DE887077C - Einrichtung zur formgebenden Bearbeitung sowie zum Schmelzen von Halbleitermaterialien - Google Patents

Einrichtung zur formgebenden Bearbeitung sowie zum Schmelzen von Halbleitermaterialien

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DE887077C
DE887077C DEL10062A DEL0010062A DE887077C DE 887077 C DE887077 C DE 887077C DE L10062 A DEL10062 A DE L10062A DE L0010062 A DEL0010062 A DE L0010062A DE 887077 C DE887077 C DE 887077C
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DE
Germany
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electron
semiconductor materials
magnetic
melting
shaping processing
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Expired
Application number
DEL10062A
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English (en)
Inventor
Wilhelm Dipl-Phys Schneider
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Licentia Patent Verwaltungs GmbH
Original Assignee
Licentia Patent Verwaltungs GmbH
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    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/3002—Details
    • H01J37/3007—Electron or ion-optical systems
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof

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Description

  • Bei oder Bearbeitung von Halb:ledtermateri,alien - mittels eines Elektronenstrahls besteht die Schwierigkeit, daß bei Verwendung von Ab-bildungsmitteln, die mit elektrischen Feldern arbeiten-, diese durch :die bei: der Bearbeitung auftretenden Materiedämpfe und ihre d ie elektrischen Felder erzeugenden Elektroden beaufschlagt werden und infolgedessen Feldverzerrungen entstehen, ,die Abbildungsfehler hervorrufen. Darüber hinaus können die entstehenden Dämpfe sich auch noch auf den bei elektrischen Abbildungsmitteln hoch beanspruchten Isoliermaterialien niederschlagen und zu Kurzschlüssen und Überschlägen führen, die- das Gerät zerstören oder unbrauchbar machen.
  • Die Erfindung betrifft nun eine Einrichtung zur formgebendem Bearbeitung oder zum Schmelzen .derselben, bei .der die Bearbeitung bz:w. das Schmelzen mittels Elektronenstrahl erfolgt, dessen elektronenoptische Abbildungsmittel mit Magnetfeldern arbeiten. Dabei wird man mit Vorteil magnetische Linsen verwenden, die entweder als Elektromagneten ausgebildet sind oder von Permanentmagneten dargestellt werden.
  • Bei &r Verwendung mehrerer elektronenoptischer Abbildungsmittel erweist es, sich als vorteilhaft, mindestens das letzte Abbildungsmittel so zu wählen, daß es mit Magnetfeldern arbeitet, .dadieses . am stärksten durch Materiedämpfe gefährdet ist.
  • Die Fig. zeigt in zum Teil schematischer Darstellung ein Gerät gemäß der Lehre der Erfindung. Der Wehneltzylinder z umschließt den Glühfaden 3, der seinerseits von. einer kegelförmigen Hilfselektrode 2 umschlossen wird. Der aus dem Glühdraht :austretende Elektronenstrom q. wird durch die Beschleunigungselektrode ä beschleunigt und vermöge der elektrischen Eigenschaften der Elektronenquelle im Brennpunkt 6 wieder gesammelt. Dieser Brennpunkt 6 wird ,dann- mittels einer magnetischen Linse 7 auf das zu bearbeitende Werkstück 8 abgebildet.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRÜCHE: r. Einrichtung zur formgebenden Bearbeitung von Halbleitermaterialien, oder zum Schmelzen, derselben, insbesondere zur Herstellung von elektrisch unsymmetrisch leitenden Systemen und steuerbaren Trockengleichrichtern, dadurch gekennzeichnet, daß die Bearbeitung bzw. das Schmelzen mittels Elektronenstrahlen erfolgt, deren elektronenoptische Abbildungsmittel mit Magnetfeldern arbeiten. a. Einrichtung nach Anspruch z, dadurch gekennzeichnet, :.daß zur elektronenoptischen Ab- bildung magnetische: Linsen verwendet werden. 3. Einrichtung nach Anspruch 2, .dadurch gekennzeichnet, daß elektronenmagnetische Linsen verwendet werden. q.. Einrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, :daß permanentmagnetische Linsen verwendet werden. 3. Einrichtung nach Anspruch r oder einem der folgenden mit mehreren: elektronenoptischen Abbildungsmitteln, ,dadurch gekennzeichnet, daß mindestens das letzte Abbilrdungsmittel innerhalb des Systems mit Magnetfeldern arbeitet.
DEL10062A 1951-09-09 1951-09-09 Einrichtung zur formgebenden Bearbeitung sowie zum Schmelzen von Halbleitermaterialien Expired DE887077C (de)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1226214B (de) * 1962-07-28 1966-10-06 Hitachi Ltd Verfahren zur Oberflaechenbehandlung des Halbleiterkoerpers von Halbleiter-Bauelementen
DE1271316B (de) * 1959-07-04 1968-06-27 Lokomotivbau Elektrotech Elektronenstrahl-Hochvakuum-Schmelz-, Giess-, Schweiss- und Legierungsofen

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE1271316B (de) * 1959-07-04 1968-06-27 Lokomotivbau Elektrotech Elektronenstrahl-Hochvakuum-Schmelz-, Giess-, Schweiss- und Legierungsofen
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