EP1702366A1 - Composant semiconducteur actif a surface reduite - Google Patents

Composant semiconducteur actif a surface reduite

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EP1702366A1
EP1702366A1 EP04805873A EP04805873A EP1702366A1 EP 1702366 A1 EP1702366 A1 EP 1702366A1 EP 04805873 A EP04805873 A EP 04805873A EP 04805873 A EP04805873 A EP 04805873A EP 1702366 A1 EP1702366 A1 EP 1702366A1
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EP
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region
type
fingers
conductivity
conductive
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Withdrawn
Application number
EP04805873A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Jean-Luc Morand
Jean-Baptiste Quoirin
Frédéric Lanois
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STMicroelectronics SA
Original Assignee
STMicroelectronics SA
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Publication date
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Abstract

L'invention concerne un composant semiconducteur, dans lequel les jonctions actives s'étendent perpendiculairement à la surface d'une puce semiconductrice sensiblement sur toute l'épaisseur de celle-ci. Les contacts avec les régions devant être connectées sont pris par des doigts conducteurs (32, 34) traversant sensiblement toute la région avec laquelle on souhaite établir un contact.

Description

COMPOSANT SEMICONDUCTEUR ACTIF A SURFACE REDUITE
Domaine de l' invention La présente invention concerne un nouveau type de composant semiconducteur. La présente invention s'applique plus particulièrement aux composants de puissance et aux composants de protection destinés à supporter de hautes tensions, ces composants étant généralement qualifiés de composants discrets bien que plusieurs tels composants puissent être prévus sur une même puce, et/ou qu'ils puissent être associés à des circuits logiques prévus sur la même puce. Exposé de l' art antérieur Les figures 1A et 1B représentent à titre d'exemple une vue en perspective et une vue en coupe d'une structure de diode de puissance verticale classique. Cette diode est formée à partir d'un substrat comprenant une région 1 fortement dopée de type N (N+) et une couche 2 faiblement dopée de type N revêtue d'une couche 3 de type P. La face supérieure est revêtue d'une metallisation d'anode 4 et la face inférieure est revêtue d'une metallisation de cathode 5. La référence 6 désigne une couche isolante. La figure 2 est une vue en coupe d'un thyristor de puissance vertical. Ce thyristor comprend un substrat 10 faiblement dopé de type N. Du côté de la surface supérieure est formé un caisson 11 de type P contenant une région de cathode 12 de type N. Du côté de la surface inférieure est formée une couche 13 d'anode de type P. Il est également prévu une metallisation d'anode MA, une metallisation de cathode MK et une metallisation de gâchette MG. Pour éviter que la metallisation d'anode vienne court-circuiter le substrat 10, ou pour séparer ce thyristor d'un composant voisin, il est généralement prévu un mur d'isolement périphérique de type P 15. Incidemment, on notera que dans la présente descrip- tion, le terme "diode" désigne une diode PN ou Schottky destinée à servir en tant que diode de puissance, de protection ou à ava¬ lanche. Une diode est un composant dipolaire ayant deux bornes destinées à être connectées à des éléments d'un circuit électrique ou électronique, discret ou intégré, pour, selon le cas, laisser passer un courant en direct et bloquer un courant en inverse (diode de redressement) , ou au contraire laisser passer un courant inverse quand la tension à ses bornes dépasse un certain seuil (diode de protection) . Dans le thyristor de la figure 2, la surface de séparation entre le mur d'isolement 15 de type P et le substrat 1 de type N n'est jamais destinée à être passante, mais seulement ou bien à permettre que la périphérie du composant soit isopotentielle, au potentiel de la face arrière, ou bien à isoler le caisson 1 d'un caisson adjacent contenant un autre composant. Cette surface de séparation n'est pas associée à des bornes destinées à être connectées à des éléments d'un circuit électrique ou électronique. Une telle surface de séparation ne constitue pas une diode (tantôt passante tantôt bloquée) liée à des bornes de connexion à un circuit. Un inconvénient des composants verticaux réside dans leur résistance à l'état passant. En effet, les épaisseurs des diverses couches et régions, sont optimisées en fonction des caractéristiques souhaitées de la diode. En particulier, l'épaisseur de la couche de type N 2 (diode) ou 10 (thyristor) doit être suffisamment élevée pour que le composant ait une tension de claquage désirée mais doit être aussi faible que possible pour limiter la résistance à l'état passant du compo¬ sant. Dans le cas d'une diode, la couche N+ 1 n'a aucun rôle actif dans le fonctionnement de la diode. Elle sert simplement à assurer un contact ohmique avec la metallisation et est utilisée pour réduire la résistance de la diode à l'état passant liée au fait qu'une plaquette de silicium a dans les technologies courantes une épaisseur de 300 à 500 um, dans la plupart des cas bien supérieure à l'épaisseur souhaitée de la couche N 2 (par exemple 60 μm pour supporter 600 V) . Dans le cas du thyristor, l'épaisseur de la couche 10 est également imposée par l'épais¬ seur de la plaquette de silicium et divers moyens, souvent complexes, sont mis en oeuvre pour la réduire. Un autre inconvénient des composants verticaux est que la surface des jonctions actives, est liée à la surface de la puce semiconductrice occupée par le composant, ces jonctions étant horizontales (dans des plans parallèles aux faces princi¬ pales de la diode) . De plus, de tels composants destinés à supporter de hautes tensions, posent de nombreux problèmes pour assurer la tenue en tension à la périphérie de la jonction semiconductrice ou Schottky, ainsi que pour isoler le composant dans son ensemble et assurer sa protection (mur d'isolement) . On a décrit uniquement à titre d'exemple de composants verticaux une diode PNN+ et un thyristor, les problèmes indiqués ci-dessus concernent de façon générale les composants de puissance ou haute tension verticaux, par exemple des diodes Schottky, des commutateurs bidirectionnels, ou des composants à commande en tension, de