EP0417340A1 - Elektronenquelle - Google Patents
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- EP0417340A1 EP0417340A1 EP89116881A EP89116881A EP0417340A1 EP 0417340 A1 EP0417340 A1 EP 0417340A1 EP 89116881 A EP89116881 A EP 89116881A EP 89116881 A EP89116881 A EP 89116881A EP 0417340 A1 EP0417340 A1 EP 0417340A1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J1/00—Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J1/02—Main electrodes
- H01J1/13—Solid thermionic cathodes
- H01J1/15—Cathodes heated directly by an electric current
- H01J1/16—Cathodes heated directly by an electric current characterised by the shape
Definitions
- a lithography device (electron beam recorder) is known from Microelectronic Engineering 9 (1989), pages 199 to 203, the electron-optical column of which contains a control unit for generating a large number of electronically probes that can be deflected or blanked out individually.
- This control unit described in Microelectronic Engineering 9 (1989) pages 205 to 208 essentially consists of an aperture plate and a deflection plate, the aperture plate used for probe generation being designed as a self-supporting membrane and provided with a linear arrangement of square passage openings.
- a line-shaped electron source (LaB6 - cutting edge emitter) is also magnified onto the aperture diaphragm, whereby the highest demands on the axis parallelism and homogeneity of the band beam generated by the illumination optics must be made in the object plane.
- the invention is based on the object of specifying an electron source emitting with a round angular distribution for uniform illumination of a linear object.
- the electron source is said to be able to be used in particular in a comb probe recorder and to be of simple construction.
- the advantage that can be achieved with the invention is in particular that linear electron sources with a large length-to-width ratio can be produced.
- the beam generator shown schematically in FIG. 1 with a linear electron source can be used, for example, in the known comb probe recorder for uniform illumination of the hole structure present on the aperture plate.
- the jet generator essentially consists of an anode A, which is at ground potential, a control electrode W (Wehnelt electrode) and a heated lanthanum hexaboride cathode K, which is centered with the aid of a stainless steel holder H with respect to the slot-shaped passage opening and negative with respect to the cathode K. biased control electrode W is arranged.
- the cathode holder H comprises two setscrews S, S 'and a clamping device consisting of the terminals K1, K1', which transmit the holding forces generated with the screws S, S 'to the boride cathode K arranged between the heating elements G, G'. Due to the thermally favorable holder, only a low heating output is necessary in order to heat the cathode K arranged in a high vacuum of 10 ⁇ 6 to 10 ⁇ 7 Torr to the required operating temperature of approximately 1200 to 1800 ° C. The heating voltage is supplied to the beam generator via the terminals HV, HV 'which are at the cathode potential.
- the cathode consists of a thin Laß6 crystal plate KP, which has an edge length of, for example, 1 to 5 mm and a thickness of approximately 0.5 to 20 ⁇ m.
- the crystal platelet KP is clamped between two cubes G, G 'serving as heating elements and made of pyrographite and optionally glued to them. Since the graphite cubes G, G 'together with the cathode form a completely flat equipotential surface and the electrons emerge in a vacuum due to the holder only on the side surfaces EF of the crystal plate KP, a round angular distribution of the electron emission required for the uniform illumination of the linear hole structure is ensured.
- one of the emitting side surfaces EF corresponds to a 100-crystal surface, which is oriented together with the graphite jaws approximately perpendicular to the beam axis of the lithography device.
- the simple construction of the cathode allows the production of linear electron sources with a very large length to width ratio of, for example, 2000: 1.
- Another advantage of the electron source is that after prolonged operation in the region of the transition between the graphite cubes G, G 'And the crystal plate KP any unevenness can be removed by grinding the assembled cathode.
- a linear electron source can also be produced by covering a flat cathode K with a material that limits the emission region E.
- the temperature and vacuum-resistant materials carbon, tungsten, rhenium or aluminum oxide can be used. These have a much higher work function than the cathode material without influencing the emission characteristics. Covering the cathode K with one of the materials mentioned also offers the advantage that the emission range E can be freely selected and adapted to the object structure to be illuminated. To promote electron emission, it is also advantageous to use the Area E should also be coated with a material that reduces work function, such as cesium or barium.
