EP0668382A1 - Shedding process to reinforce the tear resistance of a woven fabric with twill or satin weave and their derivatives - Google Patents
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- EP0668382A1 EP0668382A1 EP95810115A EP95810115A EP0668382A1 EP 0668382 A1 EP0668382 A1 EP 0668382A1 EP 95810115 A EP95810115 A EP 95810115A EP 95810115 A EP95810115 A EP 95810115A EP 0668382 A1 EP0668382 A1 EP 0668382A1
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- D03D—WOVEN FABRICS; METHODS OF WEAVING; LOOMS
- D03D13/00—Woven fabrics characterised by the special disposition of the warp or weft threads, e.g. with curved weft threads, with discontinuous warp threads, with diagonal warp or weft
- D03D13/004—Woven fabrics characterised by the special disposition of the warp or weft threads, e.g. with curved weft threads, with discontinuous warp threads, with diagonal warp or weft with weave pattern being non-standard or providing special effects
Definitions
- the present invention relates to a method of forming a weave to reinforce the tear resistance of a twill or satin base weave fabric and their derivatives.
- the weaving limit of this solution is relatively close to that of the fabric, which is the lowest of all the weaves, given that it corresponds to the maximum possible nesting of the threads. This solution is therefore technically not applicable on all items. Especially heavily textured articles.
- the relief of the grid formed by the floats of 2 is significant compared to that of the relatively flat canvas. For many applications, such as those of work or protective clothing for example, this relief poses a problem of early abrasion at the floats of 2, which greatly reduces the longevity of the product. In addition, this relief, when it is important, becomes troublesome in the event of coating of the fabric, or laminating with a membrane or a film.
- the two types of wire do not have the same mechanical and / or physicochemical characteristics.
- the two wires often have a different shrinkage at temperature or at washing, which results in blistering of the article in use.
- the object of the present invention is to remedy at least in part the above-mentioned drawbacks.
- the subject of the present invention is a method of forming an armor to reinforce the tear resistance of a twill or satin base weave fabric and their derivatives, characterized in that the surface of the fabric in adjacent quadrangular basic patterns, each bounded by two adjacent warp threads respectively at two opposite sides of the pattern and two weft threads, respectively adjacent to two other opposite sides of the pattern, which are added at least one thread to each warp and weft threads delimiting said patterns, and the thread thus added is changed in the same way as the weft or warp thread to which it has been added.
- the advantages of the process which is the subject of the invention are that they allow the production of a fabric the flexibility of which is not appreciably modified compared to the basic reinforcement, the tear resistance of which is better than that of the basic armor. , whose other characteristics do not undergo significant degradation compared to those of the fabric in basic weave and whose manufacturing cost is close to that of the fabric in basic weave.
- Figures 1 to 4 are schematic representations of armor illustrating a first form of implementation of this method.
- Figures 5 to 8 are schematic representations of armor according to variants of the first embodiment.
- Figures 9 to 13 are schematic representations of armor illustrating a second form of implementation of the method.
- Figures 14 and 15 are schematic representations of armor of two variants of the embodiment of Figures 9 to 13.
- FIG. 16 is a schematic representation of armor according to another form of implementation.
- FIGS 17 and 18 are schematic representations of armor made for comparison.
- Figures 19 to 21 are even more schematic representations of the only groups of wires moving together in the armor.
- the basic float weaves are transformed, namely the twills and their chevron derivatives, etc. which originally offer good flexibility, good abrasion and tear resistance.
- the proposed solution consists in introducing a discontinuity in the weave giving a stop to the propagation of the tear.
- This discontinuity which is made up of a group of at least two wires must allow the wires which constitute it to work together under duress. For this, it is necessary to weave them in the same evolution so that they are naturally grouped and solicited together simultaneously in the same way.
- the weave according to the present invention therefore results from the transformation carried out on basic twill, satin or their derivatives weaves, to incorporate therein groups of threads evolving together in warp and weft surrounding adjacent basic patterns which retain the weave base chosen. This results in a grid effect of the fabric where the grid is formed by these groups of wires evolving together.
- Nb of wires x ⁇ R + a with x: integer R: basic armor ratio a: integer between O and R-1
- FIGS. 1 to 4 We will now describe with the aid of FIGS. 1 to 4 the process for forming a reinforced weave according to the invention from a basic weave twill 2/1 with groups of two threads moving together around patterns of irregular sizes.
- the armor is non-woven.
- the number of warp and weft threads is then determined in relation to the starting armor according to formulas (6) and (7).
- FIG. 3 illustrates the operation which consists in doubling the selected wires of FIG. 2 by giving them the same evolution as the respective wires which they double. We therefore drew the catches of these wires in a gray frame to facilitate understanding and distinguish them from the basic patterns drawn in conventional black and white squares.
- FIG. 4 illustrates, according to the conventional representation, the reinforced armor obtained according to the method which is the subject of the present invention.
- the weave of Figure 4 therefore corresponds to basic patterns whose weft ratios are not equal but observing the conditions A, B, C and D above.
- Figure 5 illustrates, as explained above, the 9 basic patterns surrounded by the selected and doubled warp and weft threads of which the taps have been illustrated in gray frame for facilitate understanding and allow to distinguish groups of two sons of the same evolution from basic patterns.
- rule C guarantees an identical shrinking of the threads
- its non-compliance does not necessarily mean a difference in shrinking between the threads of the armor.
- condition A number of warp and weft patterns respectively multiple of the ratio of the basic weave
- condition C Compliance with this condition A often leads to significant armor reports.
- Condition D guarantees that there will be no float formation longer than the length of the floats of the basic armor + the number of threads moving together - 1. In the case of a weave according to the invention with a twill base 2/1 with 2 threads moving together, there will therefore be no floats> 3.
- condition C the A LC and B LC must be different from 1 while being respectively equal to each other.
- the twill 2/1 leads, according to condition A, to that the weave has at least 3 basic warp and 3 weft patterns, making a total of 9 patterns.
- the number of warp and weft threads is determined in relation to the reinforced weave according to the invention.
- the number of warp threads in the ratio corresponds to the sum: warp threads of basic patterns + (number of grouped threads moving together in chain x NbMch), or 15 threads in our example.
- the number of weft threads to the ratio corresponds to the sum: weft threads of the basic patterns + (number of grouped threads evolving together in the weft x NbMtr), ie also 15 threads.
- FIG. 14 illustrates a case of non-compliance with conditions A and C on the basis of a satin of 4 with grouped thread paths evolving together of 3.
- the table below shows the problem of bogging which results therefrom
- non-compliance with condition D makes the armor lose its regular character by the appearance of parasitic floats resulting from the re-combination of certain floats of the basic armor with floats of the paths of grouped threads evolving together, which give great floats, penalizing the fabric both in terms of its appearance and its resistance to abrasion.
- the weave can be woven with large basic patterns.
- FIG 15 illustrates this possibility. We see that the warp thread No 6 forms a float of 5 (see table below).
- the number and size of the basic patterns are determined by respecting condition A.
- the different basic patterns are filled with the basic weave without following any rules, at random. Bridging is carried out in the same way between the basic patterns through the paths of grouped wires evolving together.
- Figure 16 illustrates this possibility on the basis of a 3/1 twill weave with two grouped threads evolving together.
- the difficulty in weaving a given weave fabric can come from the warp texture, the weft texture, the combination of the two. It is therefore necessary to consider each of these factors in isolation.
