EA017886B1 - Голографический защитный элемент - Google Patents
Голографический защитный элемент Download PDFInfo
- Publication number
- EA017886B1 EA017886B1 EA201070011A EA201070011A EA017886B1 EA 017886 B1 EA017886 B1 EA 017886B1 EA 201070011 A EA201070011 A EA 201070011A EA 201070011 A EA201070011 A EA 201070011A EA 017886 B1 EA017886 B1 EA 017886B1
- Authority
- EA
- Eurasian Patent Office
- Prior art keywords
- image
- holographic
- diffraction
- diffuse
- photoresist
- Prior art date
Links
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 79
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 61
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 30
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 14
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 5
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 80
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 40
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 22
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 21
- 230000008569 process Effects 0.000 description 18
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 16
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 15
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 14
- 230000006870 function Effects 0.000 description 12
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 4
- 230000004992 fission Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 4
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001093 holography Methods 0.000 description 3
- 238000000025 interference lithography Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000012993 chemical processing Methods 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- NDMUQNOYNAWAAL-UHFFFAOYSA-N 3-diazo-1,4-dioxonaphthalene-2-sulfonic acid Chemical class C1=CC=C2C(=O)C(=[N+]=[N-])C(S(=O)(=O)O)C(=O)C2=C1 NDMUQNOYNAWAAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004831 Hot glue Substances 0.000 description 1
- 241001465754 Metazoa Species 0.000 description 1
- 235000019892 Stellar Nutrition 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 238000010382 chemical cross-linking Methods 0.000 description 1
- 238000012822 chemical development Methods 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- DEPUMLCRMAUJIS-UHFFFAOYSA-N dicalcium;disodium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Na+].[Na+].[Ca+2].[Ca+2].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O DEPUMLCRMAUJIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000000855 fermentation Methods 0.000 description 1
- 230000004151 fermentation Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 230000008447 perception Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000010076 replication Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008207 working material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
- B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
- B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
- B42D25/20—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
- B42D25/29—Securities; Bank notes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
- B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
- B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
- B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
- B42D25/328—Diffraction gratings; Holograms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H1/0276—Replicating a master hologram without interference recording
- G03H1/028—Replicating a master hologram without interference recording by embossing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/26—Processes or apparatus specially adapted to produce multiple sub- holograms or to obtain images from them, e.g. multicolour technique
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/0005—Adaptation of holography to specific applications
- G03H1/0011—Adaptation of holography to specific applications for security or authentication
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/26—Processes or apparatus specially adapted to produce multiple sub- holograms or to obtain images from them, e.g. multicolour technique
- G03H1/2645—Multiplexing processes, e.g. aperture, shift, or wavefront multiplexing
- G03H1/265—Angle multiplexing; Multichannel holograms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H1/0276—Replicating a master hologram without interference recording
- G03H2001/0296—Formation of the master hologram
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/26—Processes or apparatus specially adapted to produce multiple sub- holograms or to obtain images from them, e.g. multicolour technique
- G03H1/30—Processes or apparatus specially adapted to produce multiple sub- holograms or to obtain images from them, e.g. multicolour technique discrete holograms only
- G03H2001/303—Interleaved sub-holograms, e.g. three RGB sub-holograms having interleaved pixels for reconstructing coloured holobject
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2224/00—Writing means other than actinic light wave
- G03H2224/04—Particle beam, e.g. e-beam
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2260/00—Recording materials or recording processes
- G03H2260/14—Photoresist
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Business, Economics & Management (AREA)
- Accounting & Taxation (AREA)
- Finance (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Credit Cards Or The Like (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
Голографический защитный элемент, включающий, по меньшей мере, первую и вторую структуры (11, 13), генерирующие дифракционные изображения, записанные в соответствующих сериях, по существу, неперекрывающихся областей носителя записи, причем области одной серии чередуются с областями другой серии, в соответствии с чем обе чередующихся области, по существу, не видимы невооруженным глазом. Голографический защитный элемент генерирует два или более голографических изображений, видимых с отдельных и/или перекрывающихся направлений рассматривания вокруг элемента и выявляемых при наклоне элемента, и каждое конкретное голографическое изображение в направлении рассматривания генерируется создающей дифракционное изображение структурой (11, 13), которая связана с одной серией чередующихся линий. Первая структура, генерирующая дифракционное изображение, была сформирована имеющей диффузно-дифракционный отклик, и вторая структура, генерирующая дифракционное изображение, была сформирована имеющей недиффузный или отражательно-дифракционный отклик.
Description
В настоящее время в промышленной отрасли оптических средств защиты существует удвоенная острая необходимость в создании оптически переменных композиций и эффектов, которые имеют уровень визуальной простоты и уникальности, соответствующих потребности в четком и недвусмысленном общедоступном распозновании и верификации, в то же время будучи невосприимчивыми к подделке способами и технологиями, доступными для организованной преступности. Настоящее изобретение в особенности сосредоточено на классе оптически переменных элементов, в которых оптические эффекты формируются на базе основополагающего механизма дифракции (первого или нулевого порядка), которая имеет место на границе раздела или поверхности на элементе, который включает поверхность с оттисненным рельефом. Элементы, действующие на основе дифракции первого порядка, известны в промышленности как ΌΘνίΌ'δ (Дифракционные Оптически Переменные Элементы). Наиболее изощренной угрозой для целостности высоконадежного дифракционного оптически переменного элемента (ΌΘνίΌ) является повторная оригинация или воспроизведение с использованием неконтролируемых технологий оригинации, которые применяются для генерирования радужных эффектов и оптических образов в рамках производства декоративной фольги (например, способами с применением матричного принтера низкого уровня и интерференционного маскирования).
В результате специалисты, занимающиеся оригинацией, прилагали усилия к созданию более сложных элементов. Примеры этого подхода описаны в патентных публикациях \νϋ 99/59036 и \νϋ 2006061586, в которых представлены две структуры, генерирующие голографические изображения, с областями одной структуры, чередующимися с областями другой, в масштабе, который невидим невооруженным глазом, так, что две структуры проявляются полностью интегрированными. Этим получается защитный элемент с улучшенным и визуально различимым эффектом переключения (свитч-эффектом) оптически переменного изображения, который может быть без труда верифицирован, но который очень трудно воспроизвести и подделать. Однако в этих случаях две структуры, генерирующие голографические изображения, созданы с использованием одних и тех же способов, и обе генерируют диффузную дифракцию, и поэтому оптические эффекты обеих структур сходны. Ограничение такого элемента состоит в том, что визуальный контраст между элементами двух оптически переменных изображений, обеспечиваемый соответственными структурами, создающими голографическое изображение, ограничен только лишь различием их графических или изобразительных форм. Если рассматривать ситуацию, в которой дифракционный отклик от каждой генерирующей структуры представляет собой предмет дополнительного общего диффузионного эффекта, то существует возможность того, что эта диффузия может быть достаточно большой для возникновения перекрывания двух компонентов изображения внутри зоны обзора под определенным углом, то есть, когда два изображения будут видимыми одновременно. Отсутствие дифференциации в оптических слагаемых двух компонентов изображения (они оба обусловливаются диффузной дифракцией) оказывается причиной путаницы в действиях неподготовленного распознавателя до такой степени, что две структуры, генерирующих голографические изображения, могут быть эффективно заменены или имитированы одной структурой генерирования голограммы, тем самым компрометируя уровень надежности элемента. Наиболее типичным источником дополнительной диффузии был бы источник рассеянного света для освещения или многочисленные источники света - наихудшая ситуация имела бы место, если элемент рассматривают снаружи в пасмурный день, когда освещение от падающего солнечного света весьма диффузно рассеивается облаками. Еще один источник рассеяния возникает, когда элемент наносят способом горячей штамповки на очень текстурированные подложки, такие как бумага для банкнота.
В соответствии с первым аспектом настоящего изобретения, авторы настоящего изобретения представляют голографический защитный элемент, включающий, по меньшей мере, первую и вторую структуры, генерирующие дифракционные изображения, записанные в соответствующих сериях, по существу, неперекрывающихся областей носителя записи, причем области одной серии чередуются с областями другой серии, в соответствии с чем обе чередующихся области, по существу, не видимы невооруженным глазом, в соответствии с чем голографический защитный элемент генерирует два или более оптически переменных изображения, видимых с отдельных и/или перекрывающихся направлений рассматривания вокруг элемента и выявляемых при наклоне элемента, и в соответствии с чем каждое конкретное оптически переменное изображение в данном направлении рассматривания генерируется структурой, формирующей дифракционное изображение, которая связана с одной серией чередующихся линий, отличающейся тем, что первая структура, генерирующая дифракционное изображение, была сформирована имеющей диффузно-дифракционный отклик, и вторая структура, генерирующая дифракционное изображение, была сформирована имеющей недиффузный, или отражательно-дифракционный отклик.
Изобретение устраняет визуальные ограничения, связанные с описанными ранее способами чередования, в которых две или более чередующихся оптически переменных генерирующих структуры изготавливались одним и тем же способом выполнения оригинации и проявляли одинаковые дифракционные характеристики, путем расширения принципа чередования так, чтобы включать смену изображений между двумя оптически переменными генерирующими структурами, характеристики дифракционного отклика которых являются основополагающими. Для создания такого элемента авторам настоящего изобретения было необходимо внутри одной и той же фоторезистивной мастер-матрицы записать две точно
- 1 017886 чередующихся формирующих изображение структуры, которые проявляют комплементарные оптически переменные эффекты, причем каждая изготовлена внутри фоторезиста отдельными и технологически различающимися способами оригинации, например оптической интерферометрии и электронно-лучевой литографии.
Патентная публикация АО 2007083140 (опубликованная после даты приоритета настоящей заявки) описывает подобный способ, но отдельные чередующиеся области не являются, по существу, невидимыми невооруженным глазом.
Перед тем как проводить обсуждение разнообразных аспектов изобретения, авторы настоящего изобретения посчитали уместным вкратце прояснить значение понятий зеркального и диффузного отражения. Для начала, зеркальное отражение представляет собой отражение света от поверхности, такое как от совершенного зеркала, в котором свет, падающий в одиночном входном направлении (луч), перенаправляется в одиночном выходном направлении. Более конкретно, входной (падающий) и выходной (отраженный) лучи составляют одинаковый угол с перпендикуляром к поверхности (например, ί=τ). От этого отличается диффузное отражение, где падающий свет перенаправляется в широком диапазоне углов.
Первую генерирующую дифракционное изображение структуру, характеризуемую диффузнодифракционной структурой, типично создают способом оптической интерферометрии, и предпочтительно в виде радужной голограммы Бентона. Вторую генерирующую структуру, характеризуемую недиффузной или отражательно-дифракционной структурой, типично генерируют с использованием матричной интерферометрии, литографической интерферометрии или электронно-лучевой литографии.
Хотя для чередующихся структур предпочтительными являются линейчатые формы, подобный эффект может быть генерирован с использованием интегральных матриц из структур, включающих геометрические формы, такие как квадраты или шестиугольники. В этом случае каждую структуру генерируют внутри каждой геометрической формы, и затем формы располагают в виде плотно упакованной матрицы, например, из шестиугольников и квадратов. Каждая индивидуальная часть матрицы предпочтительно является неразличимой невооруженным глазом.
