EA026993B1 - Способ получения материала, содержащего основу, снабженную покрытием - Google Patents

Способ получения материала, содержащего основу, снабженную покрытием Download PDF

Info

Publication number
EA026993B1
EA026993B1 EA201390169A EA201390169A EA026993B1 EA 026993 B1 EA026993 B1 EA 026993B1 EA 201390169 A EA201390169 A EA 201390169A EA 201390169 A EA201390169 A EA 201390169A EA 026993 B1 EA026993 B1 EA 026993B1
Authority
EA
Eurasian Patent Office
Prior art keywords
coating
layer
base
water
radiation
Prior art date
Application number
EA201390169A
Other languages
English (en)
Other versions
EA201390169A1 (ru
Inventor
Андрий Харченко
Original Assignee
Сэн-Гобэн Гласс Франс
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Сэн-Гобэн Гласс Франс filed Critical Сэн-Гобэн Гласс Франс
Publication of EA201390169A1 publication Critical patent/EA201390169A1/ru
Publication of EA026993B1 publication Critical patent/EA026993B1/ru

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
    • B05D5/12—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures to obtain a coating with specific electrical properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
    • C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/32—After-treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/32—After-treatment
    • C03C2218/328—Partly or completely removing a coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/355—Temporary coating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Объектом изобретения является способ получения материала, содержащего основу, снабженную по меньшей мере на одной из своих сторон перманентным покрытием, содержащим по меньшей мере один тонкий слой, причем указанный способ включает следующие этапы: осаждают по меньшей мере на одну из сторон указанной основы указанное перманентное покрытие, затем осаждают прямо на указанное перманентное покрытие временное покрытие, содержащее в качестве слоя, ближайшего к основе, по меньшей мере один тонкий слой, растворяющийся в растворителе, поверх которого наносится по меньшей мере один функциональный слой, затем проводят термообработку покрытой таким образом основы, затем обрабатывают указанную покрытую основу с помощью указанного растворителя, чтобы удалить с поверхности указанной основы указанное временное покрытие.