type MOS . Les figures 3A et 3B sont une vue en coupe et une vue de dessus partielles d'un exemple de structure de transistor MOS de puissance vertical multicellulaire classique. Ce transistor est constitué à partir d'une couche ou substrat 21 faiblement dopé de type N comportant du côté de sa face arrière une couche 22 fortement dopée de type N (N+) . Contrairement à ce qui est représenté, la couche N+ peut être beaucoup plus épaisse que le substrat N. Du côté de la surface supérieure du substrat 21, sont formés des caissons P comprenant une partie centrale plus fortement dopée 23 et une partie périphérique plus faiblement dopée 24. Sensiblement au centre de ces caissons P, est formé un anneau 25 fortement dopé de type N. La partie 26 du caisson P externe à l'anneau N 25 est surmontée d'une grille conductrice 27 isolée par une mince couche isolante 28. La surface supérieure et la surface latérale de la grille 27 sont isolées par une couche isolante 29 et l'ensemble est revêtu d'une metallisation de source MS. La face inférieure du compo¬ sant est revêtue d'une metallisation de drain MD. Toutes les grilles 27 sont reliées à une borne de grille commune non représentée . La figure 3B est une vue de dessus de la structure sans la grille et la metallisation de source MS. De mêmes éléments y sont désignés par les mêmes références qu'en figure 3A. Pour la simplicité de la figure, on a représenté chaque cellule selon un motif carré. D'autres formes sont possibles et couramment utilisées. Quand la source est négative par rapport au drain et que la grille est convenablement polarisée, le courant s'écoule du drain à la source en passant par la région de canal selon les flèches I illustrées en figures 3A et 3B dans une portion de la structure. Des courants similaires circulent à partir de chacune des cellules. Ces courants s'écoulent essentiel- lement verticalement, d'où l'appellation de transistor MOS vertical. Un inconvénient des transistors MOS. de puissance verticaux réside dans leur résistance à l'état passant. En effet, des considérations pratiques rendent difficile d'opti- miser les épaisseurs des diverses couches et régions en fonction des caractéristiques souhaitées du transistor. En particulier, l'épaisseur de la couche 21 de type N doit être suffisamment élevée pour que le composant ait une tension de claquage désirée mais doit être aussi faible que possible pour limiter la résis- tance à l'état passant du composant. La couche N+ 22 sert à prendre un contact ohmique de drain sur la face arrière. Son épaisseur pourrait être réduite à quelques micromètres, mais cela conduirait à des épaisseurs de plaquette de silicium trop fines (<100 μm) , incompatibles avec les outils de production actuels. Aussi utilise-t-on des couches N+ 22 très épaisses (quelques centaines de micromètres) . Cette couche introduit alors une résistance série additionnelle qui réduit les performances à l'état passant du transistor. Un autre inconvénient des composants verticaux de type MOS est que la largeur de canal (périmètre des caissons P 24) dépend en particulier de la surface de la puce semiconductrice occupée par le transistor et ne peut être augmentée au-delà de certaines limites. On a décrit, uniquement à titre d'exemple de composant vertical de type MOS, un transistor MOS. Les problèmes indiqués ci-dessus concernent de façon générale les composants MOS de puissance ou haute tension verticaux, par exemple des transis¬ tors bipolaires à grille isolée (IGBT) et autres composants à commande en tension, de type MOS ou Schottky-MOS, à enrichisse- ment ou à déplétion. Résumé de l'invention La présente invention vise à prévoir de nouveaux types de diodes et plus généralement de nouveaux types de composants semiconducteurs de puissance ou haute tension permettant d'éviter au moins certains des inconvénients susmentionnés des composants verticaux, en particulier d'augmenter la surface de jonction active par rapport à la surface de la puce dans laquelle le composant est formé, de réduire la chute de tension à l'état passant, de simplifier la structure périphérique des composants individuels... Pour atteindre ces objets, la présente invention prévoit un composant semiconducteur dans lequel les jonctions actives s'étendent perpendiculairement à la surface d'une puce semiconductrice sensiblement sur toute l'épaisseur de celle-ci. Selon un mode de réalisation de la présente invention, les contacts avec les régions devant être connectées sont pris par des doigts conducteurs traversant sensiblement toute la région avec laquelle on souhaite établir un contact. Selon un mode de réalisation de la présente invention, les doigts conducteurs sont des doigts métalliques. Selon un mode de réalisation de la présente invention, le composant semiconducteur est de type multicellulaire et les jonctions sont constituées de plusieurs cylindres perpendicu- laires aux faces principales du substrat. Selon un mode de réalisation de la présente invention, les jonctions actives s'étendent selon au moins un cylindre perpendiculaire aux faces principales d'une puce semiconductrice sensiblement sur toute l'épaisseur de celle-ci, le ou lesdits cylindres ayant, en coupe, une section en forme de courbe fermée ondulée . Selon un mode de réalisation de la présente invention, la courbe ondulée est une courbe de type courbe de Sierpinski. Selon un mode de réalisation de la présente invention, les contacts avec les régions devant être connectées sont pris par des doigts conducteurs perpendiculaires aux faces principales de la puce semiconductrice et traversant sensiblement toute la région avec laquelle on souhaite établir un contact. Selon un mode de réalisation de la présente invention, ledit au moins un doigt conducteur solidaire de la couche semiconductrice la plus externe constitue un cylindre ou des portions de cylindre entourant ladite couche semiconductrice la plus externe . Des modes de réalisation particuliers de la présente invention sont décrits dans lesquels le composant semiconducteur est une diode, un transistor bipolaire, un thyristor, un transistor MOS de puissance, un transistor IGBT, et des assemblages de tels composants. Brève description des dessins Ces objets, caractéristiques et avantages, ainsi que d'autres de la présente invention seront exposés en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faite à