- x 1 VS M ⁇ Rc C M being the maximum chain count 1 / c M is the average chain pitch
- the titer and density ⁇ of the wire are assumed to be known and homogeneous.
- FIGS. 19 to 21 The rectangles drawn in FIG. 19 represent the paths of groups of thread of the same evolution surrounding the basic patterns. We see that if these patterns are aligned in warp, they are offset in weft. To obtain this result, it is sufficient for the groups of weft threads evolving together to cease to evolve together in order to integrate into the basic weave of the adjacent offset basic pattern of the second column.
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Abstract
Description
La présente invention se rapporte à un procédé de formation d'une armure pour renforcer la résistance à la déchirure d'un tissu à armure de base sergé ou satin et leurs dérivés.The present invention relates to a method of forming a weave to reinforce the tear resistance of a twill or satin base weave fabric and their derivatives.
Plusieurs solutions ont été proposées pour améliorer la résistance à la déchirure d'un tissu.Several solutions have been proposed to improve the tear resistance of a fabric.
C'est ainsi que l'on a proposé de modifier l'armure toile en introduisant une discontinuité dans l'homogénéité de l'armure sous la forme de deux fils tous les x fils en chaîne et en trame, ces deux fils travaillant selon la même évolution. On obtient ainsi la formation de lignes de flottés de 2 permettant d'offrir tous les x fils une résistance double à celle des fils de la toile.Thus it has been proposed to modify the web weave by introducing a discontinuity in the homogeneity of the weave in the form of two threads every x thread in warp and weft, these two threads working according to the same evolution. The formation of float lines of 2 is thus obtained, making it possible to offer all the x wires a resistance twice that of the wires of the fabric.
La propagation de la déchirure subit des coups d'arrêt à chaque ligne de résistance plus forte qu'elle rencontre sous la forme des flottés de deux introduits dans l'armure toile de base.The propagation of the tear is stopped by each stronger resistance line it encounters in the form of floats of two introduced into the basic canvas weave.
La limite de tissabilité de cette solution est relativement proche de celle de la toile, qui est la plus basse de toutes les armures, compte tenu qu'elle correspond à l'imbrication maximale possible des fils. Cette solution n'est donc techniquement pas applicable sur tous les articles. En particulier les articles fortement contexturés.The weaving limit of this solution is relatively close to that of the fabric, which is the lowest of all the weaves, given that it corresponds to the maximum possible nesting of the threads. This solution is therefore technically not applicable on all items. Especially heavily textured articles.
Le relief de la grille formée par les flottés de 2 est important par rapport à celui de la toile relativement plate. Pour beaucoup d'applications, comme celles des vêtements de travail ou de protection par exemple, ce relief pose un problème d'abrasion précoce au niveau des flottés de 2, qui réduit fortement la longévité du produit. Par ailleurs, ce relief, quand il est important, devient gênant en cas d'enduction du tissu, ou de contrecollage avec une membrane ou un film.The relief of the grid formed by the floats of 2 is significant compared to that of the relatively flat canvas. For many applications, such as those of work or protective clothing for example, this relief poses a problem of early abrasion at the floats of 2, which greatly reduces the longevity of the product. In addition, this relief, when it is important, becomes troublesome in the event of coating of the fabric, or laminating with a membrane or a film.
Dans certains domaines comme le vêtement de travail ou de protection, le grammage et la contexture des articles donnent des tissus très peu souples et peu confortables quand on veut les réaliser avec cette armure. Une enduction ou une membrane contrecollée sur un tissu de ce type donne alors un complexe extrêmement raide et inconfortable.In certain areas such as work or protective clothing, the grammage and the texture of the articles give very little flexible and not very comfortable fabrics when we want to make them with this weave. A coating or membrane laminated to a fabric of this type then gives an extremely stiff and uncomfortable complex.
Au lieu de chercher à obtenir une résistance accrue à la déchirure par le groupage de deux fils, on a également proposé de substituer tous les x fils en chaîne et en trame un fil si possible de même titre et de même couleur, pour ne pas changer l'aspect du tissu, dans une matière plus résistante.Instead of seeking to obtain an increased resistance to tearing by the grouping of two threads, it has also been proposed to substitute all the x threads in warp and in weft a thread if possible of the same title and of the same color, so as not to change the appearance of the fabric, in a more resistant material.
Cette solution, qui donne un tissu hétérogène, entraîne plusieurs inconvénients. Le fil en matière plus résistante est souvent plus cher, augmentant ainsi le prix de l'article. Sur le plan pratique, le tisseur devra gérer deux stocks de fils différents, rendant l'approvisionnement plus complexe, en particulier pour la production de petites quantités.This solution, which gives a heterogeneous tissue, involves several drawbacks. Yarn made of more resistant material is often more expensive, thus increasing the price of the article. In practical terms, the weaver will have to manage two different stocks of yarn, making supply more complex, especially for the production of small quantities.
Les deux types de fils n'ont pas les mêmes caractéristiques mécaniques et/ou physico-chimiques.The two types of wire do not have the same mechanical and / or physicochemical characteristics.
Si l'allongement à la rupture des deux fils est trop éloigné, ils travaillent séparément en résistance à la rupture, ce qui entraîne généralement une chute de performance par rapport au tissu sans incorporation des fils plus résistants.If the elongation at break of the two strands is too far apart, they work separately in breaking strength, which generally results in a drop in performance relative to the fabric without incorporating the more resistant strands.
En outre, les deux fils ont souvent un retrait différent à la température ou au lavage, qui se traduit par un cloquage de l'article à l'usage.In addition, the two wires often have a different shrinkage at temperature or at washing, which results in blistering of the article in use.
On a également proposé d'améliorer la résistance à la déchirure par le type d'armure complexe connu sous le nom d'armures réformes, qui ont été spécialement étudiées pour faire apparaître un grand nombre de flottés, combinés entre eux de manière à pouvoir glisser, ce qui permet d'obtenir un effet de tassement très important.It has also been proposed to improve the resistance to tearing by the type of complex armor known as reformed armor, which has been specially studied to reveal a large number of floats, combined together so as to be able to slide , which provides a very significant packing effect.
Cette solution a comme inconvénients de nécessiter de fortes contextures, donc l'utilisation de fils fins, pour éviter les problèmes de glissement aux coutures et donner un tissu qui ait de la tenue. C'est donc une solution qui augmente aussi bien le coût du fil que celui de la production.This solution has the drawbacks of requiring strong textures, therefore the use of fine threads, to avoid slippage problems at the seams and to give a fabric which has hold. It is therefore a solution which increases both the cost of the wire and that of production.
La présence de longs flottés génère des problèmes de tenue à l'abrasion et aux éraillures qui ne sont pas forcément compatibles avec certaines utilisations comme les vêtements de travail et de protection par exemple.The presence of long floats generates abrasion and scuffing problems which are not necessarily compatible with certain uses such as work and protective clothing for example.
Le tissage de telles armures nécessite un grand nombre de lames sur les métiers à tisser. Les armures les plus efficaces de cette famille demandent une mécanique Jacquard.The weaving of such armor requires a large number of blades on the looms. The most effective armor in this family requires Jacquard mechanics.
Comme on le voit, aucune des solutions proposées jusqu'ici n'apporte de réponse satisfaisante au problème à résoudre.As can be seen, none of the solutions proposed so far provides a satisfactory answer to the problem to be solved.
Le but de la présente invention est de remédier au moins en partie, aux inconvénients susmentionnés.The object of the present invention is to remedy at least in part the above-mentioned drawbacks.