Description

Изобретение относится к области материалов, содержащих основу, в частности, стеклянную, снабженную по меньшей мере на одной из своих сторон перманентным покрытием, содержащим по меньшей мере один тонкий слой.
Часто такие материалы должны подвергаться термообработкам, цель которых улучшить свойства основы и/или перманентного покрытия. Это может быть, например в случае стеклянных основ, закалка, предназначенная для механического упрочнения основы, создавая высокие напряжения сжатия на ее поверхности. Такие обработки могут также улучшить некоторые свойства перманентного покрытия, в частности, улучшая характеристики кристалличности тонких слоев, содержащихся в покрытии. Например, свойства перманентного покрытия, содержащего слой серебра, который обладает низкой излучательной способностью и электропроводностью, улучшаются, когда его кристаллическая структура имеет лучшее качество: зерна большего размера, уменьшение границ зерен и т.д. Это же справедливо для прозрачных электропроводящих оксидов, часто называемых ТСО от их английского акронима, например, для оксида индия и олова (ΙΤΟ) или оксидов цинка, легированных галлием или алюминием. Что касается оксида титана, его каталитические свойства улучшаются в результате термообработок, позволяющих повысить степень кристаллизации в форме анатаза.
Известно, что такие снабженные покрытиями основы подвергают закалке или отжигу в закалочной или отжигательной печах, или же быстрому отжигу, например, с помощью факела, плазменной горелки или лазерного излучения, как описано в заявке \УО 2008/096089.
Однако некоторые слои перманентного покрытия могут повреждаться при термической обработке, если они не защищены надлежащим образом. Например, слой ТСО, подвергаемый закалке, должен быть временно защищен от окисления, возможно с помощью защитного слоя из нитрида кремния. Этот защитный слой должен затем удаляться, обычно длительной и дорогостоящей обработкой травлением. Быстрый отжиг некоторых слоев может быть улучшен присутствием слоев, поглощающих инфракрасное излучение, в частности, в случае обработки с помощью факела или лазерного излучения. Таким образом, может быть полезным разместить выше перманентного покрытия временное покрытие, содержащее такой поглощающий слой. Если оно не удаляется во время отжига, временное покрытие должно быть удалено после обработки, например, способом травления.
Задачей изобретения является устранение этих недостатков, предложив более простой и менее дорогостоящий способ.
Ввиду этого объектом изобретения является способ получения материала, содержащего основу, снабженную по меньшей мере на одной из своих сторон перманентным покрытием, содержащим по меньшей мере один тонкий слой, причем указанный способ включает следующие этапы:
осаждают по меньшей мере на одну из сторон указанной основы указанное перманентное покрытие, затем осаждают прямо на указанное перманентное покрытие временное покрытие, содержащее в качестве слоя, ближайшего к основе, по меньшей мере один тонкий слой, растворяющийся в растворителе, поверх которого наносят по меньшей мере один функциональный слой, затем проводят термообработку покрытой таким образам основы, затем обрабатывают указанную покрытую основу с помощью указанного растворителя, чтобы удалить с поверхности указанной основы указанное временное покрытие.
Наличие непосредственно на перманентном покрытии слоя, растворимого в растворителе, позволяет на выходе с термообработки или на позднейшем этапе полностью удалить временное покрытие благодаря простой промывке указанным растворителем. Этап удаления временного покрытия может предпочтительно проводиться после этапов транспортировки, резки и складирования основы, при этом временное покрытие может защищать поверхность основы от царапин.
Объектом изобретения является также материал, содержащий основу, снабженную по меньшей мере на одной из своих сторон перманентным покрытием, непосредственно на которое нанесено временное покрытие, содержащее, в качестве слоя, ближайшего к основе, по меньшей мере один тонкий слой, растворимый в растворителе, поверх которого нанесен по меньшей мере один функциональный слой.
Такой материал получают в качестве промежуточного продукта при осуществлении способа согласно изобретению.
Предпочтительные характеристики, которые представлены ниже в описании, применимы как к способу по изобретению, так и, в случае надобности, к промежуточному продукту согласно изобретению.
Основа предпочтительно является стеклянным или стеклокерамическим листом. Это может быть также лист полимерного материала, как, например, поликарбонат, полиметилметакрилат или же полиэтилентерефталат (РЕТ). Основа предпочтительно является прозрачной, бесцветной (тогда речь идет о прозрачном или экстрапрозрачном стекле) или окрашенной, например, голубым, зеленым, серым или бронзовым. Стекло предпочтительно является натриево-кальциево-силикатным, но может также быть стеклом боросиликатного или алюмоборосиликатного типа. Благоприятно, чтобы по меньшей мере один размер основы был больше или равен 1 м, даже 2 м и даже 3 м. Толщина основы обычно варьируется от 0,5 до 19 мм, предпочтительно от 0,7 до 9 мм, в частности от 2 до 8 мм, даже от 4 до 6 мм. Основа может быть плоской или моллированной и даже гибкой.
- 1 026993
Стеклянная основа предпочтительно является стеклом флоат-типа, т.е. который мог быть получен способом, состоящим в выливании расплавленного стекла на ванну расплавленного олова (флоатванна). В этом случае обрабатываемый слой можно разместить как на стороне олова, так и на атмосферной стороне основы. Под атмосферной стороной и стороной олова, понимаются стороны основы, находившиеся в контакте, соответственно, с атмосферой, имеющейся во флоат-ванне, и с расплавленным оловом. Сторона олова содержит незначительное поверхностное количество олова, продиффундировавшего в структуру стекла. Стеклянный лист может также быть получен раскаткой между двумя валками, причем этот метод позволяет напечатать рисунок на поверхности стекла.
В частности, для применений в области фотогальванических элементов, когда перманентное покрытие содержит слой прозрачного электропроводящего оксида (ТСО), предпочтительно, чтобы основа была из экстрапрозрачного или ультрапрозрачного стекла, т.е. чтобы ее коэффициент пропускания света или энергии был больше или равен 90%, в частности 90,5%, даже 91% и даже 91,5%. Светопропускание, часто сокращаемое как ТЬ, рассчитывается согласно норме Ι8Θ 9050:2003 и приведено к толщине стекла 3,2 мм. Пропускание энергии, сокращенно ТЕ, также рассчитывается согласно норме Ι8Ο 9050:2003 и приводится к толщине стекла 3,2 мм. Такое стекло обычно получают, используя сырье, обедненное железом, чтобы содержание оксида железа в конечном стекле было не выше 0,02%, в частности, 0,01%. Чтобы еще больше оптимизировать это пропускание, предпочтительно, чтобы окислительновосстановительный потенциал стекла (т.е. отношение весового содержания двухвалентного железа, выраженного в РеО, к суммарному весовому содержанию железа, выраженному в Ре2О3) был меньше или равен 20%, предпочтительно 10% и даже нулевым. Такой окислительно-восстановительный потенциал или такое пропускание могут быть получены, в частности, окислением железа с помощью оксида сурьмы или церия, или добавлением в стекло оксида вольфрама в весовом содержании от 0,1 до 2% и/или оксида калия в весовом содержании от 1,5 до 10%, как рекомендуют заявки РК-Л-2921356 и РК-Л-2921357. Можно также барботировать окислительный газ через ванну расплавленного стекла после этапа осветления, как указано в международной заявке АО 2009/115725.
В фотогальванических приложениях размеры стеклянной основы обычно следующие: 0,6x1,2 м2 или 1,1 х 1,3 м2 или же 2,2х2,6 м2 для толщины в диапазоне от 1,6 до 6 мм, в частности от 2,9 до 4 мм.
Перманентное покрытие предпочтительно содержит (или состоит из) по меньшей мере один тонкий слой на основе материала, выбранного из прозрачных электропроводящих оксидов (ТСО), серебра и диоксида титана.