titre non-limitatif en relation avec les figures jointes parmi lesquelles : les figures 1A et 1B, décrites précédemment, sont une vue en perspective et une vue en coupe schématique d' une structure de diode verticale classique ; la figure 2, décrite précédemment, est une vue en coupe schématique d'une structure de thyristor vertical classique ; les figures 3A et 3B, décrites précédemment, sont des vues schématiques en coupe et de dessus d'une structure de transistor MOS vertical classique ; la figure 4 est une vue en perspective schématique d'un mode de réalisation d'une diode selon l'invention ; la figure 5 est une vue en perspective schématique d'un mode de réalisation d'une diode selon l'invention ; la figure 6A est une vue en perspective schématique d'un autre mode de réalisation d'une diode selon la présente invention ; la figure 6B est une vue de dessus schématique d'une cellule de diode selon la présente invention ; la figure 6C est une vue de dessus schématique d'une variante de diode selon la présente invention ; la figure 7 est une vue de dessus schématique d'une mer de cellules de diode selon la présente invention ; les figures 8A et 8B sont respectivement une vue en coupe schématique et un schéma de circuit d'une diode selon la présente invention ; les figures 9A et 9B sont respectivement une vue en coupe schématique et un schéma de circuit d'un assemblage de diodes selon la présente invention ; les figures 10A et 10B sont respectivement une vue en coupe schématique et un schéma de circuit d'un autre assemblage de diodes selon la présente invention ; les figures 11A et 11B sont respectivement une vue en coupe schématique et un schéma de circuit d'un autre assemblage de diodes selon la présente invention ; les figures 12A et 12B sont respectivement une vue en coupe schématique et un schéma de circuit d'un autre assemblage de diodes selon la présente invention ; les figures 13A et 13B sont une vue en perspective schématique et une vue en coupe d'un transistor bipolaire selon la présente invention ; les figures 14A et 14B sont une vue en perspective schématique et une vue en coupe d'un thyristor selon la présente invention ; la figure 15A est une vue en coupe schématique d'un mode de réalisation de transistor MOS selon l'invention ; la figure 15B est une vue de dessus schématique d'un mode de réalisation de transistor MOS selon l'invention ; la figure 15C est une vue de dessus schématique d'un autre mode de réalisation de transistor MOS selon l'invention ; les figures 16A et 16B sont respectivement un schéma de circuit et une vue en coupe schématique d'un montage en parallèle et en opposition de deux transistors IGBT selon 1 ' invention ; et les figures 17A et 17B sont respectivement un schéma de circuit et une vue en coupe schématique d'un assemblage d'un transistor MOS selon l'invention et d'une diode rapide. Description détaillée Comme cela est classique dans le domaine de la représentation des semiconducteurs, les diverses figures ne sont pas tracées à l'échelle. Notamment, dans ces diverses figures, les dimensions latérales ont été beaucoup exagérées par rapport aux directions verticales. En effet, une plaquette de silicium a couramment une épaisseur de 300 à 500 um - et des épaisseurs plus élevées pourront être choisies pour une mise en oeuvre de l'invention - tandis que des motifs et des vias peuvent être définis selon des dimensions de l'ordre de 1 à 10 μm, ou plus, par exemple de 5 à 50 um dans certaines technologies. La figure 4 est une vue en perspective schématique d'une portion de composant semiconducteur dans laquelle est réalisé un ensemble de cellules de diodes selon la présente invention. Les faces principales du composant correspondent aux faces supérieure et inférieure d'une tranche semiconductrice et la face verticale, dont l'épaisseur est désignée par e, correspond à l'épaisseur de la tranche semiconductrice. La jonction de chaque cellule de diode est réalisée de façon verticale dans l'épaisseur de la tranche semiconductrice. En figure 4, la structure est réalisée à partir d'une tranche de silicium 31 faiblement dopée de type N. Pour chaque cellule, une metallisation 32 en forme de plaque formée vertica- lement dans une tranchée s'étend sur toute la hauteur ou sur la plus grande partie de la hauteur de la tranche semiconductrice. Une région 33 de type P est adjacente à une partie de la tranche
31 de type N et une metallisation 34 en forme de plaque s'étend verticalement dans une tranchée adjacente à ladite partie de la tranche 31 de type N. Ainsi, la jonction de la diode est une jonction verticale entre les régions N et P 31 et 33. Il est seulement utile de prévoir entre la région N et la metallisation
32 une très fine couche de type N+ (non représentée) pour assurer le contact ohmique sans qu'il soit nécessaire comme dans le cas des diodes classiques de prévoir une région N+ épaisse. Ainsi, la chute de tension à l'état passant dans la diode est réduite . La figure 5 représente une variante de topologie d'une diode multicellulaire selon la présente invention, étant entendu que dans certains cas on pourra utiliser une seule cellule de diode. La structure est à nouveau formée dans un substrat 31 de type N dont l'épaisseur est désignée par e. Les métallisations, au lieu de correspondre à des plaques formées dans des tranchées parallèles sont constituées de doigts cylindriques. Une façon de réaliser une telle structure est de former à partir d'une surface de la tranche des premières ouvertures 32 s 'étendant de préférence sur toute la hauteur e du substrat. A partir de ces ouvertures est formée une diffusion 33 de type P, puis ces ouvertures sont remplies de métal pour constituer des vias 32. Des deuxièmes ouvertures 34, en quinconce par rapport aux ouvertures 32, s'étendent également de préférence sur toute la hauteur du substrat. Une courte diffusion N+ (non représentée) est formée à partir de ces deuxièmes ouvertures qui sont remplies de métal pour constituer des vias 34. Tous les vias 32 sont reliés entre eux et tous les vias 34 sont reliés entre eux par des métallisations d'anode et de cathode, non représentées, des couches isolantes, non représentées, assurant les isolations nécessaires. On obtient entre ces métallisations, par exemple respectivement formées sur les faces supérieure et inférieure de la structure, une diode à jonctions