Чтобы облегчить понимание сути изобретения, различие между диффузными и недиффузными дифракционными структурами схематически проиллюстрировано на фиг. 1. Различные компоненты изображения (1С'§), проявляющиеся в защитном элементе согласно настоящему изобретению, формируются либо из диффузной, либо недиффузной (отражательной) дифракционной структуры, генерирующей отражательный компонент изображения (81С) и диффузный компонент изображения (Э1С). Отражательный компонент изображения (81С) далее подразделяется на отражательный электронный компонент изображения (8Е1С) и отражательный оптико-интерферометрический компонент изображения (8О1С). Отражательный электронный компонент изображения (8Е1С) типично формируют способом электроннолучевой литографии. Однако следует также отметить, что структуры, формирующие недиффузное (то есть, отражательное) дифракционное изображение, могут быть также созданы способом оптической интерферометрии, и такие компоненты изображения (1С) будут именоваться как отражательные оптикоинтерферометрические компоненты изображения (8О1С). Отражательный оптикоинтерферометрический компонент изображения (8О1С) предпочтительно формируют с использованием матричной интерферометрии или литографической интерферометрии. Подобным образом диффузный компонент изображения (Э1С) может быть далее подразделен на диффузный электронный компонент изображения (ΌΕΙΟ) и диффузный оптико-интерферометрический компонент изображения (ЭО1С). В случае диффузного компонента изображения (Э1С) диффузный оптико-интерферометрический компонент изображения (ЭО1С) является наиболее предпочтительным компонентом изображения и преимущественно генерируется из радужной голограммы Бентона.
В настоящем описании отражательный компонент изображения (81С) включает сложную двумерную (2Ό) конфигурацию пикселей или структурных элементов, в которой каждый пиксель или структурный элемент содержит элементарную структуру дифракционной решетки - иначе говоря, структуру дифракционной решетки, определяемую:
1) единичной периодичностью дифракционной решетки (типично определяемой в числе линий на мм),
2) единичной ориентацией дифракционной решетки или азимутальным углом,
3) единичной фазой дифракционной решетки, которая точно определяет на микроскопическом уровне, какие точки в х,у-плоскости рельефа дифракционной решетки находятся на гребнях или впадинах (максимумах и минимумах).
Авторы настоящего изобретения сочли уместным упомянуть комбинацию периодичности, ориентации и фазы дифракционной решетки как определяющую функциональность дифракционной решетки.
Типично эти структурные элементы достаточно малы, чтобы быть неразличимыми невооруженным глазом, с размерами, варьирующими от 50 вплоть до 5 мкм. Наиболее типично они являются круглыми или прямоугольными по форме в общеупотребительных системах записи, но могут также принимать форму правильных или неправильных многоугольников.
Когда коллимированный свет с конкретной длиной волны падает на отражательный компонент изображения (81С), каждый структурный элемент внутри активной площади изображения преломляет или
- 2 017886 перенаправляет этот свет в конкретном направлении, которое определяется его единичной функцией дифракционной решетки и уравнением дифракции. Выражаясь несколько иначе, свет с одиночного входного направления (луч) перенаправляется структурным элементом дифракционной решетки в одиночном выходном направлении согласно геометрическим законам дифракции. По аналогии с определением зеркального отражения от зеркала, авторы настоящего изобретения сочли уместным определить дифракцию одиночной функцией структуры дифракционной решетки как отражательную или недиффузную дифракцию. Эта терминология далее подкрепляется тем фактом, что традиционное (ί=τ) отражение представляет собой особый случай условий дифракции, в которых для оптически гладкого или полированного состояния все порядки дифракции выше нулевого порядка становятся исчезающе малыми - то есть, традиционное отражение представляет собой дифракцию нулевого порядка, причем всеми прочими понятиями практически можно пренебречь.
При сравнении в пределах настоящего описания или наставления, площадь изображения внутри диффузного компонента изображения (Э1С) не разрешается в конфигурацию мелких пикселей или структурных элементов, каждый из которых содержит единичную функцию дифракционной решетки, но вместо этого каждая точка на поверхности будет иметь дифракционный поверхностный рельеф, который представляет собой суперпозицию различных функций дифракционной решетки - другими словами, такие структуры дифракционной решетки, которые различаются по периодичности и или ориентации и или фазе. Когда луч падающего или поступающего света попадает в любую точку на площади изображения внутри диффузного компонента изображения (Э1С). он будет преломляться или перенаправляться в виде серии выходящих лучей, разбегающихся в различных направлениях. Структура дифракционной решетки внутри диффузного компонента изображения (Э1С) проявляет эффект преобразования света из одиночного входного направления во множество выходных направлений, поэтому по аналогии с терминологией для отражения от оптически шероховатой поверхности, авторы настоящего изобретения сочли уместным определить дифракцию на рельефной структуре, содержащей множество функций дифракционной решетки, и, наиболее конкретно, множество ориентаций и периодичностей дифракционной решетки, как диффузно-дифракционный отклик. Следует принимать во внимание, что эффективное представление трехмерной (3Ό) глубины или эффектов параллакса, которые наблюдаются внутри голограммы, требует присутствия сложной диффузно-дифракционной структуры дифракционной решетки, в которой в определенных пределах имеет место более непрерывная вариация функции дифракционной решетки внутри суперпозиции дифракционных решеток.
В пределах контекста данного наставления также важно иметь в виду, что ограниченные эффекты диффузионного типа могут быть созданы внутри отражательного компонента изображения (81С) способом пространственного мультиплексирования. Например, допустим, что в некоторой точке поверхности на диффузном компоненте изображения (Э1С) дифракционный поверхностный рельеф содержит множество функций дифракционной решетки, в котором диффузионный эффект был генерирован вариациями азимутального угла для каждого компонента изображения между интервалами 01 и 05. Следует признать, что внутри типичного диффузного компонента изображения (Э1С) (такого как обычная радужная голограмма Бентона) существует непрерывное постепенное изменение азимутального угла между двумя значениями, и именно этим обуславливаются эффекты плавного непрерывного параллакса, проявляющиеся в обычных голограммах. Применяя метод пространственного мультиплексирования, квалифицированный специалист в этой области технологии должен был бы записывать пять структурных элементов, в которых первый структурный элемент имеет одиночную функцию дифракционной решетки с азимутальным углом 01, второй структурный элемент с азимутальным углом 02, третью структуру дифракционной решетки с азимутальным углом 03, четвертую структуру дифракционной решетки с азимутальным углом 04 и, наконец, пятую структуру дифракционной решетки с азимутальным углом 05. Таким образом, можно видеть, что точка сложной структуры дифракционной решетки в диффузном компоненте изображения (Э1С) была заменена группой из 5 структурных элементов. Прямым следствием этого является то, что создание диффузионных эффектов с использованием отражательного компонента изображения (81С) значительно снижает разрешение - действительно, в этом строго ограниченном случае функций дифракционной решетки разрешение снижается в пять раз по одному измерению. Допустим, что была предпринята попытка имитировать внутри отражательного компонента изображения (81С) эффекты постоянного параллакса, создаваемые наиболее типичной для диффузных компонентов изображения (Э1С) традиционной голограммой. Для создания в глазу наблюдателя постоянного непрерывного параллакса или глубинного смещения может потребоваться группирование, к примеру, 25 структурных элементов. Допустим, что структурный элемент имел размер 10 мкм х10 мкм, что соответствует разрешению в 100 пикселей на миллиметр - тогда, если группирование было сделано вдоль одной оси, как это наиболее удобно с точки зрения записи, то эффективное разрешение оригинал-макета вдоль этой оси должно снизиться до всего лишь 4 пикселей/мм.
Этим обусловливается то, что отражательный компонент изображения (81С) не записывают, чтобы воспроизводить оптически переменные диффузионные эффекты, такие как трехмерный (3Ό) параллакс, но, напротив, предназначают для создания подвижных эффектов дифракционной решетки, например,
- 3 017886 кинематических эффектов движения изображения, как описано в издании ОрОса1 Эоситеп! Беситйу (Оптические элементы защиты документов), автор Кепеззе, КибоИ Ь. Уап, Ι8ΒΝ 0-89006-619-1, глава 9, и далее описываемых в настоящем описании.
Электронно-лучевая литография представляет собой относительно новый способ, который был разработан для создания генерирующих голографическое изображение структур и рассматривается как способ, альтернативный хорошо известному методу оптической интерферометрии. Так, в оптической промышленности стало общепризнанным, что голография с восстановлением рассеянным белым светом (примером которой является радужная голограмма Бентона) и электронно-лучевая литография представляют два наиболее взаимодополняющих метода или технологии записи дифракционных оптически переменных элементов (ΌΟνίΌ). Радужная голограмма Бентона наиболее применима для несекретных или макроизобразительных эффектов, которые легко распознаются и интерпретируются неспециалистами, такие эффекты представляют собой трехмерные (3Ό) и стереографические эффекты (то есть, изменения перспективы и параллакса, генерируемые моделями и мультиплексной фотографией), и простые смены символов (нехудожественных) изображений. В то же время электронно-лучевая литография лучше всего подходит для генерирования эффектов трансформации сложных линейчатых изображений и микрографических эффектов с высоким разрешением (то есть, буквенно-цифровых знаков и символов с размерами менее 50 мкм).
Кроме того, способы оптической интерферометрии, такие как голография по методу Бентона, в общем ограничены записью поверхностных рельефных микроструктур, которые симметричны в плоскости рассеяния. Применение электронно-лучевой литографии, в которой подробный профиль каждой индивидуальной дифракционной решетки экспонируется-вытравливается в носителе записи, позволяет генерировать несимметричные профили рельефа, которые дают положительные и отрицательные дифракционные порядки с неодинаковой яркостью.
Однако авторы настоящего изобретения пришли к пониманию, что чередование структуры с диффузной генерацией голографического изображения и структуры с недиффузной, или отражательной, генерацией голографического изображения, может создавать вполне четкие изображения и оптические эффекты.
В настоящем описании понятие структуры для генерации голографического изображения означает структуры, которые создают графические изображения на основе механизма дифракции света.
В оптической интерферометрии картинку оригинала создавали в голографическом процессе на основе оптической интерференции, в результате чего на стадии производства в этом процессе оригинации по меньшей мере один компонент изображения может содержать радужную голограмму, и где необязательно используется по меньшей мере одна голографическая промежуточная голограмма, или Н1, которая обеспечивает по меньшей мере одному компоненту полученного изображения возможность содержать подлинные голографические эффекты глубины, если это желательно (что связано с радужными 2Ό/3Ό- или 2Э-голограммами, как известно в технологии). Настоящее описание также обращается к поверхностным двумерным (2Ό) структурам, генерированным вышеупомянутыми голографическими способами, но ограничивается по существу уровнем плоскости изображения в конечном элементе и, в предпочтительной альтернативе, сосредоточено в интервале содержащихся в таковом пространственных частот (то есть, видимом угле отклика). В особом случае предельного ограничения это формирует голографическую структуру, по существу подобную в визуальном отношении структуре чисто дифракционной решетки, но чуть-чуть отличающуюся от таковой на микроскопическом уровне, где микроструктура будет создаваться способом голографической проекции и может содержать признаки спекл-структур, генерированных записывающим лазером и характеризующих таковой.