Из ТСО можно назвать тонкие слои на основе смешанных оксидов олова и индия (называемые ΙΤΟ), на основе смешанных оксидов индия и цинка (называемые ΙΖΟ), на основе оксида цинка, легированного галлием или алюминием, на основе оксида титана, легированного ниобием, на основе станната кадмия или цинка, на основе оксида олова, легированного фтором и/или сурьмой. Эти разные слои используются во многих системах, где необходимы прозрачность и электропроводность: жидкокристаллические экраны (ЬСО), солнечные теплоустановки или фотоэлектрические датчики, электрохромные или электролюминесцентные устройства и т.п.
Степень легирования, соответствующая весу оксида легирующей добавки, отнесенному к полному весу, обычно ниже 10%, даже 5%. В случае оксида цинка, легированного алюминием, степень легирования (т.е. вес оксида алюминия, отнесенный к полному весу) предпочтительно ниже 3%. В случае оксида галлия степень легирования может быть выше, обычно варьируясь от 5 до 6%. Толщина слоя ТСО предпочтительно составляет от 2 до 1000 нм, в частности, от 50 до 800 нм, даже от 150 до 600 нм.
Перманентное покрытие может содержать, идя от стеклянной основы, нижний слой, выполняющий роль барьера от миграции щелочей, в частности, на основе диэлектрических материалов, таких, как нитриды, оксиды или оксинитриды кремния или алюминия или любая их смесь, затем слой ТСО. Нижний слой предотвращает, в частности, отрицательные эффекты миграции щелочных ионов во время закалки или отжига, или при действии электрического поля при работе фотоэлектрических элементов.
Тонкие слои серебра используются по многим причинам: для отражения инфракрасного, теплового или солнечного излучения, они придают материалу свойства низкой излучательной способности или защиты от солнца. Будучи проводниками электричества, они позволяют также получать проводящие материалы, например, обогреваемые стекла или электроды. Чтобы защитить серебро от окисления, диэлектрические слои располагают по обе стороны слоя серебра внутри перманентного покрытия. Предпочтительно, физическая толщина этого или каждого слоя серебра составляет от 6 до 20 нм. Перманентное покрытие предпочтительно содержит, идя от основы, первое покрытие, содержащее по меньшей мере один первый диэлектрический слой, по меньшей мере один слой серебра, возможно верхний блокирующий слой и второе покрытие, содержащее по меньшей мере один второй диэлектрический слой. Верхний блокирующий слой предназначен для защиты слоя серебра при осаждении последующего слоя (например, если этот последний осаждают в окислительной или нитрирующей атмосфере) и во время возможной термообработки типа закалки или моллирования. Слой серебра можно также осадить на и в контакте с нижним блокирующим слоем. Таким образом, суперпозиция слоев может содержать верхний блокирующий слой и/или нижний блокирующий слой, расположенные по обе стороны одного или каждого
- 2 026993 слоя серебра. Блокирующие слои (нижний блокирующий и/или верхний блокирующий слой) обычно имеют в основе металл, выбранный из никеля, хрома, титана, ниобия или сплава этих разных металлов. Можно назвать, в частности, сплавы никеля с титаном (в частности, сплавы, содержащие около 50 вес.% каждого металла) или хром-никелевые сплавы (в частности, содержащие 80 вес.% никеля и 20 вес.% хрома). Верхний блокирующий слой может также состоять из нескольких наложенных слоев, например, идя дальше от основы, из титана, затем сплава никеля (в частности, хром-никелевого сплава), или наоборот. Указанные различные металлы или сплавы могут также быть частично окисленными, в частности, быть субстехиометрическими по кислороду (например, ΤίΘχ или №СгОх). Первый и/или второй диэлектрический слой обычно состоит из оксида (в частности, оксида олова) или, предпочтительно, из нитрида, в частности, нитрида кремния (в частности, для второго диэлектрического слоя, наиболее удаленного от основы).
Тонкие слои диоксида титана отличаются тем, что способны самоочищаться, облегчая разложение органических соединений под действием ультрафиолетового излучения (явление фотокатализа) и удаление минеральных загрязнений (пыль) под действием стекания воды. Диоксид титана, кристаллизованный в форме анатаза, намного более эффективен в отношении разложения органических соединений, чем аморфный диоксид титана или кристаллизованный в форме рутила или брукита.
Диоксид титана дополнительно может быть легирован ионом металла, например, ионом переходного металла, или атомами азота, углерода, фтора и т.д. Диоксид титана может быть также субстехиометрическим или надстехиометрическим.
В конечном материале (после удаления временного покрытия) вся поверхность слоя диоксида титана предпочтительно находится в контакте с внешней средой, чтобы оксид титана мог полностью осуществить свою функцию самоочищения. Однако может быть выгодным покрыть слой диоксида титана тонким гидрофильным слоем, в частности, на основе оксида кремния. Чтобы еще больше улучшить кристалличность этих слоев, можно предусмотреть прямо под слоем диоксида титана нижний слой, целью которого является способствовать повышению степени кристаллизации оксида титана, в частности, в форме анатаза. Это может быть, в частности, нижний слой из ΖγΟ2, как описано в заявке \УО 02/40417, или же нижний слой, облегчающий гетероэпитаксиальный рост оксида титана в форме анатаза, как описано, например, в заявке \УО 2005/040058, в частности, слой ВаТЮ3 или 8гПО3. Другие нижние слои могут вводиться между основой и слоем диоксида титана. Это могут быть, например, слои, препятствующие миграции щелочей, в частности, слои на основе δίθ2, 8ЮС. оксида алюминия А12О3, нитрида кремния δί3Ν4. Речь может идти также о слоях или системах слоев с термической функцией (солнцезащитные или низкоизлучательные слои или суперпозиции слоев, в частности, типа содержащих по меньшей мере один слой серебра) или с оптической функцией (например, противоотражательные слои или суперпозиции слоев).
Какой бы ни была природа перманентного покрытия, сторона основы, противоположная стороне, снабженной указанным перманентным покрытием, может не иметь покрытия или быть покрытой одним или несколькими тонкими слоями. Это может быть, в частности, слой на основе диоксида титана или слои с термической функцией (солнцезащитные или низкоизлучательные слои или суперпозиции слоев, в частности, типа содержащих по меньшей мере один слой серебра) или с оптической функцией (например, противоотражающие слои или суперпозиции слоев). В фотогальванических приложениях, когда перманентное покрытие содержит слой ТСО, противоположная сторона предпочтительно снабжена противоотражательным покрытием. Это покрытие может содержать один слой (например, на основе пористого оксида кремния с низким показателем преломления) или несколько слоев, в последнем случае предпочтительна упаковка слоев на основе диэлектрического материала с чередованием слоев с высоким и низким показателями преломления и заканчивающаяся слоем с низким показателем преломления. Это может быть, в частности, система слоев, описанная в заявке \УО 01/94989 или \УО 2007/077373. Противоотражающее покрытие может также содержать в качестве последнего слоя самоочищающийся и непачкающийся слой на основе фотокаталитического оксида титана, как указано в заявке \УО 2005/110937. Таким образом можно получить низкое отражение на длительное время.
Перманентное покрытие и временное покрытие могут быть получены любым типом способов осаждения тонкого слоя. Речь может идти, например, о способах типа золь-гель, пиролизе (жидком или твердом), химическом осаждении из паровой фазы (СУЭ), в частности, с поддержкой плазмой (АРСУЭ), возможно при атмосферном давление (АРРЕСУЭ), испарении. Предпочтительно, то и/или иное из этих покрытий, в частности, оба, получены катодным напылением, в частности, с поддержкой магнитным полем (магнетронный способ). В этом способе плазма создается в глубоком вакууме вблизи мишени, содержащей осаждаемые химические элементы. Активные компоненты плазмы, бомбардируя мишень, вырывают указанные элементы, которые осаждаются на основе, образуя желаемый тонкий слой. Этот способ называется реактивным, когда слой образован из материала, полученного в результате химической реакции между вырванными элементами мишени и газом, содержащимся в плазме. Основное преимущество этого способа заключается в возможности осадить на одной и той же линии очень сложную систему слоев, последовательно проводя основу под разными мишенями, обычно в одном и том же устройстве.