verticales à faible résis¬ tance à l'état passant et de densité bien supérieure à ce qui pourrait être obtenu avec une diode classique à jonction horizontale. Ce type de structure présente en outre l'avantage d'éviter les problèmes de tenue en tension en périphérie de diode que posent les structures classiques. On notera que, au lieu de prévoir de simples doigts conducteurs 34, du métal pourrait être présent tout autour des zones 31 de type N utiles. La structure peut alors se voir comme une plaque conductrice (métallique) comportant des ouvertures contenant des éléments cylindriques concentriques comprenant un via central 32, entouré d'un cylindre semiconducteur 33 de type P, entouré d'un cylindre semiconducteur 31 de type N, éventuellement entouré d'un cylindre semiconducteur N+. La figure 6A est une vue en perspective schématique d'un mode de réalisation de la présente invention qui constitue une variante actuellement préférée du mode de réalisation décrit en relation avec la figure 5. Dans cette variante préférée, le contour de la section de chaque cylindre correspond à une courbe fractale et plus particulièrement à une courbe de type Sierpinski qu'on appellera ci-après par simplification et gêné- ralisation "courbe ondulée". Ceci permet d'augmenter la surface de jonction pour une surface de puce donnée. La figure 6B est une vue de dessus agrandie d'un motif de la figure 6A. La figure 6C représente des courbes fractales de
Sierpinski légèrement modifiées, qui augmentent encore la surface de jonction. La figure 7 est une vue de dessus d'une plaquette de silicium dans laquelle on a formé un grand nombre de cylindres verticaux à section en forme de courbe ondulée tels que ceux de la figure 6B constituant une mer de cellules de diodes. On peut former des diodes de puissances différentes (pouvant laisser passer des courants plus ou moins importants) en choisissant de découper la plaquette selon 4 motifs élémentaires (bloc Al) , selon 9 motifs élémentaires (bloc A2), ou selon 16 motifs élé¬ mentaires ou plus (bloc A3) . On pourra aussi choisir des découpes selon des contours rectangulaires. Ceci présente l'avantage que, en prévoyant des plaquettes de silicium de même structure, on peut obtenir des diodes de puissance différentes en fonction de la découpe, d'où il résulte une diminution des stocks et des lignes de fabrication. On notera également que les courbes fractales perme¬ ttent un bon équilibre des surfaces anode-cathode. En outre, leur coefficient de forme permet de réaliser des gravures de cylindre en des temps beaucoup plus courts que dans le cas de cylindres à section circulaire. La description ci-dessus vise essentiellement la structure de la diode et l'ordre des étapes de fabrication pourra être modifié. Dans ce qui suit, on utilisera le terme "via" ou
"doigt" pour désigner aussi bien les éléments en forme de plaque de la figure 4 que les éléments en forme de doigt des figures 5 et 6. La figure 8A représente une vue en coupe plus détail- lée d'une structure telle que celle des figures 4 à 6. De mêmes éléments qu'en figures 4 à 6 sont désignés par les mêmes références. Les références 36 et 37 désignent des couches isolantes. La couche isolante 36 sur la face supérieure du substrat recouvre toutes les régions N et la couche isolante 37 sur la face inférieure du substrat recouvre toutes les régions P. Une metallisation Ml de face supérieure est en contact avec tous les vias 32 en contact avec les régions de type P 33 et une metallisation de face inférieure M2 est en contact avec tous les vias 34 en contact avec les régions de type N+ 35, elles-mêmes en contact avec des portions du substrat N 31. Dans l'exemple de la figure 8A, on a représenté les vias de la couche supérieure comme des vias sensiblement traversants et les vias de la couche inférieure comme des vias non traversants. Toutefois, d'autres options pourront être prises selon les technologies de fabrication choisies. La figure 8B représente le schéma équivalent de la structure de la figure 8A entre les métallisations Ml et M2. Selon un avantage de la présente invention, la surface de jonction de l'ensemble des cellules de diodes en parallèle peut être bien supérieure à la surface de la puce contenant ces cellules de diodes, et ce d'autant plus que l'on pourra utiliser des tranches semiconductrices plus épaisses que cela n'est usuel. Un autre avantage de ce type de fabrication est qu'il est possible de réaliser plusieurs composants selon l'invention sur une même tranche, chacun de ces composants pouvant facilement être entouré, si cela est utile, de murs isolants formés de toute façon choisie. Les figures 9A et 9B représentent une vue en coupe schématique et un schéma équivalent de deux diodes ou cellules de diode Dl et D2 en série (montage tandem) formées dans un substrat semiconducteur 40 de type N. En figure 9A, la diode de gauche comprend deux doigts conducteurs presque traversants 41 et 42, partant tous deux de la face supérieure. Le doigt 41 est entouré d'une région P 43 et le doigt 42 est entouré d'une région N+ 44. La diode de droite comprend un doigt conducteur 45 partant de la face supérieure entouré d'une région P 46 et un doigt conducteur 47 partant de la face inférieure entouré d'une région N+ 48. Des couches isolantes sont réalisées de façon qu'une metallisation supérieure Ml est en contact avec le doigt 41, une metallisation isolée M3 relie les doigts conducteurs 42 et 45 et une metallisation de face inférieure M2 est en contact avec le doigt conducteur 47. Comme cela est représenté en vue en coupe partielle en figure 10A et sous forme de schéma en figure 10B, en assemblant deux couples de diodes telles que les diodes Dl et D2 des figures 9A et 9B, et en prévoyant des murs isolants, on peut réaliser un pont redresseur. En figure 10A, la diode de gauche est identique à la diode de gauche de la figure 9A et ses éléments sont désignés par les mêmes références. La diode de droite est également identique à la diode de droite de la figure 9A et ses éléments sont aussi désignés par de mêmes références. La différence essentielle entre les figures 9A et 10A réside dans le positionnement des métallisations. Comme précédemment, la metallisation de face supérieure Ml contacte le doigt 41 et la metallisation de face inférieure M2 contacte le doigt 47. Toutefois, cette fois-ci, la metallisation M3 