EP1097042B1

EP1097042B1 - Method for applying by sections the decorative layer of a transfer film on a substrate and appropriate transfer film

Info

Publication number: EP1097042B1
Application number: EP00940147A
Authority: EP
Inventors: Klaus Weber; Ludwig Brehm
Original assignee: Leonhard Kurz GmbH and Co KG
Current assignee: Leonhard Kurz Stiftung and Co KG
Priority date: 1999-05-10
Filing date: 2000-04-22
Publication date: 2003-07-09
Anticipated expiration: 2020-04-22
Also published as: CN1174865C; RU2200673C2; PT1097042E; CA2336854C; US6531016B1; CN1304361A; DE19921579C2; DE50002816D1; ATE244637T1; JP3617625B2; WO2000068013A1; ES2202140T3; EP1097042A1; CA2336854A1; AU5520500A; DE19921579A1; JP2002544068A; AU758536B2; BR0006109A

Abstract

Described is a process for the region-wise transfer of a decorative layer of a transfer foil, which includes an activatable adhesive layer from a carrier film onto a substrate, wherein the adhesive layer of the transfer foil is partially activated before the actual stamping operation, more specifically in such a way that the adhesive layer experiences activation only in the surface regions in which the decorative layer is to be transferred onto the substrate. A transfer foil which is particularly suitable for that process has an absorption layer in the surface regions of the decorative layer, which are to be transferred onto the substrate, which absorption layer absorbs the radiation energy causing activation of the adhesive layer and activates the adhesive layer under the action of the absorbed radiation energy.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur bereichsweisen Übertragung der eine durch Strahlungsenergie aktivierbare Kleberschicht umfassenden Dekorlage einer Transferfolie von einem Trägerfilm für die Dekorlage auf ein Substrat unter Verwendung eines ggf. beheizten Prägewerkzeuges, wobei die Kleberschicht vor Einlauf der Transferfolie in das Prägewerkzeug zumindest teilweise aktiviert wird.The invention relates to a method for the area-wise transmission of one decorative layer comprising radiation layer which can be activated by radiation energy a transfer film from a carrier film for the decorative layer on a substrate using an optionally heated embossing tool, the At least the adhesive layer before the transfer film enters the embossing tool is partially activated.

Ausserdem ist Gegenstand der Erfindung eine Transferfolie zur Verwendung in dem erfindungsgemässen Übertragungsverfahren, welche auf einem Trägerfilm eine aus mehreren Schichten bestehende, unter Einwirkung von Druck und ggf. Wärme bereichsweise auf ein Substrat übertragbare Dekorlage aufweist, deren dem Trägerfilm abgekehrte Oberfläche von einer durch Strahlungsenergie aktivierbaren Kleberschicht gebildet ist, und die eine Absorptionsschicht umfasst, welche die eine Aktivierung der Kleberschicht bewirkende Strahlungsenergie absorbiert.The invention also relates to a transfer film for use in the transfer method according to the invention, which is on a carrier film one consisting of several layers, under the influence of pressure and possibly Has heat in some areas transferable to a substrate decorative layer, the surface facing away from the carrier film from a surface caused by radiation energy activatable adhesive layer is formed, and the one absorption layer comprises which causes the activation of the adhesive layer Radiant energy absorbed.

Beim Übertragen der Dekoriage einer Transferfolie auf ein Substrat ist es erforderlich, dass der Kleber hinreichend aktiviert wird, um eine ausreichende Haftung der Dekorlage auf dem Substrat zu erreichen. Die für die Aktivierung der Kleberschicht erforderliche Zeit bestimmt dabei ganz massgeblich die Durchlaufgeschwindigkeit der entsprechenden Applikationsmaschinen.
Um die Maschinengeschwindigkeit zu erhöhen, ist es aus der WO 96/37368 bereits bekannt, die wärmeaktivierbare Kleberschicht der Dekorlage einer Prägefolie vor dem eigentlichen Prägevorgang vorzuheizen, um so die Kleberschicht wenigstens teilweise zu aktivieren. Die Übertragung der Dekorlage auf das Substrat erfolgt bei dem bekannten Verfahren - wie üblich - in den Bereichen, in denen das Prägewerkzeug auf die Prägefolie einwirkt, wobei gemäss der WO 96/37368 vorgesehen ist, dass auch das Prägewerkzeug beheizt wird. Diese Vorgehensweise gestattet zwar höhere Maschinengeschwindigkeiten. Es besteht jedoch die Gefahr, dass beispielsweise dann, wenn der Kleber zu stark vorgeheizt wird, die saubere, bereichsweise Ausprägung der Dekorlage auf das Substrat Schwierigkeiten bereitet, weil die Dekorlage nicht nur in den Bereichen, in denen das Prägewerkzeug auf sie wirkt, an dem Substrat haftet, sondern eventuell auch ausserhalb dieser Bereiche, wenn der Kleber bereits eine hinreichend hohe Haftwirkung besitzt. Dieses Problem kann insbesondere bei vergleichsweise dicken Dekorlagen oder Dekorlagen auftreten, die eine verhältnismässig hohe mechanische Stabilität besitzen, beispielsweise eine Metallisierung zeigen.When transferring the decoration of a transfer film onto a substrate, it is necessary that the adhesive is activated sufficiently to achieve sufficient adhesion of the decoration layer on the substrate. The time required for the activation of the adhesive layer decisively determines the throughput speed of the corresponding application machines.
In order to increase the machine speed, it is already known from WO 96/37368 to preheat the heat-activatable adhesive layer of the decorative layer of an embossing film before the actual embossing process, so as to at least partially activate the adhesive layer. In the known method, the decorative layer is transferred to the substrate, as usual, in the areas in which the stamping tool acts on the stamping film, it being provided in accordance with WO 96/37368 that the stamping tool is also heated. This procedure allows higher machine speeds. However, there is a risk that, for example, if the adhesive is preheated too much, the clean, area-specific expression of the decorative layer on the substrate will cause difficulties, because the decorative layer not only on the areas in which the embossing tool acts on it Substrate adheres, but possibly also outside these areas, if the adhesive already has a sufficiently high adhesive effect. This problem can occur in particular in the case of comparatively thick decorative layers or decorative layers which have a relatively high mechanical stability, for example showing a metallization.

Aus der EP 0 741 370 B1 ist ein Verfahren zum Aufbringen eines Sicherheitselementes auf ein Substrat bekannt, bei dem die Kleberschicht mit dem Substrat in Kontakt gebracht und durch Zufuhr von Energie durch den Schichtverbund, d.h. die Dekorlage hindurch, lokal erwärmt wird, wodurch erreicht werden soll, dass die Dekorlage nur an den erwärmten Stellen auf dem Substrat haftet, ohne dass irgendwelche Strukturen der Dekortage zerstört werden. Zur Energiezufuhr werden gemäss der EP 0 741 370 B1 entweder Laserstrahlung oder Lichtquellen verwendet. Ein Laserstrahl kann entsprechend dem gewünschten Muster geführt werden. Bei Verwendung von Lichtquellen wird entweder auf Masken oder auf die Belichtung mit adressierbaren Arrays aus Laser- oder Leuchtdioden zurückgegriffen. Dieses bekannte Verfahren hat sicherlich den Vorteil, dass eine sehr saubere, trotzdem nur bereichsweise Übertragung der Dekorlage einer Transferfolie vom Trägerfilm der Transferfolie auf ein Substrat möglich ist, wobei im Sinne einer Schonung der eventuellen Strukturen in der Dekorlage weitgehend auf die Anwendung von Druck beim Übertragen auf das Substrat verzichtet wird. Ein Nachteil der bekannten Vorgehensweise ist jedoch darin zu sehen, dass mit verhältnismässig niedrigen Arbeitsgeschwindigkeiten gerechnet werden muss. Bei Einsatz von Masken oder Dioden-Arrays ist es unter Umständen sogar erforderlich, die Transferfolie und das Substrat schrittweise zu bewegen, damit die Maske bzw. das Array während der für die Aktivierung der Kleberschicht erforderlichen Zeit gegenüber der Transferfolie stillsteht.EP 0 741 370 B1 describes a method for applying a Security element known on a substrate in which the adhesive layer with brought into contact with the substrate and by supplying energy through the Layered composite, i.e. through the decorative layer, is locally heated, whereby should be achieved that the decorative layer only in the heated areas on the Substrate adheres without destroying any of the decor day structures become. According to EP 0 741 370 B1, either Laser radiation or light sources used. A laser beam can be used accordingly the desired pattern. When using light sources either on masks or on exposure with addressable arrays made of laser or light emitting diodes. This Known procedure certainly has the advantage of being very clean, anyway transfer of the decorative layer of a transfer film from Carrier film of the transfer film on a substrate is possible, in the sense of a Protection of the possible structures in the decor layer largely on the Applying pressure when transferring to the substrate is dispensed with. On However, the disadvantage of the known procedure is that with relatively low working speeds must be expected. When using masks or diode arrays, it may even be necessary to move the transfer film and the substrate gradually so that the mask or array during activation of the adhesive layer required time stands still compared to the transfer film.