- 3 026993
Растворитель предпочтительно имеет в основе воду. Таким образом, нижний слой временного покрытия растворим в воде, и его удаление можно осуществить просто промывкой в воде. Возможны и другие растворители, в частности, спирты, но они менее предпочтительны из соображений экологии и стоимости. Промывку, в частности, водой можно провести известным способом, например, в моечной машине. Этап удаления растворителем, в частности, водой, можно провести после резки стекла, непосредственно перед этапом преобразования, например, введения материала в остекление. В этом случае растворимый слой может защитить материал от механических воздействий, например, царапин, на этапах манипуляций. Этап удаления может также проводиться сразу после термообработки.
Тонкий водорастворимый слой предпочтительно имеет в основе (или состоит из) материал, выбранный из галогенидов металла и сульфатов металлов. Галогениды металлов выбраны, в частности, из ΝαΟ. §пР2. Сульфат металла может быть, например, Л12(§04)3.
Такие слои могут выдерживать обычные термообработки.
Предпочтительно по меньшей мере один функциональный слой (который нанесен на растворимый слой во временном покрытии) является слоем, защищающим от окисления, или слоем, поглощающим излучение, в частности инфракрасное.
Речь может идти, в частности, о слое нитрида, например нитрида кремния. Этот слой позволяет получить высокую стойкость к окислению и может, например, защитить слои ТСО при закалке или отжиге. Толщина этих слоев обычно составляет от 5 до 200 нм, в частности от 10 до 100 нм.
Слой, поглощающий инфракрасное излучение, особенно полезен, когда термическая обработка реализуется с помощью пламени или инфракрасного лазерного излучения. В случае лазерного излучения в видимой или УФ-области спектра функциональный слой будет поглощать это излучение. Поглощая излучение и повторно испуская тепло, этот слой действительно способен повысить количество энергии, получаемой обрабатываемым слоем, и позволяет, таким образом, повысить эффективность обработки. Слой, поглощающий инфракрасное излучение, может быть выбран из металлов, как титан, углерода, в частности, в аморфных формах или графита, нитридов металлов, как нитрид ниобия. Толщина этих слоев обычно составляет от 1 до 50 нм, в частности от 2 до 20 нм.
Временное покрытие может также содержать, между растворимым слоем и функциональным слоем, слой, предназначенный защищать растворимый слой от влаги. Это могут быть, например, слои из оксида или нитрида, например, оксида кремния или нитрида кремния.
Термическая обработка, предназначенная для улучшения кристаллизации по меньшей мере одного тонкого слоя перманентного покрытия, предпочтительно выбрана из закалки, отжига, быстрого отжига. Улучшение кристалличности можно количественно охарактеризовать по повышению степени кристалличности (массовая или объемная доля кристаллизованного материала) и/или по размеру кристаллических зерен (или размеру доменов когерентного преломления, измеренному методами дифракции рентгеновских лучей). Это улучшение кристалличности может быть также установлено косвенно, по улучшению свойств слоя. В случае слоя типа ТСО или серебра удельное сопротивление и коэффициент излучения снижаются, предпочтительно по меньшей мере на 5 относительных процентов, даже по меньшей мере на 10 или 15%. В случае слоев диоксида титана улучшение кристалличности выражается в повышении фотокаталитической активности. Активность обычно оценивается по разложению модельных загрязняющих веществ, таких, как стеариновая кислота или метиленовый синий.
Обработка закалкой или отжигом обычно проводится в печи, соответственно, закалочной или отжигательной. Весь материал, в том числе, следовательно и основу, доводят до высокой температуры, по меньшей мере 300°С в случае отжига и по меньшей мере 500°С, даже 600°С в случае закалки.
Быстрый отжиг предпочтительно проводится с помощью факела, плазменной горелки или лазерного излучения. В способе такого типа создают относительное движение между основой и устройством (факел, лазер, плазменная горелка), чтобы обработать материал. Обычно устройство является подвижным, а материал будет продвигаться относительно устройства, чтобы обработать его поверхность. Эти способы позволяют подвести высокую плотность энергии к обрабатываемому слою за очень короткое время, ограничивая, таким образом, рассеяние тепла к основе и, следовательно, нагрев указанной основы. Во время обработки температура основы, как правило, не превышает 100°С, даже 50° и даже 30°С. Каждая точка тонкого слоя подвергается быстрому отжигу в течение периода обычно меньше или равного 1 с, даже 0,5 с.
Термообработка быстрым отжигом предпочтительно проводится с помощью лазерного излучения, в частности, инфракрасного, причем функциональный слой является слоем, поглощающим лазерное излучение, в частности, таким, какой описан выше. Длина волны излучения предпочтительно лежит в интервале от 530 до 1200 нм, или от 600 до 1000 нм, в частности, от 700 до 950 нм, даже от 800 до 950 нм. Предпочтительно используется диодный лазер, излучающий, например, на длине волны порядка 808 нм, 880 нм, 915 или же 940 нм или 980 нм. В форме диодных систем можно получить очень высокие мощности, позволяющие достичь мощности, отнесенной к единице поверхности обрабатываемого покрытия, выше 20 кВт/см2, даже 30 кВт/см2.
Лазерное излучение предпочтительно исходит по меньшей мере из одного лазерного луча, образующего линию (называемую далее в тексте лазерной линией), которая облучает одновременно всю
- 4 026993 или часть ширины основы. Этот режим предпочтителен, так как он исключает использование дорогостоящих систем перемещения, обычно крупногабаритных, и сложного обслуживания. Линейный лазерный луч может быть получен, в частности, с помощью диодных лазерных систем высокой мощности, в сочетании с фокусирующей оптикой. Толщина линии предпочтительно составляет от 0,01 до 1 мм. Длина линии обычно составляет от 5 мм до 1 м. Профиль линии может представлять собой, в частности, кривую Гаусса или зубец. Лазерная линия, облучающая одновременно всю или часть ширины основы, может состоять из единственной линии (в таком случае облучающей всю ширину основы) или из нескольких линий, возможно раздельных. Когда используется несколько линий, предпочтительно, чтобы они были расположены таким образом, чтобы обрабатывалась вся поверхность суперпозиции слоев. Эта линия, или каждая линия предпочтительно направлена перпендикулярно направлению продвижения основы, или расположена под углом к нему. Разные линии могут обрабатывать основу одновременно или со сдвигом по времени. Важно, чтобы вся поверхность, которую требуется обработать, была обработана. Так, основа может приводиться в движение, в частности, продвигаясь поступательно относительно неподвижной лазерной линии, обычно ниже, но, возможно, выше линии лазера. Этот вариант осуществления особенно высоко ценится для непрерывной обработки. Альтернативно, основа может быть неподвижной, а лазер может быть подвижным. Предпочтительно, разность между соответствующими скоростями основы и лазера больше или равна 1 м/мин, даже 4 и даже 6, 8, 10 или 15 м/мин, чтобы обеспечить высокую скорость обработки. Когда основа перемещается, в частности, поступательно, она может приводиться в движение с помощью любого механического конвейерного средства, например, с помощью движущихся поступательно лент, роликов, листов. Конвейерная система доставки позволяет контролировать и регулировать скорость перемещения. Если основа состоит из мягкого органического полимерного материала, перемещение может быть реализовано с помощью системы продвижения пленок, в форме последовательности роликов. Лазер также можно приводить в движение, чтобы корректировать его расстояние от основы, что может быть полезным, в частности, когда основа является моллированной, но не только в этом случае. Действительно, предпочтительно, чтобы лазерный луч был сфокусирован на обрабатываемом покрытии, чтобы это последнее находилось на расстоянии меньше или равном 1 мм от фокальной плоскости. Если система перемещения основы или лазера является недостаточно точной в отношении расстояния между основой и фокальной плоскостью, предпочтительно следует корректировать расстояние между лазером и основой. Эта корректировка может быть автоматической, в частности, регулируемой благодаря измерению расстояния до обработки.