A cet effet, la présente invention a pour objet un procédé de formation d'une armure pour renforcer la résistance à la déchirure d'un tissu à armure de base sergé ou satin et leurs dérivés, caractérisé en ce qu'on divise la surface du tissu en motifs de base quadrangulaires adjacents, chacun délimité par deux fils de chaîne adjacents respectivement à deux côtés opposés du motif et deux fils de trame, adjacents respectivement à deux autres côtés opposés du motif, que l'on ajoute au moins un fil à chacun des fils de chaîne et de trame délimitant lesdits motifs, et que l'on fait évoluer le fil ainsi ajouté de la même manière que le fil de trame ou de chaîne auquel il a été ajouté.To this end, the subject of the present invention is a method of forming an armor to reinforce the tear resistance of a twill or satin base weave fabric and their derivatives, characterized in that the surface of the fabric in adjacent quadrangular basic patterns, each bounded by two adjacent warp threads respectively at two opposite sides of the pattern and two weft threads, respectively adjacent to two other opposite sides of the pattern, which are added at least one thread to each warp and weft threads delimiting said patterns, and the thread thus added is changed in the same way as the weft or warp thread to which it has been added.
Les avantages du procédé objet de l'invention sont de permettre la production d'un tissu dont la souplesse n'est pas sensiblement modifiée par rapport à l'armature fondamentale, dont la résistance à la déchirure est meilleure que celle de l'armure fondamentale, dont les autres caractéristiques ne subissent pas de dégradation notable par rapport à celles du tissu en armure fondamentale et dont le coût de fabrication est voisin de celui du tissu en armure fondamentale.The advantages of the process which is the subject of the invention are that they allow the production of a fabric the flexibility of which is not appreciably modified compared to the basic reinforcement, the tear resistance of which is better than that of the basic armor. , whose other characteristics do not undergo significant degradation compared to those of the fabric in basic weave and whose manufacturing cost is close to that of the fabric in basic weave.
Le dessin annexé illustre, schématiquement et à titre d'exemple, diverses formes et variantes de mise en oeuvre du procédé objet de la présente invention.The appended drawing illustrates, schematically and by way of example, various forms and variants of implementation of the method which is the subject of the present invention.
Les figures 1 à 4 sont des représentations schématiques d'armures illustrant une première forme de mise en oeuvre de ce procédé.Figures 1 to 4 are schematic representations of armor illustrating a first form of implementation of this method.
Les figures 5 à 8 sont des représentations schématiques d'armures selon des variantes de la première forme d'exécution.Figures 5 to 8 are schematic representations of armor according to variants of the first embodiment.
Les figures 9 à 13 sont des représentations schématiques d'armures illustrant une seconde forme de mise en oeuvre du procédé.Figures 9 to 13 are schematic representations of armor illustrating a second form of implementation of the method.
Les figures 14 et 15 sont des représentations schématiques d'armures de deux variantes de la forme de réalisation des figures 9 à 13.Figures 14 and 15 are schematic representations of armor of two variants of the embodiment of Figures 9 to 13.
La figure 16 est une représentation schématique d'armure selon une autre forme de mise en oeuvre.FIG. 16 is a schematic representation of armor according to another form of implementation.
Les figures 17 et 18 sont des représentations schématiques d'armures faites à titre de comparaison.Figures 17 and 18 are schematic representations of armor made for comparison.
Les figures 19 à 21 sont des représentations encore plus schématiques des seuls groupes de fils évoluant ensemble dans l'armure.Figures 19 to 21 are even more schematic representations of the only groups of wires moving together in the armor.
Pour obtenir les caractéristiques précitées, on transforme les armures fondamentales à flottés, à savoir les sergés et leurs dérivés chevrons etc.. qui offrent à l'origine une bonne souplesse, une bonne résistance à l'abrasion et à la déchirure.To obtain the aforementioned characteristics, the basic float weaves are transformed, namely the twills and their chevron derivatives, etc. which originally offer good flexibility, good abrasion and tear resistance.
Cependant dans le cas de contextures fortes on peut également prendre comme base les satins.However in the case of strong textures one can also take as a base the satins.
Pour renforcer la résistance à la déchirure de ces armures de base, sans utiliser de mélange de matière, la solution proposée consiste à introduire dans l'armure une discontinuité donnant un coup d'arrêt à la propagation de la déchirure.To reinforce the tear resistance of these basic weaves, without using a material mixture, the proposed solution consists in introducing a discontinuity in the weave giving a stop to the propagation of the tear.
Cette discontinuité qui est constituée d'un groupement d'au moins deux fils doit permettre aux fils qui la constituent, de travailler ensemble sous la contrainte. Pour cela, il est nécessaire de les tisser dans la même évolution de manière qu'ils soient naturellement groupés et sollicités ensemble simultanément de la même manière.This discontinuity which is made up of a group of at least two wires must allow the wires which constitute it to work together under duress. For this, it is necessary to weave them in the same evolution so that they are naturally grouped and solicited together simultaneously in the same way.
L'armure selon la présente invention résulte donc de la transformation opérée sur des armures de base sergé, satin ou leurs dérivés, pour leur incorporer des groupements de fils évoluant ensemble en chaîne et en trame entourant des motifs de base adjacents qui conservent l'armure de base choisie. Il en résulte un effet de quadrillage du tissu où la grille est constituée par ces groupements de fils évoluant ensemble.The weave according to the present invention therefore results from the transformation carried out on basic twill, satin or their derivatives weaves, to incorporate therein groups of threads evolving together in warp and weft surrounding adjacent basic patterns which retain the weave base chosen. This results in a grid effect of the fabric where the grid is formed by these groups of wires evolving together.
Le nombre de fils en chaîne et en trame de chaque motif de base correspond à la formule :
avec
x : entier
R : rapport de l'armure de base
a : entier compris entre O et R-1The number of warp and weft threads of each basic pattern corresponds to the formula:
with
x: integer
R: basic armor ratio
a: integer between O and R-1
Nous allons maintenant décrire à l'aide des figures 1 à 4 le procédé de formation d'une armure renforcée selon l'invention à partir d'une armure de base sergé 2/1 avec des groupements de deux fils évoluant ensemble autour de motifs de tailles irrégulières.We will now describe with the aid of FIGS. 1 to 4 the process for forming a reinforced weave according to the invention from a
Pour obtenir l'armure illustrée par la figure 4 en partant du sergé 2/1 illustré par la figure 1, un certain nombre de conditions doivent être observées pour garantir la tissabilité d'un tissu exempt de défauts. Il est important en particulier que l'embuvage des différents fils de chaîne de l'armure soit identique. En effet, si l'évolution d'un des fils de l'armure donne un embuvage nettement plus fort que celui des autres, ce fil est soumis à une tension plus forte qui engendre un défaut d'aspect pouvant conduire finalement à la rupture de ce fil.To obtain the weave illustrated in FIG. 4, starting from the
Dans le cas contraire, si l'embuvage d'un fil est plus faible que celui des autres fils, la tension de ce fil devient de plus en plus faible entraînant un défaut de tissage aboutissant finalement à l'arrêt du métier à tisser par les détecteurs de casse des fils de chaîne.Otherwise, if the embuvage of a thread is weaker than that of the other threads, the tension of this thread becomes progressively weaker, leading to a weaving defect ultimately leading to the stopping of the loom by the chain wire break detectors.
Dans les deux cas, l'armure est intissable.In both cases, the armor is non-woven.
