DE9421895U1 - Einrichtung zur chemischen Abscheidung auf Fasern - Google Patents
Einrichtung zur chemischen Abscheidung auf FasernInfo
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Description
Ol/U-10/DE
Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zur chemischen Abscheidung
von Kohlenstoff, Keramiken, wie Siliziumkarbid, oder anderen anorganischen Stoffen, wie Metalle oder
Metallegierungen, auf einer Einzelfaser oder Einzelfasern in einem Faserbündel, im weiteren vereinfacht auch nur als
Faser bezeichnet, nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Unter chemischer Abscheidung, auch vielfach als CVD-Verfahren (Chemical Vapor Deposition) bezeichnet, werden
dabei hier alle Verfahren verstanden, bei denen aus der Gas- bzw. Dampfphase unter Zuführung einer Aktivierungsenergie
Schichten auf einem Substrat abgeschieden werden. Dabei können sowohl einzelne Gase oder Dämpfe wie auch
Gemische aus Gasen und Dämpfen eingesetzt werden.
Die zu beschichtenden Fasern können Einzelfasern oder Faserbündel, sogenannte Rovings sein, die später
z. B. zu einem Gewebe verwebt werden. Die Fasern können auch aus unterschiedlichen Materialien bestehen. Die
Fasern müssen jedoch gegenüber der Wärmebelastung beim CVD ausreichend beständig sein. Rovings bestehen üblicherweise
aus 500 bis 12.000 Einzelfasern mit einem Durchmesser von 6 bis 12&mgr;&pgr;&igr;.
Besondere Bedeutung hat die Beschichtung von Rovings aus Kohlenstoffasern oder auch SiC- und Al2O3-Fasern, die sich
für die Herstellung hochfester Polymer-, Keramik- und Metall-Matrix-Verbundwerkstoffe bewährt haben. Derartige
Werkstoffe fanden anfänglich in der Raumfahrt Anwendung und gewinnen zunehmend auch in der gesamten industriellen
Fertigung für hochbeanspruchte Teile an Bedeutung.
Die Beschichtung der Fasern ist erforderlich, damit die Fasern, insbesondere die Einzelfasern von Rovings, innerhalb
der Verbundwerkstoffe eine solche Bindung mit dem
Matrixmaterial eingehen, die die jeweils technischtechnologisch gewünschten makroskopischen Eigenschaften
der Verbundwerkstoffe gewährleisten.
Die Beschichtung der Fasern erfolgt nach dem Stand der Technik allgemein mittels chemischer Abscheidungen aus der
Gas- bzw. Dampfphase.
Die zur Schichtabscheidung über eine chemische Reaktion
notwendigen gas- bzw. dampfförmigen Ausgangsstoffe werden in einem Reaktor an die Substratoberfläche gebracht, wo
sie nach Zuführung der Aktivierungsenergie zu den entsprechenden schichtbildenden Verbindungen reagieren bzw.
zerfallen. Dabei werden die Verfahren derart geführt, daß sich durch die chemische Reaktion feste Bestandteile am
Substrat abscheiden. Die eventuell entstehenden gasförmigen, oft toxischen Abgase müssen aus der Prozeßzone entfernt
werden. Die erforderlichen Temperaturen derartiger Verfahren liegen bis weit über 10000C.
Problematisch bei der Beschichtung von Rovings ist, daß die Rovings vom Hersteller oft mit einem die Handhabbarkeit
erleichternden Kunststoff, einer sogenannten Schlichte, ummantelt sind. Diese Schlichte muß möglichst unmittelbar
vor dem Beschichten der Fasern entfernt werden.
Bei H. Plänitz, G. Bochmann, W. Wagner, M. Seidler und E.
Wolf: CVD-Beschichtung von Kohlenstoffasern im Chargenbetrieb und im kontinuierlichen Verfahren, In: Wiss. Z. d.
TU Karl Marx Stadt Nr. 32(1990) S.218 und E.Than, A.