Чередование двух структур, генерирующих голографическое изображение, позволяет создать оптическую микроструктуру, которая при освещении генерирует два или более перекрывающихся изображения, которые могут быть видимыми глазом по меньшей мере с двух отдельных направлений рассматривания вокруг элемента. Хотя это возможно сделать с использованием традиционных голографических способов записи перекрывающихся голографических изображений с оптической микроструктурой, относящейся к каждому изображению, просто совмещенной в области перекрывания, полученная композитная микроструктура всегда будет воспроизводить каждый компонент изображения с пониженной эффективностью или яркостью сравнительно с одиночной дифракционной структурой. Фактически присутствие перекрывающихся дифракционных микроструктур всегда имеет результатом структуру с пониженной оптической дифракционной эффективностью по сравнению с одиночной дифракционной структурой вследствие присутствия перекрывающихся микроструктур, и всегда склонно к проявлению второго фантомного изображения в области перекрывания ввиду насыщения среды и снижения оптической эффективности. Это обусловливается присутствием в областях перекрывания двух весьма различающихся голографических структур с различными ориентациями относительно несущих частот дифракционных решеток. Это ограничивает общую оптическую эффективность и видимую яркость голографического изображения, что является в особенности неблагоприятным фактором в голограммах на банкнотах, где происходит серьезное снижение воспринимаемой яркости после нанесения фольги для горячего тис
- 4 017886 нения на банкноту. По этой причине данный тип голограмм редко используют для нанесения на банкноты, и вместо этого зачастую оказывается предпочтительным изображение, основанное на структуре дифракционных решеток, благодаря сохранению большей дифракционной эффективности после нанесения. Этот аспект изобретения тем самым позволяет создать оптически переменный элемент с двумя или более очень четкими и яркими графическими перекрывающимися голографическими изображениями, размещенными в одной и той же области элемента, но видимыми при различных ориентациях, которые, что важно, сохраняют высокую дифракционную эффективность, будучи нанесенными в виде фольги для горячего тиснения на банкноту, несмотря на нарушение микроструктуры, вызванное шероховатостью бумаги и внедрением волокон. Это обеспечивает эффективность и видимую яркость каждого из наблюдаемых перекрывающихся изображений, сравнимые с таковыми для элемента с одиночным голографическим изображением. Изображения также представляются на вид как сплошные.
Это достигается обеспечением того, что каждая маленькая область элемента содержит только голографическую микроструктуру, относящуюся к одному графическому изображению, создавая возможность достижения гораздо более значительной модуляции микроструктуры голографической дифракционной решетки без видимого ухудшения второго графического изображения проявлением фантомного изображения первого графического изображения, каковое в иной ситуации возникало бы вследствие насыщения среды в областях совмещенных микроструктур. Важно, что это позволяет провести перемодуляцию голографических рабочих копий для тиснения оригинала и голографической фольги для горячего тиснения для компенсирования структурной релаксации и деградации вследствие шероховатости бумаги на месте нанесения, так что конечная оптическая микроструктура на бумаге имеет максимальную дифракционную эффективность.
Предпочтительно это достигается подразделением двух или более графических изображений на чередующуюся сетку из тонких линий (прямых или криволинейных), структура которой может быть регулярной, но предпочтительно является более сложной и находится в шкале размеров 25-100 мкм (хотя линии с увеличенной шириной возможны для более крупных графических изображений, несмотря на то, что при ширине в 250 мкм линии становятся четко различимыми невооруженным глазом). Применение очень тонких линий с шириной в диапазоне 25-50 мкм или 25-75 мкм гарантирует, что линейчатые структуры внутри изображений не будут различимыми невооруженным глазом (предельное разрешение глаза составляет около 20 мкм для высококонтрастного изображения, для картинки же с низкой контрастностью обычно уменьшено в 3-4 раза и составляет около 80-100 мкм).
Любая точка на поверхности изображения содержит микроструктуру, относящуюся только к одному графическому изображению, причем эта микроструктура представляет собой голографическую дифракционную микроструктуру. В настоящем изобретении структура, генерирующая первое голографическое изображение, представляет собой диффузно-дифракционную голографическую структуру, которая была предварительно создана интерференцией диффузного волнового фронта, который воссоздает графическое изображение, и второго когерентного пучка. Очень важным свойством этой структуры является то, что эта область представляет собой подлинную голографическую структуру, содержащую диапазон, пусть маленький, пространственных частот микроструктуры, и также содержащую записанную спекл-структуру, характеристическую для голографической микроструктуры, и также где каждая маленькая область элемента воспроизводит контролируемый заранее заданный точный набор углов ориентации луча, пусть под ограниченным углом зрения, в противоположность чисто отражательной дифракционной решетке, где каждая точка изображения должна воспроизводить чистое изображение точки.
Предпочтительным вариантом осуществления этого элемента является такой, где голографическая структура сформирована как поверхностный рельеф для изготовления с помощью процессов тиснения и формования и для нанесения на ценные документы в качестве поверхностных рельефных структур. Это может быть сделано, например, в форме этикетки, или может быть нанесено в виде фольги для горячего тиснения, или же потенциально напрямую вытеснено в слое на поверхности документа, где этот способ обеспечил бы значительное повышение эффективности таких элементов, когда они создаются с помощью голографии. Однако могли бы быть также использованы прочие формы голографической записи, известные в технологии, такие как отражательные голограммы.
Голографические изображения могут быть видимыми под различными углами рассмотрения и могли бы представлять виды различных объектов или различные виды одного и того же объекта.
Типично, по меньшей мере одна из структур, генерирующих голографическое изображение, находится в форме яркой голографической структуры.
В типичном элементе структуры из чередующихся тонких линий имеют размеры ниже нормального предела разрешения невооруженного человеческого глаза.
В некоторых вариантах исполнения элемента по меньшей мере один компонент чередующегося голографического изображения может иметь подлинную голографическую глубину. В некоторых вариантах осуществления элемента по меньшей мере один компонент чередующегося голографического изображения может создавать эффект трехмерной (3Ό) модели.
- 5 017886
Дальнейшие преимущества общей концепции структур, генерирующих чередующиеся голографические изображения, более подробно изложены в патентной публикации ^Θ-Ά-99/59036, приведенной здесь для сведения.
Теоретически две структуры, генерирующие голографические изображения, могли бы быть независимо сформированы с помощью соответствующих штампов или тому подобных, которые затем в свою очередь отпечатаны в носителе записи, таком как фоторезист. Однако потребность в очень высокой точности в создании чередования означает, что на практике этого достигнуть весьма затруднительно.
Таким образом, в соответствии со вторым аспектом настоящего изобретения, авторы настоящего изобретения представляют способ получения голографического защитного элемента, включающий:
a) приготовление слоя непроявленного фоторезиста на электропроводном слое;
b) формирование структуры, генерирующей первое голографическое изображение, имеющей диффузно-дифракционный отклик, в слое непроявленного фоторезиста;
c) формирование структуры, генерирующей второе голографическое изображение, имеющей недиффузный, или отражательный, отклик, в слое непроявленного фоторезиста; и
б) после этого проявление слоя фоторезиста, в котором структуры, генерирующие первое и второе голографические изображения, записывают в соответствующих сериях, по существу, неперекрывающихся областей слоя фоторезиста, причем области одной серии чередуются с областями другой серии, в соответствии с чем обе чередующихся области, по существу, не видимы невооруженным глазом, в соответствии с чем голографический защитный элемент генерирует два или более голографических изображения, видимые с отдельных направлений рассмотрения вокруг элемента и обнаруживаемые при наклоне элемента, и в соответствии с чем каждое конкретное голографическое изображение в направлении рассмотрения генерируется структурой, формирующей голографическое изображение, связанной с одной серией чередующихся областей.
В отношении состава слоя фоторезиста таковой должен (для применяемой химической процедуры проявления):
иметь позитивный характер в отношении как оптического, так и электронного экспонирования, или негативный характер в отношении как оптического, так и электронного экспонирования.
Поэтому авторам настоящего изобретения пришлось исключить фоторезисты, в которых электронное экспонирование может одновременно создавать как позитивный отклик, так и негативный отклик (сшивание). Далее между слоем фоторезиста и слоем подложки размещен промежуточный слой или слои. Промежуточный(-ные) слой(слои) действует(-ют) главным образом как электропроводный слой, но может также действовать как поглощающее противоотражательное покрытие для подавления внутренних отражений внутри пластины фоторезиста.
Электропроводный слой рассеивает электронный заряд, который накапливается на поверхности фоторезиста во время процесса записи электронным пучком. Электропроводный слой предпочтительно простирается до кромок фоторезиста по меньшей мере на двух заранее заданных сторонах. В одном предпочтительном варианте осуществления в качестве электропроводного слоя используют частично прозрачный слой металла, такого как хром (типично осажденный способом вакуумного осаждения) такой слой исполняет оба функциональных назначения и как противоотражательное покрытие, и как проводящий слой, отводящий к заземлению электрический заряд, накопившийся на фоторезисте. Альтернативно, слой хрома может быть создан с противоотражательным покрытием, таким как оксид хрома или диоксид кремния, между слоем хрома и фоторезистом.
В еще одном варианте осуществления могут быть предусмотрены два промежуточных слоя, в которых первый промежуточный слой в контакте с фоторезистом может быть составлен неметаллическим покрытием с удельным поверхностным электрическим сопротивлением менее 10 МОм/см2. Такие покрытия могут быть созданы диспергированием легированного сурьмой оксида олова или технического углерода в органическом связующем средстве.
Или используют имеющееся в продаже на рынке покрытие, такое как Е8РАСЕК. 100 (поставляемое фирмой 8йо^а Эспко). Такие покрытия наносят на подложку традиционным методом центрифугирования. Второй промежуточный слой представляет собой покрытие, которое поглощает синий компонент света, такое как оксид двухвалентного железа или материал ЕЬопйс Ь1аск (поставляемый фирмой Сапшид).
Защитный элемент мог бы быть использован в том виде, как изготовлен, но типично употребляется для изготовления мастер-матрицы или рабочей копии (шима) для получения копий защитного элемента, формируемых традиционным способом тиснения.
Типично стадию (с) проводят после стадии (Ь), но возможна также обратная последовательность.
Голографические защитные элементы согласно изобретению могут быть использованы для широкого круга целей обеспечения защиты документов и изделий. Как уже упоминалось, они в особенности пригодны для применения на документах и изделиях, имеющих относительно шероховатые поверхности, изготовленных из бумаги и тому подобных материалов, но также могут быть использованы с другими материалами, такими как пластмассы. Примерами изделий, которые могут быть защищены с использова
- 6 017886 нием таких элементов, являются паспорта, банковские книжки, билеты, пропуска, удостоверения, карты для финансовых операций, включая чековые гарантийные карты, платежные карты, кредитные карты, банкоматные карты, карты для электронных денежных переводов, карты доступа к определенному виду сервиса, удостоверения личности или карты спецификации изделий, свидетельства о предоплате, телефонные карты, карточки с переменной, например, убывающей хранимой суммой («электронный кошелек»), долговые обязательства, финансовые документы, банкноты, чеки, в том числе дорожные чеки, ваучеры, этикетки с идентификацией торговой марки (бренда), наклейки для предотвращения несанкционированного доступа или указательные этикетки.
Элемент без труда может быть скомпонован в форме блока переноса изображения, такого как фольга для горячего тиснения, позволяющего наносить его на защищаемые документ или изделие. В этой ситуации элемент типично содержит термоклей (или самоклеющийся материал) на своей открытой поверхности.
Далее, защита изделия, такого как ценный документ, на которое может быть нанесен элемент, достигается включением элемента в эскизный макет с множеством элементов.