Aus der DE-A 4 307 487 ist eine Heissprägefolie und ein Verfahren zu deren Herstellung bekannt. Die bekannte Heissprägefolie weist eine ganzflächige Dekorschicht sowie ebenfalls eine ganzflächige Kleberschicht auf. Um jedoch nur eine bereichsweise Übertragung der Dekorschicht auf das Substrat zu erreichen, ist der Kleberschicht in bereichsweisen Blindzonen das zum Verbinden mit einem Werkstück erforderliche Haftungsvermögen entzogen, wobei die Blindzonen in unterschiedlicher Weise erzeugt werden können, beispielsweise durch eine die entsprechende Seite der Kleberschicht bedeckende Trennschicht oder durch ausgehärtete Bereiche der Kleberschicht.DE-A 4 307 487 describes a hot stamping foil and a method for the same Manufacturing known. The well-known hot stamping foil has a full surface Decorative layer as well as a full-surface adhesive layer. However, to only a partial transfer of the decorative layer to the substrate reach, the adhesive layer in blind areas in certain areas is the The required adhesion is removed from a workpiece, the blind zones can be generated in different ways, for example by a corresponding side of the adhesive layer separating layer or through hardened areas of the adhesive layer.

In der DE-C 43 13 521 wird ein Dekorationsschichtaufbau und eine einen solchen Schichtaufbau aufweisende Heissprägefolie beschrieben, wobei an der inneren Oberfläche einer Decklackschicht zumindest bereichsweise eine beugungsoptisch wirksame, räumliche Struktur vorgesehen ist, die wiederum in Bereichen mit einer Dekorlackschicht versehen wird, bevor eine die räumliche Struktur optisch gut sichtbar machende reflektierende Schicht angebracht wird. Hierdurch wird bei dem fertigen Produkt der Eindruck erweckt, als ob die räumliche Struktur nur bereichsweise vorhanden sei.In DE-C 43 13 521 a decorative layer structure and a such a layer structure having hot stamping foil described, with the inner surface of a top coat layer at least in some areas diffraction-optically effective, spatial structure is provided, which in turn in Areas with a decorative lacquer layer before the spatial Structure optically well visible reflective layer is attached. This gives the finished product the impression that the spatial structure is only present in certain areas.

In der nicht vorveröffentlichten EP-A 0 965 446 ist ein Verfahren zur bereichsweisen Übertragung der eine durch Strahlungsenergie aktivierbare Kleberschicht umfassenden Dekorlage einer Transferfolie von einem Trägerfilm für die Dekorlage auf ein Substrat unter Verwendung eines Prägewerkzeuges beschrieben, wobei die Kleberschicht vor Einlauf der Transferfolie in das Prägewerkzeug nur in den Flächenbereichen mittels Strahlungsenergie aktiviert wird, in denen die Dekorlage mittels des Prägewerkzeuges auf das Substrat übertragen werden soll.In the not previously published EP-A 0 965 446 a method for area-wise transmission of one that can be activated by radiation energy Decorative layer of adhesive film comprising a transfer film from a carrier film for the decorative layer on a substrate using an embossing tool described, the adhesive layer before entry of the transfer film into the Embossing tool only activated in the surface areas by means of radiation energy is in which the decorative layer by means of the embossing tool on the substrate to be transferred.

Der Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine zur Durchführung dieses Verfahrens geeignete Transferfolie vorzuschlagen, bei denen einerseits die Möglichkeit besteht, durch Voraktivierung der Kleberschicht die Maschinengeschwindigkeit zu steigern, gleichzeitig aber gewährleistet ist, dass eine saubere Übertragung der Dekorlage der Transferfolie auch nur in den Bereichen erfolgt, die tatsächlich transferiert werden sollen.The invention is based on the object, a method and a Carrying out this procedure to propose suitable transfer film at which, on the one hand, have the option of preactivating the adhesive layer increase the machine speed, but at the same time it is guaranteed that a clean transfer of the decorative layer of the transfer film even in the Areas that are actually to be transferred.

Zur Lösung dieser Aufgabe wird erfindungsgemäss ein Verfahren der eingangs erwähnten Art vorgeschlagen, bei dem die Kleberschicht nur in den Flächenbereichen mittels Strahlungsenergie aktiviert wird, in denen die Dekorlage mittels Prägewerkzeugs auf das Substrat übertragen werden soll, und bei dem weiter eine Transferfolie verwendet wird, deren Dekorlage nur in den auf das Substrat zu übertragenden Flächenbereichen eine Absorptionsschicht aufweist, die die eine Aktivierung der Kleberschicht bewirkende Strahlungsenergie absorbiert..To achieve this object, a method according to the invention is described in the introduction mentioned type proposed, in which the adhesive layer only in the Area areas is activated by means of radiation energy, in which the Decor layer is to be transferred to the substrate using an embossing tool, and in which a transfer film is used, the decorative layer only in the surface areas to be transferred to the substrate Has absorption layer, which the activation of the adhesive layer causing radiation energy absorbed ..

Im Gegensatz zu der Lehre der WO 96/37368, bei der die Vorheizung der Kleberschicht der Transferfolie vor Einlauf in das Prägewerkzeug im wesentlichen ganzflächig erfolgt, wird gemäss vorliegender Erfindung vorgeschlagen, die Vorheizung - ähnlich dem grundsätzlichen Vorschlag der EP 0 741 370 B1 - nur bereichsweise vorzunehmen, wobei jedoch wichtig ist, dass tatsächlich eine Vorheizung vor Eintritt in das Prägewerkzeug stattfindet. Es wird also bei dem Verfahren gemäss der Erfindung nicht nur mit Aktivierung des Klebers sondern gleichzeitig auch mittels eines entsprechenden Prägewerkzeuges, d.h. unter Anwendung entsprechenden Drucks, gearbeitet. Aufgrund der zusätzlichen Anwendung von Druck kann sehr häufig erreicht werden, dass bereits eine vergleichsweise geringe Strahlungsenergie ausreicht, um den Kleber so weit vorzuaktivieren, dass die Maschinengeschwindigkeit wesentlich erhöht werden kann. Gleichzeitig wird durch die bereichsweise Voraktivierung der Kleberschicht sichergestellt, dass eine saubere, bereichsweise Prägung erfolgt, weil die Arbeitsbedingungen leicht derart gewählt werden können, dass die Dekorfolie über die Kleberschicht nur dort am Substrat haftet, wo die Kleberschicht auch tatsächlich vorgeheizt wurde.Contrary to the teaching of WO 96/37368, in which the preheating of the Adhesive layer of the transfer film before entering the embossing tool essentially takes place over the entire surface, according to the present invention suggested preheating - similar to the EP's basic proposal 0 741 370 B1 - only to be carried out in certain areas, although it is important that preheating actually takes place before entry into the embossing tool. It is therefore not only in the method according to the invention with activation of the Glue but at the same time by means of an appropriate Embossing tool, i.e. worked with the appropriate pressure. Due to the additional application of pressure can be achieved very often become that a comparatively low radiation energy is sufficient, to pre-activate the glue so far that the machine speed can be increased significantly. At the same time, by the area Preactivation of the adhesive layer ensures that a clean, Embossing takes place in some areas because the working conditions are slightly like this can be chosen that the decorative film on the adhesive layer only there Substrate adheres where the adhesive layer has actually been preheated.

Die Transferfolie ist hierbei so ausgebildet, dass sie in den zu übertragenden Flächenbereichen eine zusätzliche Schicht, nämlich die Absorptionsschicht umfasst. Lediglich im Bereich dieser Absorptionsschicht, die die Strahlungsenergie entsprechend aufnimmt - und natürlich an die Kleberschicht übertragen muss - erfolgt dann eine Voraktivierung der Kleberschicht, wobei auf diese Weise ohne besonderen apparativen Aufwand erreicht werden kann, dass tatsächlich nur in den gewünschten Bereichen die Kleberschicht voraktiviert wird. Insbesondere kann auf die Verwendung von speziell geführten Laserstrahlen, sowie Masken oder Dioden-Arrays, die gemäss der EP 0 741 370 B1 vorgesehen sind, erfindungsgemäss verzichtet werden.The transfer film is designed so that it is in the to be transferred Surface areas an additional layer, namely the absorption layer includes. Only in the area of this absorption layer, which the Absorbs radiation energy accordingly - and of course to the adhesive layer must be transferred - the adhesive layer is then preactivated, whereby on can be achieved in this way without any special outlay on equipment, that the adhesive layer actually only in the desired areas is preactivated. In particular, the use of specially guided Laser beams, as well as masks or diode arrays, which according to EP 0 741 370 B1 are provided, can be dispensed with according to the invention.

