DE69806986T2 - Process for the production of positive working lithographic printing plates - Google Patents

Process for the production of positive working lithographic printing plates

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Description

1. Technisches Gebiet der Erfindung.1. Technical field of the invention.

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von lithografischen Druckplatten unter Verwendung eines wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements. Die vorliegende Erfindung betrifft insbesondere ein Verfahren, in dem das wärmeempfindliche Bilderzeugungselement mit einem Infrarotlaser mit einer Pixelverweilzeit von weniger als 0,075 us belichtet wird, um hochempfindliche positivarbeitende Druckplatten zu erhalten.The present invention relates to a process for producing lithographic printing plates using a heat-sensitive imaging element. The present invention relates in particular to a process in which the heat-sensitive imaging element is exposed to an infrared laser with a pixel dwell time of less than 0.075 us in order to obtain highly sensitive positive-working printing plates.

2. Allgemeiner Stand der Technik.2. General state of the art.

Lithografischer Druck ist das Verfahren, bei dem das Drucken von einer Platte mit speziell hergestellten Oberflächen her erfolgt, von denen bestimmte Bereiche Farbe anziehen und andere Bereiche die Farbe abstoßen werden.Lithographic printing is the process of printing from a plate with specially manufactured surfaces, certain areas of which will attract ink and other areas will repel the ink.

Im Bereich der Fotolithografie wird ein fotografisches Material in den fotobelichteten Bereichen (negativarbeitend) oder in den nicht-belichteten Bereichen (positivarbeitend) auf einem farbabstoßenden Hintergrund bildmäßig ölige oder fette Farben anziehend gemacht.In the field of photolithography, a photographic material is made to attract oily or greasy colors in the photo-exposed areas (negative working) or in the non-exposed areas (positive working) on a color-repellent background.

Bei der Herstellung üblicher lithografischer Dtuckplatten, ebenfalls als Oberflächenlithoplatten oder Flachdruckplatten bezeichnet, wird ein. Träger, der eine Affinität zu Wasser aufweist oder solche Affinität durch eine chemische Verarbeitung erhalten hat, mit einer dünnen Schicht mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung überzogen. Als Schichten mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung eignen sich lichtempfindliche polymere Schichten, die Diazoverbindungen, dichromatsensibilisierte hydrophile Kolloide und eine Vielzahl synthetischer Fotopolymere enthalten. Insbesondere diazosensibilisierte Schichtverbände werden weitverbreitet eingesetzt.In the production of conventional lithographic printing plates, also referred to as surface lithoplates or planographic printing plates, a support which has an affinity for water or has acquired such an affinity through chemical processing is coated with a thin layer of a radiation-sensitive composition. Suitable layers with a radiation-sensitive composition are light-sensitive polymer layers which contain diazo compounds, dichromate-sensitized hydrophilic colloids and a variety of synthetic photopolymers. Diazo-sensitized layer combinations in particular are widely used.

Während der bildmäßigen Belichtung einer solchen lichtempfindlichen Schicht werden die belichteten Bildbereiche unlöslich und bleiben die nicht-belichteten Bereiche löslich. Die Druckplatte wird anschließend mit einer geeigneten Flüssigkeit entwickelt, um das in den nicht-belichteten Bereichen enthaltene Diazoniumsalz oder Diazoharz zu entfernen.During the image-wise exposure of such a light-sensitive layer, the exposed image areas become insoluble and the non-exposed areas remain soluble. The printing plate is then treated with a suitable liquid designed to remove the diazonium salt or diazo resin contained in the non-exposed areas.

Andererseits gibt es ebenfalls Verfahren, bei denen zur Herstellung von Druckplatten Bilderzeugungselemente verwendet werden, die vielmehr wärmeempfindlich als strahlungsempfindlich sind. Mit den wie oben beschrieben zur Herstellung einer Druckplatte benutzten strahlungsempfindlichen Bilderzeugungselementen ist der besondere Nachteil verbunden, daß sie vor Tageslicht geschützt werden müssen. Ferner ist auch die Stabilität der Empfindlichkeit hinsichtlich der Lagerzeit und Lagerbedingungen problematisch. Im Markt zeichnet sich deutlich eine Tendenz zu wärmeempfindlichen Druckplattenvorläufern ab.On the other hand, there are also processes in which image-forming elements that are more sensitive to heat than to radiation are used to produce printing plates. The radiation-sensitive image-forming elements used to produce a printing plate as described above have the particular disadvantage that they must be protected from daylight. Furthermore, the stability of the sensitivity with regard to storage time and storage conditions is also problematic. There is a clear trend in the market towards heat-sensitive printing plate precursors.