Пример голографического защитного элемента и способ формирования такого элемента в соответствии с настоящим изобретением теперь будут описаны с привлечением сопроводительных чертежей, на которых:
фиг. 1 представляет блок-схему, показывающую различные типы компонентов изображения;
фиг. 2Ά-2Ό иллюстрируют увеличенный схематический вид элемента (фиг. 2А) и внешний вид элемента, рассматриваемого под различными углами наклона (фиг. 2Β-2Ό);
фиг. 3 схематически представляет горизонтальный разрез части элемента;
фиг. 4А-4Р - увеличенный схематический вид второго примера элемента и внешний вид элемента, рассматриваемого под различными углами наклона;
фиг. 5А-5С - увеличенный схематический вид третьего примера элемента и внешний вид элемента, рассматриваемого под различными углами наклона;
фиг. 6 схематически представляет поперечное сечение примера фоторезистивной мастер-матрицы;
фиг. 7 иллюстрирует в горизонтальной проекции и в разрезе последовательные стадии общеупотребительного способа формирования рабочих копий для тиснения;
фиг. 8 - способ, которым оптическое изображение размещают на пластине фоторезиста;
фиг. 9 - пластину фоторезиста, экспонированную компонентом оптического изображения до проявления;
фиг. 10 иллюстрирует пластину фоторезиста с непроявленным изображением, нанесенным с помощью электронного пучка;
фиг. 11 - сопряженные вытисненные картины;
фиг. 12 иллюстрирует в горизонтальной проекции и в разрезе последовательные стадии традиционного способа формирования рабочих копий для тиснения и фиг. 13 подобна фиг. 12, но иллюстрирует пример альтернативного способа получения рабочей копии для тиснения согласно изобретению.
Элемент 1, показанный в фиг. 2, включает два компонента 10, 12 изображения (1С), причем первый компонент 10 изображения (1С) иллюстрирует портрет, который сформирован структурой, генерирующей диффузно-дифракционное голографическое изображение, созданной с использованием оптической интерферометрии, то есть БО1С (Диффузный оптико-интерферометрический компонент изображения), и второй символ 12 в форме пятиконечной звезды, сформированный структурой, генерирующей недиффузное, или отражательное, дифракционное изображение, такой, которая создается с помощью электроннолучевой литографии, то есть, отражательный электронный компонент изображения (БЕ1С). Соответствующие поверхностные рельефные структуры 11, 13, имеющие отношение к портрету 10 и звезде 12, соответственно в форме взаимно чередующихся областей, определяющих периодические сетки деления, показаны на фиг. 2А, на которой области, показанные черным цветом, содержат соответствующие БО1С- и БЕ1С-структуры, и таковые показаны отдельно сбоку для ясности. В действительности две серии 11, 13 чередуются с каждой линией сетки одной структуры между двумя линиями сетки другой структуры.
Периодичность каждой сетки деления может (в зависимости от желательного визуального эффекта) быть создана в диапазоне 20-200 мкм, но типично она будет варьироваться в диапазоне 80-120 мкм, наиболее предпочтительно 80-100 мкм, тем самым будучи, по существу, невидимой для невооруженного глаза.
Способ оригинации (то есть, способ, используемый для создания начальной голограммы), употребляемый для формирования рельефной сетки деления для диффузного оптико-интерферометрического компонента изображения (БО1С) 10, подробно описан в патентной публикации АО-А-99/59036. При формировании сетки деления с помощью электронного пучка для отражательного электронного компонента изображения (БЕ1С) используют традиционный растровый способ с привлечением машин для электронно-лучевой литографии.
- 7 017886
Следует принимать во внимание, что запись двух чередующихся периодических сеток деления требует высокоточного совмещения между ЭО1С- и 8Е1С-компонентами. Конкретно для вышеуказанных периодичностей авторам настоящего изобретения потребовался допуск совмещения по X- и Υ-оси около ~ 1-10 мкм. Такой порядок допуска достигается с использованием способа и системы базового штифта, описанных ниже.
В предпочтительных вариантах осуществления рельефные структуры, присутствующие в ЭО1С- и 8Е1С-компонентах, будут иметь заранее заданные величины шага дифракционной решетки, и более конкретно, ориентации дифракционной решетки (например, различные азимутальные углы). Это будет создавать угловой переключатель каналов между ЭО1С- и 8Е1С-компонентами при наклонах по горизонтали, вертикали или при поворотах.
Фиг. 2В-2С показывают конкретный пример, в котором диффузный оптико-интерферометрический компонент изображения (ЭО1С) 10 записан так, чтобы воспроизводиться при рассмотрении слева (фиг. 2В), тогда как символ 12 звезды как отражательный электронный компонент изображения (8Е1С) записан так, чтобы воспроизводиться при рассмотрении справа (фиг. 2Ό), причем оба проявляются в промежуточном положении (фиг. 2С).
Альтернативно, диффузный оптико-интерферометрический компонент изображения (ЭО1С) 10 может быть записан так, чтобы создавать центральный вид, в то время как символ 12 звезды как отражательный электронный компонент изображения (8Е1С) записывают так, чтобы воспроизводить изображение при повороте на 90°.
Ключевое преимущество в плане защиты, которое обеспечивается изобретением перед элементами согласно патентной публикации \¥О-Л-99/59036, состоит в фундаментальном отличии характеристик воспроизведения, связанных со структурой, генерирующей диффузно-дифракционное изображение, и микроструктурой, формирующей недиффузное (то есть, отражательное) дифракционное изображение. Микроструктура голограммы, которая в любой точке элемента типично включает когерентную суперпозицию различных функций дифракционной решетки, воспроизводит свет различным образом, тогда как созданный электронным пучком рельеф в любой точке элемента определяется одиночной функцией дифракционной решетки и воспроизводит свет точно направленным (то есть, отражательным) путем. Это означает, что подлинный голографический дифракционный оптически переменный элемент (ЭОУЮ) будет иметь внешний вид, визуально весьма отличающийся от отражательного дифракционного оптически переменного элемента (ЭОУЮ), созданного электронным пучком.
Прямое следствие этого состоит в том, что переключение перекрывающихся изображений, составленных ЭО1С- и 8Е1С-компонентами, является визуально более различимым и впечатляющим, чем соответствующее переключение изображения между первым диффузным оптико-интерферометрическим компонентом изображения (ЭО1С) и вторым диффузным оптико-интерферометрическим компонентом изображения (ЭО1С).
Различающиеся характеристики воспроизведения диффузной и недиффузной дифракционных структур позволяют воспроизводить два контрастирующих изображения на таком уровне, который невозможен, когда чередуются две подобных структуры, либо обе диффузных, либо обе недиффузных. Диффузная структура в особенности пригодна для представления живописного или фотографически реалистичного типов изображений, которые выразительно проявляются, только когда значительная часть площади изображения или содержания картинки одновременно воспроизводится или направляется в глаз наблюдателя. Обычно такие типы изображений не обязательно исполняются в виде тонких линий или точечных картинок. Примерами таких типов изображений могли бы быть портреты или фотографии людей, животных, растений или пиктографических национальных символов. По сравнению с этим, «двухпозиционная» природа недиффузной, или отражательной, структуры является более приемлемой для геометрических структур и буквенно-цифровых символов, для которых не требуется иметь все аспекты изображения, видимые одновременно. Недиффузная структура, и в особенности, сформированная электронным пучком, может генерировать структуры с очень высоким разрешением, позволяющие создавать скрытые секретные микроизображения внутри защитного элемента. В дополнение к каждому из двух полученных изображений/символов, проявляющихся при рассматривании их под различными углами зрения, либо при наклоне, либо при вращении элемента, может быть желательным дополнительное дифференцирование визуальных характеристик компонентов двух первичных изображений путем дальнейшего разделения недиффузного компонента изображения на серию или компоновку второстепенных компонентов изображения, в которых каждый такой вспомогательный компонент изображения был обусловлен своей конкретной структурой дифракционной решетки так, что он воспроизводится в узкой заранее заданной части угловой зоны обзора при наклоне или вращении элемента. Этой целью мотивируется применение отражательного электронного компонента изображения (8Е1С) для создания графических эффектов увеличения, преобразования или движения.
Это достигается чередованием линий 16 сетки, соответствующих отражательному электронному компоненту изображения (8Е1С), подразделенному на подсекции 17А-17В и т.д., в котором каждая подсекция 17А, 17В имеет отдельную ориентацию и/или периодичность дифракционной решетки. Это схе
- 8 017886 матически показано на фиг. 3, с линиями сетки диффузного оптико-интерферометрического компонента изображения (ЭО1С), обозначенными позицией 18. Следует отметить, что угол штриховки внутри серии подсекций 17А, 17В, которые составляют отражательный электронный компонент изображения (8Е1С), не обозначают ориентацию структуры дифракционной решетки внутри этой подсекции. Он просто показывает, что каждая подсекция может иметь различную константу (шаг) и или ориентацию дифракционной решетки. Таким образом, восприятие движения формируется именно отражательным электронным компонентом изображения (8Е1С). Два видимых изображения могут быть соотнесены соответственно дизайну, и кинематический характер отражательного электронного компонента изображения (8Е1С) может быть использован для выведения на первый план диффузного компонента изображения (Э1С). В дополнительном примере отражательный электронный компонент изображения (8Е1С) может быть частью диффузного компонента изображения (ΌΣΟ) или полностью составлять таковой, например, отражательное изображение может формировать геометрическую форму или внешний контур, внутри которого позиционируется диффузный компонент изображения (Э1С).
Элемент, показанный в фиг. 4, включает два компонента изображения (1С), диффузный оптикоинтерферометрический компонент изображения (ЭО1С) 20, иллюстрирующий портрет, и отражательный электронный компонент изображения (8Е1С) 22 в форме пятиконечной звезды, сформированный структурой, генерирующей недиффузное, или отражательное, дифракционное изображение, которое создается с помощью электронно-лучевой литографии. Соответствующие поверхностные рельефные структуры 21, 23, имеющие отношение к портрету 20 и звезде 22, присутствуют в форме взаимно чередующихся областей, определяющих периодические сетки деления, таковы, как показанные (разделенные в поперечном направлении) в фиг. 4А. В этом примере линии 23, формирующие отражательный электронный компонент изображения (8Е1С) 22, были подразделены на секции, где каждая подсекция имеет отдельную ориентацию дифракционной решетки так, что кинематический эффект проявляется в отношении пятиконечной звезды. Фиг. 4В показывает конкретный пример, в котором диффузный оптикоинтерферометрический компонент изображения (ЭО1С) 20 записан так, чтобы воспроизводиться при рассмотрении слева, в то время как звездный символ 22 как отражательный электронный компонент изображения (8Е1С) записан многочисленными дифракционными решетками так, чтобы воспроизводиться в виде самой крупной звезды при рассмотрении с самого правого положения (фиг. 4Е) и затем с уменьшением размера при наклоне защитного элемента справа налево (фиг. 4Е-4С) до полного исчезновения и замещения портретом в самом левом положении рассмотрения (фиг. 4В).
Фиг. 5 иллюстрирует дополнительный вариант осуществления, где защитный элемент включает два компонента изображения (1С), диффузный оптико-интерферометрический компонент изображения (ЭО1С), иллюстрирующий портрет 30, и отражательный электронный компонент изображения (8Е1С) в форме пятиконечной звезды 32, сформированный структурой, генерирующей недиффузное или отражательное дифракционное изображение, такой, которая создается с помощью электронно-лучевой литографии.