Устройство лазерного излучения может быть встроено в линию осаждения слоев, например, линию осаждения катодным напылением с поддержкой магнитным полем (магнетронный процесс), или в линию химического осаждения из паровой фазы (СУЭ), в частности, с поддержкой плазмой (РЕСУЭ), в вакууме или при атмосферном давлении (АРРЕСУЭ). Линия обычно включает устройства перемещения основ, установку осаждения, устройства оптического контроля, устройства штабелирования. Основы продвигаются, например, на конвейерных роликах, последовательно мимо каждого устройства или каждой установки. Устройство лазерного излучения предпочтительно находится сразу за установкой осаждения слоев, например, на выходе установки осаждения. Таким образом, покрытая основа может обрабатываться онлайн после осаждения слоя, на выходе установки осаждения и перед устройствами оптического контроля, или после устройств оптического контроля и перед устройствами укладки основ в штабель. Устройство лазерного излучения может также быть встроено в установку осаждения. Например, лазер может быть введен в одну из камер установки осаждения катодным напылением, в частности, в камеру, где атмосфера разрежена, в частности, находится под давлением от 10-6 до 10-2 мбар. Лазер может также находиться вне установки осаждения, но так, чтобы обрабатывать основу, находящуюся внутри указанной установки. Для этой цели достаточно предусмотреть окно, прозрачное для длины волны используемого излучения, через которое лазерный луч будет обрабатывать слой. Так, можно обработать слой (например, слой серебра) перед последующим осаждением другого слоя в той же установке. Когда поглощающий слой является верхним слоем, например, металлическим, его окисление во время обработки может быть вредным в случае, когда основа находится в вакуумной камере. В этом случае можно обработать суперпозицию слоев в особой камере с контролируемой окислительной атмосферой. Каким бы ни было устройство лазерного излучения, внешним или интегрированным в установку осаждения, эти онлайн способы предпочтительны способу с переходами, в котором было бы необходимо штабелировать стеклянные основы между этапом осаждения и термической обработкой.
Однако способы с переходами могут иметь интерес в случае, когда термообработка согласно изобретению проводится в месте, отличном от места, где проводилось осаждение, например, в месте, где проводится стеклообразование. Так, устройство излучения может быть встроено в другие линии, отличные от линии осаждения слоев. Оно может быть интегрировано, например, в линию производства стеклопакетов (в частности, двойных или тройных) или в линию изготовления многослойных остеклений. В этих разных случаях термическая обработка проводится предпочтительно до получения стеклопакета или многослойного стекла.
Все эти разные, описанные выше характеристики могут комбинироваться между собой, и эти комбинации не описываются явно, чтобы не перегружать напрасно текст. Однако несколько предпочтитель- 5 026993 ных комбинаций подробно рассматриваются ниже.
В первом предпочтительном варианте основа является стеклянным листом, а перманентное покрытие включает тонкий слой прозрачного электропроводящего оксида (обычно ΖηΟ:Α1 или ΙΤΟ, при этом геометрическая толщина обычно составляет от 100 до 800 нм). Временное покрытие, осажденное на и в контакте с перманентным покрытием, состоит, смотря от слоя, ближайшего к основе, из водорастворимого слоя (обычно из хлорида, как №С1. геометрическая толщина которого обычно может варьироваться от 5 до 50 нм), затем защитного слоя, обычно из нитрида, как 8ί3Ν4. Все эти слои осаждают магнетронным способом. Затем покрытую так основу подвергают отжигу, цель которого кристаллизовать тонкий слой прозрачного электропроводящего оксида, чтобы снизить его удельное сопротивление. Температура такой обработки обычно составляет от 400 до 700°С. После этой термообработки покрытую основу промывают в воде, чтобы удалить временное покрытие.
Во втором предпочтительном варианте основа является стеклянным листом, а перманентное покрытие содержит по меньшей мере один тонкий слой серебра между по меньшей мере двумя диэлектрическими слоями. Речь идет о стеклянном листе, предназначенном для получения оконного стекла с низкой излучательной способностью. Временное покрытие, осажденное на и в контакте с перманентным покрытием, состоит, идя от слоя, ближайшего к основе, из водорастворимого слоя (обычно из хлорида, как №С1, геометрическая толщина которого может обычно варьироваться от 5 до 50 нм), затем слоя, поглощающего инфракрасное излучение (обычно из металлического титана или графита). Все эти слои осаждают магнетронным способом. Покрытую таким образом основу подвергают затем термической обработке быстрым отжигом с помощью линейного лазера, относительно которого движется основа (альтернативно, лазер может перемещаться над неподвижной основой). Типичная длина волны лазера может составлять 980 нм. Поглощающий слой окисляется, в случае титана, и частично удаляется в случае графита. Промывка водой позволяет удалить все временное покрытие и, таким образом, все следы остаточного графита или оксида титана.
Третий предпочтительный вариант отличается от второго тем, что перманентное покрытие состоит из слоя диоксида титана, возможно осажденного на нижний слой, являющийся барьером от миграции щелочей, например, из оксида кремния или оксикарбида кремния. Слой диоксида титана может, например, иметь геометрическую толщину в диапазоне от 3 до 30 нм, в частности, от 5 до 20 нм.
Следующие примеры иллюстрируют изобретение, но не ограничивают его.
На основу из прозрачного стекла толщиной 4 мм, выпускаемую в продажу под названием 8ОО Р1аш1их фирмой-заявителем, осаждают различные низкоизлучательные суперпозиции слоев. Суперпозиции осаждают известным способом на линии катодного напыления (магнетронный способ), в которой основа проводится под разными мишенями.
На суперпозицию типа Основа/813ПЮпО/Ад/№Сг^пО/8т,К| (перманентное покрытие) осаждают водорастворимый слой из №С1, также магнетронным способом, с помощью мишени, состоящей из ΝαΟ и графита. Последний добавляют, чтобы сделать мишень электропроводной.
На этот водорастворимый слой осаждают затем слой оксида кремния толщиной 150 нм, затем слой, поглощающий инфракрасное излучение, из металлического титана, толщиной 10 нм. Осаждение также проводится магнетронным катодным напылением, с помощью титановой мишени, в атмосфере аргона. Таким образом, временное покрытие состоит из слоя №С1, на который помещен слой 8ίΟ2 и слой титана.
Покрытые основы обрабатывают с помощью линейного лазера, испускающего излучение длиной волны 980 нм, относительно которого покрытая основа перемещается поступательно, со скоростью, варьирующейся от 10 до 25 м/мин.
После быстрого отжига покрытые основы очищают с помощью влажной тряпки. Эта промывка позволяет полностью удалить временное покрытие.
В результате термической обработки сопротивление на квадрат слоя серебра снизилось по меньшей мере на 10 относительных процентов.

