton (Kr), le xénon (Xe).
Diverses modifications sont également possibles pour un homme du métier sans sortir du cadre de la présente invention tel que défini par les revendications annexées.
Claims
1 . - Procédé de traitement de surface d'un dispositif de distribution de produit fluide, caractérisé en ce que ledit procédé comprend l'étape de modifier par implantation ionique, au moyen de faisceaux d'ions multichargés et multi-énergies, au moins une surface à traiter d'au moins une partie dudit dispositif en contact avec ledit produit fluide, ladite surface à traiter modifiée ayant des propriétés barrières empêchant les interactions entre ledit produit fluide et ladite surface à traiter modifiée, lesdits ions multichargés étant choisis parmi l'hélium (He), l'azote (N), l'oxygène (O), le néon (Ne), l'argon (Ar), le krypton (Kr), le xénon (Xe), l'implantation ionique étant réalisée à une profondeur de 0 à
3 μιτι.
2. - Procédé selon la revendication 1 , dans lequel lesdits ions multi-énergies sont implantés simultanément avec la même tension d'extraction.
3. - Procédé selon la revendication 1 ou 2, dans lequel ladite surface à traiter est en métal, notamment une capsule de sertissage, un ressort ou une bille formant clapet, ou en verre, notamment un réservoir.
4. - Procédé selon la revendication 1 ou 2, dans lequel ladite surface à traiter est en matériau souple, tel qu'un élastomère, notamment un piston ou un joint, ou en matériau synthétique rigide, tel que le polyéthylène (PE) et/ou le polypropylène (PP) et/ou le polychlorure de vinyle (PVC) et/ou le polytétrafluoroéthylène (PTFE).
5. - Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le procédé comprend en outre l'étape d'octroyer par implantation ionique au moins une propriété supplémentaire à ladite surface à traiter, telle que la diminution des frottements et/ou la diminution du collage du produit fluide sur la surface à traiter modifiée.
6.- Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel ledit procédé comprend de traiter au moins une surface d'une pièce massive en polymère par des ions, ledit procédé comprenant un bombardement ionique par un faisceau d'ion constitué d'ions multi-énergies X+ et X2+, où X est le symbole atomique de l'ion choisi parmi la liste comprenant l'hélium (He), l'azote (N), l'oxygène (O), le néon
(Ne), l'argon (Ar), le krypton (Kr), le xénon (Xe), dans lequel RX = X+/X2+ avec X+ et X2+ exprimés en pourcentage atomique est inférieur ou égal à 100, par exemple inférieur à 20, dans lequel la vitesse de déplacement du faisceau est déterminée dans une étape préalable où l'on identifie la plus petite vitesse de déplacement du faisceau qui ne provoque pas une dégradation thermique du polymère se manifestant par une remontée de pression de 10"5 mbar.
7. - Procédé selon la revendication 6, dans lequel les ions X+ et X2+ sont produits simultanément par une source d'ions à résonnance cyclotronique électronique (RCE).
8. - Procédé selon l'une quelconque des revendications 6 ou 7, dans lequel le ratio RX est supérieur ou égal à 1 .
9. - Procédé selon l'une quelconque des revendications 6 à 8, dans lequel la tension d'extraction de la source permettant l'implantation des ions multi-énergies X+ et X2+ est comprise entre 10 et 400 kV, par exemple supérieure ou égale à 20 kV et/ou inférieure ou égale à 100 kV.
10. - Procédé selon l'une quelconque des revendications 6 à 9, dans lequel la dose d'ion multi-énergie X+ et X2+ est comprise entre 5.1014 et 1018 ions/cm2, par exemple supérieure ou égale à 1015 ions/cm2 et/ou inférieure ou égale à 5.1017 ions/cm2, voire supérieure ou égale à 5.1015 ions/cm2 et/ou inférieure ou égale à 1017 ions/cm2.
