EP0417340A1 - Elektronenquelle - Google Patents

Elektronenquelle Download PDF

Info

Publication number
EP0417340A1
EP0417340A1 EP89116881A EP89116881A EP0417340A1 EP 0417340 A1 EP0417340 A1 EP 0417340A1 EP 89116881 A EP89116881 A EP 89116881A EP 89116881 A EP89116881 A EP 89116881A EP 0417340 A1 EP0417340 A1 EP 0417340A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
electron source
electron
source according
cathode
crystal plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
EP89116881A
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Hermann Schäfer
Jörg Droemer
Karl-Heinz Herrmann
Peter Schäffer
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to EP89116881A priority Critical patent/EP0417340A1/de
Priority to JP2239803A priority patent/JPH03105833A/ja
Publication of EP0417340A1 publication Critical patent/EP0417340A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J1/00Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J1/02Main electrodes
    • H01J1/13Solid thermionic cathodes
    • H01J1/15Cathodes heated directly by an electric current
    • H01J1/16Cathodes heated directly by an electric current characterised by the shape

Definitions

  • a lithography device (electron beam recorder) is known from Microelectronic Engineering 9 (1989), pages 199 to 203, the electron-optical column of which contains a control unit for generating a large number of electronically probes that can be deflected or blanked out individually.
  • This control unit described in Microelectronic Engineering 9 (1989) pages 205 to 208 essentially consists of an aperture plate and a deflection plate, the aperture plate used for probe generation being designed as a self-supporting membrane and provided with a linear arrangement of square passage openings.
  • a line-shaped electron source (LaB6 - cutting edge emitter) is also magnified onto the aperture diaphragm, whereby the highest demands on the axis parallelism and homogeneity of the band beam generated by the illumination optics must be made in the object plane.
  • the invention is based on the object of specifying an electron source emitting with a round angular distribution for uniform illumination of a linear object.
  • the electron source is said to be able to be used in particular in a comb probe recorder and to be of simple construction.
  • the advantage that can be achieved with the invention is in particular that linear electron sources with a large length-to-width ratio can be produced.
  • the beam generator shown schematically in FIG. 1 with a linear electron source can be used, for example, in the known comb probe recorder for uniform illumination of the hole structure present on the aperture plate.
  • the jet generator essentially consists of an anode A, which is at ground potential, a control electrode W (Wehnelt electrode) and a heated lanthanum hexaboride cathode K, which is centered with the aid of a stainless steel holder H with respect to the slot-shaped passage opening and negative with respect to the cathode K. biased control electrode W is arranged.
  • the cathode holder H comprises two setscrews S, S 'and a clamping device consisting of the terminals K1, K1', which transmit the holding forces generated with the screws S, S 'to the boride cathode K arranged between the heating elements G, G'. Due to the thermally favorable holder, only a low heating output is necessary in order to heat the cathode K arranged in a high vacuum of 10 ⁇ 6 to 10 ⁇ 7 Torr to the required operating temperature of approximately 1200 to 1800 ° C. The heating voltage is supplied to the beam generator via the terminals HV, HV 'which are at the cathode potential.
  • the cathode consists of a thin Laß6 crystal plate KP, which has an edge length of, for example, 1 to 5 mm and a thickness of approximately 0.5 to 20 ⁇ m.
  • the crystal platelet KP is clamped between two cubes G, G 'serving as heating elements and made of pyrographite and optionally glued to them. Since the graphite cubes G, G 'together with the cathode form a completely flat equipotential surface and the electrons emerge in a vacuum due to the holder only on the side surfaces EF of the crystal plate KP, a round angular distribution of the electron emission required for the uniform illumination of the linear hole structure is ensured.
  • one of the emitting side surfaces EF corresponds to a 100-crystal surface, which is oriented together with the graphite jaws approximately perpendicular to the beam axis of the lithography device.
  • the simple construction of the cathode allows the production of linear electron sources with a very large length to width ratio of, for example, 2000: 1.
  • Another advantage of the electron source is that after prolonged operation in the region of the transition between the graphite cubes G, G 'And the crystal plate KP any unevenness can be removed by grinding the assembled cathode.
  • a linear electron source can also be produced by covering a flat cathode K with a material that limits the emission region E.
  • the temperature and vacuum-resistant materials carbon, tungsten, rhenium or aluminum oxide can be used. These have a much higher work function than the cathode material without influencing the emission characteristics. Covering the cathode K with one of the materials mentioned also offers the advantage that the emission range E can be freely selected and adapted to the object structure to be illuminated. To promote electron emission, it is also advantageous to use the Area E should also be coated with a material that reduces work function, such as cesium or barium.
  • the invention is of course not limited to the exemplary embodiments described. It is thus easily possible to use the cathodes described in other corpuscular beam devices for illuminating elongated objects.
  • the LaB6 crystal can also be replaced by other cathode materials, for example tungsten or mixtures of BaO and SrO.
  • a field emission cathode with a planar pn junction or a metal-insulator-metal combination can also be used as the linear electron source.