Die Wirkung der bereichsweisen Aktivierung kann bei einer Transferfolie, deren Dekorlage bereichsweise mit einer Absorptionsschicht versehen ist, noch verbessert werden, wenn die die Kleberschicht aktivierende Strahlungsenergie nur in den Flächenbereichen auf die Dekorlage einwirkt, die zur Übertragung auf das Substrat bestimmt sind, wobei die die Kleberschicht aktivierende Strahlungsenergie vorteilhafterweise über eine Maske od.dgl. nur auf die auf das Substrat zu übertragenden Flächenbereiche der Dekorlage und Kleberschicht einwirkt.The effect of the area-wise activation can be with a transfer film whose Decorative layer is partially provided with an absorption layer, still can be improved if the radiation energy activating the adhesive layer only acts on the decorative layer in the surface areas that are to be transferred are determined on the substrate, the activating the adhesive layer Radiation energy advantageously or the like through a mask. only on the on the substrate areas of the decorative layer to be transferred and Acts adhesive layer.

Grundsätzlich sind alle möglichen Arten der Aktivierung der Kleberschicht denkbar. Besonders günstig und damit in der Praxis wohl von besonderer Bedeutung dürfte jedoch eine Vorgehensweise sein, bei der eine mittels Wärmestrahlung aktivierbare Kleberschicht verwendet wird, d.h. ein sog. Heiss-Schmelzkleber, der unter Wärmeeinwirkung erweicht und klebrig wird.Basically, all possible types of activation of the adhesive layer conceivable. Particularly inexpensive and therefore probably special in practice However, a procedure in which a means is likely to be of importance Heat radiation activatable adhesive layer is used, i.e. a so-called hot melt adhesive, which softens under heat and becomes sticky.

Insbesondere bei Verwendung einer wärmeaktvierbaren Kleberschicht kann es günstig sein, zur Aktivierung Laserstrahlung zu verwenden, wobei die Laserstrahlung ggf. den zu übertragenden Flächenbereichen entsprechend ablenkbar sein kann. Die Verwendung von Laserstrahlung bietet den Vorteil, dass sich kurze Erwärmungszeiten erreichen lassen, wenn die einwirkende Laserenergie hoch genug ist.In particular when using a heat-activatable adhesive layer, it can be favorable to use laser radiation for activation, the Laser radiation, if necessary, according to the area to be transferred can be distractible. The use of laser radiation has the advantage that short warming times can be achieved if the Laser energy is high enough.

Schliesslich ist nach dem erfindungsgemässen Verfahren vorgesehen, dass die Kleberschicht der Dekorlage vor Eintritt der Transferfolie in das Prägewerkzeug nur voraktiviert wird und zur vollständigen Aktivierung der Kleberschicht ein beheiztes Prägewerkzeug dient. Diese Verfahrensweise gestattet verhältnismässig hohe Maschinengeschwindigkeiten. Dabei kann das Prägewerkzeug sowohl gross- oder ganzflächig wirken, als auch nur in den Bereichen, in denen die die Dekorlage bildenden Schichten auf das Substrat übertragen werden sollen.Finally, according to the method according to the invention, the Adhesive layer of the decorative layer before the transfer film enters the embossing tool is only pre-activated and to activate the adhesive layer completely heated stamping tool is used. This procedure allows relatively high machine speeds. It can Embossing tool act both over large areas or over the entire surface, or only in the Areas in which the layers forming the decorative layer on the substrate should be transferred.

Gegenstand der Erfindung ist weiterhin eine Transferfolie, vorzugsweise eine Heissprägefolie, die für das vorstehend erläuterte Verfahren geeignet ist. Diese Transferfolie, welche auf einem Trägerfilm eine aus mehreren Schichten bestehende, unter Einwirkung von Druck und ggf. Wärme bereichsweise auf ein Substrat übertragbare Dekorlage aufweist, deren dem Trägerfilm abgekehrte Oberfläche von einer durch Strahlungsenergie aktivierbaren Kleberschicht gebildet ist und die eine Absorptionsschicht umfasst, welche die eine Aktivierung der Kleberschicht bewirkende Strahlungsenergie absorbiert, zeichnet sich erfindungsgemäss dadurch aus, dass die Absorptionsschicht nur in vorgegebenen, zur Übertragung auf das Substrat bestimmten Flächenbereichen vorgesehen ist. The invention further relates to a transfer film, preferably one Hot stamping foil which is suitable for the method explained above. This Transfer film, which on a carrier film one of several layers existing areas under the influence of pressure and possibly heat Has substrate transferable decorative layer, the opposite of the carrier film Surface of an adhesive layer that can be activated by radiation energy is formed and which comprises an absorption layer which the one Absorbs radiation energy causing activation of the adhesive layer, is characterized according to the invention in that the absorption layer only in predetermined, intended for transfer to the substrate Surface areas is provided.

Die Besonderheit der Transferfolie gemäss der Erfindung liegt also darin, dass in der Dekorlage nur bereichsweise eine Absorptionsschicht vorhanden ist, die dazu dient, zur Aktivierung der Kleberschicht dienende Strahlungsenergie zu absorbieren und auf diese Weise für eine Aktivierung der Kleberschicht nur in den zu übertragenden Flächenbereichen zu sorgen.The special feature of the transfer film according to the invention is that there is only an absorption layer in some areas in the decorative layer, which serves to activate radiation energy used to activate the adhesive layer absorb and in this way for activation of the adhesive layer only in the area areas to be transferred.

Bei Verwendung einer derartigen Transferfolie in dem eingangs erläuterten Verfahren lässt sich besonders leicht eine saubere Abgrenzung der zu übertragenden Bereiche der Dekorlage erreichen. Die Transferfolie gemäss der Erfindung kann auch verwendet werden, indem beispielsweise die Kleberschicht ausschliesslich über die Absorptionsschicht aktiviert wird. In einer derartigen Transferfolie lassen sich verhältnismässig fein strukturierte Bereiche mit der Absorptionsschicht ausrüsten. Auch bei grossflächiger Bestrahlung und Verwendung grossflächiger Prägewerkzeuge erreicht man dann trotzdem, dass tatsächlich nur die der Absorptionsschicht zugeordneten Bereiche der Dekorlage auf das Substrat übertragen werden. Es lässt sich bei Verwendung einer Transferfolie gemäss der Erfindung somit der mit der EP 0 741 370 B1 angestrebte Effekt mit sehr einfachen Mitteln erreichen, wobei insbesondere nicht jeweils eine Anpassung der für die Übertragung der Dekorlage auf das Substrat verwendeten Prägevorrichtung an die spezielle Gestaltung der zu übertragenden Bereiche der Dekorlage erforderlich ist.When using such a transfer film in the above The process is particularly easy to define clearly reach the transferring areas of the decorative layer. The transfer film according to the Invention can also can be used, for example, by using the adhesive layer exclusively the absorption layer is activated. Leave in such a transfer film relatively finely structured areas with the absorption layer equip. Even with large-area radiation and use of large areas Embossing tools can then still be reached that actually only those of Areas of the decorative layer assigned to the absorption layer on the substrate be transmitted. When using a transfer film, it can be of the invention thus the effect sought with EP 0 741 370 B1 achieve simple means, in particular not in each case an adjustment the one used for transferring the decorative layer to the substrate Embossing device to the special design of the areas to be transferred the decor layer is required.

Um eine besonders gute Einwirkung der in der Absorptionsschicht aufgenommenen Strahlungsenergie auf die Kleberschicht zu erreichen, ist es zweckmässig, wenn die Absorptionsschicht unmittelbar anschliessend an die Kleberschicht der Dekorlage vorgesehen ist.To have a particularly good impact in the absorption layer to reach the absorbed radiation energy on the adhesive layer, it is expedient if the absorption layer immediately after the Adhesive layer of the decorative layer is provided.