court-circuitant les doigts conducteurs 42 et 45 n'est pas enfermée dans une couche isolante mais est accessible depuis la surface supérieure. De plus, l'ensemble de la structure est entouré d'un mur 49 en un matériau isolant. En réalisant deux structures identiques à celle de la figure 10A, et en connectant pour ces deux structures les métallisations Ml entre elles, les métallisations M2 entre elles et les métallisations M3 à des bornes distinctes, on obtient un montage de pont redresseur tel que celui illustré en figure 10B. La figure 11A et la figure 11B représentent une combinaison de diodes constituant une diode à avalanche bidirectionnelle. Cette diode est formée dans un substrat semiconducteur de type N 50. Un doigt conducteur 51 partant de la surface supé- rieure est entouré d'une région 52 de type P et un doigt conduc- teur 53 partant de la surface inférieure est entouré d'une région 54 de type P. Une metallisation Ml de face supérieure est en contact avec le doigt 51 et une metallisation M2 de face inférieure est en contact avec le doigt 53. La figure 12A est une vue en coupe et la figure 12B est un schéma de circuit d'un montage de deux diodes en antiparallèle. Les deux diodes sont formées dans un substrat de type N 60. La diode de gauche comprend un doigt conducteur 61 entouré d'une région P 62, solidaire d'une metallisation supérieure Ml. Un doigt conducteur 63 entouré d'une région N+ 64 est solidaire d'une metallisation inférieure M2. A l'inverse, la diode de droite comprend un doigt conducteur 65 entouré d'une région de type N+ 66 solidaire de la metallisation supérieure Ml et un doigt conducteur 67 entouré d'une région N+ 68 solidaire de la metallisation inférieure M2. Les deux diodes sont séparées par un mur isolant 69. Dans les diverses figures, les doigts sont illustrés comme traversants ou non. Cela dépend des modes de réalisation et des technologies de fabrication choisies. Dans le cas de doigts traversants, leur extrémité non connectée à un contact est isolée. Les figures 13A et 13B représentent une vue en perspective partielle et une vue en coupe d'une réalisation selon l'invention d'un transistor bipolaire. Ce transistor bipo- laire est formé dans un substrat de type N 70 et comprend une région d'émetteur 71 fortement dopée de type N autour d'un doigt conducteur central 72 s 'étendant sur toute ou sensiblement toute l'épaisseur du substrat. Une région de base 73 de type P est disposée autour de l'émetteur, entre l'émetteur et une région de collecteur correspondant au substrat 70. Comme le montre mieux la figure 13B, des doigts conducteurs 74 partant de la face inférieure sont entourés de régions N+ 75 et servent de contact de collecteur. Une metallisation intermédiaire M3 du côté de la face supérieure est solidaire de doigts conducteurs 76 faisant contact avec la région de base 73. Comme l'illustre la figure 13A, les doigts conducteurs 76 sont espacés les uns des autres à la façon d'une grille pour permettre un bon fonctionnement de la base. Par contre, dans une réalisation du type de celle des figures 5 et 6, les doigts 74 pourront en fait constituer un cylindre conducteur entourant complètement la cellule de transistor représentée. Les figures 14A et 14B illustrent une structure de thyristor respectivement en perspective et en coupe. La structure est réalisée dans un substrat semiconducteur 80, de type N. Dans une région centrale, un doigt conducteur 81 est entouré d'une région fortement dopée de type N 82 correspondant à la cathode du thyristor et d'une couche P 83. Ces régions peuvent être réalisées en diffusant successivement, à partir d'une ouverture traversante ou sensiblement traversante, un dopant P puis un dopant N ou bien en diffusant simultanément des dopants dont les vitesses de diffusion sont convenablement différentes. Le doigt 81 est connecté à une metallisation de cathode MK. Des doigts conducteurs 84 pénètrent dans la région de type P 83 et constituent des prises de contact de gâchette solidaires d'une metallisation de gâchette MG. Du côté de la face inférieure, à la périphérie du composant, sont réalisés des doigts conducteurs 85 entourés d'une région de type P 86 qui constitue l'anode du thyristor et qui est reliée par les doigts 85 à une metallisation d'anode MA. On notera que l'on peut réaliser, comme cela est classique dans un thyristor, des courts-circuits gâchette- cathode localisés au moyen de doigts conducteurs 87 pénétrant partiellement seulement dans le substrat entre la région N 82 et la région P 84. Des couches isolantes non référencées sont destinées à séparer les diverses métallisations et à isoler les zones appropriées. L'ensemble de la structure pourra être entouré d'un mur isolant. Un triac pourra être réalisé en montant deux thyris- tors du type ci-dessus en parallèle et en opposition. La figure 15A est une vue en coupe schématique d'une portion de tranche semiconductrice dans laquelle est réalisé un ensemble de cellules de transistors MOS selon la présente invention. Les faces principales du composant correspondent aux faces supérieure et inférieure d'une tranche semiconductrice, et la dimension verticale, dont la hauteur est désignée par e, corres- pond à l'épaisseur de la tranche semiconductrice. Les figures 15B et 15C sont deux exemples simplifiés de vues de dessus de la structure formée dans le substrat semiconducteur, correspondant toutes deux à la vue en coupe de la figure 15A. Une cellule élémentaire selon la présente invention comprend un doigt conducteur 111 s 'étendant sur toute l'épaisseur de la tranche ou sur une majeure partie de cette épaisseur. Le doigt conducteur 111 est bordé d'une région 112 fortement dopée de type N (N+) , elle-même bordée d'une région intermé- diaire 113 de type P puis d'une région 114 faiblement dopée de type N et d'une région 115 fortement dopée de type N servant à une reprise de contact ohmique avec un doigt conducteur 116. Comme le doigt conducteur 111, les régions 112, 113, 114 et 115 et le doigt conducteur 116 s'étendent sensiblement sur toute l'épaisseur du substrat, et les jonctions ou limites entre ces éléments sont sensiblement verticales. Le doigt conducteur 111 correspond à une metallisation de source, la région 112 à une zone de source, la région intermédiaire 113 à la zone dans laquelle il peut se former un canal, la région 114 à une zone de drain, la région 115 