DE758362C - Elektronenmikroskop, bei dem ein Elektronenbrennfleck von weniger als einem tausendstel Millimeter Durchmesser die Oberflaeche des zu untersuchenden Objektes abrastert - Google Patents
Elektronenmikroskop, bei dem ein Elektronenbrennfleck von weniger als einem tausendstel Millimeter Durchmesser die Oberflaeche des zu untersuchenden Objektes abrastertInfo
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
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- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/261—Details
- H01J37/265—Controlling the tube; circuit arrangements adapted to a particular application not otherwise provided, e.g. bright-field-dark-field illumination
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Description
AUSGEGEBEN AM 15. MÄRZ 1954
Es ist bereits bekannt, Objekte mit Hilfe von Elektronenstrahlen abzubilden. Die Entwicklung
sogenannter Elektronenmikroskope ist in letzter Zeit insbesondere deshalb mit Eifer betrieben worden, weil es mit ihnen
theoretisch möglich ist, ein Auflösungsvermögen zu erzielen, das dem des Lichtmikroskops
um 3 bis 4 Zehnerpotenzen überlegen ist. In der Praxis konnte man jedoch
mit den bekannten Elektronenmikroskopen die theoretisch mögliche Grenze für das Auflösungsvermögen
bei weitem nicht erreichen, insbesondere nicht bei der Anwendung des sogenannten Reflexionsverfahrens. Der Grund
dafür liegt u. a. in der unvermeidlichen Geschwindigkeitsstreuung,
mit der die Elektronen das Objekt verlassen. Bedingt ist die Geschwindigkeitsstreuung der Elektronen vor
allen Dingen durch die unterschiedliche Geschwindigkeit, mit der die Elektronen ihre
Quelle verlassen, und durch die unterschiedliche Abbremsung, die sie an den verschiedenen
Objektpunkten erfahren. Es geht deshalb von dem abzubildenden Objekt stets ein Strahlenbündel aus, das ein verhältnismäßig
breites Geschwindigkeitsspektrum aufweist.
Da es bisher nicht möglich ist, ausreichend achromatisierte Elektronenobjektive zu bauen,
gelingt es auch nicht, mit einem inhomogenen Strahlenbündel der erwähnten Art die an sich
vorgegebene Grenze des Auflösungsvermögens zu erreichen. Aus diesen Gründen ist bereits
ein Elektronenmikroskop vorgeschlagen worden, bei dem das Objekt nicht abgebildet,
sondern Punkt für Punkt mit Hilfe eines to Elektronenstrahles abgerastert wird, dessen
Durchmesser unter einem tausendstel Millimeter liegt. Dabei werden dann die vom elektronenoptisch beleuchteten Bildelement
ausgehenden Elektronen registriert. Dadurch ist die Grundlage geschaffen für den Aufbau
eines elektronenoptischen Bildes des Objektes, und zwar mit einer Auflösung, die lediglich
von der Punktschärfe des abtastenden -Brennfleckes in der zu untersuchenden Objektebene
abhängt.
Die Erfindung bezieht sich auf Elektronenmikroskope, bei denen ein Elektronenbrennfleck
von weniger als 1AoOo mm Durchmesser die Oberfläche des zu untersuchenden Objektes
abrasiert, und hat den Zweck, eine Verstärkung des Kontrastes der einzelnen Elektronenbildpunkte
zu erzielen. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß zwischen dem Objekt und der Registriereinrichtung
eine Blende vorgesehen ist und daß die Anodenspannung des Strahlerzeugungssystems,
der Aperturwinkel der Blende, das Objektmaterial und die Objektdicke so
gewählt sind, daß die untere Schwankungsgrenze des Streuwinkels bei verschiedener
Streuung unter dem Einfluß der Objektelemente gleich dem Aperturwinkel der Blende ist. Um das bei einem solchen Elektronenmikroskop
erzielbare Auflösungsvermögen praktisch auszunutzen, muß die durch ein Objektelement mit einem Durchmesser
von der Größe des Auflösungsvermögens verursachte Stromänderung in der Größenordnung
von etwa 10% liegen. Die Stromänderung kann durch Unterschiede in der
räumlichen Streuung in den Objektelementen in Verbindung mit einer nachträglichen Ausblendung
eines bestimmten Strahlenanteils oder durch unterschiedliche Absorption in den Objektelementen hervorgerufen werden.
Durch die Anwendung der vorliegenden Anordnung hat man es beim Elektronenmikroskop
völlig in der Hand, entweder Intensitätsmodulation durch die Elektronenstreuung oder die Elektronenabsorption bevorzugt
zur Kontraststeuerung zu verwenden. Bei energieempfindlichen Elektronenindikatoren,
beispielsweise bei der photographischen Intensitätsaufzeichnung, ergibt sich der besondere
Vorteil, daß infolge der gleichzeitig erfolgenden Steuerung der Elektronenzahl und der Elektronengeschwindigkeiten eine
besonders starke Kontraststeuerung durch Dicken- oder Dichteunterschiede stattfindet.