Il est à noter toutefois, que lorsque les différences d'embuvage sont faibles, l'armure peut s'avérer tissable selon le titre des fils, la matière et la contexture. Seul un essai de tissage permet de le savoir.It should be noted, however, that when the differences in embuvage are small, the weave can be woven depending on the title of the threads, the material and the texture. Only a weaving test can tell.
Pour obtenir l'armure renforcée de la figure 4 qui constitue le cas idéal sur la base de motifs de base à flottés irréguliers il faut respecter les conditions suivantes. On appelle motif de base à flottés irréguliers, les motifs de base qui forment un flotté de longueur différente à celle de l'armure de base à la transition motif de base, fils groupés de même évolution :
- A. L'armure doit comporter au rapport, un nombre de motifs de base en chaîne et en trame, multiple du rapport de l'armure de base choisie. Dans le présent exemple, avec le
sergé 2/1 comme armure de base, le rapport est 3. Le nombre minimum de motifs de chaîne, NbMch est donc de 3 et celui de motifs de trame, NbMtr est aussi de trois ce qui donne pour l'armure selon l'invention un nombre minimum de 3 x 3 = 9 motifs de base.
Chaque motif de base de l'armure est repéré par la notation MLC où L est le numéro de ligne du motif et C est le numéro de colonne du motif. L et C étant chacun un nombre entier compris entre 1 et le nombre de motif de la trame, respectivement de la chaîne.
En reprenant la formule (1) précédente le nombre de fils trame du motif de base MLC = XLC · R + ALC
et le nombre de fils chaîne du motif de base MLC = YLC · R + BLC
avec
XLC, YLC : entier positif
ALC, BLC : entier positif compris entre 0 et R - 1 - B. Selon la deuxième condition, les motifs de base sur une même colonne C, respectivement une même ligne L, doivent comporter un même nombre de fils en chaîne, respectivement en trame. Ce qui donne donc
- C. Pour garantir un embuvage identique de tous les fils de chaîne, tous les ALC respectivement tous les BLC doivent être égaux entre eux et compris entre 0 et R - 1.
- D. Les XLC, YLC, ALC et BLC doivent respecter les formules suivantes :
Pour L = 1 à NbMtr
- A. The weave must include on the report a number of basic warp and weft patterns, multiple of the report of the chosen basic weave. In the present example, with the
twill 2/1 as basic weave, the ratio is 3. The minimum number of warp patterns, NbMch is therefore 3 and that of weft patterns, NbMtr is also three which gives for the armor according to the invention a minimum number of 3 x 3 = 9 basic patterns.
Each basic pattern of the weave is identified by the notation M LC where L is the line number of the pattern and C is the column number of the pattern. L and C each being an integer between 1 and the number of patterns in the frame, respectively in the warp.
Using the above formula (1) the number of weft threads of the basic pattern M LC = X LC · R + A LC
and the number of chain threads of the basic pattern M LC = Y LC · R + B LC
with
X LC , Y LC : positive integer
A LC , B LC : positive integer between 0 and R - 1 - B. According to the second condition, the basic patterns on the same column C, respectively the same row L, must include the same number of threads in warp, respectively in weft. Which therefore gives
- C. To guarantee identical baking of all the warp threads, all the A LC respectively all the B LC must be equal to each other and between 0 and R - 1.
- D. X LC , Y LC , A LC and B LC must respect the formulas following:
For L = 1 at NbMtr
Nous allons voir maintenant comment on construit une armure renforcée selon l'invention en observant les conditions susmentionnées.We will now see how a reinforced armor according to the invention is constructed by observing the above-mentioned conditions.
Pour éviter de faire une armure trop grande, l'exemple comporte un nombre de motifs minimum soit :
On détermine la taille des motifs de base que l'on veut réaliser en respectant les conditions énoncées ci-dessus. Dans le cas présent cela donne :
On détermine alors le nombre de fils de chaîne et de trame au rapport de l'armure de départ selon les formules (6) et (7). Dans cet exemple, il y a au rapport 12 fils de chaîne x 18 duites comme illustré par la figure 1.The number of warp and weft threads is then determined in relation to the starting armor according to formulas (6) and (7). In this example, there are 12 warp x 18 picks in the ratio as shown in Figure 1.
On sélectionne alors dans cette armure de base les fils que l'on va doubler en entourant les motifs de base. On commence par convention depuis le bord gauche en haut et on dessine en trame grise tous les pris du premier fil de chaîne sur la figure 2. On laisse un espace égal au rapport en chaîne des motifs de base M11, M21 et M31 et on sélectionne un second fil de chaîne dont les pris sont représentés en trame grise. On laisse ensuite un nouvel espace égal au rapport de chaîne des motifs de base M12, M22, M23 et on sélectionne le fil de chaîne suivant. Il reste alors jusqu'au bord droit de l'armure le rapport en chaîne des motifs M13, M23, M33. Par effet de répétition de l'armure le bord droit de l'armure devient adjacent à son bord gauche, de même que le bord inférieur de cette même armure est adjacent à son bord supérieur, de sorte que tous les motifs de base MLC sont entourés sur leur quatre côtés par des fils de chaîne respectivement de trame que l'on veut doubler. La sélection des fils de trame que l'on veut doubler s'effectue de la même manière en partant du bord supérieur de l'armure et en dessinant en trame grise, pour faciliter la compréhension, tous les pris des duites sélectionnées en vue d'être doublées.We then select in this basic weave the son that we will double by surrounding the basic patterns. We start by convention from the left edge at the top and we draw in gray frame all the takes of the first warp thread in Figure 2. We leave a space equal to the chain ratio of the basic patterns M11, M21 and M31 and we select a second warp thread, the catches of which are shown in gray. A new space is then left equal to the chain ratio of the basic patterns M12, M22, M23 and the next warp thread is selected. It then remains to the right edge of the armor the chain relationship of the patterns M13, M23, M33. By repetition effect of the weave the right edge of the weave becomes adjacent to its left edge, just as the lower edge of this same weave is adjacent to its upper edge, so that all the basic patterns M LC are surrounded on their four sides by warp threads respectively weft that we want to double. The selection of the weft threads that we want to double is carried out in the same way, starting from the upper edge of the weave and drawing in gray weft, to make it easier to understand, all of the picks of the picks selected for be doubled.
La figure 3 illustre l'opération qui consiste à doubler les fils sélectionnés de la figure 2 en leur donnant la même évolution que les fils respectifs qu'ils doublent. On a donc dessiné les pris de ces fils en trame grise pour faciliter la compréhension et les distinguer des motifs de base dessinés en carrés noirs et blancs conventionnels.FIG. 3 illustrates the operation which consists in doubling the selected wires of FIG. 2 by giving them the same evolution as the respective wires which they double. We therefore drew the catches of these wires in a gray frame to facilitate understanding and distinguish them from the basic patterns drawn in conventional black and white squares.
Enfin la figure 4 illustre, selon la représentation conventionnelle, l'armure renforcée obtenue selon le procédé objet de la présente invention.Finally, FIG. 4 illustrates, according to the conventional representation, the reinforced armor obtained according to the method which is the subject of the present invention.
L'armure de la figure 4 correspond donc à des motifs de bases dont les rapports en trame ne sont pas égaux mais observant les conditions A, B, C et D susmentionnées.The weave of Figure 4 therefore corresponds to basic patterns whose weft ratios are not equal but observing the conditions A, B, C and D above.