Claims (6)

  1. ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ
    1. Способ получения материала, содержащего основу, снабженную по меньшей мере на одной из своих сторон покрытием, содержащим по меньшей мере один тонкий слой, причем указанный способ включает следующие этапы:
    осаждают по меньшей мере на одну из сторон указанной основы нерастворимое в воде покрытие, затем осаждают непосредственно поверх указанного нерастворимого в воде покрытия водорастворимое покрытие и по меньшей мере одно покрытие, поглощающее излучение, наносят на водорастворимое покрытие, затем проводят термообработку покрытой таким образом основы, где термообработка, предназначенная для улучшения кристалличности нерастворимого в воде покрытия, представляет собой быстрый отжиг, затем указанную покрытую и термообработанную основу промывают при помощи растворителя на вод- 6 026993 ной основе, чтобы удалить с поверхности указанной основы указанное водорастворимое покрытие и указанное покрытие, поглощающее излучение.
  2. 2. Способ по п.1, в котором основа является стеклянным или стеклокерамическим листом.
  3. 3. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором нерастворимое в воде покрытие содержит по меньшей мере один тонкий слой на основе материала, выбранного из прозрачных электропроводящих оксидов, серебра и диоксида титана.
  4. 4. Способ по предыдущему пункту, в котором водорастворимое покрытие имеет в основе материал, выбранный из галогенидов металлов и сульфатов металлов.
  5. 5. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором покрытием, поглощающим излучение, является покрытие, поглощающее инфракрасное излучение.
  6. 6. Способ по предыдущему пункту, в котором обработку быстрым отжигом осуществляют с помощью лазерного излучения, в частности инфракрасного, при этом покрытие, поглощающее излучение, является покрытием, поглощающим излучение лазера.
EA201390169A 2010-07-27 2011-07-19 Способ получения материала, содержащего основу, снабженную покрытием EA026993B1 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1056165A FR2963342B1 (fr) 2010-07-27 2010-07-27 Procede d'obtention d'un materiau comprenant un substrat muni d'un revetement
PCT/FR2011/051733 WO2012022874A1 (fr) 2010-07-27 2011-07-19 Procede d'obtention d'un materiau comprenant un substrat muni d'un revetement