à une couche de reprise de contact de drain, et le doigt conducteur 116 à une metallisation de drain. La figure 15B est une vue de dessus de la présente invention dans un mode de réalisation dans lequel les doigts conducteurs sont réalisés sous forme de plaques conductrices verticales s 'étendant dans des tranchées ménagées dans un substrat semiconducteur. On voit mieux en figure 15B, le mode de réalisation de la grille du transistor MOS selon la présente invention. Cette grille est réalisée au moyen de doigts conducteurs espacés 121 entourés d'une couche isolante 122 s 'étendant verticalement dans la région intermédiaire 113. Quand une tension positive est appliquée entre les doigts de grille 121 et le doigt de source 111, un canal se forme dans la zone verticale de la région intermédiaire 113 comprise entre deux doigts de grille, de sorte que le transistor MOS devient conducteur entre sa source et son drain, et un courant indiqué par les flèches I est susceptible de circuler horizontalement du drain à la source. On a décrit ci-dessus un transistor MOS à enrichissement ; dans le cas d'un transistor MOS à déplétion, la région intermédiaire 113, au moins au voisinage de l'isolant de grille serait faiblement dopée de type N et l'application d'une tension entre les doigts de grille 121 et le doigt de source 111 rendrait le transistor MOS non conducteur entre sa source et son drain. On a également représenté en figure 15B des doigts conducteurs 123 pénétrant sur tout ou partie de l'épaisseur du substrat et permettant d'établir un court-circuit entre le caisson intermédiaire 113 et la région de source 112, ce qui constitue l'équivalent du court-circuit établi par la metallisation de source MS de la figure 3A entre l'anneau N+ 25 et la partie centrale du caisson P 23. La figure 15C illustre en vue de dessus un autre mode de réalisation d'un composant selon la présente invention dans lequel chaque cellule de transistor MOS présente un contour fermé. Le doigt de source central 111 est entouré d'une région annulaire 112 de type N+, elle-même entourée d'une région inter¬ médiaire annulaire 113 de type P, d'une région annulaire 114 de type N, et d'une région annulaire 115 fortement dopée de type N (N+) . En figure 15C, on a représenté la structure comme complètement entourée d'un anneau conducteur 116. En pratique, cet anneau pourra être constitué d'une succession de doigts conducteurs voisins les uns des autres. Pour simplifier la représentation, on n'a pas représenté en figure 15C les doigts conducteurs 123. On n'a pas représenté en figures 15A, 15B et 15C les métallisations de drain, de grille et de source. On comprendra, que tous les doigts de grille 121 sont reliés à une même metallisation, tous les doigts de source 111 à une même metallisation et tous les doigts de drain 116 à une même metallisation. De préférence, comme dans un composant classique, les métallisa- tions de drain et de source sont réalisées sur deux faces opposées de la puce semiconductrice. Selon un avantage de l'invention, la metallisation de grille peut, au choix et aussi simplement, être réalisée côté drain ou côté source, ce qui simplifie des assemblages monolithiques de composants selon l'invention. La réalisation d'un composant selon la présente invention apparaîtra à l'homme de l'art qui pourra utiliser des techniques classiques de percement d'ouvertures en forme de vias ou de tranchées, de dopage à partir des ouvertures ainsi formées, puis de remplissage de ces ouvertures par un conducteur, par exemple un métal, par exemple du cuivre, ce remplissage étant précédé ou non de la formation d'une couche isolante. On comprendra que, bien que l'on emploie dans la présente description les termes vias ou doigts, ces termes recouvrent aussi les structures en forme de tranchées telles que celles de la figure 15B ou les structures en forme d'anneau telles que la metallisation 116 de la figure 15C. La description ci-dessus vise essentiellement la structure du transistor MOS et l'ordre des étapes de fabrication pourra être modifié. Comme on l'a indiqué précédemment, la présente invention s'applique non seulement à un transistor MOS mais aussi de façon générale à tout composant MOS de puissance ou haute tension, par exemple des transistors bipolaires à grille isolée (IGBT) et autres composants à commande en tension, de type MOS ou Schottky-MOS, à enrichissement ou à dépletion. Notamment, on pourra passer simplement de la structure de transistor MOS de la figure 15 à une structure d'IGBT en remplaçant la couche 115 fortement dopée de type N par une couche fortement dopée de type P. Selon un avantage de la présente invention, la largeur de canal par unité de surface est bien plus grande que celle obtenue dans un transistor MOS vertical diffusé (VDMOS) tel que celui de la figure 3, de même que la surface totale du drain de l'ensemble des cellules peut être supérieure à la surface de la puce contenant ces cellules. Un autre avantage de la présente invention est qu'il est possible de réaliser plusieurs composants selon l' invention dans une même tranche semiconductrice, chacun de ces composants pouvant facilement être entouré de murs isolants formés de toute façon choisie. Des exemples de tels assemblages vont être donnés en figures 16 et 17. La figure 16A représente le schéma d'un assemblage en anti-parallele de deux transistors IGBT selon la présente mven- tion comprenant deux bornes principales Tl et T2 et deux bornes de commande Gl et G2. Dans la description ci-après, on appellera source et drain les bornes principales du transistor IGBT pour simplifier l'analogie avec le transistor MOS décrit précédemment. La figure 16B représente un exemple de réalisation schématique d'un tel assemblage dans lequel de mêmes éléments qu'en figure 15A sont désignés par de mêmes références. La partie gauche de la figure représente un transistor IGBT comprenant un doigt de source 111-1, entouré d'une région N+ 112-1, d'une région intermédiaire 113-1 traversée par des doigts de grille non visibles dans la figure. Une région de type N 114-1 s'étend entre la région 113-1 et une région de type P+ 132-1 qui entoure un doigt de drain 116-1. Cet ensemble est séparé par un mur d'isolement 131 d'une structure disposée symétriquement par rapport à ce mur et comprenant un doigt de drain 116-2 entouré d'une région P+ 132-2 et séparé par une région