Hofmann, H.Podlesak, H. Plänitz, A. Schulze. E. Kieselstein, G. Leonhardt: Das Grenzfächenverhalten von SiC und
seine Anwendung in faserverstärktem Aluminium, In: Materialwissenschaft
und Werkstofftechnik Nr. 23(1992) S.267 wird die Beschichtung von Faserbündeln beschrieben, bei
der unter Atmosphärendruckbedxngungen in einem CVD-Reaktor die Aktivierungsenergie durch Strahlungsheizung von außen
zugeführt wird (Heißwandreaktor).
Gl/U-10/DE
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Bei diesen CVD-Heißwand-Reaktoren wird das Roving durch
Schleusensysteme in ein Quarzglasrohr hinein und herausgeleitet. Über Feinregelventile wird im Quarzglasrohr bezüglich
der Gaszusammensetzung und des Gasdurchsatzes eine definierte Atmosphäre geschaffen. Das Quarzglasrohr wird
durch Strahlungsheizung von außen geheizt.
Im Stand der Technik gibt die DE OS 19 54 480 ein pyrolitisches
Verfahren zur Abscheidung von Bor auf einem einzelnen Kohlenstoffdraht an. Der Kohlenstoffdraht zwischen
12,7 und 50,8&mgr;&pgr;&igr; wird durch elektrischen Widerstand auf
eine Temperatur zwischen 1.100 und 1.3000C gebracht. Die
Beschichtung erfolgt dabei in einem rohrförmigen Reaktor mit einer Gasatmosphäre aus Borhalid, durch dessen zwei
metallenen Endstopfen der Kohlenstoffdraht geführt wird. Als leitendes Abdichtmittel wird Quecksilber eingesetzt.
Der Erfindung liegt als Aufgabe zugrunde, eine Einrichtung
zum kontinuierlichen Beschichten von Fasern, insbesondere von Faserbündeln, durch chemische Abscheidung anzugeben,
die bei einem relativ geringem technischen Aufwand die allseitige homogene und lückenlose Beschichtung der Fasern,
insbesondere der Einzelfasern von Rovings, ermöglicht. Die Schichten sollen haftfest sein und die Einzelfasern
dürfen nicht zusammenkleben. Des weiteren sollen die mechanischen Eigenschaften der Fasern durch die Beschichtung
nicht verändert werden. Toxische Abgase sollen in abgeschlossenen Kreisläufen erfaßbar sein.
Die Erfindung löst die Aufgabe durch die im kennzeichnenden Teil des Anspruchs 1 genannten Merkmale. Weiterbildungen
der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.
Das wesentliche Element der Erfindung besteht darin, daß die erfindungsgemäße Einrichtung zum chemischen Abscheiden
von Schichten auf Fasern ausschließlich in einem eng begrenzten Raum innerhalb eines Reaktionsrohres stattfindet,
Ol/U-10/DE
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welches wiederum in einer Vakuumkammer angeordnet ist.
Dadurch kann die Faser und insbesondere das Roving in vorteilhafter
Weise vor der Beschichtung entgast werden und die Druckverhältnisse können vorteilhaft reguliert und
beherrscht werden. Insbesondere können toxische Abgase kontrolliert abgeführt werden. Entgegen den Lösungen nach
dem Stand der Technik ist der Prozeß von der Umgebungsatmosphäre abgeschlossen und es kann weder zu einer Beeinflussung
des Prozesses durch die Atmosphäre kommen, noch kann die Atmosphäre durch die Prozeßgase verseucht werden.