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EA201390169A1 EA201390169A1 (ru) 2013-06-28
EA026993B1 true EA026993B1 (ru) 2017-06-30

Family

ID=43712594

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EA201390169A EA026993B1 (ru) 2010-07-27 2011-07-19 Способ получения материала, содержащего основу, снабженную покрытием

Country Status (13)

Country Link
US (1) US9333532B2 (ru)
EP (1) EP2598454B1 (ru)
JP (1) JP5346143B2 (ru)
KR (1) KR101913871B1 (ru)
CN (1) CN103003214B (ru)
BR (1) BR112013001158B1 (ru)
CA (1) CA2806269C (ru)
EA (1) EA026993B1 (ru)
ES (1) ES2523931T3 (ru)
FR (1) FR2963342B1 (ru)
MX (1) MX2013000684A (ru)
PL (1) PL2598454T3 (ru)
WO (1) WO2012022874A1 (ru)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8815059B2 (en) * 2010-08-31 2014-08-26 Guardian Industries Corp. System and/or method for heat treating conductive coatings using wavelength-tuned infrared radiation
DE102011089884B4 (de) * 2011-08-19 2016-03-10 Von Ardenne Gmbh Niedrigemittierende Beschichtung und Verfahren zur Herstellung eines niedrigemittierenden Schichtsystems
CA2861581C (en) 2011-12-30 2021-05-04 Scoperta, Inc. Coating compositions
US9255029B2 (en) * 2012-04-17 2016-02-09 Guardian Industries Corp. Method of making heat treated coated article using TCO and removable protective film
TWI593644B (zh) * 2012-05-09 2017-08-01 康寧公司 製造覆蓋玻璃的方法
FR3002768B1 (fr) * 2013-03-01 2015-02-20 Saint Gobain Procede de traitement thermique d'un revetement
WO2014138731A1 (en) * 2013-03-08 2014-09-12 University Of Florida Research Foundation, Inc. Quantum levitation for permanent superlyophobic and permanent self-cleaning materials
FR3012133B1 (fr) * 2013-10-17 2021-01-01 Saint Gobain Procede d'obtention d'un substrat revetu par un empilement comprenant une couche d'oxyde transparent conducteur
US9802387B2 (en) 2013-11-26 2017-10-31 Scoperta, Inc. Corrosion resistant hardfacing alloy
FR3021967B1 (fr) 2014-06-06 2021-04-23 Saint Gobain Procede d'obtention d'un substrat revetu d'une couche fonctionnelle
US11130205B2 (en) 2014-06-09 2021-09-28 Oerlikon Metco (Us) Inc. Crack resistant hardfacing alloys
CN104193183A (zh) * 2014-08-01 2014-12-10 浙江大学 一种基于微晶玻璃衬底制备厚膜的方法
EP3209812A1 (en) * 2014-10-22 2017-08-30 AGC Glass Europe Manufacturing of substrates coated with a conductive layer
CN107532265B (zh) 2014-12-16 2020-04-21 思高博塔公司 含多种硬质相的韧性和耐磨铁合金
FR3030491B1 (fr) * 2014-12-23 2016-12-30 Saint Gobain Vitrage comprenant un revetement protecteur
FR3032958B1 (fr) * 2015-02-24 2017-02-17 Saint Gobain Vitrage comprenant un revetement protecteur.
JP6999081B2 (ja) 2015-09-04 2022-01-18 エリコン メテコ（ユーエス）インコーポレイテッド 非クロム及び低クロム耐摩耗性合金
MX2018002764A (es) 2015-09-08 2018-09-05 Scoperta Inc Carburo no magnetico, que forma aleaciones para fabricar polvo.
EP3374536A4 (en) 2015-11-10 2019-03-20 Scoperta, Inc. TWO WIRE ARC FLOORING MATERIALS WITH CONTROLLED OXIDATION
ES2898832T3 (es) 2016-03-22 2022-03-09 Oerlikon Metco Us Inc Recubrimiento por proyección térmica completamente legible
WO2017210320A1 (en) 2016-06-01 2017-12-07 View, Inc. Sacrificial layer for electrochromic device fabrication
WO2017218705A1 (en) 2016-06-17 2017-12-21 View, Inc. Mitigating defects in an electrochromic device under a bus bar
FR3065723B1 (fr) * 2017-04-28 2021-09-03 Saint Gobain Article protege par une couche de protection temporaire rugueuse
FR3065724B1 (fr) 2017-04-28 2019-06-07 Saint-Gobain Glass France Article destine a etre trempe protege par une couche temporaire
FR3065722B1 (fr) * 2017-04-28 2021-09-24 Saint Gobain Vitrage colore et son procede d'obtention
US10822270B2 (en) 2018-08-01 2020-11-03 Guardian Glass, LLC Coated article including ultra-fast laser treated silver-inclusive layer in low-emissivity thin film coating, and/or method of making the same
WO2020070393A1 (fr) 2018-10-03 2020-04-09 Saint-Gobain Glass France Procede d'obtention d'une feuille de verre revetue d'une couche fonctionnelle
CN113195759B (zh) 2018-10-26 2023-09-19 欧瑞康美科（美国）公司 耐腐蚀和耐磨镍基合金
FR3088850B1 (fr) * 2018-11-28 2020-12-11 Saint Gobain Procede de fabrication d’un vitrage electrochrome
FR3093720B1 (fr) * 2019-03-14 2021-06-18 Saint Gobain Procédé de protection d’un substrat en verre revêtu d’un empilement électrochrome et procédé de fabrication d’un vitrage isolant
WO2020227099A1 (en) 2019-05-03 2020-11-12 Oerlikon Metco (Us) Inc. Powder feedstock for wear resistant bulk welding configured to optimize manufacturability

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002004549A1 (en) * 2000-07-11 2002-01-17 Dymax Corporation Heat-resistant formulation and method for using same
US20020176988A1 (en) * 1999-07-02 2002-11-28 Medwick Paul A. Light-transmitting and/or coated article with removable protective coating and methods of making the same
US6503630B1 (en) * 1998-11-10 2003-01-07 Nippon Sheet Glass Co., Ltd Glass article, method for handling glass article and handling tool for glass article
US20080318033A1 (en) * 2005-03-23 2008-12-25 Leybold Optics Gmbh Coated Substrate with a Temporary Protective Layer and Method for Production Thereof