Es wurde bereits vorgeschlagen, eine Kontrastverstärkung dadurch zu erzielen, daß
man zwischen Auffangvorrichtung und Registriervorrichtung Verstärker schaltet, die nur
den schwachen Wechselstromanteil, nicht aber den stärkeren Gleichstromanteil des aufgefangenen
Elektronenstromes verstärken. Es ist aber bei dem Gegenstand der vorliegenden Art auch bei der Modulation durch
Streuung ohne Wechselstromverstärker eine Kontrastverstärkung auf Kosten der Intensität
möglich. Hierzu soll die Auffangfläche nach Art der Dunkelfeldbeleuchtung so bemessen
werden, daß in erster Linie die durch das Objektelement zusätzlich gestreuten Elektronen'
registriert werden. Diese Registrier-■anordnung
ist in Abb. 1 oben schematisch dargestellt. Der feine Rasterstrahl 1 wird in
der Objektschicht 2 gestreut und verläßt die Objektschicht als Streukegel des Winkels §.
Der Streuwinkel ist abhängig von der Streuung in den Objektelementen einer der vom
Rasterstrahl zuerst durchlaufenen Objektschichten, die im Elektronenmikroskop abgebildet
wird. Zwischen Objekt 2 und Registrierfläche 3 ist die kreisförmige Zentralblende
4 angeordnet. Es werden nun bei vorliegender Anordnung die Größen: Anodenspannung
des Strahlerzeugungssystems, Apertur α der Zentralblende, Objektmaterial und
-dicke bzw., falls einige dieser Größen vorgegeben sind, die veränderlichen Größen so
gewählt, daß die untere Schwankungsgrenze des Streuwinkels bei verschiedener Streuung
unter dem Einfluß der Objektelemente von gleicher Größe wie der Aperturwinkel α wird
und damit in der Hauptsache durch Objektelemente zusätzlich gestreute Elektronen
registriert werden.
Der typische Verlauf der Intensitätsmodulationskurven bei Elektronenstreuung ist in
Abb. ι unten dargestellt. Als Ordinaten sind die Verhältniswerte JfJ0 des registrierten
Stromanteils zum Registrierstrom in logarithmischem Maßstab aufgetragen, als Abszissen
die Werte der Schichtdicke Ax multi- no
pliziert mit dem Faktor A1 ebenfalls in logarithmischem
Maßstab. Die Größe A1 · Ax bestimmt
neben der Anodenspannung U den Streuwinkel &, wobei A1 nach theoretischen
Überlegungen von der Dichte, der Ordnungszahl und dem Atomgewicht des Schichtmaterials
abhängt. Die Kurven zeigen den Verlauf der Intensitätsmodulation für verschiedene
Anodenspannungen U und Aperturwinkel α als Parameter. Bei Wahl des Arbeitspunktes
auf dem steilen Teil der Kurven entsprechend der oben besprochenen Anpassung
des Streuwinkels an den Aperturwinkel α wird eine erhebliche Kontrastverstärkung
gegenüber den Kontrastwerten einer einfachen Hellfeldregistrierung erzielt.
Es muß beachtet werden, daß der Vorgang der Elektronenstreuung stets mit einer Elektronenabsorption verbunden ist. Beim Arbeiten mit der besprochenen Dunkelfeldregistrierung besteht jedoch Gegenphasigkeit von
Es muß beachtet werden, daß der Vorgang der Elektronenstreuung stets mit einer Elektronenabsorption verbunden ist. Beim Arbeiten mit der besprochenen Dunkelfeldregistrierung besteht jedoch Gegenphasigkeit von
ίο Streumodulation und Absorptionsmodulation.
Es ist daher dafür zu sorgen, daß die letztere klein bleibt. In einem weiteren Bereich - der
Objektdicke und -dichte läßt sich diese Bedingung durch Wahl der Anodenspannung und Blendenapertur erfüllen.
Ein zweiter zweckmäßiger Weg, auf Kosten der Intensität allein durch Bemessung veränderlicher
Größen eine Kontrastverstärkung zu erreichen, bietet sich bei Anwendung von Hellfeldregistrierung unter Ausnutzung der
Absorptionsmodulation. Eine Anordnung hierzu ist in Abb. 2 oben schematisch dargestellt.
Der Elektronensrahl 5 trifft wie bei der ersten Anordnung die Objektschicht 6, in der eine Absorption und Streuung des
Elektronenstrahles stattfindet. Die das Objekt verlassenden Elektronen gelangen auf
die Registrierfläche 7.