Соответствующие поверхностные рельефные структуры 31, 33, имеющие отношение к портрету 30 и звезде 32, находятся в форме взаимно чередующихся областей (фиг. 5А), определяющих периодические сетки деления, как в предшествующем варианте осуществления. В этом примере линии 33, формирующие отражательный электронный компонент изображения (8Е1С) 32, были подразделены на секции (не показаны), где каждая подсекция имеет отдельную ориентацию дифракционной решетки так, что кинематический эффект проявляется в отношении пятиконечной звезды (фиг. 5В-5Е). В этом случае диффузный оптико-интерферометрический компонент изображения (ЭО1С) 30 записан так, чтобы воспроизводиться при рассмотрении в наклонном положении (фиг. 5С), достигаемом при вертикальном наклоне защитного элемента, в то время как звездный символ 32 как отражательный электронный компонент изображения (8Е1С) записан многочисленными дифракционными решетками так, чтобы воспроизводиться в виде самой крупной звезды при рассмотрении с самого правого положения и затем с уменьшением размера при наклоне защитного элемента справа налево.
Два примера, проиллюстрированные на фиг. 4 и 5, показывают впечатляющую и совершенно незабываемую природу защитного элемента согласно настоящему изобретению, которая практически была бы недостижима без комбинации диффузного компонента изображения (Э1С) и отражательного компонента изображения (81С) в чередующейся матрице.
Будет понятно, что для формирования диффузного компонента изображения (Э1С) и отражательного компонента изображения (81С) могут быть использованы одинаковые или различные способы (электронный пучок или оптическая интерферометрия).
Следует также отметить, что элемент не ограничивается двумя чередующимися компонентами изображения (1С). Например, элемент мог бы включать три или более чередующихся структур для генерирования дополнительных впечатляющих эффектов. Например, элемент мог бы представлять первый компонент изображения как диффузный оптико-интерферометрический компонент изображения (ЭО1С1) при рассмотрении слева, второй компонент изображения как диффузный оптикоинтерферометрический компонент изображения (ЭО1С2) при наклоне горизонтально для рассмотрения
- 9 017886 справа, и третий компонент изображения как отражательный электронный компонент изображения (8Е1С) при вертикальном наклоне.
Теперь будут описаны некоторые способы получения фоторезиста, содержащего диффузный оптико-интерферометрический компонент изображения (ΌΟΙΟ) и отражательный электронный компонент изображения (8Е1С) в приводке.
Базовый процесс получения пригодной пластины 43 фоторезиста (фоторезистивная Н2-мастерматрица) включает первое вакуумное осаждение тонкой (10-20 нм) пленки 40 из хрома (фиг. 6) на подложку 41 из кварцевого или натрий-кальций-силикатного стекла, приняв все меры к тому, чтобы обеспечить полное распространение слоя 40 хрома до кромок стеклянной подложки 41. Слой хрома исполняет функции электропроводного слоя и поглощающего противоотражательного покрытия. Затем на таковой наносят слой 42 подходящего фоторезиста с толщиной, которая может варьировать в диапазоне от 200 до 20000 нм, в зависимости от глубины и типа требуемого поверхностного рельефа. Вместе с тем, для случая работы с традиционным дифракционным оптически переменным элементом (ИОУГО) в первом порядке дифракции предпочтительная толщина может составлять значение в диапазоне от 500 до 2000 нм.
Экспериментальная работа показала, что пригодным позитивным фоторезистом является серия ΜίегороЩ 81800, поставляемая фирмой 8Ыр1еу, которая содержит следующий растворитель: ацетат монометилового простого эфира пропиленгликоля. Полимер, используемый в этом фоторезисте, представляет собой новолачную смолу, основанную на фотоактивном соединении, принадлежащем к группе сульфонатов диазонафтохинона (ΌΝΟ). Применимый проявитель, который обеспечивает хороший коэффициент контрастности γ для поверхностного рельефа, сформированного как оптическим экспонированием, так и электронным пучком, представляет собой продукт Μίετοροκίΐ 303 фирмы 8Ыр1еу, при разбавлении водой в отношении 1 части к 6 частям.
Теперь будет описан предпочтительный способ записи или генерирования (то есть, оригинации) диффузного оптико-интерферометрического компонента изображения (ΌΟΙΟ). а именно пропускающей Радужной голограммы Бентона, внутри пластины 43 фоторезиста (Н2-мастер-матрица) на фиг. 6.
Первая стадия этого процесса состоит в записи внутри промежуточной пропускающей голограммы (мастер-голограммы Н1) 50 (фиг. 7) компонентов изобразительного оригинала, которые включают диффузный оптико-интерферометрический компонент изображения ΌΟΙΟ) (в этом случае число 10). Компоненты изобразительного оригинала могут быть, например, пространственной моделью или слоистой плоской композицией из пропускающих масок с изображениями (например, стеклянных диапозитивов). Основополагающие принципы этого способа хорошо известны в технологии как процесс голографической Н1-Н2-записи Бентона. После записи и проявления промежуточной пропускающей голограммы 50 (мастер-голограммы Н1) следующая стадия состоит в повторной засветке указанной мастерголограммы Н1 50 ее сопряженным опорным сигналом 51, использованным для ее записи. Засветка мастер-голограммы Н1 50 ее сопряженным опорным сигналом 51 обусловливает перенос или проекцию реального голографического изображения 52 (объектный луч Н2) ранее записанных изобразительных элементов. Затем обеспечивают наложение фокальной плоскости объектного луча Н2 на фоторезистивную пластину 43 и перекрывание опорного луча 54 (опорный луч Н2) для записи голографической интерференционной картины, которая пространственно определяется объектным лучом Н2. Схематическая иллюстрация процесса записи Н2 показана на фиг. 7. Диффузный оптико-интерферометрический компонент изображения (ΌΟΙΟ) на этой стадии представляет собой невидимое скрытое изображение. Чтобы сделать компонент изображения видимым, необходимо проявить пластину 43. В случае позитивного фоторезиста (такого как 8Ыр1еу 81800) растворимость фоторезиста в проявителе увеличивается с повышением энергии экспонирования (в предпочтительном рабочем диапазоне зависимость является линейной), и тем самым светлые интерференционные полосы (интерференционные максимумы) генерируют впадины в периодической рельефной картине, тогда как темные интерференционные полосы (минимумы) соответствуют пикам в периодическом рельефе.
Во время записи комбинированного защитного элемента является преимущественным, чтобы размещение Н2-объекта 52 в точности соотносилось с базовыми поверхностями или точками на фоторезистивной мастер-матрице 43, которое будет независимым от размерных изменений пластины фоторезиста (таких как вариации размера, толщины или ортогональности сторон). Более конкретно, является предпочтительным, чтобы держатель фотопластинки имел три установочных штифта 55-57 (фиг. 8), два 55, 56 из которых расположены в горизонтальной плоскости, и один 57 в вертикальной плоскости с каждым штифтом, обеспечивающим точечный или дугообразный контакт с соответствующими сторонами фоторезистивной Н2-мастер-матрицы 43. В такой системе проецируемый Н2-объект является пространственно выставленным по этим трем контактным или базовым точкам.
С использованием вышеописанного процесса пластину мастер-матрицы формируют экспонированием первой фоторезистивной пластины с размещением одного или более диффузных оптикоинтерферометрических компонентов изображения (ΌΟΙΟ) в заранее заданных положениях с одной или более заранее заданной величиной энергии. Эту пластину затем проявляют в подходящем проявителе фоторезиста для преобразования скрытых диффузных оптико-интерферометрических компонентов изо
- 10 017886 бражения (ΌΟΙΟ) в видимые рельефные изображения. Координаты (смотри фиг. 8) каждого диффузного оптико-интерферометрического компонента изображения (ΌΟΙΟ), или более конкретно, соответствующие контрольные метки, линии или перекрестья приводки, записанные по соседству с каждым диффузным оптико-интерферометрическим компонентом изображения (ΌΟΙΟ), затем определяют измерением их расстояний от соответствующих базовых точек или кромок с помощью передвижного микроскопа или каким-то иным способом, таким как оптическое сканирование пластины. С использованием этого способа авторы настоящего изобретения определили точное положение изображения с соотнесением по контрольным линиям приводки (Х0, Υ0), см. фиг. 8, которые предусмотрены на Н2-мастер-матрице 43.
После формирования установочной пластины следующая стадия процесса состоит в записи на одной или более фоторезистивных Н2-мастер-матрицах с указанными ОО1С-компонентами, в которой на эти дополнительные фоторезистивные пластины последовательно записывают компонент изображения (отражательный электронный компонент изображения (8Е1С)) с использованием электронного пучка. На каждую дополнительную фоторезистивную Н2-мастер-матрицу записывают по меньшей мере одну запись оптико-интерферометрического компонента изображения (О1С), и предпочтительно по меньшей мере от двух до трех записей диффузных оптико-интерферометрических компонентов изображения (ΩΟΙΟ) в одни те же заранее заданные положения, и с таким же заранее заданными положениями, как на установочной Н2-пластине. Поскольку в держателе фоторезистивной пластины предусмотрено размещение трех установочных штифтов 55-57, положение или координаты X, Υ виртуального диффузного оптико-интерферометрического компонента изображения (ΩΟΙΟ) в каждой дополнительной фоторезистивной Н2-мастер-матрице (см. фиг. 9) будут согласованы с координатами Х0, Υ0 диффузного оптикоинтерферометрического компонента изображения (ΩΟΙΟ) в установочной пластине с точностью до 50 микрон (50 мкм) или лучше. Следует отметить, что, в отличие от установочной пластины, нет никаких обработок или проявления этих фоторезистивных Н2-мастер-матриц между этапами записи диффузного оптико-интерферометрического компонента изображения (ΩΟΙΟ) и отражательного электронного компонента изображения (8Е1С).
Следует принимать во внимание, что, хотя авторы настоящего изобретения описали способ оригинации диффузного оптико-интерферометрического компонента изображения (ΩΟΙΟ) на основе Н1-Н2процесса записи по Бентону, концепция изобретения не ограничивается этим способом оригинации. Способ согласно изобретению мог бы быть без труда приспособлен таким образом, что диффузный оптико-интерферометрический компонент изображения (ΩΟΙΟ) генерировали способом оптической интерференционной литографии, в котором пропускающие маски размещают в непосредственном контакте с фоторезистом, и комбинацию облучают картиной интерференции света, полученной двумя пересекающимися лазерными лучами, один из которых будет диффузным по природе, будучи предварительно пропущенным через рассеивающий субстрат, или отраженным от рассеивающей поверхности.
По завершении фазы записи для диффузного оптико-интерферометрического компонента изображения (ΩΟΙΟ) фоторезистивные мастер-матрицы затем размещают во втором держателе пластины, принадлежащем к установке для облучения электронным пучком, в которой второй держатель пластины должен быть геометрически эквивалентным первому (для диффузного оптико-интерферометрического компонента изображения (ΩΟΙΟ)) держателю пластины в отношении компоновки и положения размещения или установочных штифтов. Следует отметить, что установочные штифты 55-57 являются электропроводными, предпочтительно металлическими, и они должны быть соединены с проводником к электрическому заземлению. Например, электропроводные установочные штифты 55-57 типично закрепляют на держателе пластины, изготовленном из нержавеющей стали, который электрически заземлен. Следовательно, когда фоторезистивную Н2-мастер-матрицу вставляют в держатель пластины и надежно фиксируют электропроводными установочными штифтами 55-57 - электропроводный металлический слой 40, расположенный между слоем 42 фоторезиста и стеклянной подложкой 41, будет иметь достаточный электрический контакт с электропроводными установочными штифтами 55-57 для обеспечения того, что электронный заряд, который осаждается и накапливается на слое фоторезиста во время процесса экспонирования электронным пучком, будет отведен в землю. Эта критически важная мера предотвращает накопление электростатического заряда, который может разрушить и повредить запись отражательного электронного компонента изображения (8ΕΙΟ).