Bei dem relativ geringen Arbeitsdruck innerhalb der Vakuumkammer stellt sich in vorteilhafter Weise ein erhöhter
Partialdruck dieses Gases im Reaktionsrohr, d. h. in unmittelbarer Nähe des Substrates bzw. an der Faser oder
am Roving ein. Die Druckverhältnisse führen zu guten Diffusionsverhältnissen insbesondere im Reaktionsrohr bei
noch vorhandenen laminaren Gasflußbedingungen. Dadurch
wird im wesentlichen eine vorteilhafte allseitige und homogene Beschichtung der Einzelfasern eines Rovings
erzielt. Ein weiterer vorteilhafter Effekt, der seine Ursache wahrscheinlich in einer elektrostatischen Aufladung
des Reaktionsrohres hat, bewirkt ein Aufblähen des Faserbündels eines Rovings im Bereich, in dem die Reaktion
der chemischen Abscheidung stattfindet. Die zum chemischen Abscheiden erforderliche Aktivierungsenergie kann in
beliebiger Weise zugeführt werden. In vorteilhafter Weise kann bei leitfähigen Fasern, z. B. bei Kohlenstoffasern,
eine Widerstandsheizung eingesetzt werden. Es können aber auch beliebige andere Heizeinrichtungen verwendet werden,
z. B. eine Strahlungsheizung.
In vorteilhafter Weise kann der Einsatz einer Plasmaquelle innerhalb und/oder außerhalb des Reaktionsrohres vorgesehen
werden. Die Plasmaquelle kann vorteilhaft zur Unterstützung des Beschichtungsprozesses eingesetzt werden.
Ol/U-10/DE
Dabei wird die Plasmaquelle zum einen dafür eingesetzt, daß innerhalb des Reaktionsrohres ein Plasma erzeugt wird,
was parallel zum Beschichtungsprozeß aufrechterhalten wird, derart daß die Beschichtung plasmagestützt erfolgt.
Teilweise ist es auch möglich die Temperaturbelastung der Fasern zu verringern, da ein Teil der zur chemischen
Abscheidung erforderlichen Aktivierungsenergie vom Plasma zugeführt wird. Zum anderen kann die Plasmaquelle dafür
eingesetzt werden, daß außerhalb des Reaktionsrohres ein Plasma erzeugt wird und die Fasern unmittelbar vor der Beschichtung
einer Plasmabehandlung unterzogen werden, wodurch sowohl vorhandene Schlichten als auch sonstige
Verunreinigungen vorteilhaft beseitigt werden. Gleichzeitig werden dadurch die Fasern aufgeheizt, wodurch die
erforderliche Energiezufuhr innerhalb des Reaktionsrohres zur Aufheizung der Fasern auf die Reaktionstemperatur
verringert werden bzw. die Durchlaufgeschwindigkeit erhöht
werden kann.
Die Plasmaquelle kann verschiedenartige Prinzipien zur Plasmaerzeugung ausnutzen. Für die Erzeugung eines Plasmas
in dem Reaktionsrohr kann in vorteilhafter Weise ein Mikrowellen- oder Hochfrequenzplasma angewendet werden,
welches in das Reaktionsrohr eingekoppelt wird.
Der Vorteil der plasmagestützten Beschichtung liegt insbesondere in einer möglichen Verringerung der Temperaturbelastung
der Fasern und in einer deutlich höheren Beschichtungsrate, was eine höhere Durchlaufgeschwindigkeit
der Fasern durch das Reaktionsrohr ermöglicht.
Die Vorrats- und/oder Aufwickelspule werden vorteilhafterweise in der Vakuumkammer angeordnet. Diese Spulen können
aber grundsätzlich auch außerhalb der Vakuumkammer liegen und nur die Fasern über Schleusen in die bzw. aus der
Vakuumkammer geführt werden.
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Die erfindungsgemäße Einrichtung kann mit einem Reaktionsrohr ausgerüstet sein, es ist aber auch vorteilhaft möglich
mehrere Reaktionsrohre und zugehörig die Vorrats- und/oder Aufwickelspulen parallel anzuordnen. In der Regel
wird je Faser ein Reaktionsrohr eingesetzt werden. Es können aber auch mehrere Fasern bzw. Rovings durch ein
Reaktionsrohr geführt werden.
Der wesentliche Vorteil der erfindungsgemäßen Einrichtung
besteht darin, daß Fasern bzw. Rovings in einem abgeschlossenen Arbeitsraum mittels chemischer Abscheidung aus
der Gasphase mit einer hochwertigen homogenen und haftfesten Beschichtung versehen werden können, ohne daß es zu
Belastungen der Umwelt kommt.