- the invention is of course not limited to the exemplary embodiments described. It is thus easily possible to use the cathodes described in other corpuscular beam devices for illuminating elongated objects.
- the LaB6 crystal can also be replaced by other cathode materials, for example tungsten or mixtures of BaO and SrO.
- a field emission cathode with a planar pn junction or a metal-insulator-metal combination can also be used as the linear electron source.
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Solid Thermionic Cathode (AREA)
Abstract
Zur gleichmäßigen Ausleuchtung eines linienförmigen Objekts wird vorteilhafterweise eine ebenfalls linienförmige Elektronenquelle in die Objektebene abgebildet. Da bekannte LaB6-Schneidenemitter nur sehr schwer innerhalb des Strahlerzeugers zu Justieren sind bzw. ein ungünstiges elektronenoptisches Verhalten aufweisen, wird vorgeschlagen, ein dünnes LaB6-Kristallplättchen (KP) als Elektronenemitter zu verwenden und zwischen zwei als Heizelemente dienenden Graphitwürfeln (G, G') einzuspannen. Diese bilden zusammen mit einer Seitenfläche (EF) des Kristallplättchens (KR) eine ebene Äquipotentialfläche, aus der die Elektronen ins Vakuum austreten.
Description
- Aus Microelectronic Engineering 9 (1989), Seite 199 bis 203 ist ein Lithographiegerät (Elektronenstrahlschreiber) bekannt, dessen elektronenoptische Säule eine Steuereinheit zur Erzeugung einer Vielzahl individuell ablenk- bzw. austastbarer Elektronensonden enthält. Diese in Microelectronic Engineering 9 (1989) Seite 205 bis 208 beschriebene Steuereinheit besteht im wesentlichen aus einer Apertur- und einer Ablenkplatte, wobei die der Sondenerzeugung dienende Aperturplatte als freitragende Membran ausgebildet und mit einer linienförmigen Anordnung quadratischer Durchtrittsöffnungen versehen ist. Zur gleichmäßigen Ausleuchtung dieser linienförmigen Lochstruktur bildet man eine ebenfalls linienförmige Elektronenquelle (LaB6 - Schneidenemitter) vergrößert auf die Aperturblende ab, wobei höchste Anforderungen an die Achsenparallelität und Homogenität des von der Beleuchtungsoptik erzeugten Bandstrahls in der Objektebene zu stellen sind.
- Bekannte linienförmige Elektronenquellen besitzen den Nachteil, daß deren Justierung im Strahlerzeuger erhebliche Probleme bereitet (siehe Microelectronic Engineering 9, 1989, Seite 259 bis 262). Außerdem zeigen die bisher verwendeten LaB6-Schneidenemitter ein ungünstiges elektronenoptisches Verhalten, was eine gleichförmige Ausleuchtung eines linienförmigen Objekts mit einem großen Längen- zu Breiten-Verhältnis erschwert (siehe Microelectronic Engineering 9, 1989, Seite 209 bis 212 und EP-A-0 207 772).
- Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine mit einer runden Winkelverteilung emittierende Elektronenquelle zur gleichmäßigen Ausleuchtung eines linienförmigen Objekts anzugeben. Die Elektronenquelle soll insbesondere in einem Kammsondenschreiber verwendet werden können und einfach aufgebaut sein.
- Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch Elektronenquellen nach den Patentansprüchen 1 und 6 gelöst.
- Der mit der Erfindung erzielbare Vorteil besteht insbesondere darin, daß linienförmige Elektronenquellen mit einem großen Längen-zu Breiten-Verhältnis hergestellt werden können.
- Die Unteransprüche betreffen vorteilhafte Weiterbildungen der im folgenden anhand der Zeichnung erläuterten Erfindung. Hierbei zeigt:
- Figur 1 einen Elektronenstrahlerzeuger
- Figur 2 die linienförmige Elektronenquelle des Strahlerzeugers
- Figur 3 ein zweites Ausführungsbeispiel einer linienförmigen Elektronenquelle.