Verständlicherweise entsprechen die Pigmente oder sonstigen Zusätze, die die Absorptionsschicht enthalten muss, um die Strahlungsenergie entsprechend absorbieren zu können, nicht immer den Forderungen hinsichtlich der graphischen oder optischen Gestaltung der Dekorlage. Wenn mit Wärmestrahlung, z.B. IR-Strahlung, gearbeitet wird, enthält die Absorptionsschicht im allgemeinen dunkle, optisch nicht ansprechende Pigmente od. dgl.. Hier ist es günstig, wenn die Dekorlage auf der zum Trägerfilm weisenden Seite der Absorptionsschicht eine diese nach der Übertragung der Dekorlage auf ein Substrat abdeckende, undurchsichtige Dekorschicht aufweist, die zweckmässig eine, vorzugsweise eine beugungsoptisch wirksame Struktur aufweisende Reflexionsschicht, insbesondere eine Metallschicht, ist. Vor allem bei Vorhandensein einer eine beugungsoptisch wirksame Struktur aufweisenden Reflexionsschicht lassen sich sehr interessante gestalterische Lösungen verwirklichen.Understandably, the pigments or other additives that correspond to the Absorbent layer must contain the radiation energy accordingly to be able to absorb, not always the requirements regarding graphic or optical design of the decorative layer. If with Heat radiation, e.g. IR radiation that is being worked on contains the Absorbent layer generally dark, optically unappealing Pigments or the like. Here it is advantageous if the decorative layer on the Carrier film facing side of the absorption layer one after the Transfer of the decorative layer to an opaque substrate covering Has decorative layer, which expediently one, preferably one reflective layer having a diffractive optical structure, in particular a metal layer. Especially if there is a one diffraction optically effective structure having reflection layer very interesting design solutions are realized.

Es kann günstig sein, wenn die zum Trägerfilm weisende Oberfläche der Dekorlage von einer transparenten Schutzlackschicht gebildet ist, d.h. mit anderen Worten die Reflexionsschicht durch eine solche Schutzlackschicht abgedeckt ist. Eine derartige Schutzlackschicht verbessert die mechanische Beständigkeit und schützt insbesondere eventuell vorhandene beugungsoptisch wirksame, d.h. sehr feine Strukturen.It can be advantageous if the surface facing the carrier film Decorative layer is formed by a transparent protective lacquer layer, i.e. With in other words, the reflective layer through such a protective lacquer layer is covered. Such a protective lacquer layer improves the mechanical Resistance and especially protects any diffraction optics that may be present effective, i.e. very fine structures.

In der Vielzahl der Anwendungsfälle einer Transferfolie gemäss der Erfindung wird es zweckmässig sein, wenn die Absorptionsschicht Wärmestrahlung absorbiert, während die Kleberschicht von einem wärmeaktivierbaren, für die von der Absorptionsschicht aufgenommene Wärmestrahlung durchlässigen Material gebildet ist. Diese Ausbildung ist vor allem dann günstig, wenn auf der im Gebrauch sichtbaren Seite der Dekorlage eine Reflexionsschicht vorhanden ist, die ein Eindringen der zur Aktivierung dienenden Strahlung verhindert. In the multitude of applications of a transfer film according to the invention it will be appropriate if the absorption layer is heat radiation absorbed, while the adhesive layer of a heat-activated, for the Permeable heat radiation absorbed by the absorption layer Material is formed. This training is especially favorable when on the on the visible side of the decorative layer there is a reflective layer is that prevents the penetration of the radiation used for activation.

Wenn in einem solchen Fall die Kleberschicht für die von der Absorptionsschicht aufgenommene Wärmestrahlung durchlässig ist, kann die Bestrahlung der Transferfolie von der Kleberseite her erfolgen. Dies hat auch den Vorteil, dass die Strahlung dann nicht durch den Trägerfilm unnötigerweise geschwächt wird. Die Ausbildung mit einer transparenten Kleberschicht und einer hiervon getrennten Absorptionsschicht bringt darüberhinaus den technologischen Vorteil, dass durch die möglicherweise in der Absorptionsschicht vorhandenen Zusätze die Klebewirkung der Kleberschicht nicht beeinträchtigt wird.In such a case, if the adhesive layer for the from the Absorption layer absorbed heat radiation is permeable, the The transfer film is irradiated from the adhesive side. This also has the advantage that the radiation is then unnecessary through the carrier film is weakened. Training with a transparent adhesive layer and an absorption layer separate therefrom also brings the technological advantage that may be in the Absorbent layer existing additives the adhesive effect of the adhesive layer is not affected.

In der praktischen Umsetzung erscheint es zweckmässig, wenn die Absorptionsschicht von einer die zur Aktivierung der Kleberschicht dienende Strahlungsenergie absorbierende Pigmente enthaltenden Lackschicht gebildet ist. Als Pigmente kommen beispielsweise Russ, schwarze bzw. dunkle Pigmente etc. in Betracht. Bei Verwendung einer wärmeaktivierbaren Kleberschicht wird sinnvollerweise mit Infrarot-Strahlung zur Aktivierung gearbeitet, wobei dann die Ausbildung vorzugsweise derart ist, dass die Absorptionsschicht Infrarot-Strahlung einer Wellenlänge absorbiert, für die die Kleberschicht durchlässig ist.In practical implementation, it seems appropriate if the Absorbent layer of one used to activate the adhesive layer Paint layer containing radiation energy absorbing pigments formed is. For example, carbon black, black or dark come as pigments Pigments etc. into consideration. When using a heat activated Adhesive layer is expediently used with infrared radiation for activation worked, then the training is preferably such that the Absorbent layer absorbs infrared radiation of a wavelength for which the Adhesive layer is permeable.

Weitere Merkmale, Einzelheiten und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der folgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele der Transferfolie sowie des Verfahrens anhand der Zeichnung.Further features, details and advantages of the invention result from the following description of preferred embodiments of the Transfer film and the process based on the drawing.

Es zeigen -:

Figur 1a: einen schematischen Schnitt durch einen Teil einer Transferfolie;
Figur 1b: schematisch und im Schnitt den Übertragungsvorgang unter Verwendung einer Folie gemäss Figur 1a;
Figur 2a bis 2c: schematisch anhand eines Teilschnitts durch eine Transferfolie ein spezielles Herstellungsverfahren und
Figur 3: schematisch Vorrichtung und Verfahren beim Übertragen der Dekorlage von einer Transferfolie auf ein Substrat.

Show it -:

Figure 1a: a schematic section through part of a transfer film;
Figure 1b: schematically and in section the transfer process using a film according to Figure 1a;
Figure 2a to 2c: schematically based on a partial section through a transfer film a special manufacturing process and
Figure 3: schematically device and method for transferring the decorative layer from a transfer film to a substrate.

Bei der in Figur 1a schematisch gezeigten Transferfolie handelt es sich um eine Folie, die in ihrem grundsätzlichen Aufbau einer üblichen Heissprägefolie entspricht, wie sie beispielsweise zur Erzeugung von Sicherheitsmerkmalen auf Banknoten, Wertpapieren od.dgl. verwendet werden kann, wobei zu diesem Zweck die Heissprägefolie einerseits eine Metallisierung sowie andererseits eine beugungsoptisch wirksame räumliche Struktur aufweist.The transfer film shown schematically in FIG. 1a is a Foil, the basic structure of a conventional hot stamping foil corresponds, for example, to the generation of security features Banknotes, securities or the like can be used with this Purpose the hot stamping foil on the one hand a metallization and on the other hand has a diffractive optically effective spatial structure.

Die Transferfolie gemäss Figur 1a umfasst in üblicher Weise einen Trägerfilm 1, beispielsweise einen Polyesterfilm einer Stärke zwischen 10 und 25 µm. Auf diesem Trägerfilm 1 befindet sich eine an sich bekannte Ablöseschicht 2, die, insbesondere bei Hitzeeinwirkung, die Ablösung der insgesamt mit 3 bezeichneten Dekorlage von dem Trägerfilm 1 erleichtern soll. Die Ablöseschicht 2 ist üblicherweise vollflächig aufgebracht.The transfer film according to FIG. 1a comprises a carrier film 1 in the usual way, for example a polyester film with a thickness between 10 and 25 microns. On this carrier film 1 is a release layer 2 known per se, which, especially when exposed to heat, the detachment of the total with 3 designated decorative layer of the carrier film 1 should facilitate. The Release layer 2 is usually applied over the entire surface.

Die Dekorlage 3 besteht bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel aus vier Schichten, nämlich einer transparenten Schutzlackschicht 4, einer auf diese üblicherweise aufgedampften Metallschicht 5, einer bereichsweise vorgesehenen Absorptionsschicht 6 sowie einer aktivierbaren Kleberschicht 7, wobei angenommen werden soll, dass es sich bei der Kleberschicht 7 um eine Heissklebeschicht handelt. Die Schutzlackschicht 4 sowie die Heissklebeschicht 7 und die Metallisierung 5 sind in dem Ausführungsbeispiel der Figur 1a jeweils ganzflächig vorgesehen. The decorative layer 3 consists of four in the illustrated embodiment Layers, namely a transparent protective lacquer layer 4, one on top of this usually vapor-deposited metal layer 5, a region provided absorption layer 6 and an activatable adhesive layer 7, it should be assumed that the adhesive layer 7 is a Hot glue layer is. The protective lacquer layer 4 and the hot-melt adhesive layer 7 and the metallization 5 are each in the exemplary embodiment in FIG. 1a provided over the entire area.