Die Erfindung soll nachstehend an zwei Ausführungsbeispielen näher erläutert werden.
Die Zeichnung zeigt in Figur 1 ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäße Einrichtung zum Beschichten eines
Kohlenstoff-Rovings im schematischen Schnitt. Figur 2 zeigt ein Ausführungsbexspiel einer erfindungsgemäßen
Einrichtung zum Beschichten von mehreren Kohlenstoff-Rovings .
Die erfindungsgemäße Einrichtung gemäß Figur 1 besteht aus einer Vakuumkammer 1 mit einem Vakuumpumpenanschluß 2 zum
Vakuum-Pumpaggregat und einem regulierbaren Prozeßgaseinlaß 3. Ein Reaktionsrohr 4 aus Quarzglas befindet sich
horizontal in der Vakuumkammer 1 und weist einen mittigen Prozeßgasanschluß 5 auf, der mit dem Prozeßgaseinlaß 3
verbunden ist. Beidseitig des Reaktionsrohres 4 befinden sich Führungselemente in Form der Führungsrollen 6 und
Über diese wird das Roving 8 aus Kohlenstoffasern, welches beschichtet werden soll, geführt und dabei freitragend
durch das Reaktionsrohr 4 geleitet. Das unbeschichtete Roving 8 befindet sich auf der Vorratsspule 9 und das
beschichtete Roving 8 wird auf die Aufwickelspule 10
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aufgewickelt. Die beiden Führungsrollen 6 und 7 sind im Ausführungsbeispiel beide in einen gemeinsamen Stromkreis
mit der Stromquelle 11 und einem Schalter 12 eingeschaltet, wobei der Stromkreis zwischen den Führungsrollen 6
und 7 durch das leitfä'hige Roving 8 aus Kohlenstoffasern
geschlossen wird. Parallel zum Reaktionsrohr 4 ist eine Mikrowellen-Plasmaquelle 13 angeordnet, welche ein Plasma
in das Reaktionsrohr 4 einkoppeln kann. Zwischen der Vorratsspule 9 und der Führungsrolle 6 ist eine Strahlungsheizquelle
14 angeordnet. Die Energiezuführung erfolgt über die Stromquelle 15 und den Schalter 16.
Der Gebrauch der erfindungsgemäßen Einrichtung wird nachfolgend näher beschrieben.
Im Beispiel besteht das Roving 8 aus 6.000 Einzelfasern aus Kohlenstoff mit einem Durchmesser der Einzelfasern von
8 &mgr;&pgr;&igr;, wobei das Roving 8 mit einer Schlichte ummantelt
ist. Die Einzelfasern des Roving 8 sollen allseitig mit einer 600nm dicken Kohlenstoffschicht beschichtet werden.
Nach dem Einsatz der Vorratsspule 9 und der Aufwickelspule 10 in die Vakuumkammer 1 wird das zu beschichtende Roving
8 von der Vorratsspule 9 über die Führungsrollen 6 und 7 zur Aufwickelspule 10 geführt. Danach wird die Vakuumkammer
1 auf ein Vakuum von 10'2mbar evakuiert. Dabei werden
die für den Beschichtungsprozeß schädlichen Atmosphärengase bzw. -dämpfe, insbesondere mit O2 und H2O, aus der
Vakuumkammer 1 abgepumpt und die Vorratsspule 9, das zu beschichtende Roving 8 und die Aufwickelspule 10 werden
entgast.
Während die Vakuumerzeugung weiter aufrechterhalten wird, wird zum Zwecke der Beschichtung der Prozeßgaseinlaß 3
geöffnet, derart daß sich innerhalb des Reaktionsrohres 4 ein Druck von etwa 0,6 mbar einstellt. Als Prozeßgas wird
im Beispiel Acetylen (C2H2) eingesetzt.