- Der in Figur 1 schematisch dargestellte Strahlerzeuger mit einer linienförmigen Elektronenquelle kann beispielsweise in dem bekannten Kammsondenschreiber zur gleichmäßigen Ausleuchtung der auf der Aperturplatte vorhandenen Lochstruktur verwendet werden. Der Strahlerzeuger besteht im wesentlichen aus einer auf Erdpotential liegenden Anode A, einer Steuerelektrode W (Wehnelt-Elektrode) und einer geheizten Lanthan-Hexaborid-Kathode K, die mit Hilfe einer Edelstahlhalterung H zentriert bezüglich der eine schlitzförmige Durchtrittsöffnung aufweisenden und gegenüber der Kathode K negativ vorgespannten Steuerelektrode W angeordnet ist. Die Kathodenhalterung H umfaßt zwei Stellschrauben S, S′ und eine aus den Klemmen K1, K1′ bestehende Einspannvorrichtung, die die mit Hilfe der Schrauben S, S′ erzeugten Haltekräfte auf die zwischen den Heizelementen G, G′ angeordnete Boridkathode K übertragen. Aufgrund der thermisch günstigen Halterung ist nur eine geringe Heizleistung notwendig, um die im Hochvakuum von 10⁻⁶ bis 10⁻⁷ Torr angeordnete Kathode K auf die erforderliche Betriebstemperatur von etwa 1200 bis 1800°C zu erhitzen. Die Heizspannung wird dem Strahlerzeuger hierbei über die auf dem Kathodenpotential liegenden Anschlußklemmen HV, HV′ zugeführt.
- Wie die Figur 2 schematisch zeigt, besteht die Kathode aus einem dünnen Laß6-Kristallplättchen KP, das bei einer Kantenlänge von beispielsweise 1 bis 5 mm eine Dicke von etwa 0,5 bis 20 µm aufweist. Das Kristallplättchen KP ist hierbei zwischen zwei als Heizelemente dienenden Würfeln G, G′ aus Pyrographit eingespannt und gegebenenfalls mit diesen verklebt. Da die Graphitwürfel G, G′ zusammen mit der Kathode eine vollkommen ebene Äquipotentialfläche bilden und die Elektronen aufgrund der Halterung nur an den Seitenflächen EF des Kristallplättchens KP ins Vakuum austreten, ist eine für die gleichmäßge Ausleuchtung der linienförmigen Lochstruktur erforderliche runde Winkelverteilung der Elektronenemission gewährleistet. Zudem kann man durch eine geeignete Bearbeitung und Einspannung der Boridkathode sicherstellen, daß eine der emittierenden Seitenflächen EF einer 100-Kristallfläche entspricht, wobei diese zusammen mit den Graphitbacken annähernd senkrecht zur Strahlachse des Lithographiegeräts orientiert wird. Zudem erlaubt der einfache Aufbau der Kathode die Herstellung linienförmiger Elektronenquellen mit einem sehr großen Längen- zu Breiten-Verhältnis von beispielsweise 2000 : 1. Ein weiterer Vorteil der Elektronenquelle besteht darin, daß die nach längerem Betrieb im Bereich des Übergangs zwischen den Graphitwürfeln G, G′ und dem Kristallplättchen KP eventuell auftretenden Unebenheiten durch Schleifen der montierten Kathode beseitigt werden können.
- Gemäß weiterer Erfindung kann eine linienförmige Elektronenquelle auch durch Belegung einer ebenen Kathode K mit einer den Emissionsbereich E begrenzenden Material hergestellt werden. Zur Belegung der Stirnfläche B der in Figur 3 dargestellten LaB6-Einkristallkathode K kommen beispielsweise die temperatur- und vakuumbeständigen Materialien Kohlenstoff, Wolfram, Rhenium oder Aluminiumoxid in Betracht. Diese besitzen eine wesentlich höhere Austrittsarbeit als das Kathodenmaterial, ohne die Emissionscharakteristik zu beeinflussen. Die Belegung der Kathode K mit einer der genannten Materialien bietet außerdem den Vorteil, daß man den Emissionsbereich E frei wählen und der auszuleuchtenden Objektstruktur anpassen kann. Zur Förderung der Elektronenemission ist es außerdem von Vorteil, den Bereich E zusätzlich noch mit einem die Austrittsarbeit herabsetzenden Material wie beispielsweise Cäsium oder Barium zu beschichten.
