DE746586C - Einrichtung zur Abbildung der Intensitaetsverteilung in einem Strahlenbuendel langsamer Neutronen, insbesondere zur Abbildung von Gegenstaenden mittels langsamer Neutronen - Google Patents

Description

• Einrichtung zur Abbildung der Intensitätsverteilung in einem Strahlenbündel langsamer Neutronen, insbesondere zur Abbildung von Gegenständen mittels langsamer Neutronen Es sind Einrichtungen zur Abbildung der Intensitätsverteilung in einem Strahlenbündel langsamer Neutronen, insbesondere zur Abbildung von Gegenständen mittels langsamer Neutronen, bekannt, bei denen die Neutronen des Strahlenbündels auf eine Reaktionsschicht auftreffen, aus der sie Elektronen auslösen, die auf eine benachbarte Leuchtmasse oder eine photographische Schicht bzw. eine Kombination einer Leuchtmasse mit einer photographischen Schicht einwirken. Bei den bekannten Anordnungen befindet sich die Leuchtmasse oder die photographische Schicht auf der der Neutronenquelle abgekehrten Seite der Reaktionsschicht. Die Reichweite der Elektronen in der Reaktionsschicht ist jedoch nur verhältnismäßig gering. Man ist deshalb bei der bekannten Anordnung gezwungen, die Reaktionsschicht dünn zu wählen, damit möglichst viele der ausgelösten Elektronen tatsächlich auf die Leuchtmasse bzw. auf die photographische Schicht gelangen. Die Benutzung einer dünnen Reaktionsschicht hat jedoch den Nachteil, daß die langsamen Neutronen in ihr nur verhältnismäßig wenig Elektronen auslösen, weil ein großer Teil der auftreffenden Neutronen, ohne Elektronen ausgelöst zu haben, eine solche dünne Reaktionsschicht wieder verläßt. Wählt man eine dickere Reaktionsschicht, so beobachtet man, daß die Zahl der Elektronen, die auf der der Neutronenquelle zugekehrten Seite der Reaktionsschicht austreten, bedeutend größer ist als die Zahl der auf der entgegengesetzten Seite austretenden Elektronen.
• Erfindungsgemäß wird deshalb die Leuchtmasse oder die phótographische Schicht bzw. eine Kombination einer Leuchtmasse und einer photograpliisdien Schicht auf der der Neutronienquelle zugekehrten Seite der Reaktionsschicht angeordnet. Die Elektronen, die auf der der Neutronenquelle zugekehrten Seite der Reaktionsschicht aus Atomkernen ausgelöst werden, haben in diesem Fall auch bei Benutzung einer verhältnismäßig dicken Reaktionsschicht einen kürzeren Weg im Innern der Schicht zurückzulegen als bei den beliannten Einrichtungen. Es kommt hinzu, daß infolge der Absorption der Neutronen in der Reaktionsschicht auf der der Neutronenquelle zugekehrten Seite wesentlich mehr Elektronen ausgelöst werden als in den weiter entfernten Teilen der Reaktionsschicht. Es hat sich als besonders zweckmäßig erwiesen, bei der erfindungsgemäßen Einrichtung die Reaktionsschicht aus Kadmium herzustellen, weil in dieser Substanz die Absorption der langsamen Neutronen unter Auslösung von Elektronen verhältnismäßig groß, die Reichweite der ausgelösten Elektronen jedoch verhältnismäßig klein ist.
• Die Abbildung zeigt in zum Teil schematische Darstellung ein Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Einrichtung.
• Die von der Neutroneuquelle I ausgehenden Neutronenstrahlen 2 treffen auf den abzubildenden Körper 3. Nach dem Austritt aus diesem Körper gelangen die Neutronen zunächst auf das elektronenempfindliche System 5, bei spielsweise eine Leuchtmasse oder eine photographische Schicht oder eine Kombination dieser beiden Schichten. Diese Schicht durchdringen sie, ohne auf sie einzuwirken. Aus der auf der der Neutronenquelle abgewandten Seite des elektronenempfindlichen Systems angeordneten Reaktionsschicht 4 lösen sie Elektronen aus, die auf das elektronenempfindliche System 5 einwirken. Dadurch wird der Leuchtschirm erregt bzw. die photographische Platte geschwärzt. Die Schwärzung der photographischen Platte kann auch indirekt dadurch hervorgerufen bzw. unterstützt werdeii, daß die von einer Leuchtmasse nach Erregung durch die ausgelösten Elektronen ausgehende photochemisch wirksame Strahlung auf sie einwirkt. Da diese Strahlung unter l'mständen in der Reaktionsschicht nur unwesentlich absorbiert wird, ist es auch möglich bei det Anwendung einer Leuchtmasse als elektronenempfindliches System die photographische Schicht auch auf der der Neutroneuquelle abgewandten Seite der Reaktionsschicht allzuordnen.

Claims (2)

1. PATENTANSPRÜCHE: 1. Einrichtung zur Abbildung der Intensitätsverteilung in einem Strahlenbün.- lel langsamer Neutronen, insbesondere zur-Äbbildung von Gegenständen mittels langsamer Neutronen, bei der die Neutronen des Strahlenbündels auf eine Reaktionsschicht auftreffen, aus der sie Elektronen auslösen, die auf eine benachbarte Leuchtmasse und/oder photographische Schicht einwirken, dadurch gekennzeichnet, daß die Leuchtmasse undioder die photographische Schicht auf der der Neutronen quelle zugekehrten Seite der Realitionsschicht angeordnet ist.
2. 2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Reaktionsschicht aus Kadmium besteht.

   Zur Abgrenzung des -Änmelduugsgegeiistandes vom Stand der Technik sind im Elteilungsverfahren keine Druckschriften in Retracht bezobrI1 worden.