Landscapes

  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Solid Thermionic Cathode (AREA)

Abstract

Zur gleichmäßigen Ausleuchtung eines linienförmigen Objekts wird vorteilhafterweise eine ebenfalls linienförmige Elektronenquelle in die Objektebene abgebildet. Da bekannte LaB6-Schneidenemitter nur sehr schwer innerhalb des Strahlerzeugers zu Justieren sind bzw. ein ungünstiges elektronenoptisches Verhalten aufweisen, wird vorgeschlagen, ein dünnes LaB6-Kristallplättchen (KP) als Elektronenemitter zu verwenden und zwischen zwei als Heizelemente dienenden Graphitwürfeln (G, G') einzuspannen. Diese bilden zusammen mit einer Seitenfläche (EF) des Kristallplättchens (KR) eine ebene Äquipotentialfläche, aus der die Elektronen ins Vakuum austreten.

Description

  • Aus Microelectronic Engineering 9 (1989), Seite 199 bis 203 ist ein Lithographiegerät (Elektronenstrahlschreiber) bekannt, dessen elektronenoptische Säule eine Steuereinheit zur Erzeu­gung einer Vielzahl individuell ablenk- bzw. austastbarer Elek­tronensonden enthält. Diese in Microelectronic Engineering 9 (1989) Seite 205 bis 208 beschriebene Steuereinheit besteht im wesentlichen aus einer Apertur- und einer Ablenkplatte, wobei die der Sondenerzeugung dienende Aperturplatte als freitragen­de Membran ausgebildet und mit einer linienförmigen Anordnung quadratischer Durchtrittsöffnungen versehen ist. Zur gleich­mäßigen Ausleuchtung dieser linienförmigen Lochstruktur bildet man eine ebenfalls linienförmige Elektronenquelle (LaB6 - Schneidenemitter) vergrößert auf die Aperturblende ab, wobei höchste Anforderungen an die Achsenparallelität und Homogeni­tät des von der Beleuchtungsoptik erzeugten Bandstrahls in der Objektebene zu stellen sind.
  • Bekannte linienförmige Elektronenquellen besitzen den Nachteil, daß deren Justierung im Strahlerzeuger erhebliche Probleme be­reitet (siehe Microelectronic Engineering 9, 1989, Seite 259 bis 262). Außerdem zeigen die bisher verwendeten LaB6-Schnei­denemitter ein ungünstiges elektronenoptisches Verhalten, was eine gleichförmige Ausleuchtung eines linienförmigen Objekts mit einem großen Längen- zu Breiten-Verhältnis erschwert (sie­he Microelectronic Engineering 9, 1989, Seite 209 bis 212 und EP-A-0 207 772).
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine mit einer run­den Winkelverteilung emittierende Elektronenquelle zur gleich­mäßigen Ausleuchtung eines linienförmigen Objekts anzugeben. Die Elektronenquelle soll insbesondere in einem Kammsonden­schreiber verwendet werden können und einfach aufgebaut sein.
  • Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch Elektronenquellen nach den Patentansprüchen 1 und 6 gelöst.
  • Der mit der Erfindung erzielbare Vorteil besteht insbesondere darin, daß linienförmige Elektronenquellen mit einem großen Längen-zu Breiten-Verhältnis hergestellt werden können.
  • Die Unteransprüche betreffen vorteilhafte Weiterbildungen der im folgenden anhand der Zeichnung erläuterten Erfindung. Hierbei zeigt:
    • Figur 1 einen Elektronenstrahlerzeuger
    • Figur 2 die linienförmige Elektronenquelle des Strahlerzeugers
    • Figur 3 ein zweites Ausführungsbeispiel einer linienförmigen Elektronenquelle.