Si ces conditions sont idéales, l'invention n'est toutefois pas limitée au respect de toutes ces conditions. Nous allons examiner maintenant et à titre d'exemple, différentes variantes possibles n'obéissant pas à l'ensemble des conditions énoncées précédemment.If these conditions are ideal, the invention is not however limited to compliance with all these conditions. We will now examine, by way of example, different possible variants which do not obey all of the conditions set out above.
Dans l'exemple qui suit on part à nouveau d'un sergé 2/1 et on respecte la condition A c'est-à-dire que l'on a trois motifs de base en chaîne et trois en trame
Comme on le voit, les motifs ne respectent pas en trame la condition C. La figure 5 illustre comme expliqué précédemment les 9 motifs de base entourés par les fils de chaîne et de trame sélectionnés et doublés dont les pris ont été illustrés en trame grise pour faciliter la compréhension et permettre de distinguer les groupes de deux fils de même évolution des motifs de base.As can be seen, the patterns do not respect the weft condition C. Figure 5 illustrates, as explained above, the 9 basic patterns surrounded by the selected and doubled warp and weft threads of which the taps have been illustrated in gray frame for facilitate understanding and allow to distinguish groups of two sons of the same evolution from basic patterns.
Le tableau ci-dessous permet de contrôler si l'embuvage de tous les fils est identique en vérifiant pour chaque fil, que son évolution comporte le même nombre d'évolutions de base. On voit que les fils 2, 3, et 4 n'ont pas la même évolution
Ces armures peuvent cependant s'avérer tissables. En effet, la différence d'embuvage résulte toujours d'une re-combinaison particulière à la transition entre les motifs de base et les groupes de fils évoluant ensemble.These armours can however be woven. Indeed, the difference in embuvage always results from a particular re-combination at the transition between the basic patterns and the groups of threads evolving together.
Lorsque les motifs de base sont petits (XLC = 1 par exemple), cette re-combinaison particulière a un poids important compte tenu du faible nombre d'évolutions du fil au rapport.When the basic patterns are small (X LC = 1 for example), this particular re-combination has a significant weight taking into account the small number of thread evolutions in the ratio.
Par contre, plus les motifs de base sont grands et plus l'embuvage tend vers l'embuvage de l'armure de base qui est prédominante. La différence d'embuvage provenant de la re-combinaison particulière est alors minime.On the other hand, the larger the basic patterns, the more the bending tends towards the bogging of the basic weave which is predominant. The difference in shrinkage from the particular re-combination is therefore minimal.
Seul un essai de tissage permet dans ce cas de confirmer la tissabilité ou non de l'armure.Only a weaving test allows in this case to confirm the wearableness or not of the weave.
Si le respect de la règle C garantit un embuvage identique des fils, son non respect ne signifie pas forcément une différence d'embuvage entre les fils de l'armure. Dans certains cas particuliers d'armures sans envers par exemple, on parvient à conserver un embuvage identique malgré le non respect de ces équations. C'est par exemple le cas de l'armure à motifs irréguliers sur base sergé 2/2 avec 3 fils évoluant ensemble illustré par la figure 6.If the respect of rule C guarantees an identical shrinking of the threads, its non-compliance does not necessarily mean a difference in shrinking between the threads of the armor. In certain particular cases of backless armor, for example, we manage to keep an identical shrinkage despite non-compliance with these equations. This is for example the case of the weave with irregular patterns on a 2/2 twill base with 3 threads evolving together illustrated by FIG. 6.
Le non respect de la condition A (nombre de motifs en chaîne et en trame respectivement multiples du rapport de l'armure de base) a les mêmes conséquences que celui du non respect de la condition C. Le respect de cette condition A conduit souvent à des rapports d'armures importants. En ne respectant pas cette condition, il est alors possible de réduire le rapport de l'armure, par exemple en ne mettant que deux motifs de base en chaîne en trame au rapport au lieu de trois pour une armure selon l'invention à base sergé 2/1.Failure to comply with condition A (number of warp and weft patterns respectively multiple of the ratio of the basic weave) has the same consequences as that of non-compliance with condition C. Compliance with this condition A often leads to significant armor reports. By not respecting this condition, it is then possible to reduce the ratio of the weave, for example by putting only two basic patterns in a weft warp instead of three for a weave according to the invention with a 2/1 twill base.
Le non respect simultané de ces conditions A et C conduit également aux mêmes conséquences et exceptions. Un tel exemple est illustré par la figure 7.Failure to comply with these conditions A and C simultaneously leads to the same consequences and exceptions. One such example is illustrated in Figure 7.
Le non respect de la quatrième condition D entraîne forcément le non respect de la condition C. La condition D garantit qu'il n'y aura pas formation de flottés plus long que la longueur des flottés de l'armure de base + le nombre de fils évoluant ensemble - 1. Dans le cas d'une armure selon l'invention à base sergé 2/1 avec 2 fils évoluant ensemble, il n'y aura donc pas de flottés > 3.Failure to comply with fourth condition D necessarily results in non-compliance with condition C. Condition D guarantees that there will be no float formation longer than the length of the floats of the basic armor + the number of threads moving together - 1. In the case of a weave according to the invention with a
Le non respect de cette condition D conduit donc à la formation de grands flottés qui rendent encore plus problèmatique la tissabilité de l'armure en aggravant les problèmes d'embuvage comme le montre la figure 8 avec un flotté de 5 aux fils 4 et 7 (voir tableau ci-dessous). De plus, la formation de grands flottés au milieu de flottés nettement plus petits nuit à l'aspect du tissu, mais pose surtout le problème de l'abrasion précoce de ces grands flottés.
Après les armures composées de motifs de base à flottés irréguliers, nous examinerons celles composées de motifs de base à flottés réguliers.After the armor made up of basic patterns with irregular floats, we will examine those made up of basic patterns to regular floats.
On appelle armures composées de motifs de base à flottés réguliers, celles dont les motifs de base ne forment pas de flottés avec les fils groupés de même évolution.Weaves composed of basic patterns with regular floats are called those whose basic patterns do not form floats with grouped threads of the same evolution.
Lorsque ces armures ne sont pas construites dans le respect des quatre règles qui suivent, elles peuvent perdre ce caractère régulier. Cependant de par leur principe de construction, on parlera quand même d'armures à motifs de base à flottés réguliers.When these armors are not built in compliance with the following four rules, they can lose their regular character. However, by their construction principle, we will still speak of basic patterned armor with regular floats.
Les conditions A et B susmentionnées restent valables ici. Pour la condition C les ALC et BLC doivent être différents de 1 tout en étant respectivement égaux entre eux.Conditions A and B above remain valid here. For condition C the A LC and B LC must be different from 1 while being respectively equal to each other.
Par contre pour la condition D, les YLC, XLC, BLC et ALC doivent respecter les formules suivantes :
Pour L = 1 à NbMtr
Pour C = 1 à NbMch
zL,wC : entiers positifsOn the other hand for condition D, the Y LC , X LC , B LC and A LC must respect the following formulas:
For L = 1 at NbMtr
For C = 1 at NbMch
z L , w C : positive integers
Le respect de ces conditions garantit la construction d'une armure parfaitement tissable.Compliance with these conditions guarantees the construction of a perfectly wearable weave.
Nous nous proposons de construire une armure à résistance à la déchirure renforcée selon la présente invention sur la base d'un sergé 2/1 avec 2 fils évoluant ensemble entourant les motifs de base. Pour expliquer la construction de cette armure, reportons-nous aux figures 9 à 13.We propose to build a reinforced tear resistance armor according to the present invention on the basis of a 2/1 twill with 2 threads evolving together surrounding the basic patterns. To explain the construction of this armor, refer to Figures 9 to 13.