So beschreibt zum Beispiel Research Disclosure Nr. 33303, Januar 1992, ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement, das auf einem Träger eine vernetzte hydrophile Schicht mit thermoplastischen polymeren Teilchen und einem infrarotabsorbierenden Pigment wie z. B. Gasruß enthält. Bei bildmäßiger Belichtung mit einem Infrarotlaser koagulieren die thermoplastischen polymeren Teilchen bildmäßig, wodurch die Oberfläche des Bilderzeugungselements an diesen Bereichen ohne weitere Entwicklung farbanziehend gemacht wird. Als Nachteil dieses Verfahrens gilt die hohe Beschädigungsanfälligkeit der erhaltenen Druckplatte, denn die nicht-druckenden Bereiche können bei Ausübung eines leichten Drucks auf diese Bereiche farbanziehend werden. Außerdem kann die lithografische Leistung einer solchen Druckplatte unter kritischen Bedingungen schwach sein und wird eine solche Druckplatte demnach einen beschränkten lithografischen Druckspielraum aufweisen.For example, Research Disclosure No. 33303, January 1992, describes a heat-sensitive imaging element comprising a cross-linked hydrophilic layer of thermoplastic polymer particles and an infrared-absorbing pigment such as carbon black on a support. When exposed imagewise to an infrared laser, the thermoplastic polymer particles coagulate imagewise, rendering the surface of the imaging element ink-accepting at those areas without further development. A disadvantage of this process is the high susceptibility to damage of the resulting printing plate, since the non-printing areas can become ink-accepting when light pressure is applied to those areas. In addition, the lithographic performance of such a printing plate can be poor under critical conditions and such a printing plate will therefore have a limited lithographic printing latitude.

Die US-P 4 708 925 offenbart ein Bilderzeugungselement mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung, die ein alkalilösliches Novolakharz und ein Oniumsalz und wahlweise einen IR-Sensibilisator enthält. Nach bildmäßiger Bestrahlung dieses Bilderzeugungselements mit UV-Licht - sichtbarem Licht - oder IR- Licht und einer anschließenden Entwicklungsstufe mit einer wäßrigalkalischen Flüssigkeit wird eine positivarbeitende oder negativarbeitende Druckplatte erhalten.US-P 4,708,925 discloses an imaging element with a radiation-sensitive composition containing an alkali-soluble novolak resin and an onium salt and optionally an IR sensitizer. After image-wise irradiation of this imaging element with UV light - visible light - or IR light and a subsequent development step with an aqueous alkaline liquid, a positive-working or negative-working printing plate is obtained.

Die EP-A 625 728 offenbart ein Bilderzeugungselement mit einer Schicht, die gegenüber UV- und IR-Strahlung empfindlich ist und sowohl positivarbeitend als auch negativarbeitend sein kann. Diese Schicht enthält ein Resolharz, ein Novolakharz, eine latente Brönsted-Säure und eine Infrarotstrahlung absorbierende Substanz.EP-A 625 728 discloses an imaging element comprising a layer sensitive to UV and IR radiation and can be both positive-working and negative-working. This layer contains a resol resin, a novolak resin, a latent Brönsted acid and a substance that absorbs infrared radiation.

In EP-A 738 930 wird ein Bilderzeugungselement offenbart, das ein Substrat und ein bilderzeugendes Medium enthält, wobei das Medium (a) eine bei einer ersten Wellenlänge im Ultraviolett- /Blaubereich absorbierende Verbindung und (b) einen bei einer zweiten, längeren Wellenlänge als die erste Wellenlänge absorbierenden Farbstoff enthält, wobei die Absorption der Verbindung (a) bei der ersten Wellenlänge durch Bestrahlung bei der zweiten Wellenlänge gebleicht wird. Geeignete Belichtungsverweilzeiten variieren zwischen etwa 1 us und etwa 0,1 us.EP-A 738 930 discloses an imaging element comprising a substrate and an imaging medium, the medium comprising (a) a compound absorbing at a first wavelength in the ultraviolet/blue region and (b) a dye absorbing at a second wavelength longer than the first wavelength, the absorption of the compound (a) at the first wavelength being bleached by irradiation at the second wavelength. Suitable exposure dwell times vary between about 1 µs and about 0.1 µs.