Wie bereits erwähnt, handelt es sich bei der Folie gemäss Figur 1a um eine beispielsweise zur Herstellung von Sicherheitselementen dienende Folie. Zu diesem Zweck ist die Folie in den Bereichen der Absorptionsschicht 6 mit einer beugungsoptisch wirksamen, räumlichen Struktur 8 versehen.As already mentioned, the film according to FIG. 1a is a for example, film used for the production of security elements. To for this purpose, the film is in the areas of the absorption layer 6 with a diffractive optical spatial structure 8 provided.

Die Folie gemäss Figur 1, die auch in Figur 1b eingesetzt ist, wird wie folgt hergestellt:The film according to FIG. 1, which is also used in FIG. 1b, is as follows produced:

Auf den Trägerfilm 1 wird zuerst die vollflächige Ablöseschicht 2 in einer Schichtstärke von ca. 0,01 bis 0,1 µm in einem Druck- oder Streichverfahren aufgebracht.On the carrier film 1, the full-surface release layer 2 is first in one Layer thickness of approx. 0.01 to 0.1 µm in a printing or coating process applied.

Anschliessend wird die Schutzlackschicht 4 ebenfalls vollflächig sowie in einer Schichtstärke von 0,8 bis 2,5 µm, vorzugsweise 1,2 bis 1,7 µm, aufgetragen.Then the protective lacquer layer 4 is also over the entire surface and in one Layer thickness of 0.8 to 2.5 microns, preferably 1.2 to 1.7 microns, applied.

Der transparente Schutzlack 4 hat die Eigenschaft, dass er sich mittels geeigneter Prägewerkzeuge, sog. Matrizen, entsprechend strukturieren lässt. Als nächster Schritt wird somit die räumliche Struktur 8 in einem Repliziervorgang in die freie Oberfläche des Schutzlacks 4 eingeprägt. Entsprechende beugungsoptisch oder diffraktiv wirksame Strukturen sind allgemein bekannt und beispielsweise in der EP 0 741 370 B1 erläutert.The transparent protective lacquer 4 has the property that it suitable embossing tools, so-called matrices, can be structured accordingly. The next step is thus the spatial structure 8 in one Replication process impressed into the free surface of the protective lacquer 4. Appropriate diffractive or diffractive structures are generally known and explained for example in EP 0 741 370 B1.

Nach Einbringung der räumlichen Stuktur 8 wird dann die gesamte freie Oberfläche der Schutzlackschicht 4 mit einer Metallisierung 5 versehen. Im allgemeinen erfolgt eine Vakuumbedampfung mit Aluminium bei Schichtstärken von 5 bis 200 nm.After the spatial structure 8 has been introduced, the entire structure becomes free Provide the surface of the protective lacquer layer 4 with a metallization 5. in the vacuum evaporation with aluminum generally takes place at layer thicknesses from 5 to 200 nm.

Nach der Aufdampfung der Metallisierung 5 wird dann in den Bereichen, in denen die Dekorlage 3 auf ein Substrat übertragen werden soll, auf die Metallisierung 5 die nur bereichsweise vorgesehene Absorptionsschicht 6 aufgebracht. Zweckmässig handelt es sich bei der Absorptionsschicht um einen aktivierbaren Dekorlack, der in einer Schichtstärke von 0,8 bis 2,8 µm, vorzugsweise von etwa 1,5 µm, aufgetragen wird. Es ist zweckmässig, die Absorptionsschicht 6 registerhaltig zu der Strukturierung 8 aufzubringen, wie dies in Figur 1a angedeutet ist.After the metallization 5 has been deposited, the areas in which the decorative layer 3 is to be transferred to a substrate on the Metallization 5, the absorption layer 6 provided only in certain areas applied. The absorption layer is expediently one activatable decorative lacquer with a layer thickness of 0.8 to 2.8 µm, preferably of about 1.5 microns is applied. It is appropriate that Applying the absorption layer 6 in register with the structuring 8, such as this is indicated in Figure 1a.

Als letzter Schritt erfolgt dann der vollflächige Auftrag der Kleberschicht 7, wobei zweckmässig ein für Infrarot-Strahlung durchsichtiges Material für die Kleberschicht 7 verwendet wird, sofern die Absorptionsschicht 6 in der Lage ist, Infrarot-Strahlung entsprechend zu absorbieren. Die Kleberschicht 7 wird in einer Schichtstärke von 2 bis 10 µm, vorzugsweise von 3 bis 5 µm, aufgetragen.The last step is then to apply the entire surface of the adhesive layer 7, expediently a material transparent to infrared radiation for the Adhesive layer 7 is used, provided the absorption layer 6 is able to Absorb infrared radiation accordingly. The adhesive layer 7 is in a layer thickness of 2 to 10 µm, preferably 3 to 5 µm, applied.

Die einzelnen Schichten können wie folgt zusammengesetzt sein:The individual layers can be composed as follows:

example

Ablöseschicht 2 (Schichtstärke ca. 0,01 bis 0,1 µm)Peeling layer 2 (layer thickness approx. 0.01 to 0.1 µm) EhtanolEhtanol 100 g100 g Toluoltoluene 900 g900 g Esterwachs (Tropfpunkt 90 °C)Ester wax (dropping point 90 ° C) 3g3g Schutzlackschicht 4 (Schichtstärke 0,8 bis 2,5 µm, vorzugsweise 1,2 bis 1,7 µm)Protective lacquer layer 4 (layer thickness 0.8 to 2.5 µm, preferably 1.2 to 1.7 µm) MEKMEK 400 g400 g Toluoltoluene 150 g150 g Cyclohexanoncyclohexanone 200 g200 g Cellulosenitrat (niedrigviskos, 65 % in Alk.)Cellulose nitrate (low viscosity, 65% in alk.) 140 g140 g Butyl-/Methylmethacrylat (d = 1,05 g/cm3,Butyl / methyl methacrylate (d = 1.05 g / cm3, 100 g100 g Säurezahl 7 bis 9 mg KOH/g)Acid number 7 to 9 mg KOH / g) Absorptionsschicht 6 (Schichtstärke 0,8 bis 2,8 µm, vorzugsweise 1,5 µm)Absorbent layer 6 (layer thickness 0.8 to 2.8 µm, preferably 1.5 µm) MEKMEK 270 g270 g Toluoltoluene 360 g360 g Acetonacetone 150 g150 g PVC/PVAC-Mischpolymerisat (K-Wert: 43)PVC / PVAC copolymer (K value: 43) 135 g135 g Hochmolekul. Dispergier-AdditivHochmolekul. Dispersing additive 13 g13 g Kieselsäuresilica 4 g4 g Extender (Aluminiumsilikat)Extender (aluminum silicate) 22 g22 g IR-aktivierbares Pigment (Flammruss, Pigment Black 7)IR-activatable pigment (soot, pigment black 7) 46 g46 g Kleberschicht 7 (Schichtstärke 2,0 bis 10,0 µm, vorzugsweise 3,0 bis 5,0 µm)Adhesive layer 7 (layer thickness 2.0 to 10.0 µm, preferably 3.0 to 5.0 µm) MEKMEK 280 g280 g Toluoltoluene 350 g350 g PVC/PVAC-Copolymer (Fp. 80 °C)PVC / PVAC copolymer (mp 80 ° C) 210 g210 g Thermoplastisches Polyurethan (d = 1,18 g/cm3)Thermoplastic polyurethane (d = 1.18 g / cm3) 130 9130 9 Kieselsäure, hydrophobiert (Partikelgrösse ca. 10 µm)Silicic acid, hydrophobic (particle size approx. 10 µm) 60 g60 g

Die Absorptionsschicht 6 der Transferfolie gemäss Figur 1a hat die Aufgabe, auf die Dekorlage 3 der Folie auftreffende Strahlungsenergie (schematisch durch die Pfeile 9 angedeutet) zu absorbieren und die dann gespeicherte Strahlungsenergie an die Kleberschicht 7 in den an die Absorptionsschicht 6 anschliessenden Bereichen 10 abzugeben, um auf diese Weise den Kleber 7 in den Bereichen 10 zu aktivieren bzw. zumindest vorzuaktivieren, so dass nach Bestrahlung der Dekorlage 3 entsprechend den Pfeilen 9 die Kleberschicht 7 in den Bereichen 10 bereits klebrig ist.The absorption layer 6 of the transfer film according to FIG. 1a has the task radiation energy incident on the decorative layer 3 of the film (schematically indicated by the arrows 9) and absorb the stored Radiation energy to the adhesive layer 7 in the to the absorption layer 6 Submit subsequent areas 10 to in this way the adhesive 7 in to activate the areas 10 or at least to pre-activate them, so that after Irradiation of the decorative layer 3 according to the arrows 9, the adhesive layer 7 in the areas 10 is already sticky.