Le sergé 2/1 conduit, selon la condition A, à ce que l'armure comporte au minimum 3 motifs de base en chaîne et 3 en trame soit 9 motifs au total.The
Une fois que la taille des motifs de base a été déterminée, on détermine le nombre de fils de chaîne et de trame au rapport de l'armure renforcée selon l'invention.Once the size of the basic patterns has been determined, the number of warp and weft threads is determined in relation to the reinforced weave according to the invention.
Dans notre exemple, XLC = YLC = 1 et ALC = BLC = 0.In our example, X LC = Y LC = 1 and A LC = B LC = 0.
Le nombre de fils de chaîne au rapport correspond à la somme : fils de chaîne des motifs de base + (nombre de fils groupés évoluant ensemble en chaîne x NbMch), soit 15 fils dans notre exemple.The number of warp threads in the ratio corresponds to the sum: warp threads of basic patterns + (number of grouped threads moving together in chain x NbMch), or 15 threads in our example.
Le nombre de fils de trame au rapport correspond à la somme: fils de trame des motifs de base + (nombre de fils groupés évoluant ensemble en trame x NbMtr), soit 15 fils également.The number of weft threads to the ratio corresponds to the sum: weft threads of the basic patterns + (number of grouped threads evolving together in the weft x NbMtr), ie also 15 threads.
On dessine alors une grille de 15 x 15 (figure 9). On commence par laisser libre du côté gauche un nombre de colonnes égal au nombre de fils groupés évoluant ensemble en chaîne. De même on laisse libre depuis le bord supérieur de la grille un nombre de lignes égal au nombre de fils groupés évoluant ensemble en trame. On trace alors en trait double un cadre correspondant au premier motif de base. On positionne le motif suivant en chaîne au même niveau après un nouvel intervalle de deux colonnes dans cet exemple, correspondant au nombre de fils groupés évoluant ensemble en chaîne. On procède de même en trame et on obtient les emplacements des 9 motifs de base.We then draw a 15 x 15 grid (Figure 9). We start by leaving free on the left side a number of columns equal to the number of grouped threads moving together in chain. Likewise, a number of lines equal to the number of grouped wires moving together in a weft are left free from the upper edge of the grid. We then draw in double lines a frame corresponding to the first basic pattern. The following pattern is positioned in a chain at the same level after a new interval of two columns in this example, corresponding to the number of grouped threads moving together in a chain. We do the same in the frame and we get the locations of the 9 basic patterns.
On remplit le premier motif de base M11 (figure 9) dans l'armure de base choisie, dans notre exemple en sergé 2/1. Le remplissage du motif de base suivant M12, en chaîne, se fait dans l'armure de base, mais en commençant par la dernière colonne du motif de base M11 adjacent. On répète cette opération aux motifs de chaîne suivants, jusqu'au dernier motif de chaîne. On procède de même en trame en reprenant pour chaque motif suivant la dernière ligne du motif précédent. On étend cette méthode à tous les motifs et on obtient la figure 10.We fill the first basic pattern M11 (Figure 9) in the basic weave chosen, in our example in
En ce qui concerne les chemins de fils groupés évoluant ensemble, on établit en cases noires des pontages entre deux cases blanches des motifs de base qui se font face, sans oublier que, dans le tissu, l'armure se répète et on obtient la figure 11.Regarding the grouped wire paths evolving together, we establish in black boxes bridging between two white boxes basic patterns that face each other, without forgetting that in the fabric, the weave is repeated and we get Figure 11.
Enfin, aux intersections entre les chemins de fils groupés évoluant ensemble on donne la couleur opposée à celle des cases des chemins adjacents à chaque intersection comme illustré par la figure 12. L'armure correspondante est illustrée par la figure 13.Finally, at the intersections between the grouped son paths evolving together, the color opposite to that of the boxes of the paths adjacent to each intersection is given as illustrated in FIG. 12. The corresponding armor is illustrated in FIG. 13.
La dérogation à certaines des conditions énoncées pour la construction de l'armure qui vient d'être décrite permet de réduire sensiblement le rapport d'armure, tout en obtenant, dans certains cas, une armure tissable de la même manière qu'expliqué en relation avec les armures à motifs de base à flottés irréguliers. Le respect de la condition D est fondamental si l'on veut conserver le caractère régulier de l'armure, comme défini précédemment.The derogation from some of the conditions set out for the construction of the armor which has just been described makes it possible to significantly reduce the armor ratio, while obtaining, in certain cases, a weave armor in the same manner as explained in relation with basic patterned armor with irregular floats. Compliance with condition D is fundamental if we want to maintain the regularity of the armor, as defined above.
Si l'une des conditions A ou C, n'est pas respectée, on n'a plus la garantie que l'embuvage de tous les fils de chaîne est identique. Ces inconvénients affecteront la grande majorité des cas.If one of the conditions A or C is not respected, there is no longer the guarantee that the rolling in of all the warp threads is identical. These drawbacks will affect the vast majority of cases.
La figure 14 illustre un cas de non respect des conditions A et C sur la base d'un satin de 4 avec des chemins de fils groupés évoluant ensemble de 3. Le tableau ci-dessous montre le problème d'embuvage qui en résulte
Comme signalé précédemment, plus les motifs de base seront grands, plus l'embuvage des fils tendra vers l'embuvage de l'armure de base, qui elle est tissable. C'est pourquoi dans certains cas il est possible et même avantageux de déroger à ces deux conditions. Notamment sur une base sergé 2/1, on obtient avec un seul motif de la forme x.R + 1, une armure parfaitement tissable avec un rapport extrêmement réduit (figure 18).As previously mentioned, the larger the basic patterns, the more the embuvage of the threads will tend towards the embuvage of the basic weave, which is woven. This is why in in certain cases it is possible and even advantageous to derogate from these two conditions. Particularly on a 2/1 twill base, a perfectly weave weave with an extremely reduced ratio is obtained with a single pattern of the form xR + 1 (FIG. 18).
Comme on l'a déjà dit, le non respect de la condition D fait perdre son caractère régulier à l'armure par l'apparition de flottés parasites résultant de la re-combinaison de certains flottés de l'armure de base avec des flottés des chemins de fils groupés évoluant ensemble, qui donnent de grands flottés, pénalisant le tissu aussi bien en ce qui concerne son aspect que sa résistance à l'abrasion. Bien que les conditions d'embuvage identique ne soient plus respectées, l'armure peut s'avérer tissable avec de grands motifs de base.As we have already said, non-compliance with condition D makes the armor lose its regular character by the appearance of parasitic floats resulting from the re-combination of certain floats of the basic armor with floats of the paths of grouped threads evolving together, which give great floats, penalizing the fabric both in terms of its appearance and its resistance to abrasion. Although the same baking conditions are no longer met, the weave can be woven with large basic patterns.
La figure 15 illustre cette possibilité. On constate que le fil de chaîne No 6 forme un flotté de 5 (voir tableau ci-dessous).
On peut encore imaginer une autre famille d'armures renforcées, objet de l'invention, en ne respectant que la condition A susmentionnée, c'est-à-dire que les motifs de base sur une même colonne, respectivement une même ligne, doivent comporter le même nombre de fils en chaîne, respectivement en trame.We can also imagine another family of reinforced armor, object of the invention, by only respecting condition A above, that is to say that the basic patterns on the same column, respectively the same line, must have the same number of threads in the warp, respectively in the weft.