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL6805259A (ru) * 1967-04-13 1968-10-14
EP0245833B1 (en) * 1986-05-14 1991-10-09 Teijin Limited Magneto-optical recording medium
FR2810118B1 (fr) 2000-06-07 2005-01-21 Saint Gobain Vitrage Substrat transparent comportant un revetement antireflet
US6677063B2 (en) 2000-08-31 2004-01-13 Ppg Industries Ohio, Inc. Methods of obtaining photoactive coatings and/or anatase crystalline phase of titanium oxides and articles made thereby
US7115479B2 (en) * 2002-11-26 2006-10-03 Intel Corporation Sacrificial annealing layer for a semiconductor device and a method of fabrication
FR2861385B1 (fr) 2003-10-23 2006-02-17 Saint Gobain Substrat, notamment substrat verrier, portant au moins un empilement couche a propriete photocatalytique sous couche de croissance heteroepitaxiale de ladite couche
WO2005094460A2 (en) * 2004-03-23 2005-10-13 Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc Multi-spectral uncooled microbolometer detectors
FR2869897B1 (fr) 2004-05-10 2006-10-27 Saint Gobain Substrat a revetement photocatalytique
US20070029186A1 (en) * 2005-08-02 2007-02-08 Alexey Krasnov Method of thermally tempering coated article with transparent conductive oxide (TCO) coating using inorganic protective layer during tempering and product made using same
FR2895522B1 (fr) 2005-12-23 2008-04-11 Saint Gobain Substrat transparent comportant un revetement antireflet
KR100731134B1 (ko) * 2005-12-29 2007-06-22 동부일렉트로닉스 주식회사 Ｃｍｏｓ 이미지 센서의 제조 방법
US20070231553A1 (en) 2006-03-28 2007-10-04 Cardinal Cg Company Removable protective cover
US8097850B2 (en) * 2006-05-25 2012-01-17 Panasonic Electric Works Co., Ltd. Infrared sensor
RU2373957C2 (ru) * 2006-10-13 2009-11-27 Александр Метталинович Тишин Носитель для лекарственных средств и биологически активных веществ для лечения и диагностики и применение его для создания лекарственных средств и способа регулируемой управляемой доставки лекарственного средства или биологически активного вещества с регулируемой десорбцией его
FR2911130B1 (fr) * 2007-01-05 2009-11-27 Saint Gobain Procede de depot de couche mince et produit obtenu
US8071166B2 (en) * 2007-01-29 2011-12-06 Guardian Industries Corp. Method of making heat treated coated article using diamond-like carbon (DLC) coating and protective film
FR2921356B1 (fr) 2007-09-21 2011-01-21 Saint Gobain Composition de verre silico-sodo-calcique
FR2921357B1 (fr) 2007-09-21 2011-01-21 Saint Gobain Composition de verre silico-sodo-calcique
KR20110000729A (ko) 2008-03-03 2011-01-05 쌩-고벵 글래스 프랑스 유리의 제조 방법
US8440973B1 (en) * 2009-03-05 2013-05-14 University Of Puerto Rico Bimorph cantilever arrangement and applications thereof
CN104204951B (zh) * 2012-03-20 2017-03-01 Asml荷兰有限公司 光刻设备、传感器以及方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6503630B1 (en) * 1998-11-10 2003-01-07 Nippon Sheet Glass Co., Ltd Glass article, method for handling glass article and handling tool for glass article
US20020176988A1 (en) * 1999-07-02 2002-11-28 Medwick Paul A. Light-transmitting and/or coated article with removable protective coating and methods of making the same
WO2002004549A1 (en) * 2000-07-11 2002-01-17 Dymax Corporation Heat-resistant formulation and method for using same
US20080318033A1 (en) * 2005-03-23 2008-12-25 Leybold Optics Gmbh Coated Substrate with a Temporary Protective Layer and Method for Production Thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP5346143B2 (ja) 2013-11-20
EP2598454B1 (fr) 2014-09-10
BR112013001158A2 (pt) 2016-05-31
WO2012022874A1 (fr) 2012-02-23
FR2963342A1 (fr) 2012-02-03
MX2013000684A (es) 2013-01-29
ES2523931T3 (es) 2014-12-02
CA2806269A1 (fr) 2012-02-23
US9333532B2 (en) 2016-05-10
EA201390169A1 (ru) 2013-06-28
KR101913871B1 (ko) 2018-10-31
CN103003214B (zh) 2017-05-10
KR20130041268A (ko) 2013-04-24
US20130115468A1 (en) 2013-05-09
CA2806269C (fr) 2018-04-24
FR2963342B1 (fr) 2012-08-03
BR112013001158B1 (pt) 2020-03-03
CN103003214A (zh) 2013-03-27
JP2013533201A (ja) 2013-08-22
PL2598454T3 (pl) 2015-03-31
EP2598454A1 (fr) 2013-06-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EA026993B1 (ru) Способ получения материала, содержащего основу, снабженную покрытием
JP6022935B2 (ja) 薄膜層堆積方法及び得られる製品
KR101982357B1 (ko) 코팅이 제공된 기판의 획득 방법
KR102108955B1 (ko) 코팅된 기판의 제조 방법
KR101469680B1 (ko) 얇은 층을 증착하기 위한 방법 및 그로 인해 수득된 제품
KR102067047B1 (ko) 응결 방지 창유리
JP6546097B2 (ja) 低放射率の多層で被覆された基材
KR102289587B1 (ko) 코팅을 열처리하기 위한 방법
EA022242B1 (ru) Способ получения подложки

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s)

Designated state(s): AM AZ BY KZ KG MD TJ TM