In GB-1 492 070 wird eine Flachdruckplatte offenbart, die eine Schicht aus für Ultraviolettlicht empfindlichem Material und darüber vergossen eine zweite Schicht enthält, die undurchlässig für Ultraviolettlicht ist und durch Laserbestrahlung, jedoch keine Ultraviolettlaserstrahlung, entfernt oder für Ultraviolettlicht durchlässig gemacht werden kann.GB-1 492 070 discloses a planographic printing plate comprising a layer of material sensitive to ultraviolet light and coated thereon a second layer which is opaque to ultraviolet light and can be removed or made transparent to ultraviolet light by laser irradiation, but not ultraviolet laser radiation.

In EP-A 464 270 wird ein Verfahren bereitgestellt, in dem ein Band oder eine Platte, das (die) mit strahlungsempfindlichen Bereichen versehen ist, mit Buchstaben beschrieben wird, wobei die Buchstaben durch Laserbestrahlung darauf geschrieben werden und nach Entwicklung der strahlungsempfindlichen Bereiche des Bandes eine Schutzschicht auf zumindest die zu beschreibenden Bereiche des Bandes aufgetragen wird, die aufzuschreibenden Buchstaben durch den Laserstrahl auf die Schutzschicht geschrieben werden und das Material der strahlungsempfindlichen Bereiche unter den beschriebenen Bereichen der Schutzschicht entfernt wird.EP-A 464 270 provides a method in which a tape or a plate provided with radiation-sensitive areas is written with letters, the letters being written thereon by laser irradiation and, after developing the radiation-sensitive areas of the tape, a protective layer is applied to at least the areas of the tape to be written on, the letters to be written are written onto the protective layer by the laser beam and the material of the radiation-sensitive areas under the written areas of the protective layer is removed.

In FR-1561957 wird ein Bilderzeugungselement offenbart, das eine strahlungsempfindliche Schicht mit einem Bindemittel und einem im Bindemittel dispergierten flüssigen und/oder festen Material enthält, wobei das flüssige und/oder feste Material hydrophober ist als das Bindemittel.FR-1561957 discloses an imaging element comprising a radiation-sensitive layer comprising a binder and a liquid and/or solid material dispersed in the binder, the liquid and/or solid material being more hydrophobic than the binder.

In EP-A 580 394 werden verschiedene Arten von Bilderzeugungsgeräten offenbart, bei denen als Belichter Laser eingesetzt werden.EP-A 580 394 discloses various types of image forming devices in which lasers are used as exposure units.

In EP-A 803 771, die den aktuellen Stand der Technik gemäß Artikel 54 (3) EPC für lediglich die Vertragsstaaten DE, FR und GB darstellt, wird ein Bilderzeugungselement offenbart, das eine Ozasol N61-Druckplatte und darüber vergossen eine Deckschicht enthält, die u. a. Gasruß und Nitrocellulose enthält. Nach bildmäßiger Belichtung mit einem Infrarotlaser wird die Druckplatte mit einem Wattebausch abgewischt, um ablatiertes Material zu entfernen, anschließend mit UV-Licht belichtet und schließlich mit einem alkalischen Entwickler entwickelt.EP-A 803 771, which represents the current state of the art according to Article 54 (3) EPC for only the contracting states DE, FR and GB, discloses an imaging element comprising an Ozasol N61 printing plate and a coating layer coated thereon which contains, inter alia, carbon black and nitrocellulose. After imagewise exposure with an infrared laser, the printing plate is wiped with a cotton pad to remove ablated material, then exposed to UV light and finally developed with an alkaline developer.

Die oben besprochenen wärmeempfindlichen Bilderzeugungssysteme können mit Drehtrommelbelichtern, die mit einem oder mehreren Laserstrahlen (Innen- oder Außentrommelabtaster) arbeiten, bebildert werden. Damit ist der Nachteil verbunden, daß die Empfindlichkeit nicht immer befriedigend ist, insbesondere beim Einsatz von Innentrommelabtastern.The heat-sensitive image generation systems discussed above can be imaged using rotary drum exposure units that work with one or more laser beams (internal or external drum scanners). This has the disadvantage that the sensitivity is not always satisfactory, especially when using internal drum scanners.