In der schematischen Darstellung der Figur 1b ist gezeigt, wie eine Folie gemäss Figur 1a auf ein Substrat 11 übertragen werden kann. Dabei ist aus Gründen der Einfachheit nicht gezeigt, in welcher Weise die Transferfolie an die zu dekorierende Oberfläche 12 des Substrates 11 angelegt wird. Dies kann beispielsweise mittels einer beheizten oder unbeheizten Prägewalze geschehen, die auf jeden Fall einen grossflächigen Andruck bewirken kann.The schematic illustration in FIG. 1b shows how a film 1a can be transferred to a substrate 11. It is over For the sake of simplicity, it is not shown how the transfer film is attached to the surface 12 of the substrate 11 to be decorated is applied. This can for example by means of a heated or unheated embossing roller happen, which can in any case cause large-scale pressure.

Vor dem Anlegen der Transferfolie 1, 3 an die Oberfläche 12 des Substrates 11 wird die Dekorlage 3 der Transferfolie entsprechend der Darstellung in Figur 1 mit Strahlungsenergie beaufschlagt, die in der Absorptionsschicht 6 absorbiert wird und die Kleberschicht 7 in den Bereichen 10 zumindest voraktiviert.Before the transfer film 1, 3 is applied to the surface 12 of the substrate 11 becomes the decorative layer 3 of the transfer film as shown in FIG. 1 acted upon with radiation energy, which absorbs in the absorption layer 6 is and the adhesive layer 7 is at least preactivated in the areas 10.

Dies hat den Effekt, dass, wie in der rechten Hälfte von Figur 1 b dargestellt, die Kleberschicht 7 in den aktivierten Bereichen 10 auf der Oberfläche 12 des Substrates 11 haftet und dadurch gleichzeitig ein Anhaften der entsprechenden Absorptionsschicht 6, der räumlichen Struktur 8 mit der Metallisierung 5 sowie der Schutzlackschicht 4 in dem zugehörigen Bereich an dem Substrat 11 bewirkt.This has the effect that, as shown in the right half of Figure 1 b, the Adhesive layer 7 in the activated areas 10 on the surface 12 of the Substrate 11 adheres and thereby adheres to the corresponding one Absorbent layer 6, the spatial structure 8 with the metallization 5 and the protective lacquer layer 4 in the associated area on the substrate 11 causes.

Die Bereiche der Dekorlage 3 dagegen, die nicht mit den voraktivierten Bereichen 10 der Kleberschicht 7 übereinstimmen, werden nicht an der Oberfläche 12 des Substrates 11 festgehalten. Wenn dann der Trägerfilm 1 über einen Ablösefinger 13 von dem Substrat 11 weggeführt wird, bleibt die Dekorlage 3 ausserhalb der Bereiche 10 über die Ablöseschicht 2 an dem Trägerfilm 1 haften und wird so von dem Substrat 11 in Form der Dekorlagen-Reste 14 abgeführt. Man erhält somit ein nur bereichsweise an der Oberfläche 12 entsprechend mit der Dekorlage 3 versehenes Substrat 11. The areas of the decorative layer 3, on the other hand, which are not preactivated Areas 10 of the adhesive layer 7 do not match Surface 12 of the substrate 11 held. If the carrier film 1 is guided away from the substrate 11 via a release finger 13, the remains Decorative layer 3 outside the areas 10 on the release layer 2 on the Carrier film 1 adhere and is thus removed from the substrate 11 in the form of the decorative layer residues 14 dissipated. You get a surface only in certain areas 12 correspondingly provided with the decorative layer 3 substrate 11.

In der Figur 2c ist eine im wesentlichen der Figur 1a entsprechende Heissprägefolie gezeigt, die sich allerdings von der Transferfolie gemäss Figur 1a dadurch unterscheidet, dass die Metallisierung 5' nur in den Bereichen vorhanden ist, in denen sich auch eine räumliche Struktur 8' befindet. Es handelt sich also bei der Folie gemäss Figur 2c um eine sog. teilmetallisierte Folie. Auch die Folie gemäss Figur 2c umfasst einen Trägerfilm 1', eine Ablöseschicht 2', eine transparente Schutzlackschicht 4', eine nur bereichsweise vorgesehene Absorptionsschicht 6' und eine ganzflächige Kleberschicht 7'. Die Folie gemäss Figur 2c ist infolge ihrer Teilmetallisierung nur in den Bereichen der räumlichen Struktur 8' für bestimmte Anwendungsgebiete besonders geeignet. Beispielsweise ist es möglich, die Teilmetallisierung so auszubilden, dass nach Aufbringung der Dekorlage 3' der Folie der Figur 2c auf ein Substrat einerseits der durch die räumliche Strukturierung 8' erzeugte optische Effekt, beispielsweise ein holographischer Effekt oder ein Farbwechseleffekt, gut sichtbar ist, andererseits jedoch der von der Substratoberfläche gebildete Untergrund und dessen Musterung noch erkennbar bleiben. Man kann auf diese Weise z.B. ein Photo, alphanumerische Angaben od.dgl. auf dem Substrat noch erkennen, obwohl im gleichen Bereich die teilmetallisierte Dekorlage 3' vorhanden ist.FIG. 2c is essentially the same as FIG. 1a Hot stamping foil shown, which however differs from the transfer foil according to the figure 1a differs in that the metallization 5 'only in the areas is present, in which there is also a spatial structure 8 '. It So the film according to FIG. 2c is a so-called partially metallized one Foil. The film according to FIG. 2c also comprises a carrier film 1 ', a Release layer 2 ', a transparent protective lacquer layer 4', only one Absorption layer 6 'provided in some areas and a full-area Adhesive layer 7 '. The film according to FIG. 2c is due to its partial metallization only in the areas of spatial structure 8 'for certain Areas of application particularly suitable. For example, it is possible to use the Form partial metallization so that after application of the decorative layer 3 ' 2c film on a substrate on the one hand by the spatial Structuring 8 'produced optical effect, for example a holographic Effect or a color change effect that is clearly visible, but on the other hand that of the substrate formed and its pattern still remain recognizable. In this way you can e.g. a photo, alphanumeric Information or the like still recognize on the substrate, although in the same area the partially metallized decorative layer 3 'is present.

Die Herstellung der Transferfolie, insbesondere Heissprägefolie, der Figur 2c erfolgt unter Verwendung eines speziellen Lackes für die Absorptionsschicht 6'. Bei dem Ausführungsbeispiel der Figur 2 hat die Absorptionsschicht 6' nämlich gleichzeitig die Funktion eines Resistlackes, der ein Abätzen der Metallschicht 5 in den nicht von der Absorptionsschicht 6' bedeckten Bereichen gestattet.The production of the transfer film, in particular hot stamping film, of Figure 2c takes place using a special lacquer for the absorption layer 6 '. In the embodiment of Figure 2, the absorption layer 6 'namely at the same time the function of a resist varnish, which etches away the metal layer 5 allowed in the areas not covered by the absorption layer 6 '.

Bei der Herstellung der Folie gemäss Figur 2c wird, wie in Figur 2a veranschaulicht, in Übereinstimmung mit dem Herstellungsverfahren der Folie gemäss Figur 1a zuerst auf einen Trägerfilm 1' ähnlicher Stärke und Ausbildung, wie in Zusammenhang mit Figur 1a erwähnt, eine Ablöseschicht 2' in der üblichen Schichtstärke von 0,01 bis 0,1 µm aufgebracht. Dann erfolgt der vollflächige Auftrag des Schutzlackes 4', ggf. die Replikation der Struktur 8' und schliesslich die Metallisierung durch Vakuumbedampfung mit Aluminium, alles wie in Verbindung mit Figur 1a beschrieben.In the production of the film according to FIG. 2c, as in FIG. 2a illustrates, in accordance with the manufacturing process of the film 1a first on a carrier film 1 'of similar thickness and Formation, as mentioned in connection with FIG. 1a, of a release layer 2 ' applied in the usual layer thickness of 0.01 to 0.1 µm. Then the full application of the protective lacquer 4 ', possibly the replication of the structure 8' and finally the metallization by vacuum evaporation with aluminum, everything as described in connection with Figure 1a.