On parlera d'armure à motifs de base à flottés aléatoires, car le principe de construction de ces armures entraîne la formation de flottés de longeurs aléatoires à la transition motifs de base, fils groupés de même évolution.We will speak of basic pattern weave with random floats, because the principle of construction of these weaves leads to the formation of floats of random lengths at the transition to basic patterns, grouped wires of the same evolution.
Pour réaliser cette armure on détermine le nombre et la taille des motifs de base en respectant la condition A. On remplit les différents motifs de base, avec l'armure de base sans suivre de règle, de manière aléatoire. On réalise de la même manière les pontages entre les motifs de base à travers les chemins de fils groupés évoluant ensemble. La figure 16 illustre cette possibilité sur la base d'une armure sergé 3/1 avec deux fils groupés évoluant ensemble.To make this weave, the number and size of the basic patterns are determined by respecting condition A. The different basic patterns are filled with the basic weave without following any rules, at random. Bridging is carried out in the same way between the basic patterns through the paths of grouped wires evolving together. Figure 16 illustrates this possibility on the basis of a 3/1 twill weave with two grouped threads evolving together.
On peut aussi imaginer, dans cette méthode, de remplir les motifs de base avec des armures de bases différentes. Bien entendu avec cette variante du procédé il n'est pas possible de savoir à l'avance si l'armure sera réellement tissable ou non, si le tissu résultant sera résistant à l'abrasion et aura un aspect satisfaisant.One can also imagine, in this method, filling the basic patterns with different basic weaves. Of course with this variant of the process, it is not possible to know in advance whether the weave will actually be woven or not, whether the resulting fabric will be abrasion resistant and will have a satisfactory appearance.
Comme on le sait, la limite de tissabilité et la souplesse d'un tissu sont étroitement liées. Toutes deux résultent du degré de liberté des fils, qui dépend, pour un choix de fil donné de l'armure et de la contexture.As is known, the weaving limit and the flexibility of a fabric are closely linked. Both result from the degree of freedom of the threads, which depends, for a given choice of thread, on the weave and the texture.
Pour montrer l'avantage de l'armure réalisée à l'aide du procédé objet de l'invention, en termes de souplesse et de limite de tissabilité nous allons nous appuyer sur une approche théorique du calcul du degré d'imbrication des fils dans un tissu. Ce calcul est basé sur une modélisation du tissu.To show the advantage of the weave produced using the process which is the subject of the invention, in terms of flexibility and wearability limit, we will rely on a theoretical approach for calculating the degree of overlapping of the threads in a tissue. This calculation is based on a modeling of the fabric.
La difficulté de tissage d'un tissu d'armure donnée peut provenir de la contexture en chaîne, de la contexture en trame, de la conjugaison des deux. Il est donc nécessaire de considérer isolément chacun de ces facteurs.The difficulty in weaving a given weave fabric can come from the warp texture, the weft texture, the combination of the two. It is therefore necessary to consider each of these factors in isolation.
A la condition de définir clairement un compte en chaîne, respectivement en trame, maximal correspondant à un titre de fil donné, la difficulté de tissage en chaîne IC et en trame IT peut être exprimée en % :
La difficulté de liage liée à la conjugaison de IC et IT est donnée par un indice d'ensemble IE
Pour déterminer le compte en chaîne maximal on suppose que les filés de titre connu sont de section cylindrique et que dans le cas de la contexture la plus resserrée, les fils de chaîne sont jointifs sous les flottés de trame et ne sont écartés que d'une épaisseur de trame lors des changements de face.To determine the maximum warp count, it is assumed that the yarns of known title are of cylindrical section and that in the case of the tightest texture, the warp threads are joined under the weft floats and are only separated by one weft thickness during face changes.
La largeur x occupée par l'ensemble des fils d'un rapport d'armure liant sur la duite faisant le plus d'évolution est :
où
Rc est le rapport d'armure en chaîne
nT le nombre de changements de faces de la duite
dc le diamètre de la chaîne
dT le diamètre de la trameThe width x occupied by all the threads of a weave ratio binding on the pick making the most change is:
or
Rc is the chain armor ratio
n T the number of change of faces of the pick
dc the diameter of the chain
d T the diameter of the frame
Par ailleurs et à condition que x soit exprimé dans la même unité de compte que la chaîne, c'est-à-dire en cm, on a :
CM étant le compte maximal en chaîne
1/cM est le pas moyen en chaîneFurthermore and provided that x is expressed in the same unit of account as the chain, that is to say in cm, we have:
C M being the maximum chain count
1 / c M is the average chain pitch
Des équations (9) et (10) on tire :
d'où
où C, est le compte en chaîne réelFrom equations (9) and (10) we derive:
from where
where C, is the real chain account
Par analogie :
où
- D
- : duitage réel
- nc
- : nombre de changement de faces du fil de chaîne faisant le plus d'évolutions sur le rapport de trame
- RT
- : rapport de trame
or
- D
- : real duitation
- nc
- : number of change of faces of the warp thread making the most changes on the weft ratio
- R T
- : frame ratio
Le titre et la masse volumique ρ du fil sont supposés connus et homogènes.The titer and density ρ of the wire are assumed to be known and homogeneous.
En considérant un cylindre ayant le diamètre d du fil, 1 mètre de hauteur, on a
avec
d en cm
en g/cm³
T en tex
with
d in cm
in g / cm³
T in tex
Si les limites théoriques maximum de IC, IT et IE sont 100, les limites pratiques suivant les auteurs, sont < 94 ou < 80 à 85 pour IC et IT et pour IE < 74 respectivement < 64 à 72, pour des articles parfaitement tissables.If the maximum theoretical limits of I C , I T and I E are 100, the practical limits according to the authors, are <94 or <80 to 85 for I C and I T and for I E <74 respectively <64 to 72, for perfectly wearable items.
Pour IC ou IT compris entre 94 et 120 et IE ≦ 74 on peut envisager le tissage.For I C or I T between 94 and 120 and I E ≦ 74 we can consider weaving.
En effet, compte tenu des approximations faites dans l'approche théorique, on peut obtenir des indices > 100 pour des articles qui s'avèrent tissables.Indeed, taking into account the approximations made in the theoretical approach, one can obtain indices> 100 for articles which prove to be wearable.
En se basant sur cette théorie on a comparé une armure toile renforcée dite "Rip stop" (indice RP) à une armure renforcée sur base sergé 2/1 avec deux fils groupés de même évolution du procédé objet de l'invention (indice A). Il est à noter qu'en terme d'amélioration de la résistance aux déchirures et de souplesse, il s'agit de l'armure la moins performante obtenue à l'aide de ce procédé. Les deux armures sont représentées par les figures 17 respectivement 18.Based on this theory, we compared a reinforced canvas weave called "Rip stop" (RP index) to a reinforced weave on a 2/1 twill base with two grouped threads of the same evolution of the process object of the invention (index A). . It should be noted that in terms of improvement in tear resistance and flexibility, it is the least efficient armor obtained using this process. The two armours are shown in FIGS. 17 and 18 respectively.
