Verfahren zur Herstellung einer sehr dünnen -sekund'äremissionsfähigen
Schicht aus Alkalihalogeniden Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung
einer sehr dünnen sekundäremissionsfähigen Schicht aus Alkalihalogeniden auf Elektroden.
Erfindungsgemäß wird zur Erzeugung der sehr dünnen, beispielsweise i o-4 mm starken
Schicht die Oberfläche der Elektrode mit einer .wäßrigen oder alkoholhaltigen Lösung
eines oder mehrerer Alkalihalogeniden benetzt und dann durch Erhitzen der Elektrode
der emissionsfähige Stoff zum Schmelzen, gebracht.Process for the production of a very thin secondary emissive
Layer of Alkali Halides The invention relates to a method of production
a very thin secondary emissive layer of alkali halides on electrodes.
According to the invention, to produce the very thin, for example 10-4 mm thick
Coat the surface of the electrode with an aqueous or alcoholic solution
one or more alkali halides and then wetted by heating the electrode
the emissive substance melted.
Die Herstellung von Sekundäremissionsschichten aus Alkalihalogeniden
ist zwar an sich bekannt. Es ist ferner bekannt, sekundäremissionsfähige Schichten
durch Aufbringen eines Pulvers aus dem Schichtmaterial auf die Elektrode herzustellen.
Die Dicke der fertigen Schicht ist in diesem Falle immer durch die Korngröße des
sekundäremissionsfähiben Stoffes bedingt. Es gelingt nicht; Schichten von der Dicke
von beispielsweise i o-4 mm herzustellen. Diese geringe Schichtdicke ist aber gerade
von besonderer Bedeutung. Während bei der bekannten Herstellungsart von Sekundäremissionselektroden
das Schichtmaterial gegebenenfalls bei einer verhältnismäßig niedrigen Temperatur
festgebacken, aber nicht geschmolzen -wird, wird bei dem Verfahren nach der Erfindung
die Elektrodenplatte nach dem Aufbringen des Sekundäremisionsstoffes einer hohen
Erhitzung unterworfen. Bei dieser Erhitzung werden die Alkalihalogenide an der Oberfläche
der Elektrode zum Schmelzen gebracht und bilden eine gleichmäßige dünne Schicht.
Diese Schicht ist im Gegensatz zur bisher vertretenen Anschauung zu hoher Sekundäremission
befähigt, selbst dann, wenn die Stromdichte des Sekundäremissionsstromes verhältnismäßig
groß ist. Man stand: bisher auf dem Standpunkt, daß Schichten aus Alkalihalogeniden
praktisch für Sekundärelektronenemission nicht verwendbar sind, da bereits bei sehr
geringer spezifischer Belastung eine Zerstörang
der Schichten eintritt,
zumindest aber die Sekundäremissionseigenschaften beträchtlich verschlechtern. Dies
liegt offenbar daran, daß die bisher verwendeten Schichten nicht <1:e geringe
Stärke hatten wie die Sekundäremissionsschichten nach der Erfindung. Von einer gewissen
Bedeutung ist zweifellos dabei auch die Art der Aufbringung der Schichten auf die
Elektrodenplatten. Schichten nach der Erfindung haben, wie Versuche zeigten, über
tausende von Brennstunden ohne Einbuße ihrer Sekundäremissionsfähigkeit Belastungen
bis ao mA/cm° vertragen. Von großer Wichtigkeit beim Betriebe der mit Schichten
nach der Erfindung arbeitenden Röhren ist es, daß man die Belastungsverhältnisse
so wählt, daß die Elektrode im Betriebe dem Schmelzpunkt der Halogenide nicht zu
nahe kommt. Die Sekundäremiesionsplatten dürfen daher für Schichten, welche aus
Alkalichloriden bestehen, nicht auf mehr als a50°, für Schichten aus Alkalifluoriden
nicht über 6oo° erwärmt werden. Hält man diese Bedingungen ein, so kann man nach
so langer Betriebsdauer mit einer stets gleichbleibenden guten Sekundäreleltronenemission
rechnen.The production of secondary emission layers from alkali halides
is known per se. It is also known, secondary emissive layers
by applying a powder from the layer material to the electrode.
In this case, the thickness of the finished layer is always determined by the grain size of the
secondary emissive substance conditionally. It doesn't work; Layers of thickness
of, for example, 10 -4 mm. However, this thin layer is straight
really important. While in the known production method of secondary emission electrodes
the layer material optionally at a relatively low temperature
is baked, but not melted, in the method according to the invention
the electrode plate after the application of the secondary emission material a high
Subject to heating. With this heating, the alkali halides become on the surface
the electrode melted and form an even thin layer.
In contrast to the previously held view, this layer is too high in secondary emissions
enabled, even if the current density of the secondary emission current is proportionate
is great. So far the standpoint was that layers of alkali halides
are practically unusable for secondary electron emission, since already at very
low specific load a destruction
the shift occurs,
but at least the secondary emission properties deteriorate considerably. this
is apparently due to the fact that the layers used so far are not less than 1: e
The same strength as the secondary emission layers according to the invention. From a certain
The way in which the layers are applied to the is undoubtedly also important
Electrode plates. Experiments have shown that layers according to the invention are over
thousands of burning hours without sacrificing their secondary emissions
tolerated up to ao mA / cm °. Of great importance when operating those with shifts
according to the invention working tubes, it is that one the load conditions
is chosen so that the electrode does not reach the melting point of the halides during operation
comes close. The secondary emission plates are therefore allowed for layers which are made of
Alkali chlorides do not exist for more than a50 ° for layers of alkali fluorides
not be heated above 600 °. If you keep these conditions, you can follow
such a long operating time with a consistently good secondary electron emission
calculate.
Von großem Vorteil ist es auch, das Glühen der Sekundäremissionselektroden
(Schmelzen der Halogenide) in einer Schutzgas-, z. B. Argonatmosphäre vorzunehmen.
Man hat dann um so größere Gewißheit, daß nicht Bestandteile der Schicht auf die
übrigen Elektroden, beispielsweise Oxydkathoden, sublimieren und diese etwa entaktivieren.
Außerdem werden durch das Glühen in einer Schutzgäsatmosphäre vielfach Ausbeuten
erreicht, die noch etwas höher liegen als die beim Glühen im Vakuum erzielten.The glowing of the secondary emission electrodes is also of great advantage
(Melting of the halides) in a protective gas, e.g. B. make argon atmosphere.
One then has all the greater certainty that there are no constituents of the layer on the
other electrodes, for example oxide cathodes, sublime and deactivate them for example.
In addition, the annealing in a protective gas atmosphere leads to multiple yields
achieved, which are slightly higher than those achieved when annealing in a vacuum.