  • Der in Figur 1 schematisch dargestellte Strahlerzeuger mit einer linienförmigen Elektronenquelle kann beispielsweise in dem bekannten Kammsondenschreiber zur gleichmäßigen Ausleuch­tung der auf der Aperturplatte vorhandenen Lochstruktur ver­wendet werden. Der Strahlerzeuger besteht im wesentlichen aus einer auf Erdpotential liegenden Anode A, einer Steuerelektro­de W (Wehnelt-Elektrode) und einer geheizten Lanthan-Hexaborid-­Kathode K, die mit Hilfe einer Edelstahlhalterung H zentriert bezüglich der eine schlitzförmige Durchtrittsöffnung aufweisen­den und gegenüber der Kathode K negativ vorgespannten Steuer­elektrode W angeordnet ist. Die Kathodenhalterung H umfaßt zwei Stellschrauben S, S′ und eine aus den Klemmen K1, K1′ be­stehende Einspannvorrichtung, die die mit Hilfe der Schrauben S, S′ erzeugten Haltekräfte auf die zwischen den Heizelemen­ten G, G′ angeordnete Boridkathode K übertragen. Aufgrund der thermisch günstigen Halterung ist nur eine geringe Heizlei­stung notwendig, um die im Hochvakuum von 10⁻⁶ bis 10⁻⁷ Torr angeordnete Kathode K auf die erforderliche Betriebstempera­tur von etwa 1200 bis 1800°C zu erhitzen. Die Heizspannung wird dem Strahlerzeuger hierbei über die auf dem Kathoden­potential liegenden Anschlußklemmen HV, HV′ zugeführt.
  • Wie die Figur 2 schematisch zeigt, besteht die Kathode aus einem dünnen Laß6-Kristallplättchen KP, das bei einer Kanten­länge von beispielsweise 1 bis 5 mm eine Dicke von etwa 0,5 bis 20 µm aufweist. Das Kristallplättchen KP ist hierbei zwi­schen zwei als Heizelemente dienenden Würfeln G, G′ aus Pyro­graphit eingespannt und gegebenenfalls mit diesen verklebt. Da die Graphitwürfel G, G′ zusammen mit der Kathode eine vollkom­men ebene Äquipotentialfläche bilden und die Elektronen auf­grund der Halterung nur an den Seitenflächen EF des Kristall­plättchens KP ins Vakuum austreten, ist eine für die gleich­mäßge Ausleuchtung der linienförmigen Lochstruktur erforderliche runde Winkelverteilung der Elektronenemission gewährleistet. Zudem kann man durch eine geeignete Bearbeitung und Einspan­nung der Boridkathode sicherstellen, daß eine der emittieren­den Seitenflächen EF einer 100-Kristallfläche entspricht, wo­bei diese zusammen mit den Graphitbacken annähernd senkrecht zur Strahlachse des Lithographiegeräts orientiert wird. Zudem erlaubt der einfache Aufbau der Kathode die Herstellung linien­förmiger Elektronenquellen mit einem sehr großen Längen- zu Breiten-Verhältnis von beispielsweise 2000 : 1. Ein weiterer Vorteil der Elektronenquelle besteht darin, daß die nach län­gerem Betrieb im Bereich des Übergangs zwischen den Graphit­würfeln G, G′ und dem Kristallplättchen KP eventuell auftreten­den Unebenheiten durch Schleifen der montierten Kathode besei­tigt werden können.
  • Gemäß weiterer Erfindung kann eine linienförmige Elektronen­quelle auch durch Belegung einer ebenen Kathode K mit einer den Emissionsbereich E begrenzenden Material hergestellt wer­den. Zur Belegung der Stirnfläche B der in Figur 3 dargestellten LaB6-Einkristallkathode K kommen beispielsweise die temperatur- und vakuumbeständigen Materialien Kohlenstoff, Wolfram, Rhe­nium oder Aluminiumoxid in Betracht. Diese besitzen eine we­sentlich höhere Austrittsarbeit als das Kathodenmaterial, ohne die Emissionscharakteristik zu beeinflussen. Die Belegung der Kathode K mit einer der genannten Materialien bietet außer­dem den Vorteil, daß man den Emissionsbereich E frei wählen und der auszuleuchtenden Objektstruktur anpassen kann. Zur För­derung der Elektronenemission ist es außerdem von Vorteil, den Bereich E zusätzlich noch mit einem die Austrittsarbeit herab­setzenden Material wie beispielsweise Cäsium oder Barium zu beschichten.
  • Die Erfindung ist selbstverständlich nicht auf die beschriebe­nen Ausführungsbeispiele beschränkt. So ist es ohne weiteres möglich, die beschriebenen Kathoden in anderen Korpuskular­strahlgeräten zur Beleuchtung langgestreckter Objekte zu ver­wenden. Den LaB6-Kristall kann man auch durch andere Kathoden­materialien, beispielsweise Wolfram oder Gemische aus BaO und SrO ersetzen. Als linienförmige Elektronenquelle kann selbst­verständlich auch eine Feldemissionskathode mit einem flächen­haften pn-Übergang oder eine Metall-Isolator-Metall-­Kombination Verwendung finden.