1 1 . - Procédé selon l'une quelconque des revendications 6 à 10, dans lequel on détermine dans une étape préalable la variation d'une propriété caractéristique de l'évolution de la surface d'une pièce massive en polymère, par exemple la résistivité électrique superficielle de la surface, p, d'un matériau polymère représentatif de celui de la pièce à traiter en fonction de doses d'ions multi-énergie X+ et X2+ de manière à déterminer un domaine de doses d'ions où la variation de la propriété caractéristique choisie est avantageuse et évolue de manière différenciée dans trois zones consécutives de doses d'ions formant ledit domaine de doses d'ions, avec une évolution dans la première zone sensiblement linéaire et réversible sur une durée inférieure à un mois, une évolution dans la deuxième zone sensiblement linéaire et stable sur une durée supérieure à un mois enfin une évolution dans la troisième zone constante et stable sur une durée supérieure à un mois et où l'on choisit la dose d'ions muiti énergie X+ et X2+ dans la troisième zone de doses d'ions pour traiter la pièce massive en polymère.
12. - Procédé selon l'une quelconque des revendications 6 à 1 1 , dans lequel on règle des paramètres de la source et de déplacement de la surface de la pièce en polymère à traiter de manière à ce que la vitesse surfacique de traitement de la surface de la pièce en polymère à traiter est comprise entre 0,5 cm2/s et 1000 cm2/s, par exemple supérieure ou égale à 1 cm2/s et/ou inférieure ou égale à 100 cm2/s.
13. - Procédé selon l'une quelconque des revendications 6 à 12, dans lequel on règle des paramètres de la source et de déplacement de la surface de la pièce en polymère à traiter de manière à ce que la dose d'ion implantée soit comprise entre 5.1014 et 1018 ions/cm2, par exemple supérieure ou égale à 5.1015 ions/cm2 et/ou inférieure ou égale à 1017 ions/cm2.
14. - Procédé selon l'une quelconque des revendications 6 à 13, dans lequel on règle des paramètres de la source et de déplacement de la surface de la pièce en polymère à traiter de manière à ce que la profondeur de pénétration de l'ion sur la surface de la pièce en polymère traitée soit comprise entre 0,05 et 3 μιτι, par exemple supérieure ou égale à 0,1 μιτι et/ou inférieure ou égale à 2 μιτι.
15. - Procédé selon l'une quelconque des revendications 6 à 14, dans lequel on règle des paramètres de la source et de déplacement de la surface de la pièce en polymère à traiter de manière à ce que la température de la surface de la pièce en polymère en cours de traitement soit inférieure ou égale à 100°C, par exemple inférieure ou égale à 50°C.
16. - Procédé selon l'une quelconque des revendications 6 à 15, dans lequel la pièce en polymère à traiter défile dans un dispositif de traitement, par exemple à une vitesse comprise entre 5 m/min et 100 m/min.
17. - Procédé selon l'une quelconque des revendications 6 à 16, dans lequel l'implantation d'ion de la surface en polymère de la pièce à traiter est effectuée grâce à une pluralité de faisceaux d'ions multi énergies X+ et X2+ produits par une pluralité de sources d'ions.
18. - Procédé selon l'une quelconque des revendications 6 à 17, dans lequel le type de polymère de la pièce est choisi parmi les polycarbonates (PC), les polyéthylènes (PE), les polyéthylènes téréphtalates (PET), les polypropylènes (PP), les polyamides (PA), les polyméthyleacrylates (PMMA), le polychlorure de vinyle (PVC) et/ou le polytétrafluoroéthylène (PTFE).
19. - Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel ledit dispositif de distribution comporte un réservoir contenant le produit fluide, un organe de distribution, tel qu'une pompe ou une valve, fixé sur ledit réservoir, et une tête de distribution pourvue d'un orifice de distribution, pour actionner ledit organe de distribution.
20. - Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel ledit produit fluide est un produit fluide pharmaceutique destiné à être pulvérisé et/ou inhalé de manière nasale ou orale.
21 . - Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel ledit procédé est réalisé en continu sur la chaîne de montage et d'assemblage du dispositif de distribution de produit fluide.
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