01/U-lO/DE
Danach werden die Strahlungsheizquelle 14 und die Mikrowellen-Plasmaquelle
13 in Betrieb gesetzt und das Roving mittels der Führungsrollen 6 und 7 mit einer Geschwindigkeit
von etwa 55 m/h durch das Reaktionsrohr 4 bewegt. Parallel wird der Stromkreis mit der Stromquelle 11 über
die Führungsrollen 6 und 7 und das Roving 8 mit den Schalter 12 geschlossen.
Im Prozeßablauf wird zuerst das Roving 8 in der Strahlungsheizquelle
14 erhitzt, wodurch die Schlichte aus Kunststoff auf den Fasern des Rovings 8 entfernt wird.
Anschließend gelangt das Roving 8 in den Reaktionsbereich innerhalb des Reaktionsrohres 4. Dieser Reaktionsbereich
wird einerseits durch den Bereich zwischen den Führungsrollen 6 und 7 bestimmt, in dem das Roving 8 mittels elektrischem
Widerstand erhitzt wird, und liegt insbesondere innerhalb des Wirkbereichs der Entladung der Mikrowellen-Plasmaque1Ie
13.
Das Roving 8 wird zwischen den Führungsrollen 6 und 7 durch den elektrischen Widerstand und die Einwirkung der
Mikrowellen-Plasmaquelle 13 auf eine Temperatur von etwa 9500C erhitzt. In der Folge läuft unter der Einwirkung des
Acetylen als Prozeßgas in dem Reaktionsrohres 4 der Prozeß der Schichtabscheidung selbständig ab. Bei den angegebenen
Prozeßparametern wird auf den Einzelfasern des Rovings 8 eine Kohlenstoffschicht mit einer weitgehend homogen
Schichtdicke von 600 nm abgeschieden. Die besondere homogene Schichtabscheidung wird durch die spezielle erfindungsgemäße
Einrichtung und die damit gegebene Wirkung des Vakuums erreicht.
In Figur 2 ist schematisch der Aufbau einer erfindungsgemäßen Einrichtung mit mehreren Rovings 8 dargestellt,
die einzeln von den Vorratsspulen 9 durch die Reaktionsrohre 4 zu den Aufwickelspulen 10 geführt werden. Die
Verfahrensschritte beim Einsatz der Einrichtung verlaufen in äquivalenter Weise wie im Beispiel nach Figur 1.
Claims (8)
1. Einrichtung zur chemischen Abscheidung von Kohlenstoff, Keramiken oder anderen anorganischen Stoffen
auf einer Einzelfaser oder Einzelfasern in einem Faserbündel mit einem Reaktionsrohr, welches von den zur
chemischen Abscheidung erforderlichen Prozeßgasen und/oder -dämpfen durchströmt wird und durch das die
zu beschichtende Faser geführt wird, dadurch gekennzeichnet, daß das Reaktionsrohr (4) innerhalb einer
Vakuumkammer (1) angeordnet ist, daß Führungselemente vorhanden sind, die die zu beschichtende Faser axial
durch das Reaktionsrohr (4) führen und daß eine Einrichtung vorhanden ist, die die zur chemischen Abscheidung
erforderliche Aktivierungsenergie in das Reaktionsrohr (4) zuführt.
2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß innerhalb der Vakuumkammer (1) eine Vorratsspule
(9) für die unbeschichtete Faser und/oder eine Aufwickelspule (10) für die beschichtete Faser angeordnet
sind.
3. Einrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zur Zuführung der Aktivierungsenergie
eine Widerstandsheizeinrichtung ist, derart daß als Führungselemente vor und nach dem Reaktionsrohr
(4) elektrisch leitfähige Gleitführungen und/oder Führungsrollen (6 und 7) angeordnet sind,
über die die zu beschichtende und elektrisch leitfähige Faser geführt wird, und daß die Führungselemente
in einen gemeinsamen Stromkreis eingeschaltet sind.
4. Einrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zur Zuführung der Aktivierungsenergie
eine Strahlungsheizquelle ist.
01/U-lO/DE
5. Einrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß innerhalb der Vakuumkammer
(1) eine Plasmaquelle vorhanden ist, die innerhalb und/oder außerhalb des Reaktionsrohres (4) ein Plasma,
z. B. ein Mikrowellen- oder ein Hochfrequenzplasma, erzeugt.
6. Einrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß innerhalb der Vakuumkammer (1) vor dem Reaktionsrohr (4) eine Heizquelle vorhanden
ist, die die zu beschichtende Faser umschließt und mit einer Energie betrieben werden kann, bei der vorhandene
Schlichten und Verunreinigungen von der unbeschichteten Faser abgedampft werden können.
7. Einrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß innerhalb der Vakuumkammer
mehrere Reaktionsrohre (4) und zugehörige Führungselemente und/oder Einrichtungen zur Zuführung der
Aktivierungsenergie und/oder Vorrats- und/oder Aufwickelspulen (9 und 10) vorhanden sind.
8. Einrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß Führungselemente an einem
Reaktionsrohr (4) vorhanden sind, die mehrere Fasern durch dieses Reaktionsrohr (4) führen.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE9421895U DE9421895U1 (de) | 1994-11-02 | 1994-11-02 | Einrichtung zur chemischen Abscheidung auf Fasern |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE9421895U DE9421895U1 (de) | 1994-11-02 | 1994-11-02 | Einrichtung zur chemischen Abscheidung auf Fasern |
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Publication Number | Publication Date |
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DE9421895U1 true DE9421895U1 (de) | 1997-03-06 |
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ID=25941604
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE9421895U Expired - Lifetime DE9421895U1 (de) | 1994-11-02 | 1994-11-02 | Einrichtung zur chemischen Abscheidung auf Fasern |
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Country | Link |
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DE (1) | DE9421895U1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR3044023A1 (fr) * | 2015-11-19 | 2017-05-26 | Herakles | Dispositif pour le revetement d'un ou plusieurs fils par un procede de depot en phase vapeur |
WO2017085420A1 (fr) * | 2015-11-19 | 2017-05-26 | Safran Ceramics | Dispositif pour le revêtement d'un ou plusieurs fils par un procédé de dépôt en phase vapeur |
-
1994
- 1994-11-02 DE DE9421895U patent/DE9421895U1/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR3044023A1 (fr) * | 2015-11-19 | 2017-05-26 | Herakles | Dispositif pour le revetement d'un ou plusieurs fils par un procede de depot en phase vapeur |
WO2017085420A1 (fr) * | 2015-11-19 | 2017-05-26 | Safran Ceramics | Dispositif pour le revêtement d'un ou plusieurs fils par un procédé de dépôt en phase vapeur |
FR3044024A1 (fr) * | 2015-11-19 | 2017-05-26 | Herakles | Dispositif pour le revetement d'un ou plusieurs fils par un procede de depot en phase vapeur |
WO2017085412A1 (fr) * | 2015-11-19 | 2017-05-26 | Safran Ceramics | Dispositif pour le revêtement d'un ou plusieurs fils par un procédé de dépôt en phase vapeur |
CN108350573A (zh) * | 2015-11-19 | 2018-07-31 | 赛峰集团陶瓷 | 一种通过气相沉积方法涂覆一根或多根线材的装置 |
RU2717450C2 (ru) * | 2015-11-19 | 2020-03-23 | Сафран Серамикс | Устройство для нанесения покрытия на одну или несколько нитей методом осаждения из паровой фазы |
RU2717620C2 (ru) * | 2015-11-19 | 2020-03-24 | Сафран Серамикс | Устройство для нанесения покрытия на одну или несколько нитей методом осаждения из паровой фазы |
US10597782B2 (en) | 2015-11-19 | 2020-03-24 | Safran Ceramics | Device for coating one or more yarns by a vapor deposition method |
US10619291B2 (en) | 2015-11-19 | 2020-04-14 | Safran Ceramics | Device for coating one or more yarns by a vapor deposition method |
CN108350573B (zh) * | 2015-11-19 | 2020-09-08 | 赛峰集团陶瓷 | 一种通过气相沉积方法涂覆一根或多根线材的装置 |
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