Les rapports en chaîne RCRP et RCA et en trame RTRP et RTA des deux armures sont identiques, respectivement 27 et 22.
nTRP = 26 nCRP = 20 nTA = 18 nCA = 14
s'agissant d'une comparaison, on réalise le calcul sur l'hypothèse de l'utilisation du même fil en chaîne et en trame pour les deux articles soit : dTRP = dTA = dCRP = dCA = d
donc
n TRP = 26 n CRP = 20 n TA = 18 n CA = 14
in the case of a comparison, the calculation is carried out on the assumption of the use of the same yarn in warp and in weft for the two articles either: d TRP = d TA = d CRP = d CA = d
so
De la même façon on peut calculer
De sorte que l'indice d'ensemble donne
Ce qui signifie que l'armure "Rip stop" est 37 % plus difficile à tisser que l'armure sergé 2/1 obtenue selon le procédé objet de la présente invention.This means that the "Rip stop" weave is 37% more difficult to weave than the 2/1 twill weave obtained according to the process which is the subject of the present invention.
A fil et contexture égaux, cette différence de 37 % est nettement perceptible au toucher, la souplesse de l'armure, selon la figure 18, étant plus grande. En outre, lorsque l'armure selon la figure 17 n'est plus tissable, en raison d'une contexture trop forte, l'armure obtenue selon le procédé objet de la présente invention permet encore de tisser dans des conditions parfaitement satisfaisantes.With equal thread and texture, this difference of 37% is clearly noticeable to the touch, the flexibility of the weave, according to FIG. 18, being greater. In addition, when the weave according to FIG. 17 is no longer wearable, due to a too strong texture, the weave obtained according to the process which is the subject of the present invention still makes it possible to weave under perfectly satisfactory conditions.
Différents essais comparatifs de tissage ont été réalisés en vue de vérifier l'approche théorique ci-dessus.Different comparative weaving tests were carried out in order to verify the above theoretical approach.
On a tissé un article 50 % Kermel ® 50 % Viscose FR Nm 45/2 chaîne et trame, 32 fils/cm et 22 duites/cm. Armure sergé 2/1.We woven an article 50% Kermel ® 50% Viscose FR Nm 45/2 warp and weft, 32 threads / cm and 22 picks / cm. 2/1 twill weave.
Les caractéristiques de ce tissu sont les suivantes :
Résistance à la rupture selon la norme NF G07-001
- chaîne
- : 110 daN
- trame
- : 80 daN
Résistance à la déchirure amorcée force vive NF G07-148
- chaîne
- : 5,5 daN
- trame
- : 4,9 daN
Breaking strength according to standard NF G07-001
- chain
- : 110 daN
- weft
- : 80 daN
Resistance to tearing initiated live force NF G07-148
- chain
- : 5.5 daN
- weft
- : 4.9 daN
On a réalisé le même article en armure obtenue selon le procédé objet de l'invention avec des motifs de base réguliers à base sergé 2/1 avec des chemins de deux fils groupés de même évolution dans un dessin correspondant à celui de la figure 18. Les résultats sont les suivants :
Résistance à la rupture selon la norme NF G07-001
- chaîne
- : 112 daN
- trame
- : 83 daN
Résistance à la déchirure amorcée vive selon norme NF G07-148
- chaîne
- : 9,3 daN
- trame
- : 8,9 daN
Breaking strength according to standard NF G07-001
- chain
- : 112 daN
- weft
- : 83 daN
Resistance to tearing initiated live according to standard NF G07-148
- chain
- : 9.3 daN
- weft
- : 8.9 daN
On constate la très nette amélioration de la résistance aux déchirures amorcées. La souplesse du tissu de base sergé 2/1 est intégralement conservée, et même légèrement améliorée, comme le montre le calcul des indices des deux tissus.
Nous avons décrit jusqu'ici trois familles d'armures obtenues selon le procédé objet de l'invention. Les familles à motifs de base à flottés irréguliers, à motifs de base à flottés réguliers et à motifs de base à flottés aléatoires. On peut encore imaginer une famille à motifs décalés en chaîne ou en trame. C'est cette quatrième famille qui est illustrée par les figures 19 à 21. Les rectangles dessinés sur la figure 19 représentent les chemins de groupes de fil de même évolution entourant les motifs de base. On voit que si ces motifs sont alignés en chaîne, ils sont décalés en trame. Pour obtenir ce résultat il suffit que les groupes de fils de trame évoluant ensemble cessent d'évoluer ensemble pour s'intégrer à l'armure de base du motif de base adjacent décalé, de la deuxième colonne. Lorsque ces fils de trame ressortent de ce motif de base, ils évoluent à nouveau ensemble sur toute la largeur de la troisième colonne pour être à nouveau intégrés à l'armure du motif de base adjacent de la quatrième colonne. D'autres groupes de fils de trames bordent les motifs de base des deuxième et quatrième colonnes en évoluant ensemble et sont intégrés au motifs de base des première et troisième colonne. Ce même principe est utilisé dans le cas des figures 20 et 21. Dans cette dernière figure, le décalage s'effectue en appliquant le même principe aux fils de chaîne décalant ainsi les motifs de base dans le sens des colonnes et non dans celui des lignes.We have so far described three families of armor obtained according to the process which is the subject of the invention. The families with basic patterns with irregular floats, with basic patterns with regular floats and with basic patterns with random floats. We can still imagine a family with offset patterns in warp or weft. It is this fourth family which is illustrated by FIGS. 19 to 21. The rectangles drawn in FIG. 19 represent the paths of groups of thread of the same evolution surrounding the basic patterns. We see that if these patterns are aligned in warp, they are offset in weft. To obtain this result, it is sufficient for the groups of weft threads evolving together to cease to evolve together in order to integrate into the basic weave of the adjacent offset basic pattern of the second column. When these weft threads emerge from this basic pattern, they again evolve together over the entire width of the third column so as to be again integrated into the weave of the adjacent basic pattern of the fourth column. Other groups of weft threads border the basic patterns of the second and fourth columns while evolving together and are integrated into the basic patterns of the first and third column. This same principle is used in the case of FIGS. 20 and 21. In this last figure, the offset is effected by applying the same principle to the warp threads thus shifting the basic patterns in the direction of the columns and not in that of the rows. .
Les essais réalisés ont montré que la résistance à la déchirure augmente sensiblement à partir d'un écartement entre les chemins de fils groupés évoluant ensemble de 10 à 70 mm. Au-dessous de 10 mm l'augmentation est bonne et les résultats deviennent excellents au-dessous de 5 mm.The tests carried out have shown that the resistance to tearing increases appreciably from a spacing between the grouped wire paths moving together from 10 to 70 mm. Below 10 mm the increase is good and the results become excellent below 5 mm.
Claims (10)
N en trame de MLC = XLC · R + ALC
N en chaîne de MLC = YLC · R + BLC
où
L = numéro de ligne du motif
C = numéro de colonne du motif
R = rapport de l'armure de base
XLC, YLC : entier positif
ALC, BLC : entier positif compris entre 0 et R-1Method according to claim 3, characterized in that the basic patterns (M LC ) are chosen so that they always have a number of threads N in warp and weft of the form:
N in frame of M LC = X LC · R + A LC
N in chain of M LC = Y LC · R + B LC
or
L = line number of the pattern
C = column number of the pattern
R = ratio of base armor
X LC , Y LC : positive integer
A LC , B LC : positive integer between 0 and R-1
Pour L = 1 à NbMtr
NbMch = nombre de motifs de base en chaîne
NbMtr = nombre de motifs de base en trameMethod according to claim 4 or 6, characterized in that the Y LC , X LC , B LC and A LC comply with the following formulas:
For L = 1 at NbMtr
NbMch = number of basic chain patterns
NbMtr = number of basic patterns in the frame
Pour L = 1 à NbMtr
For L = 1 at NbMtr
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