Claims (9)

1. Elektronenquelle, dadurch gekennzeich­net, daß der Elektronenemitter (K, KP) quaderförmig ausge­bildet und derart gehaltert ist, daß Elektronen nur an den Seitenflächen (EF) ins Vakuum austreten.
2. Elektronenquelle nach Anspruch 1, dadurch ge­kennzeichnet, daß der Elektronenemitter (K, KP) zwischen zwei Heizelementen (G, G′) angeordnet ist, wobei die Heizelemente (G, G′) und eine Seitenfläche (EF) des Elektro­nenemitters (K, KP) eine ebene Äquipotentialfläche bilden.
3. Elektronenquelle nach Anspruch 1 oder 2, gekenn­zeichnet durch ein Lanthan-Hexaborid-Kristal­plättchen (KP) als Elektronenemitter (K).
4. Elektronenquelle nach Anspruch 3, dadurch ge­kennzeichnet, daß das Kristallplättchen (KP) eine Dicke d 0,5 bis 20 µm aufweist.
5. Elektronenquelle nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Längen­zu Breiten-Verhältnis einer Seitenfläche (EF) größer als 1000 : 1 gewählt ist.
6. Elektronequelle, gekennzeichnet durch eine Kathode (K) mit einer ebenen Emissionsfläche (B) und einer Belegung mit einem eine höhere Austrittsarbeit als das Katho­denmaterial aufweisenden Material zur Begrenzung der Elek­tronenemission auf bestimmte Bereiche (E) innerhalb der ebenen Fläche (B).
7. Elektronenquelle nach Anspruch 6, gekennzeich­net durch einen linienförmigen Emissionsbereich (E) innerhalb der ebenen Fläche.
8. Elektronenquelle nach Anspruch 6 oder 7, gekenn­zeichnet durch eine Lanthan-Hexaborid-Einkri­ stallkathode (K).
9. Elektronenquelle nach einem der Ansprüche 6 bis 8, da­durch gekennzeichnet, daß der bestimmte Bereich (E) mit einem die Austrittsarbeit verminderten Mate­rial beschichtet ist.
EP89116881A 1989-09-12 1989-09-12 Elektronenquelle Withdrawn EP0417340A1 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP89116881A EP0417340A1 (de) 1989-09-12 1989-09-12 Elektronenquelle
JP2239803A JPH03105833A (ja) 1989-09-12 1990-09-10 電子源

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP89116881A EP0417340A1 (de) 1989-09-12 1989-09-12 Elektronenquelle

Publications (1)

Publication Number Publication Date
EP0417340A1 true EP0417340A1 (de) 1991-03-20

Family

ID=8201884

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP89116881A Withdrawn EP0417340A1 (de) 1989-09-12 1989-09-12 Elektronenquelle

Country Status (2)

Country Link
EP (1) EP0417340A1 (de)
JP (1) JPH03105833A (de)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4951477B2 (ja) * 2006-12-04 2012-06-13 電気化学工業株式会社 電子放出源