Die Randblende 8 kann vorgesehen werden, um die Absorptionsmodulation durch in
diesem Fall gleichphasige Streumodulation zu verstärken und um die Größe des Bildpunktes
zu begrenzen. Es werden dabei zweckmäßig Anodenspannung, Objektmaterial und -dicke so gewählt, daß ein großer Teil des
Elektronenstromes absorbiert wird und dadurch Intensitätsschwankungen durch Unterschiede
der Absorption und Abbremsung in den Objektelementen verstärkt zum Ausdruck kommen. Abb. 2 unten zeigt den Verlauf der
Absorptionsmodulationskurven. Es ist die typische Abhängigkeit des Verhältnisses Registrierstrom
zu Rasterstrom von der mit dem Faktor A2 multiplizierten Schichtdicke für
verschiedene Anodenspannungen in teilweise logarithmischem Maßstab dargestellt. Die
Größe A2 bringt den Einfluß des Objektmaterials zum Ausdruck und ist näherungsweise
der Dichte gleichzusetzen. Der Arbeitspunkt wird bei der vorliegenden Anordnung auf den steilen Teil der Modulationskurven
gelegt. Bei energieempfindlicher, beispielsweise photographischer Registrierung ist die
Kontrastverstärkung noch wesentlich stärker als in den reinen Stromkurven der Abb. 2,
weil, wie schon oben angedeutet, zugleich mit der Stromrnodulation eine Geschwindigkeitsmodulation
der Elektronen eintritt.
Claims (5)
- Patentansprüche:i. Elektronenmikroskop, bei dem ein Elektronenbrennfleck von weniger als einem tausendstel Millimeter Durchmesser die Oberfläche des zu untersuchenden Objektes abrasiert, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem Objekt und der Registriereinrichtung eine Blende vorgesehen ist und daß die Anodenspannung des Strahlerzeugungssystems, der Aperturwinkel der Blende, das Objektmaterial und die Objektdicke so gewählt sind, daß die untere Schwankungsgrenze des Streuwinkels bei verschiedener Streuung unter dem Einfluß der Objektelemente gleich dem Aperturwinkel der Blende ist.
- 2. Elektronenmikroskop nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß bei Verwendung von Objektschichten, deren Dicke sehr klein ist gegen die Eindringtiefe der Elektronen, bei geeigneter Wahl von Anodenspannung eine Kontrastverstärkung durch Elektronenstreuung im Objekt unter Verwendung eines Elektronenauffängers nach Art der in der Lichtoptik bekannten Dunkelfeldbeleuchtung von entsprechender Apertur erzielt wird.
- 3. Elektronenmikroskop nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß bei Verwendung von Objektschichten mit einer Dicke, die nahe bei der Eindringtiefe der Elektronen liegt, eine Kontrastverstärkung durch die Wahl einer solchen Anodenspannung erzielt wird, bei der nur noch ein Bruchteil des Elektronenstromes die Objektschicht durchdringt.
- 4. Elektronenmikroskop nach den Ansprüchen ι bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen Auffänger und Registriereinrichtung Verstärker angeordnet sind, die nur den Wechselstromanteil der aufgefangenen Elektronenströmung verstärken.
- 5. Elektronenmikroskop nach Anspruch 1 oder einem der folgenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als Registriereinrichtung eine photographische Schicht \^erwendung findet.Zur Abgrenzung des Erfindungsgegenstands vom Stand der Technik sind im Erteilungsverfahren folgende Druckschriften in Betracht gezogen worden:Deutsche Patentschrift Nr. 485 155;Annalen der Physik, Bd. 26, 1936, S. 638 bis 644; Bd. 27, 1936, S. 75.Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 5847 3.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEA85837D DE758362C (de) | 1938-02-15 | 1938-02-15 | Elektronenmikroskop, bei dem ein Elektronenbrennfleck von weniger als einem tausendstel Millimeter Durchmesser die Oberflaeche des zu untersuchenden Objektes abrastert |
BE432711D BE432711A (de) | 1938-02-15 | 1939-02-13 | |
FR850233D FR850233A (fr) | 1938-02-15 | 1939-02-13 | Procédé pour le fonctionnement de microscopes à trame à rayon électronique |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEA85837D DE758362C (de) | 1938-02-15 | 1938-02-15 | Elektronenmikroskop, bei dem ein Elektronenbrennfleck von weniger als einem tausendstel Millimeter Durchmesser die Oberflaeche des zu untersuchenden Objektes abrastert |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE758362C true DE758362C (de) | 1954-03-15 |
Family
ID=6949612
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEA85837D Expired DE758362C (de) | 1938-02-15 | 1938-02-15 | Elektronenmikroskop, bei dem ein Elektronenbrennfleck von weniger als einem tausendstel Millimeter Durchmesser die Oberflaeche des zu untersuchenden Objektes abrastert |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
BE (1) | BE432711A (de) |
DE (1) | DE758362C (de) |
FR (1) | FR850233A (de) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE485155C (de) * | 1927-05-14 | 1929-12-28 | Hugo Stintzing Dr | Verfahren und Einrichtung zum automatischen Nachweis, Messung und Zaehlung von Einzelteilchen beliebiger Art, Form und Groesse |
-
1938
- 1938-02-15 DE DEA85837D patent/DE758362C/de not_active Expired
-
1939
- 1939-02-13 FR FR850233D patent/FR850233A/fr not_active Expired
- 1939-02-13 BE BE432711D patent/BE432711A/xx unknown
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE485155C (de) * | 1927-05-14 | 1929-12-28 | Hugo Stintzing Dr | Verfahren und Einrichtung zum automatischen Nachweis, Messung und Zaehlung von Einzelteilchen beliebiger Art, Form und Groesse |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BE432711A (de) | 1939-03-31 |
FR850233A (fr) | 1939-12-11 |
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