Auf die Metallisierung 5 wird dann nur in den Bereichen, in denen die Metallschicht 5' erhalten bleiben soll, die Absorptionsschicht 6' entsprechend der in Verbindung mit Figur 1a gegebenen Erläuterung aufgedruckt.The metallization 5 is then only in the areas where the Metal layer 5 'is to be retained, the absorption layer 6' accordingly printed on the explanation given in connection with Figure 1a.

Die Absorptionsschicht 6' ist so zusammengesetzt, dass sie sich für einen anschliessenden Ätzvorgang eignet. Nach entsprechendem Härten der Absorptionsschicht 6' werden dann die nicht von der als Resistlack dienenden Absorptionsschicht 6' bedeckten Bereiche der Aluminiumschicht bzw. Metallisierung 5 abgeätzt. Zum Ätzen kann ein Bad aus 5%iger Natronlauge mit einer Badtemperatur von 20 bis 50 °C verwendet werden. Der Ätzvorgang ist in Figur 2b durch die Pfeile 15 angedeutet.The absorption layer 6 'is composed such that it is suitable for one subsequent etching process is suitable. After hardening the Absorbent layer 6 'are then those of the one serving as resist resist Absorbent layer 6 'covered areas of the aluminum layer or Metallization 5 etched off. A bath of 5% sodium hydroxide solution can be used for etching a bath temperature of 20 to 50 ° C can be used. The etching process is in Figure 2b indicated by the arrows 15.

Nach dem Abätzen des Metalles in den Bereichen 16 zwischen den strukturierten Bereichen 8' bzw. den von der Absorptionsschicht 6' bedeckten Bereichen wird die entsprechende Oberfläche der Folie gewaschen, getrocknet und dann die vollflächige Klebeschicht 7' aufgebracht.After etching the metal in the areas 16 between the structured areas 8 'or those covered by the absorption layer 6' Areas, the corresponding surface of the film is washed, dried and then applied the full-surface adhesive layer 7 '.

Grundsätzlich ist es selbstverständlich möglich, die Zusammensetzung der verschiedenen Schichten, nämlich der Ablöseschicht 2, der Schutzlackschicht 4, der Absorptionsschicht 6 sowie der Kleberschicht 7, in Anpassung an die jeweiligen Einsatzzwecke zu wählen und zu variieren. Allerdings ist darauf hinzuweisen, dass die im Beispiel genannten Zusammensetzungen der verschiedenen Schichten auch herangezogen werden können, wenn die Absorptionsschicht entsprechend Figur 2a bis 2c gleichzeitig die Funktion eines Resistlackes für das Abätzen der Metallisierung übemehmen soll. Es kann also unterstellt werden, dass die verschiedenen Schichten 2, 2'; 4, 4'; 6, 6' und 7, 7' in den Ausführungsbeispielen der Figur 1a sowie 2a bis 2c andererseits im wesentlichen identisch zusammengesetzt sind. In principle, it is of course possible to determine the composition of the different layers, namely the release layer 2, the protective lacquer layer 4, the absorption layer 6 and the adhesive layer 7, in adaptation to the to choose and vary the respective application. However, is on it to point out that the compositions of the different layers can also be used if the Absorption layer according to Figure 2a to 2c simultaneously the function of a Resist varnish for etching the metallization. So it can it is assumed that the different layers 2, 2 '; 4, 4 '; 6, 6 'and 7, 7' in the exemplary embodiments of FIGS. 1a and 2a to 2c on the other hand in are composed essentially identically.

Die Anwendung der Folie des zweiten Ausführungsbeispiels gemäss Figur 2c entspricht im wesentlichen der anhand der Figur 1b beispielhaft geschilderten Verwendungsweise der Folie der Figur 1a.The application of the film of the second exemplary embodiment according to FIG. 2c corresponds essentially to that described by way of example in FIG. 1b How to use the film of Figure 1a.

Anhand der Figur 3 soll nun nochmals erläutert werden, wie Vorrichtungen zum Applizieren entsprechender Transferfolien auf ein Substrat im Prinzip aufgebaut sein können.Based on Figure 3 will now be explained again how devices for Applying appropriate transfer foils in principle built up on a substrate could be.

Bei der in Figur 3 gezeigten Vorrichtung handelt es sich um eine Vorrichtung zur kontinuierlichen Dekoration eines Substrats, beispielsweise einer Papierbahn 17, die von einer nicht gezeigten Vorratsrolle oder als Bogen von einem Stapel in Richtung des Pfeiles 18 einem Spalt 19 zwischen einer Gegendruckwalze 20 und dem eigentlichen, angenommen vollflächigen Prägezylinder 21, der beispielsweise auf eine Temperatur von 80 bis 120 °C beheizt sein kann, zugeführt wird.The device shown in FIG. 3 is a device for the continuous decoration of a substrate, for example one Paper web 17, from a supply roll, not shown, or as a sheet of a stack in the direction of arrow 18 a gap 19 between one Counter-pressure roller 20 and the actual, assumed full-area Embossing cylinder 21, for example at a temperature of 80 to 120 ° C. can be heated, is supplied.

In den Spalt 19 wird gleichzeitig eine Transferfolie 22 eingeführt, die in Pfeilrichtung 23 von einer ebenfalls in Figur 3 nicht dargestellten Vorratsrolle abgewickelt wird.A transfer film 22 is inserted into the gap 19 at the same time Direction of arrow 23 of a supply roll, also not shown in FIG. 3 is handled.

Die Dekorlage 3, 3' der Transferfolie 22 wird im Spalt 19 unter der Wirkung des Prägezylinders 21 sowie der Gegendruckwalze 20 gegen das Substrat, beispielweise die Papierbahn 17, angedrückt und, sofern die Kleberschicht der Transferfolie 22 entsprechend aktiviert ist, auf die zur Transferfolie 22 weisende Oberfläche der Papierbahn 17 übertragen.The decorative layer 3, 3 'of the transfer film 22 is in the gap 19 under the effect of Embossing cylinder 21 and the counter-pressure roller 20 against the substrate, for example, the paper web 17, pressed and, if the adhesive layer of Transfer film 22 is activated accordingly, pointing to the transfer film 22 Transfer surface of the paper web 17.

Nach dem Spalt 19 wird dann der Trägerfilm 1, 1' unter Zuhilfenahme eines Ablösefingers 13 (sh. Figur 1b) von dem Substrat 17 weggeführt, wobei die Dekorlage 3, 3' in den Bereichen, in denen eine entsprechende Aktivierung der Kleberschicht 7, 7' erfolgt ist, an dem Substrat 17 haftet, während in den dazwischenliegenden Bereichen die Dekorlage 3, 3' an dem Trägerfilm 1, 1' haften bleibt und mit diesem abgezogen wird, so dass eine entsprechende bereichsweise Dekoration der Substratoberfläche erfolgt (sh. Figur 1b).After the gap 19, the carrier film 1, 1 'with the aid of a Removal fingers 13 (see FIG. 1b) are guided away from the substrate 17, the Decorative layer 3, 3 'in the areas where a corresponding activation of the Adhesive layer 7, 7 'is done, adheres to the substrate 17, while in the areas in between the decorative layer 3, 3 'on the carrier film 1, 1' sticks and is pulled off with it, so that a corresponding the substrate surface is decorated in regions (see FIG. 1b).

Bisher wird bei der bereichsweisen Übertragung einer Dekoriage von einer Transferfolie auf ein Substrat im allgemeinen so vorgegangen, dass der Prägezylinder in den Bereichen, in denen die Vorlage auf das Substrat übertragen werden soll, entsprechend vorspringende Strukturen oder Musterungen aufweist. Die Vorheizung der Transferfolie 22 kann, wie dies in der WO 96/37368 beschrieben ist, vor dem Einlaufen in den Prägespalt 19 mittels entsprechender Strahler erfolgen.So far, the area-wise transfer of a decoriage from one Transfer film on a substrate generally proceeded so that the Embossing cylinder in the areas where the template is on the substrate should be transferred, according to projecting structures or Has patterns. The preheating of the transfer film 22 can, as in WO 96/37368 is described, before entering the embossing gap 19 using appropriate emitters.

Auch bei der Vorrichtung gemäss Figur 3 sind derartige Strahler 24a bzw. 24b vorgesehen. Bei den Strahlem handelt es sich zweckmässigerweise um Infrarot-Strahler, wobei sich in der Praxis gezeigt hat, dass beispielsweise Doppelstrahler der Type SMBG 2600/150 G der Firma Heraeus/Hanau sehr geeignet sind, deren beide Kanäle beheizt und mit einem Goldreflektor versehen sind. Die Leistung der Strahler kann beispielsweise bei ca. 1.000 W liegen.Such radiators 24a and 24b are also in the device according to FIG intended. The emitters are expediently Infrared radiator, which has been shown in practice that, for example Double heater type SMBG 2600/150 G from Heraeus / Hanau are suitable, the two channels are heated and with a gold reflector are provided. The output of the spotlights can, for example, be around 1,000 W. lie.