При рассмотрении далее записи отражательного электронного компонента изображения (8ΕΙΟ). первая стадия этого процесса состоит в использовании Χ-Υ-координат оптического изображения, определенных из установочной пластины, чтобы выбрать надлежащую экспозицию электронным пучком, или записанные координаты для отражательного электронного компонента изображения (8ΕΙΟ). Предварительными пробными экспозициями выясняют приблизительную энергию экспонирования отражательного электронного компонента изображения (8ΕΙΟ) электронным пучком для обеспечения того, что амплитуда его поверхностного рельефа развивается с такой же скоростью, как поверхностный рельеф оптикоинтерферометрического компонента изображения (ΟΙΟ), когда производится химическая обработка Н2мастер-матрицы 43, содержащей комбинированное изображение (диффузный оптикоинтерферометрический компонент изображения (ΩΟΙΟ) и отражательный электронный компонент изо
- 11 017886 бражения (8Е1С)). В качестве примера для такого фоторезиста, как 8Ыр1еу 81800, было найдено, что предпочтительная энергия экспозиции для записи диффузного оптико-интерферометрического компонента изображения (ОО1С) будет составлять между 10 и 20 мДж/см2, при соответствующей энергии экспозиции электронным пучком в диапазоне 10-30 мкКл/см2, и в особенности в диапазоне 15-25 мкКл/см2
Когда выбраны оптимальные координаты и энергия экспозиции, первую Н2-мастер-матрицу 43 (содержащую скрытый диффузный оптико-интерферометрический компонент изображения (ЭО1С) 58) затем подвергают воздействию электронным пучком или процессу записи путем экспонирования фокусированным пучком 60 электронов от источника (не показан) через фокусирующую систему 61, тем самым формируя скрытый отражательный электронный компонент изображения (8Е1С), как схематически показано на фиг. 10. Н2-мастер-матрицу 43 фиксируют относительно указанных установочных штифтов в вышеописанном держателе пластины для экспозиции электронным пучком.
В современной промышленности практикуется применение электронно-лучевой литографии для оригинации отражательного электронного компонента изображения (8Е1С), включающего не только первые дифракционные структуры (дифракционные решетки с периодичностью <5 мкм), но и структуры нулевого порядка (прямоугольный профиль и периодичность дифракционной решетки <5 мкм). Электронно-лучевая литография может быть также применена для оригинации отражательного электронного компонента изображения (8Е1С), включающего очень грубые структуры (периодичность >10 мкм), которые ведут себя согласно геометрическим законам отражения и преломления.
После экспонирования отражательного электронного компонента изображения (8Е1С) полученную фоторезистивную Н2-мастер-матрицу затем подвергают химической обработке, или проявлению, для генерирования визуального изображения желательной яркости, тем самым формируя готовую фоторезистивную Н2-мастер-матрицу. Теперь, если при обследовании этой первой Н2-мастер-матрицы будет определено, что-либо: требуются дополнительные улучшения приводки между положениями диффузного оптико-интерферометрического компонента изображения (ЭО1С) и отражательного электронного компонента изображения (8Е1С), или относительная дифракционная эффективность электронного компонента изображения (Е1С) и оптико-интерферометрического компонента изображения (О1С) не оптимальна, то может быть записана вторая фоторезистивная Н2-мастер-матрица после соответствующих модификаций координат экспозиции или энергии экспонирования.
До сих пор упоминался фоторезист 8Ыр1еу 81800, который является преобладающим фоторезистом, используемым для оригинации дифракционных оптически переменных элементов (ЭОУЮ) способом оптической интерферометрии. Фоторезист 8Ыр1еу 81800 представляет собой позитивно действующий фоторезист, в котором растворимость (в пределах линейной части кривой зависимости его растворимости от энергии экспонирования) увеличивается пропорционально энергии экспонирования. Однако было экспериментально обнаружено, что поверхностный рельеф отражательного электронного компонента изображения (8Е1С) при записи в позитивном фоторезисте воспроизводится не столь точно, как соответствующий диффузный оптико-интерферометрический компонент изображения (ЭО1С) - это различие наиболее бросается в глаза в таких графических компонентах или элементах внутри отражательного электронного компонента изображения (8Е1С), которые имеют размеры или ширину линий менее 50 микрон (50 мкм), и в особенности менее 20 микрон (20 мкм). Типичным примером такого 8Е1Скомпонента был бы такой, который известен в промышленности оптических защитных элементов как дифракционный микротекст, например буквенно-цифровые символы или печатные знаки со шрифтом или высотой знаков менее 200 мкм. Это различие в относительной эффективности тиснения структур дифракционных решеток, записанных оптическим и электронным путем, обусловливается различием формы или профиля их соответствующих поверхностных рельефов.
Более конкретно, структуры дифракционных решеток, генерированные способом оптической интерференции (в том числе таковые внутри голограммы, которая типично состоит из сложной когерентной суперпозиции дифракционных решеток), по существу являются синусоидальными по форме или профилю. Поскольку амплитуда профиля дифракционной решетки (примерно <0,1 мкм) типично составляет меньше десятой части шага дифракционной решетки (обычно между 0,7 и 1,4 мкм), крутизна этих синусоид в дифракционных решетках будет иметь довольно умеренные градиенты (типично <35°), и максимумы и минимумы рельефа имеют большие радиусы (больше шага дифракционной решетки). Таким образом, дифракционные решетки с оптической интерференцией представляют собой относительно неглубокие структуры с открытым рельефом, легко тиражируемые на уровне вязкоупругой деформации лака при тиснении, которая имеет место при типичных давлениях прижима при тиснении (1-10 Нмм2) и температурах лака (145-175°С).
Напротив, структуры, сформированные электронным пучком, характеризуются тем, что имеют структуру рельефа, которая в позитивном фоторезисте приближается к периодической картине прямоугольных бинарных впадин с крутыми стенками, в которых основание каждой впадины может быть шире, чем верх проема, вследствие диффузии и расфокусировки электронного пучка. Точное дублирование или тиснение таких структур в реологическом плане является гораздо более проблематичным в том, что требует, чтобы лак при тиснении был скорее в состоянии вязкого течения, нежели в вязкоупругом
- 12 017886 состоянии, и для предотвращения любой последующей релаксации тисненой структуры необходимо, чтобы лак быстро остывал до уровня ниже его температуры стеклования, когда выходит из пресса для тиснения.
Чтобы сократить технические проблемы, связанные с эффективным тиражированием микроструктур с поверхностным рельефом, полученным с помощью электронного пучка, могут быть использованы два подхода.
Первый состоит в применении негативного фоторезиста, характеризуемого фотохимическим поведением, которое обратно позитивному фоторезисту в том, что в результате экспозиции актиничным излучением (с длиной волны 400-460 нм) происходит химическое сшивание, или процесс фотополимеризации, который заставляет экспонированные области становиться во все возрастающей степени нерастворимыми с повышением энергии экспонирования. Пригодным негативным фоторезистом был бы таковой с низким коэффициентом контрастности (γ<4).
Примером негативного фоторезиста является А2(г)иЬОР(1т)2000Рйо1оге8181, поставляемый фирмой С1апаи1 -ΑΖ Е1ес1гоше Ма1епаК Он содержит РОМБА (2-метокси-1-метилэтилацетат) в качестве растворителя. Полимер при экспонировании подвергается сшиванию.
Поскольку синусоидальный профиль является симметричным при инверсии, применение негативного фоторезиста будет оказывать незначительное влияние на характеристики тиснения поверхностного рельефа, записанного способом оптической интерференции. Однако применение пригодного негативного фоторезиста в электронно-лучевой литографии позволяет генерировать более открытые структуры дифракционных решеток с более трапециевидным или синусоидальным профилем, который по своей природе более пригоден для процесса тиснения.
В качестве альтернативы, авторы настоящего изобретения предлагают второй новый способ разрешения проблем с профилем рельефа, которые связаны с дифракционными решетками, сформированными электронным пучком, в ситуации, где предпочтительно работать с конкретным позитивным фоторезистом благодаря его оптимальному сочетанию чувствительности, контрастности и разрешения. Предложенное решение состоит в проведении процесса тиснения фольги (то есть, впрессовывания в лак или подобный материал, находящийся на пленочном носителе) с помощью никелевых матриц (обычно в промышленности называемых как рабочие копии (шимы)), которые являются сопряженными, или негативными, для фоторезистивной Н2-мастер-матрицы. Применение негативной матрицы означает, что авторы настоящего изобретения впрессовывают или отпечатывают в голограмму или слой ОУЭ (оптически переменного элемента) рельефную структуру 70, которая является сопряженной, или негативной, такой, какая присутствует внутри фоторезистивной мастер-матрицы 71, как проиллюстрировано на фиг. 11.
Чтобы понять, какое воздействие оказывает применение негативных, или сопряженных, рабочих копий для тиснения на процесс оригинации, следует отметить, что в традиционном дифракционном оптически переменном элементе (ЭОУГО) (будь то в форме фольги для горячего тиснения или же в виде гарантийной этикетки контроля вскрытия) наблюдаемое дифракционное изображение идентично таковому, присутствующему внутри фоторезистивной Н2-мастер-матрицы.
В целях иллюстрации, рассмотрим дифракционный оптически переменный элемент (ООУГО). который имеет изображение, включающее, по меньшей мере частично, букву 72 К (фиг. 12). До сих пор в оригинации дифракционных оптически переменных элементов (ЭОУГО) практиковали запись фоторезистивной Н2-мастер-матрицы (показанной в горизонтальной проекции как позиция 73А, и в разрезе как позиция 73В) с буквой К, проявляющейся с тем же значением или ориентацией. Из фоторезистивной Н2мастер-матрицы 73А, 73В выращивают никелевую мастер-матрицу 74А, 74В, и затем на никелевой мастер-матрице 74А, 74В выращивают рабочие копии 75А, 75В для тиснения. Обе из них, мастер-матрица 73А, 73В и рабочая копия 75А, 75В для тиснения, называются как имеющие позитивные, или правильно читаемые изображения, как можно видеть в позициях 73В, 75В. Теперь, поскольку в нанесенном дифракционном оптически переменном элементе (ИОУГО) 76А, 76В вытисненный поверхностный рельеф обращен к подложке, на которую нанесен дифракционный оптически переменный элемент (ИОУЮ), это означает, что голограммный слой должен быть вытиснен с помощью правильно читаемой рабочей копии для тиснения, чем обусловливается последовательность нанесения гальванического покрытия, показанная на фиг. 12, из которой ясно, что структура поверхностного рельефа, присутствующая внутри рабочей копии 75А, 75В для тиснения, будет идентичной таковой, присутствующей внутри фоторезистивной Н2-мастер-матрицы 73А, 73В (вне зависимости от того, работают ли с позитивным или негативным фоторезистом).