faiblement dopée de type N 114-2 d'une région intermédiaire 113-2 dans laquelle est susceptible de se former un canal et dans laquelle pénètrent des doigts de grille non représentés. La région intermédiaire 113-2 est en contact avec une région fortement dopée de type N 112-2 en contact avec un doigt de source 111-2. Bien que l'on ait représenté une seule cellule, on comprendra que chacune des structures est constituée d'un ensemble de cellules, comme cela a été décrit précédemment . Les doigts de source des cellules situées à gauche du mur d'isolement sont solidaires d'une metallisation supérieure Tl, de même que les doigts de drain 116-2 des cellules disposées à droite du mur d'isolement. Les doigts de drain 115-1 des cellules situées à gauche du mur d'isolement sont reliés à une metallisation inférieure T2 de même que les doigts de source 111-2 des cellules situées à droite du mur d'isolement. On a représenté seulement de façon symbolique les connexions Gl et G2 dont on notera qu'elles peuvent, sans difficulté, être réalisées sur une même face du composant . Cette structure présente, par rapport aux structures monolithiques assemblant des transistors IGBT verticaux classiques, l'avantage que les deux transistors IGBT sont parfaitement symétriques et que les caractéristiques de ces transistors sont également parfaitement symétriques. Les structures selon la présente invention permettent en outre d'associer des composants MOS tels que décrits précédemment et des composants bipolaires également réalisés avec des jonctions verticales (orthogonales aux faces principales du substrat) . La figure 17A représente un exemple d'une telle asso- dation, comprenant un transistor MOS, TMOS, et une diode, D, l'anode de la diode étant reliée au drain du transistor MOS. Ce circuit constitue un élément couramment utilisé en pratique et difficile à intégrer par les technologies classiques. La figure 17B représente un mode de réalisation d'une telle structure. En figure 17B, la partie de gauche est strictement identique à la partie de gauche de la figure 16B sauf que la région de type P entourant la région de drain est remplacée par une région de type N+ pour constituer un transistor MOS. Ce transistor MOS comprend un doigt de source 111, une région de source 112, une région intermédiaire 113, une région de drain 114, et un doigt de drain 116 entouré d'une région 115 fortement dopée de type N. Cet ensemble est séparé par un mur d'isolement 132 d'une structure de diode comprenant un doigt de cathode 140 entouré d'une région 141 fortement dopée de type N et séparée, par une région 142 faiblement dopée de type N, d'un doigt d'anode 143 entouré d'une région 144 de type P. Le doigt de source du transistor MOS est relié à une première metallisation principale Ml. Les doigts de grille (non représentés) sont reliés à une metallisation de commande Gl. Le doigt de cathode 140 de la diode est relié à une metallisation M2. Les doigts de drain des cellules de transistor MOS ainsi que les doigts d'anode 143 des cellules de diodes sont reliées à une metallisation M3. Dans l'exemple représenté, la metallisation M3 est du côté de la face arrière et les métallisations Ml, M2 et Gl du côté de la face avant. Les diverses structures illustrées sont susceptibles de nombreuses variantes et modifications, et l'homme de l'art notera que des variantes décrites pour certains modes de réali¬ sation s'appliquent à d'autres modes de réalisation. De même que l'on a illustré en figures 4 à 7 des assemblages de cellules de diode en parallèle, on pourra par répétition d'un motif réaliser des thyristors ou des transistors multicellulaires. Chacune des cellules pourra être réalisée à partir de tranchées parallèles comme en figure 4 ou être à géométrie cylindrique, comme en figures 5 et 6. On pourra bien entendu choisir des cylindres à section non circulaire, par exemple polygonale. De même, de nombreuses associations de composants pourront simplement être réalisées dans un même substrat, séparées ou non par des murs d'isolement. D'autre part, de nombreux modes de réalisation apparaîtront à l'homme de l'art et seront possibles en fonction de l'évolution de la technique, la réalisation de doigts conducteurs ou de plaques formées dans des tranchées n'étant que des exemples d'approches possibles à la réalisation des structures à jonctions verticales décrites. On notera que, comme une plus grande densité de composants est obtenue avec des composants à jonctions verticales selon la présente invention et qu'il peut passer plus de courant par unité de surface de puce qu'avec des composants classiques à jonctions horizontales, plus de chaleur sera générée par unité de surface quand ces composants sont passants (encore que la chute de tension à l'état passant est plus faible grâce à l'optimisation possible de l'épaisseur de la couche de tenue en tension inverse) . Toutefois, cette chaleur pourra être avanta- geusement extraite grâce aux doigts conducteurs traversants. En effet, des doigts métalliques ont une conductivite thermique 2 à 3,5 fois plus élevée que le volume équivalent de silicium. Ces doigts pourront occuper une surface importante et notamment les "doigts" périphériques pourront occuper toute la surface libre entre les cellules élémentaires d'un composant. On notera également que, dans la présente description et les revendications ci-après, le terme jonction est utilisé pour désigner aussi bien un contact entre semiconducteurs de types de conductivite différents qu'un contact Schottky entre un semiconducteur et un matériau de type métal ou alliage métallique.

Claims

REVENDICATIONS
1. Composant semiconducteur caractérisé en ce que les jonctions actives s'étendent perpendiculairement à la surface d'une puce semiconductrice sensiblement sur toute l'épaisseur de celle-ci.
2. Composant semiconducteur selon la revendication 1, dans lequel les contacts avec les régions devant être connectées sont pris par des doigts conducteurs traversant sensiblement toute la région avec laquelle on souhaite établir un contact.
3. Composant semiconducteur selon la revendication 2, dans lequel les doigts conducteurs sont des doigts métalliques.
4. Composant semiconducteur selon la revendication 1, de type multicellulaire, dans lequel les jonctions sont constituées de plusieurs cylindres perpendiculaires aux faces principales du substrat.