Um eine entsprechende Voraktivierung der Kleberschicht mit einer Zusammensetzung gemäss dem oben erläuterten Ausführungsbeispiel zu erreichen, wir man die Strahler günstigerweise in einem Abstand von 20 bis 40 mm von der Transferfolie anbringen, und zwar auf der die Dekorlage 3, 3' tragenden Seite der Folie. Nachdem die Kleberschicht 7, 7' für Infrarot-Strahlung transparent ist, kann auf diese Weise, auch wenn eine teilweise oder vollständige Metallisierung vorgesehen ist, erreicht werden, dass ein sehr hoher Anteil der Strahlung in der Absorptionsschicht 6 absorbiert wird. Der genaue Abstand der IR-Strahler von der Transferfolie muss anhand geeigneter Versuche - abhängig von der genauen Zusammensetzung der Kleberschicht und der Oberflächenbeschaffenheit des zu dekorierenden Substrates - festgestellt werden.To pre-activate the adhesive layer with a Composition according to the embodiment explained above reach, the emitters are conveniently at a distance of 20 to 40 Apply mm of the transfer film, on which the decorative layer 3, 3 ' load-bearing side of the film. After the adhesive layer 7, 7 'for infrared radiation can be transparent in this way, even if a partial or full metallization is intended to be achieved at a very high level Portion of the radiation is absorbed in the absorption layer 6. The exact one The distance between the IR emitters and the transfer film must be based on suitable Trials - depending on the exact composition of the adhesive layer and the surface quality of the substrate to be decorated - be determined.

Wie Figur 3 zeigt, sind zwei IR-Strahler 24a und 24b hintereinander (in Laufrichtung der Transferfolie 22) vorgesehen, wobei die Anordnung zweckmässig derart ist, dass der zweite Strahler 24b sich in einem Abstand a von 40 bis 70 mm vom Spalt 19 zwischen dem Prägezylinder 21 und der Gegendruckwalze 20 befindet. Der erste Strahler 24a sollte zweckmässigerweise in einem Abstand b von ca. 40 mm in Bewegungsrichtung der Transferfolie 22 vor dem zweiten Strahler 24b angeordnet sind.As FIG. 3 shows, two IR emitters 24a and 24b are one behind the other (in Direction of transfer film 22) provided, the arrangement It is expedient such that the second radiator 24b is at a distance a from 40 to 70 mm from the gap 19 between the embossing cylinder 21 and the Pressure roller 20 is located. The first radiator 24a should expediently at a distance b of approx. 40 mm in the direction of movement the transfer film 22 are arranged in front of the second radiator 24b.

Versuche haben gezeigt, dass mit einer prinzipiell der Darstellung in Figur 3 entsprechenden Vorrichtung und unter Verwendung der Schichtzusammensetzungen gemäss dem obigen Beispiel sowie bei Einsatz und Anbringung der Strahler 24a und 24b in der geschilderten Weise sich sehr gute Ergebnisse bei der Übertragung einer Dekorlage 3, 3' auf ein Substrat erzielen lassen. Es können insbesondere verhältnismässig hohe Arbeitsgeschwindigkeiten von bis zu 120 m/min bei Verwendung eines vollflächigen, auf 120 °C beheizten Prägerades erreicht werden. Ein weiterer Vorteil ist dabei, dass eine Ablösung des Trägerfilms 1, 1' mit den Resten der Dekorlage 3,3' von dem Substrat ohne vorherige Abkühlung, d.h. ohne den Einsatz einer besonderen Kühlwalze, möglich ist.Experiments have shown that with the principle of the representation in FIG. 3 corresponding device and using the Layer compositions according to the above example and when used and mounting the radiators 24a and 24b in the manner described good results when transferring a decorative layer 3, 3 'to a substrate let achieve. In particular, it can be relatively high Working speeds of up to 120 m / min when using a full-surface stamping wheel heated to 120 ° C can be achieved. Another The advantage here is that detachment of the carrier film 1, 1 'with the residues of Decorative layer 3.3 'from the substrate without prior cooling, i.e. without that Use of a special cooling roller is possible.

In Abwandlung des vorstehend Beschriebenen wäre es denkbar, bei dem Ausführungsbeispiel der Figur 3 mit einem entsprechend strukturierten Prägezylinder zu arbeiten, der nur in den zu übertragenden Bereichen auf die Dekorlage einwirkt.In a modification of the above, it would be conceivable for the Embodiment of Figure 3 with a correspondingly structured Embossing cylinder to work only in the areas to be transferred to the Decor layer acts.

Claims

Method for transferring sections of a decorative layer (3, 3') comprising an adhesive layer (7, 7') that can be activated by radiated energy, of a transfer film (1, 3; 22) from a carrier film (1, 1') for the decorative layer (3, 3') to a substrate (17) by using an embossing tool (20, 21), heated if appropriate, the adhesive layer (7, 7') being activated by means of radiant energy (9) before the transfer film (1, 3; 22) runs into the embossing tool (20, 21), only in the regions (10, 10') of the surface in which the decorative layer (3, 3') is to be transferred to the substrate (11; 17) by means of the embossing tool, and in addition a transfer film (1, 3) being used whose decorative layer (3, 3') has an absorption layer (6, 6'), which absorbs the radiant energy (9) effecting activation of the adhesive layer (7, 7'), only in the regions (10, 10') of the surface which are to be transferred to the substrate (11, 17).
Method according to Claim 1, characterized in that the radiant energy (9) activating the adhesive layer (7, 7') acts on the decorative layer (3) only in the regions (10) of the surface which are intended to be transferred to the substrate (11, 17).
Method according to Claim 1 or 2, characterized in that an adhesive layer (7, 7') that can be activated by means of thermal radiation is used.
Method according to one of the preceding claims, characterized in that the adhesive layer (7, 7') of the decorative layer (3, 3') is only preactivated before the transfer film (1, 3; 22) enters the embossing tool (20, 21), and a heated embossing tool (21) is used for the complete activation of the adhesive layer.
Transfer film for use in the transfer method according to one of the preceding Claims 1 to 4, which, on a carrier film (1, 1'), has a decorative layer (3, 3') which comprises a plurality of the layers (4, 5, 6, 7) and of which sections can be transferred to a substrate (11, 17) under the action of pressure and, if appropriate, heat, the surface of the said decorative layer (3, 3') that faces away from the carrier film being formed by an adhesive layer (7, 7') that can be activated by radiant energy and comprising an absorption layer (6, 6') which absorbs the radiant energy (9) effecting activation of the adhesive layer (7, 7'), characterized in that the absorption layer (6, 6') is provided only in predefined regions (10, 10') of the surface that are intended to be transferred to the substrate (11, 17).
Transfer film according to Claim 5, characterized in that the absorption layer (6, 6') is provided immediately adjacent to the adhesive layer (7, 7').
Transfer film according to Claim 5 or 6, characterized in that on the side of the absorption layer (6, 6') which points towards the carrier film (1, 1'), the decorative layer (3, 3') has an opaque decorative layer (5, 5') which covers the said absorption layer (6, 6') after the decorative layer (3, 3') has been transferred to a substrate (11, 17).
Transfer film according to Claim 7, characterized in that the decorative layer (3, 3') is a reflective layer (5, 5') preferably exhibiting a structure (8, 8') which is optically active in defraction, in particular a metal layer.
Transfer film according to one of Claims 1 to 8, characterized in that the surface of the decorative layer (3, 3') which points towards the carrier film (1, 1') is formed by a transparent protective varnish layer (4, 4').
Transfer film according to one of Claims 5 to 9, characterized in that the absorption layer (6, 6') absorbs thermal radiation, while the adhesive layer (7, 7') is formed from a material which can be activated by heat and is transparent to the thermal radiation absorbed by the absorption layer (6, 6').
Transfer film according to one of Claims 5 to 10, characterized in that the absorption layer (6, 6') is formed by a varnish layer which contains pigments that absorb the radiant energy (9) serving to activate the adhesive layer (7, 7').
Transfer film according to one Claim 10 or 11, characterized in that the absorption layer (6, 6') absorbs infrared radiation at a wavelength to which the adhesive layer (7, 7') is transparent.
Transfer film according to one of Claims 10 to 12, characterized in that the absorption layer (6, 6') contains pigments that absorb thermal radiation, in particular infrared radiation, preferably carbon black or other dark pigments.