Новый подход заключается в выходе из этой производственной практики путем тиснения фольги с поверхностным рельефом, который является сопряженным с таковым, записанным в фоторезистивной Н2-мастер-матрице. Более конкретно, для случая, где позитивный фоторезист из производственных соображений является в высшей степени предпочтительным рабочим материалом, предложенный способ представляется сводящим на нет проблемы копирования, связанные со структурой дифракционной решетки, записанной электронным пучком на позитивном фоторезисте. Концепция состоит в записи фото
- 13 017886 резистивной Н2 (позитивной) мастер-матрицы 80А, 80В (фиг. 13) с изображением художественного оригинала 81, которое является сопряженным, или негативным (зеркально обращенным) таковому, присутствующему в конечном наносимом дифракционном оптически переменном элементе (ΌΟνίΌ) 82А, 82В, как можно видеть при сравнении позиций 80В и 82В. Во избежание путаницы при употреблении термина сопряженный, или терминов позитивный и негативный применительно как к художественному оригиналу, так и к фоторезисту, авторы настоящего изобретения должны называть термин сопряженный оригинал как неправильно читаемый. Фиг. 13 показывает способ исполнения необходимого условия авторов настоящего изобретения, в котором авторы настоящего изобретения начинают с оригинации фоторезистивной Н2-мастер-матрицы 80А, 80В, в которой художественный оригинал 81 как для оптико-интерферометрического компонента изображения (О1С), так и для электронного компонента изображения (Е1С) записывают неправильно читаемым в позитивном фоторезисте. На эту неправильно читаемую фоторезистивную Н2-мастер-матрицу 80А, 80В сначала наносят в вакууме покрытие из серебра, чтобы сделать электропроводной, и затем обрабатывают согласно последовательности нанесения гальванического покрытия, показанной на фиг. 13, последовательным выращиванием двух никелевых мастер-матриц 83А, 83В; 84А, 84В, и затем рабочих копий 85А, 85В для тиснения так, что авторы настоящего изобретения получают рабочие копии 85А, 85В для тиснения с правильно читаемым изображением художественного оригинала, но которые имеют микроструктуру, которая является сопряженной таковой, присутствующей в Н2-мастер-матрице 80А, 80В, включающей позитивный фоторезист. В сущности, тиснение с позиции микроструктуры будет эквивалентным таковому, генерированному Н2мастер-матрицей, которая включает негативный фоторезист, тем самым формируя диффузный электронный компонент изображения (ЭЕ1С). который более легко поддается тиснению или тиражированию.
Альтернативно и более обобщенно, недиффузная структура могла бы быть также генерирована оптическим путем с помощью традиционной пиксельной матричной (άοΐ-ιηαίπ.χ) системы или интерференционной литографии, применяемой при изготовлении фотошаблонов, в которой оба перекрывающихся когерентных пучка света, которые генерируют оптическую интерференцию, обязательно являются недиффузными плоскими или сферическими световыми волнами. В таких случаях отражательный электронный компонент изображения (8Е1С) заменяют отражательным оптико-интерферометрическим компонентом изображения (8О1С). Выбор того, применять ли электронно-лучевую литографию или оптическую интерферометрию, для генерирования недиффузного компонента изображения, будет определяться масштабом разрешения художественного оригинала, требуемым в недиффузном компоненте изображения. Более конкретно, электронно-лучевая литография позволяет создавать элементы художественного оригинала с высоким разрешением до 250000 άρί (точек на дюйм) (например, для скрытых секретных микрографических фрагментов), в которых бо1-ша1пх-система позволяет создавать художественный оригинал с разрешением 1500 άρί для традиционной системы и 3000 άρί для системы на основе пикселей. Интерференционная литография позволяет создавать элементы оригинала с разрешением вплоть до 10000 άρί.
Claims (15)
- ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ1. Голографический защитный элемент, включающий, по меньшей мере, первую и вторую структуры, генерирующие дифракционные изображения, записанные в соответствующих сериях, по существу, неперекрывающихся областей носителя записи, причем области одной серии чередуются с областями другой серии, при этом обе чередующихся области, по существу, не видимы невооруженным глазом, причем голографический защитный элемент генерирует два или более оптически переменных изображений, видимых с отдельных и/или перекрывающихся направлений рассматривания вокруг элемента и выявляемых при наклоне элемента, и каждое конкретное оптически переменное изображение в данном направлении рассматривания генерируется структурой, создающей дифракционное изображение, которая образована одной серией чередующихся линий, отличающийся тем, что первая структура, генерирующая дифракционное изображение сформирована имеющей диффузно-дифракционный отклик, и вторая структура, генерирующая дифракционное изображение, сформирована имеющей недиффузный или отражательно-дифракционный отклик.
- 2. Элемент по п.1, в котором области являются линейчатыми, в частности, изогнутыми или образованы геометрическими формами, такими как шестиугольники или квадраты.
- 3. Элемент по любому из предшествующих пунктов, в котором каждая генерирующая дифракционное изображение структура сформирована как поверхностный рельеф.
- 4. Элемент по любому из предшествующих пунктов, в котором одно или оба из голографических изображений, формируемые первой и второй генерирующими дифракционные изображения структурами, являются видимыми при различных углах рассмотрения.
- 5. Элемент по п.4, в котором одна или обе из первой и второй генерирующих дифракционные изображения структур формируют голограммы, представляющие различные виды одного и того же объекта.
- 6. Элемент по любому из предшествующих пунктов, в котором по меньшей мере одна из генери- 14 017886 рующих дифракционные изображения структур формирует голографическое изображение, скомпонованное из нескольких компонентов графического изображения, при этом по меньшей мере один компонент голографического изображения предпочтительно создает эффект трехмерной (3Ό) модели.
- 7. Элемент по п.6, в котором компоненты графического изображения локализованы на плоскости поверхности элемента как поверхностно-рельефные двумерные (2Ό) радужные голограммы.
- 8. Элемент по любому из предшествующих пунктов, в котором каждая серия неперекрывающихся областей представляет собой периодическую сетку делений, причем периодичность каждой сетки делений, по существу, одинакова.
- 9. Элемент по любому из предшествующих пунктов, в котором области, определяющие вторую генерирующую дифракционное изображение структуру, сформированы линиями дифракционных решеток, в которых периодичность и/или шаг соседних решеток различаются.
- 10. Узел переноса изображения, включающий носитель и голографический защитный элемент по любому из предшествующих пунктов, закрепленный на носителе с возможностью отделения.
- 11. Узел переноса изображения по п.10, в котором носитель может быть отделен от голографического защитного элемента подведением теплоты.
- 12. Документ или другое изделие, несущие голографический защитный элемент по любому из пп.1-9.
- 13. Способ получения голографического защитного элемента, в котором:a) приготавливают слой непроявленного фоторезиста на электропроводном слое;b) формируют структуру, генерирующую первое голографическое изображение, имеющее диффузно-дифракционный отклик, в слое непроявленного фоторезиста;c) формируют структуру, генерирующую второе голографическое изображение, имеющее недиффузный или отражательный отклик, в слое непроявленного фоторезиста; иб) после этого проявляют слой фоторезиста, при этом структуры, генерирующие первое и второе голографические изображения, формируют в соответствующих сериях, по существу, неперекрывающихся областей слоя фоторезиста так, что области одной серии чередуются с областями другой серии и обе чередующихся области являются, по существу, не видимыми невооруженным глазом, посредством чего голографический защитный элемент генерирует два или более голографических изображения, видимые с отдельных направлений рассмотрения вокруг элемента и обнаруживаемые при наклоне элемента, и каждое конкретное голографическое изображение в направлении рассмотрения генерируется структурой, формирующей голографическое изображение, связанной с одной серией чередующихся областей.
- 14. Способ по п.13, в котором стадию с) проводят после стадии Ь).
- 15. Способ по п.13 или 14, в котором каждую серию неперекрывающихся областей выполняют в виде периодической сетки делений, при этом предпочтительно периодичность каждой сетки делений, по существу, одинакова.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GBGB0711434.1A GB0711434D0 (en) | 2007-06-13 | 2007-06-13 | Holographic security device |
| PCT/GB2008/002013 WO2008152389A2 (en) | 2007-06-13 | 2008-06-12 | Holographic security device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| EA201070011A1 EA201070011A1 (ru) | 2010-04-30 |
| EA017886B1 true EA017886B1 (ru) | 2013-03-29 |
Family
ID=38332045
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| EA201070011A EA017886B1 (ru) | 2007-06-13 | 2008-06-12 | Голографический защитный элемент |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8625181B2 (ru) |
| EP (1) | EP2152526B1 (ru) |
| JP (1) | JP5432130B2 (ru) |
| AT (1) | ATE523352T1 (ru) |
| AU (1) | AU2008263629B2 (ru) |
| EA (1) | EA017886B1 (ru) |
| GB (1) | GB0711434D0 (ru) |
| UA (1) | UA96343C2 (ru) |
| WO (1) | WO2008152389A2 (ru) |
Families Citing this family (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB0601093D0 (en) * | 2006-01-19 | 2006-03-01 | Rue De Int Ltd | Optically Variable Security Device |
| JP5493978B2 (ja) * | 2010-02-19 | 2014-05-14 | 凸版印刷株式会社 | 画像表示体及び情報媒体 |
| JP2011194837A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Toppan Printing Co Ltd | 画像表示体及びラベル付き物品 |
| CN102472848B (zh) | 2009-08-13 | 2014-08-27 | 凸版印刷株式会社 | 图像显示体及带标签的物品 |
| GB201007695D0 (en) * | 2010-05-07 | 2010-06-23 | Rue De Int Ltd | Security device |
| EP2441593B1 (en) * | 2010-10-13 | 2020-04-15 | Hueck Folien Gesellschaft m.b.H. | Security element with achromatic features |
| WO2012166462A2 (en) * | 2011-05-31 | 2012-12-06 | 3M Innovative Properties Company | Method for making microstructured tools having interspersed topographies, and articles produced therefrom |
| JP6369032B2 (ja) * | 2014-01-29 | 2018-08-08 | 凸版印刷株式会社 | 画像表示デバイスの製造方法 |
| AU2015258768A1 (en) * | 2014-05-16 | 2016-12-01 | Ccl Secure Pty Ltd | Hybrid security device for security document or token |
| US9489604B2 (en) | 2014-06-03 | 2016-11-08 | IE-9 Technology Corp. | Optically variable data storage device |
| US11126902B2 (en) | 2014-06-03 | 2021-09-21 | IE-9 Technology Corp. | Optically variable data storage device |
| US9779227B1 (en) * | 2014-10-24 | 2017-10-03 | Amazon Technologies, Inc. | Security system using keys encoded in holograms |