5. Composant semiconducteur selon la revendication 1, dans lequel les jonctions actives s'étendent selon au moins un cylindre perpendiculaire aux faces principales d'une puce semi- conductrice sensiblement sur toute l'épaisseur de celle-ci, le ou lesdits cylindres ayant, en coupe, une section en forme de courbe fermée ondulée.
6. Composant semiconducteur selon la revendication 5, dans lequel ladite courbe ondulée est une courbe de type courbe de Sierpinski.
7. Composant semiconducteur selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, dans lequel les contacts avec les régions devant être connectées sont pris par des doigts conducteurs perpendiculaires aux faces principales de la puce semi- conductrice et traversant sensiblement toute la région avec laquelle on souhaite établir un contact .
8. Composant semiconducteur selon la revendication 7, dans lequel ledit au moins un doigt conducteur solidaire de la couche semiconductrice la plus externe constitue un cylindre ou des portions de cylindre entourant ladite couche semiconductrice la plus externe.
9. Composant semiconducteur selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, constituant une diode comprenant un doigt conducteur central (32) s'etendant sur toute l'épaisseur du substrat entouré d'une région d'un premier type de conductivite (33) et d'une région d'un second type de conductivite (31), un contact étant repris à la périphérie de la région du second type de conductivite par au moins un doigt conducteur périphérique, le doigt conducteur central étant relié à une première metallisation s'etendant sur toute une face du substrat, et ledit au moins un doigt conducteur périphérique étant relié à une metallisation sur l'autre face du substrat.
10. Composant semiconducteur selon la revendication 1, constituant une diode comprenant une alternance de régions d'un premier type de conductivite (33) et d'un second type de conduc- tivité (31) s'etendant sur toute l'épaisseur du substrat, les régions d'un premier type étant traversées par des doigts conducteurs (32) reliés à une metallisation s'etendant sur toute une face du substrat, et les régions du second type étant traversées par des doigts conducteurs (34) reliés à une metallisation sur l'autre face du substrat.
11. Composant semiconducteur selon la revendication 10, formé dans un substrat semiconducteur de type N, dans lequel les doigts conducteurs pénétrant les régions de type N sont entourés de régions (35) fortement dopées de type N.
12. Composant semiconducteur selon la revendication 1, constituant un transistor bipolaire comprenant en alternance une région d'un premier type de conductivite (71), une région d'un deuxième type de conductivite (73) , et une région du premier type de conductivite (70), chacune de ces régions s'etendant sur toute l'épaisseur du substrat et étant contactée par au moins un doigt conducteur, chacun de ces doigts conducteurs (72, 76, 74) étant respectivement connecté à une metallisation d'émetteur (Ml), à une metallisation de base (M3) , et à une metallisation de collecteur (M2) .
13. Composant semiconducteur selon la revendication 1, constituant un thyristor comprenant successivement une première région d'un premier type de conductivite (82), une deuxième région du deuxième type de conductivite (83), une troisième région du premier type de conductivite (80) et une quatrième région du deuxième type de conductivite (86) , chacune de ces régions s'etendant sur toute l'épaisseur du substrat, un doigt conducteur (81) s'etendant dans toute la première région, au moins un doigt conducteur (84) s'etendant dans toute la deuxième région, et au moins un doigt conducteur (85) s'etendant dans toute la deuxième région.
14. Composant semiconducteur selon la revendication
13, dans lequel le premier type de conductivite est le type N, et le deuxième type de conductivite est le type P, la première région étant une région de cathode et la quatrième région une région d'anode, et dans lequel des métallisations localisées (87) s'étendent verticalement entre la région de gâchette et la région de cathode pour constituer des courts-circuits gâchette- cathode localisés.
15. Composant semiconducteur selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, constituant un transistor MOS de puissance comprenant en alternance une région de source d'un premier type de conductivite (112) , une région intermédiaire (113) , et une région de drain du premier type de conductivite (114, 115), chacune de ces régions s'etendant sur toute l'épaisseur du substrat, les régions de source et de drain étant contactées par des doigts ou plaques conducteurs (111, 116) tra¬ versant sensiblement le substrat, des doigts conducteurs isolés et espacés (121) traversant de haut en bas la région intermédiaire (113), la distance horizontale entre les doigts isolés (121) étant telle que la région intermédiaire puisse être inversée quand une tension appropriée est appliquée à ces doigts isolés.
16. Composant semiconducteur selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, constituant un transistor IGBT comprenant en alternance une région de source d'un premier type de conductivite (112), une région intermédiaire (113), une région de drain du premier type de conductivite (114) et une région supplémentaire (132) du deuxième type de conductivite, chacune de ces régions s'etendant sur toute l'épaisseur du substrat, la région de source et la région supplémentaire étant contactées par des doigts ou plaques conducteurs (111, 116) traversant sensiblement le substrat, des doigts conducteurs isolés et espacés (121) traversant de haut en bas la région intermédiaire (113) , la distance horizontale entre les doigts isolés (121) étant telle que la région intermédiaire puisse être inversée quand une tension appropriée est appliquée à ces doigts isolés.
17. Composant semiconducteur selon la revendication 15 ou 16, constituant un transistor MOS de puissance ou IGBT dans lequel chacun des doigts conducteurs est respectivement connecté à une metallisation de source (Ml), à une metallisation de grille (M3) , et à une metallisation de drain (M2) .
18. Composant MOS de puissance selon la revendication 15 ou 16, constituant un transistor MOS de puissance ou IGBT dans lequel des métallisations localisées (123) s'étendent verticalement entre la région de source et la région intermé- diaire pour constituer des courts-circuits localisés.
19. Composant semiconducteur selon la revendication 15 ou 16, constituant un transistor MOS de puissance ou IGBT dans lequel les doigts conducteurs isolés et espacés (121) sont réalisés à partir de doigts conducteurs traversant toute l'épaisseur de la puce dont les parois sont oxydées et qui sont remplis de silicium polycristallin dopé.
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