- Die Erfindung ist selbstverständlich nicht auf die beschriebenen Ausführungsbeispiele beschränkt. So ist es ohne weiteres möglich, die beschriebenen Kathoden in anderen Korpuskularstrahlgeräten zur Beleuchtung langgestreckter Objekte zu verwenden. Den LaB6-Kristall kann man auch durch andere Kathodenmaterialien, beispielsweise Wolfram oder Gemische aus BaO und SrO ersetzen. Als linienförmige Elektronenquelle kann selbstverständlich auch eine Feldemissionskathode mit einem flächenhaften pn-Übergang oder eine Metall-Isolator-Metall-Kombination Verwendung finden.
Claims (9)
1. Elektronenquelle, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektronenemitter (K, KP) quaderförmig ausgebildet und derart gehaltert ist, daß Elektronen nur an den Seitenflächen (EF) ins Vakuum austreten.
2. Elektronenquelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektronenemitter (K, KP) zwischen zwei Heizelementen (G, G′) angeordnet ist, wobei die Heizelemente (G, G′) und eine Seitenfläche (EF) des Elektronenemitters (K, KP) eine ebene Äquipotentialfläche bilden.
3. Elektronenquelle nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch ein Lanthan-Hexaborid-Kristalplättchen (KP) als Elektronenemitter (K).
4. Elektronenquelle nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Kristallplättchen (KP) eine Dicke d 0,5 bis 20 µm aufweist.
5. Elektronenquelle nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Längenzu Breiten-Verhältnis einer Seitenfläche (EF) größer als 1000 : 1 gewählt ist.
6. Elektronequelle, gekennzeichnet durch eine Kathode (K) mit einer ebenen Emissionsfläche (B) und einer Belegung mit einem eine höhere Austrittsarbeit als das Kathodenmaterial aufweisenden Material zur Begrenzung der Elektronenemission auf bestimmte Bereiche (E) innerhalb der ebenen Fläche (B).
7. Elektronenquelle nach Anspruch 6, gekennzeichnet durch einen linienförmigen Emissionsbereich (E) innerhalb der ebenen Fläche.
8. Elektronenquelle nach Anspruch 6 oder 7, gekennzeichnet durch eine Lanthan-Hexaborid-Einkri stallkathode (K).
9. Elektronenquelle nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß der bestimmte Bereich (E) mit einem die Austrittsarbeit verminderten Material beschichtet ist.
Priority Applications (2)
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EP89116881A EP0417340A1 (de) | 1989-09-12 | 1989-09-12 | Elektronenquelle |
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Family Applications (1)
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Country Status (2)
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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FR903976A (fr) * | 1942-08-19 | 1945-10-23 | Fides Gmbh | Perfectionnements aux cathodes destinées à la production d'un faisceau électronique |
US4528474A (en) * | 1982-03-05 | 1985-07-09 | Kim Jason J | Method and apparatus for producing an electron beam from a thermionic cathode |
US4551649A (en) * | 1983-12-08 | 1985-11-05 | Rockwell International Corporation | Rounded-end protuberances for field-emission cathodes |
EP0207772A2 (de) * | 1985-07-02 | 1987-01-07 | Wilhelm Heinrich Dr. Brünger | Lanthan-Hexaboridelektronenquelle und Verfahren zur Herstellung derselben |
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1989
- 1989-09-12 EP EP89116881A patent/EP0417340A1/de not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-09-10 JP JP2239803A patent/JPH03105833A/ja active Pending
Patent Citations (4)
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Non-Patent Citations (2)
Title |
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PATENT ABSTRACTS OF JAPAN, Band 5, Nr. 99 (E-63)[771], 26. Juni 1981; & JP,A,56 042 338 (HITACHI) 20-04-1981, zusammenfassung. * |
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN, Band 6, Nr. 234 (E-143)[1112], 20. November 1982; & JP,A,57 134 835 (FUJITSU) 20-08-1982, das ganze dokument. * |
Also Published As
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