| US10859851B2 (en) | 2014-10-24 | 2020-12-08 | Wavefront Technology, Inc. | Optical products, masters for fabricating optical products, and methods for manufacturing masters and optical products |
| DE102015100280A1 (de) * | 2015-01-09 | 2016-07-14 | Ovd Kinegram Ag | Verfahren zur Herstellung von Sicherheitselementen sowie Sicherheitselemente |
| DE102015102731A1 (de) * | 2015-02-25 | 2016-08-25 | Ovd Kinegram Ag | Mehrschichtkörper und Sicherheitsdokument |
| KR102630381B1 (ko) | 2015-07-13 | 2024-01-29 | 웨이브프론트 테크놀로지, 인코퍼레이티드 | 광학 제품, 광학 제품을 제작하기 위한 마스터, 그리고 마스터 및 광학 제품을 제조하기 위한 방법 |
| GB2545387A (en) | 2015-07-24 | 2017-06-21 | De La Rue Int Ltd | Security device and method of manufacturing thereof |
| EP3426496A1 (de) * | 2016-03-09 | 2019-01-16 | Leonhard Kurz Stiftung & Co. KG | Sicherheitselement sowie ein verfahren zur herstellung eines sicherheitselements |
| US10850550B2 (en) | 2016-04-22 | 2020-12-01 | Wavefront Technology, Inc. | Optical switch devices |
| AU2016101590B4 (en) * | 2016-09-08 | 2017-05-18 | Ccl Secure Pty Ltd | A 3d micromirror device |
| EA031709B1 (ru) * | 2016-10-24 | 2019-02-28 | Общество С Ограниченной Ответственностью "Центр Компьютерной Голографии" | Микрооптическая система для формирования 2d изображений с кинематическими эффектами движения |
| EA031691B1 (ru) * | 2016-10-24 | 2019-02-28 | Общество С Ограниченной Ответственностью "Центр Компьютерной Голографии" | Микрооптическая система для формирования изображений с кинематическими эффектами движения |
| CA3051876A1 (en) | 2017-02-10 | 2018-08-16 | Crane & Co., Inc. | Authentication and anti-harvesting security feature with machine detectable indicia |
| WO2019077419A1 (en) | 2017-10-20 | 2019-04-25 | Wavefront Technology, Inc. | OPTICAL SWITCH DEVICES |
| JP6531858B2 (ja) * | 2018-07-12 | 2019-06-19 | 凸版印刷株式会社 | 画像表示デバイス、画像表示媒体、および、ホログラムリボン |
| CN111239878A (zh) * | 2018-11-09 | 2020-06-05 | 英属开曼群岛商音飞光电科技股份有限公司 | 光栅板装置 |
| CN109709053B (zh) * | 2019-01-16 | 2021-09-14 | 北京印刷学院 | 一种用分光光度计测量素面镭射母版光栅常数的方法 |
| CA3134512A1 (en) | 2019-04-19 | 2020-10-22 | Wavefront Technology, Inc. | Optical switch devices |
| EP3896529A1 (en) | 2020-04-13 | 2021-10-20 | Kaunas University of Technology | Fabrication method of holographic security label |
| US11468281B2 (en) * | 2020-11-27 | 2022-10-11 | Thales Dis France Sa | Data carrier with tamper-indication |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1991003747A1 (en) * | 1989-09-04 | 1991-03-21 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Diffraction grating and method of manufacture |
| WO1992004692A1 (en) * | 1990-09-10 | 1992-03-19 | De La Rue Holographics Limited | Security device |
| US5668047A (en) * | 1993-05-31 | 1997-09-16 | Nec Corporation | Method for fabricating InP diffraction grating and distributed feedback laser |
| WO1999059036A1 (en) * | 1998-05-14 | 1999-11-18 | De La Rue International Ltd. | Holographic security device |
| WO2003009225A2 (en) * | 2001-07-17 | 2003-01-30 | Optaglio Limited | Diffractive optical device and method of manufacture |
| WO2007083140A1 (en) * | 2006-01-19 | 2007-07-26 | De La Rue International Limited | Optically variable security device |
Family Cites Families (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4421380A (en) | 1980-10-06 | 1983-12-20 | Mcgrew Stephen P | Full-color hologram |
| CH659433A5 (de) | 1982-10-04 | 1987-01-30 | Landis & Gyr Ag | Dokument mit einem beugungsoptischen sicherheitselement. |
| EP0375833B1 (de) | 1988-12-12 | 1993-02-10 | Landis & Gyr Technology Innovation AG | Optisch variables Flächenmuster |
| US5291317A (en) | 1990-07-12 | 1994-03-01 | Applied Holographics Corporation | Holographic diffraction grating patterns and methods for creating the same |
| US5991078A (en) | 1992-08-19 | 1999-11-23 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Display medium employing diffraction grating and method of producing diffraction grating assembly |
| US5909313A (en) | 1993-05-25 | 1999-06-01 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Multiple image diffractive device |
| US5784200A (en) | 1993-05-27 | 1998-07-21 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Difraction grating recording medium, and method and apparatus for preparing the same |
| EP0712500B1 (en) | 1993-08-06 | 2001-10-31 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | A diffractive device |
| DE4423295C2 (de) | 1994-07-02 | 1996-09-19 | Kurz Leonhard Fa | Beugungsoptisch wirksame Strukturanordnung |
| EP0868313B1 (en) | 1995-11-28 | 2000-04-19 | OVD Kinegram AG | Optically variable surface pattern |
| US6859534B1 (en) | 1995-11-29 | 2005-02-22 | Alfred Alasia | Digital anti-counterfeiting software method and apparatus |
| CH690232A5 (de) | 1996-01-19 | 2000-06-15 | Ovd Kinegram Ag | Flächenmuster. |
| CH693517A5 (de) | 1997-06-06 | 2003-09-15 | Ovd Kinegram Ag | Flächenmuster. |
| AUPO957297A0 (en) | 1997-10-02 | 1997-10-30 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Micrographic security device |
| CZ286152B6 (cs) | 1998-03-13 | 2000-01-12 | Miroslav Ing. Csc. Vlček | Transparentní a semitransparentní difrakční prvky |
| GB0016359D0 (en) * | 2000-07-03 | 2000-08-23 | Optaglio Ltd | Optical apparatus |
| JP2002090548A (ja) | 2000-09-14 | 2002-03-27 | Toppan Printing Co Ltd | 回折格子から成る表示体 |
| GB0030675D0 (en) | 2000-12-15 | 2001-01-31 | Rue De Int Ltd | Methods of creating high efficiency diffuse back-reflectors based on embossed surface relief |
| JP2002250808A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Victor Co Of Japan Ltd | Ｃｇｈ回折格子混成表示体、ｃｇｈ回折格子混成表示体の製造を行うために実行するコンピュータプログラム |
| JP3935701B2 (ja) * | 2001-10-11 | 2007-06-27 | 大日本印刷株式会社 | 光学構造体 |
| JP4377239B2 (ja) | 2001-12-22 | 2009-12-02 | オーファオデー キネグラム アーゲー | 回折型セキュリティー素子 |
| JP2003295744A (ja) * | 2002-04-08 | 2003-10-15 | Toppan Printing Co Ltd | 計算機ホログラムからなる光情報記録媒体 |
| DE10308305A1 (de) | 2003-02-26 | 2004-09-09 | Giesecke & Devrient Gmbh | Sicherheitselement |
| DE10308328A1 (de) | 2003-02-26 | 2004-09-09 | Giesecke & Devrient Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines belichteten Substrats |
| DE10333469A1 (de) | 2003-07-22 | 2005-02-10 | Giesecke & Devrient Gmbh | Sicherheitselement |
| WO2005038500A1 (de) | 2003-10-15 | 2005-04-28 | Giesecke & Devrient Gmbh | Verfahren zum erzeugen eines ebenen oder gekrümmten gitterbilds und gegenstand mit einem gitterbild |
| DE10351129B4 (de) | 2003-11-03 | 2008-12-24 | Ovd Kinegram Ag | Diffraktives Sicherheitselement mit einem Halbtonbild |
| DE102004003984A1 (de) | 2004-01-26 | 2005-08-11 | Giesecke & Devrient Gmbh | Gitterbild mit einem oder mehreren Gitterfeldern |
| GB0426724D0 (en) * | 2004-12-06 | 2005-01-12 | Rue De Int Ltd | Improved hologram |
| JP4780319B2 (ja) * | 2006-06-16 | 2011-09-28 | 大日本印刷株式会社 | 真正性証明用の光学構造体、真正性証明用記録体、及び、真正性の確認方法 |
| JP4943211B2 (ja) * | 2007-04-02 | 2012-05-30 | 凸版印刷株式会社 | 回折格子から成る表示体 |
-
2007
- 2007-06-13 GB GBGB0711434.1A patent/GB0711434D0/en not_active Ceased
-
2008
- 2008-06-12 US US12/451,094 patent/US8625181B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-06-12 UA UAA201000233A patent/UA96343C2/ru unknown
- 2008-06-12 EA EA201070011A patent/EA017886B1/ru not_active IP Right Cessation
- 2008-06-12 EP EP08762344A patent/EP2152526B1/en not_active Revoked
- 2008-06-12 AU AU2008263629A patent/AU2008263629B2/en not_active Ceased
- 2008-06-12 WO PCT/GB2008/002013 patent/WO2008152389A2/en active Application Filing
- 2008-06-12 JP JP2010511719A patent/JP5432130B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-06-12 AT AT08762344T patent/ATE523352T1/de active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1991003747A1 (en) * | 1989-09-04 | 1991-03-21 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Diffraction grating and method of manufacture |
| WO1992004692A1 (en) * | 1990-09-10 | 1992-03-19 | De La Rue Holographics Limited | Security device |
| US5668047A (en) * | 1993-05-31 | 1997-09-16 | Nec Corporation | Method for fabricating InP diffraction grating and distributed feedback laser |
| WO1999059036A1 (en) * | 1998-05-14 | 1999-11-18 | De La Rue International Ltd. | Holographic security device |
| WO2003009225A2 (en) * | 2001-07-17 | 2003-01-30 | Optaglio Limited | Diffractive optical device and method of manufacture |
| WO2007083140A1 (en) * | 2006-01-19 | 2007-07-26 | De La Rue International Limited | Optically variable security device |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| DRINKWATER ET AL.: "a new flexible origination technology based on electron beam lithography and it integration into security devices in combination with covert features based on dna authentication", OPTICAL SECURITY AND COUNTERFEIT DETERRENCE TECHNIQUES IV, vol. 4677, 2002, - 2002 pages 203-214, XP002449714, san jose ca usa, the whole document * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2008152389A2 (en) | 2008-12-18 |
| US20100172000A1 (en) | 2010-07-08 |
| ATE523352T1 (de) | 2011-09-15 |
| US8625181B2 (en) | 2014-01-07 |
| JP2010529513A (ja) | 2010-08-26 |
| AU2008263629B2 (en) | 2013-03-14 |
| GB0711434D0 (en) | 2007-07-25 |
| WO2008152389A3 (en) | 2009-02-05 |
| AU2008263629A1 (en) | 2008-12-18 |
| EP2152526B1 (en) | 2011-09-07 |
| JP5432130B2 (ja) | 2014-03-05 |
| EP2152526A2 (en) | 2010-02-17 |
| UA96343C2 (ru) | 2011-10-25 |
| EA201070011A1 (ru) | 2010-04-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EA017886B1 (ru) | Голографический защитный элемент | |
| EP0064067B2 (en) | Method for generating a diffractive graphical composition | |
| CN1910523B (zh) | 安全装置 | |
| US4717221A (en) | Diffractive color and texture effects for the graphic arts | |
| CA2065309C (en) | Diffraction grating and method of manufacture | |
| EP1486803A2 (en) | Optically birefringent structure having a variable form, method of making the same, system and method for reading the same | |
| EP1564605A2 (en) | Security device using a hologram reconstructing a deep image | |
| AU2016299396A1 (en) | Diffractive security device and method of manufacture thereof | |
| US7212323B2 (en) | Methods and apparatus for mass manufacturing two-dimensional binary information on transparent substrates using phase contrast modulated templates | |
| CZ200355A3 (cs) | Optická aparatura | |
| AU2005313165B2 (en) | Improved hologram | |
| RU2431571C2 (ru) | Оптически изменяемое защитное устройство | |
| Drinkwater et al. | Development and applications of diffractive optical security devices for banknotes and high value documents | |
| JP4258055B2 (ja) | 偽造防止媒体 | |
| Van Renesse et al. | A review of holograms and other microstructures as security features | |
| JP5589268B2 (ja) | レリーフ型回折格子又はホログラム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s) |
Designated state(s): AM AZ BY KZ KG MD TJ TM |
|
| MM4A | Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s) |
Designated state(s): RU |