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR903976A (fr) * 1942-08-19 1945-10-23 Fides Gmbh Perfectionnements aux cathodes destinées à la production d'un faisceau électronique
US4528474A (en) * 1982-03-05 1985-07-09 Kim Jason J Method and apparatus for producing an electron beam from a thermionic cathode
US4551649A (en) * 1983-12-08 1985-11-05 Rockwell International Corporation Rounded-end protuberances for field-emission cathodes
EP0207772A2 (de) * 1985-07-02 1987-01-07 Wilhelm Heinrich Dr. Brünger Lanthan-Hexaboridelektronenquelle und Verfahren zur Herstellung derselben

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR903976A (fr) * 1942-08-19 1945-10-23 Fides Gmbh Perfectionnements aux cathodes destinées à la production d'un faisceau électronique
US4528474A (en) * 1982-03-05 1985-07-09 Kim Jason J Method and apparatus for producing an electron beam from a thermionic cathode
US4551649A (en) * 1983-12-08 1985-11-05 Rockwell International Corporation Rounded-end protuberances for field-emission cathodes
EP0207772A2 (de) * 1985-07-02 1987-01-07 Wilhelm Heinrich Dr. Brünger Lanthan-Hexaboridelektronenquelle und Verfahren zur Herstellung derselben

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN, Band 5, Nr. 99 (E-63)[771], 26. Juni 1981; & JP,A,56 042 338 (HITACHI) 20-04-1981, zusammenfassung. *
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN, Band 6, Nr. 234 (E-143)[1112], 20. November 1982; & JP,A,57 134 835 (FUJITSU) 20-08-1982, das ganze dokument. *

Also Published As

Publication number Publication date
JPH03105833A (ja) 1991-05-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0801805B1 (de) Feldemissionskathodeneinrichtung und verfahren zur herstellung
DE2129636C2 (de) Feldemissions-Elektronenstrahlerzeugungssystem
EP0191440B1 (de) Lithografiegerät zur Erzeugung von Mikrostrukturen
DE4115890C2 (de) Elektronenemittierendes Bauelement
EP0218829B1 (de) Anordnung zur Detektion von Sekundär- und/oder Rückstreuelektronen in einem Elektronenstrahlgerät
DE1957247C3 (de) Bildröhre
EP0359018A2 (de) Lithographiegerät zur Strukturierung eines Objektes
DE2826273A1 (de) Kathodenstrahlroehre mit kaltkathode
EP0032385B1 (de) Kathodenanordnung für eine Röntgenröhre
EP0379865B1 (de) Verfahren zur Untersuchung einer Probe in einem Korpuskularstrahlgerät
DE112017006569T5 (de) Elektronenquelle und diese verwendende elektronenstrahlvorrichtung
DE2341377A1 (de) Elektronenstrahlroehre mit thermionikfeld-emissionskathode fuer ein abtastendes elektronenmikroskop
EP0417340A1 (de) Elektronenquelle
DE2337142A1 (de) Elektronenquelle
EP0086431A2 (de) Korpuskularstrahlerzeugendes System und Verfahren zu seinem Betrieb
EP2092542A2 (de) Feldemissionsvorrichtung
DE1673257A1 (de) Zweidraht-Ionenquelle,insbesondere fuer Massenspektrometer
EP1145272A2 (de) Verbesserte justierung einer thermischen feldemissions-elektronenquelle und anwendung in einem mikro- elektronenstrahlapparat
EP0360035A2 (de) Elektronenstrahlerzeuger
EP0309767B1 (de) Strahlerzeugendes System für Elektronenstrahlmessgeräte
DE751111C (de) Reihenvervielfacher
DE729003C (de) Einrichtung zur Erzeugung mehrerer Elektronenstrahlen in einer Kathodenstrahlroehre
DE1212645B (de) Elektronenstrahlroehre mit einer vierpoligen elektrostatischen Elektronenlinse
DE2134875C3 (de) Optisches Relais zum Abtasten mit einem Lichtstrahl
DE4002049A1 (de) Elektronenemissionsquelle

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

17P Request for examination filed

Effective date: 19901205

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): DE FR GB NL

17Q First examination report despatched

Effective date: 19930720

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE APPLICATION IS DEEMED TO BE WITHDRAWN

18D Application deemed to be withdrawn

Effective date: 19931201