3. Kurze Darstellung der vorliegenden Erfindung.3. Brief description of the present invention.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung von in praktischer und ökologischer Weise entwickelbaren positivarbeitenden lithografischen Druckplatten mit hervorragenden Druckeigenschaften bereitzustellen.The object of the present invention is to provide a process for the production of positive-working lithographic printing plates with excellent printing properties that can be developed in a practical and ecological manner.

Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung von positivarbeitenden lithografischen Druckplatten, die mit einer verbesserten Empfindlichkeit aufwarten und auf einem Innentrommelabtaster bebilderbar sind, bereitzustellen.A further object of the present invention is to provide a process for producing positive-working lithographic printing plates which have improved sensitivity and can be imaged on an internal drum scanner.

Weitere Aufgaben der vorliegenden Erfindung sind aus der nachstehenden Beschreibung ersichtlich.Further objects of the present invention will become apparent from the following description.

Gelöst werden die erfindungsgemäßen Aufgaben durch ein durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnetes Verfahren zur Herstellung von hochempfindlichen lithografischen Druckplatten: bildmäßige Belichtung eines positiven wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements, das auf einer lithografischen Unterlage mit einer hydrophilen Oberfläche eine hydrophobe, gegenüber Infrarotstrahlung empfindliche strahlungsempfindliche Schicht enthält, mit einem im Wellenlängenbereich zwischen 700 und 1500 nm emittierenden Laser und, ohne irgendwelche weitere Verarbeitung, ausgenommen eine eventuelle Wärmeverarbeitung, Entwicklung des Bilderzeugungselements in einer wäßrig-alkalischen Lösung, dadurch gekennzeichnet, daß der Infrarotlaser eine Pixelverweilzeit von weniger als 0,075 us aufweist.The objects of the invention are achieved by a process for producing highly sensitive lithographic printing plates characterized by the following steps: imagewise exposure of a positive heat-sensitive imaging element which contains a hydrophobic radiation-sensitive layer sensitive to infrared radiation on a lithographic base with a hydrophilic surface, with a wavelength range between 700 and 1500 nm emitting laser and, without any further processing except possible heat processing, developing the imaging element in an aqueous alkaline solution, characterized in that the infrared laser has a pixel residence time of less than 0.075 us.

Nach Belichtung wird das wärmeempfindliche Bilderzeugungselement in einem einfachen Naßreinigungsvorgang durch Spülung mit einer wäßrig-alkalischen Lösung entwickelt.After exposure, the heat-sensitive imaging element is developed in a simple wet cleaning process by rinsing with an aqueous alkaline solution.

4. Ausführliche Beschreibung der vorliegenden Erfindung.4. Detailed description of the present invention.

Man hat gefunden, daß in der vorliegenden Erfindung unter Verwendung eines obenbeschriebenen wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements hochqualitative positivarbeitende lithografische Druckplatten mit verbesserter Empfindlichkeit erhältlich sind, indem das Bilderzeugungselement mit einem Infrarotlaser mit einer Pixelverweilzeit von weniger als 0,075 us, vorzugsweise von höchstens 0,05 us belichtet wird. Die Druckplatten werden in ökologisch akzeptabler Weise hergestellt.It has been found that in the present invention, using a heat-sensitive imaging element as described above, high quality positive working lithographic printing plates with improved sensitivity can be obtained by exposing the imaging element to an infrared laser with a pixel dwell time of less than 0.075 µs, preferably of at most 0.05 µs. The printing plates are produced in an ecologically acceptable manner.

Die erfindungsgemäße bildmäßige Belichtung ist eine bildmäßige Abtastbelichtung unter Verwendung eines im. Infrarotbereich oder nahen Infrarotbereich, d. h. im Wellenlängenbereich zwischen 700 und 1500 nm, emittierenden Lasers. Ganz besonders bevorzugt sind im nahen Infrarotbereich emittierende Laserdioden.The imagewise exposure according to the invention is an imagewise scanning exposure using a laser emitting in the infrared or near infrared range, i.e. in the wavelength range between 700 and 1500 nm. Laser diodes emitting in the near infrared range are particularly preferred.

Als Bilderzeugungsgerät für die bildmäßige Laserbelichtung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements verwendet man einen Innentrommelabtaster oder Flachbettabtaster, wobei das Bilderzeugungselement mit einem Laserstrahl oder einer beschränkten Anzahl von Laserstrahlen mit kurzer Pixelverweilzeit (0,01 us bis 0,07 us) belichtet wird.An internal drum scanner or flatbed scanner is used as the imaging device for image-wise laser exposure of the heat-sensitive imaging element, whereby the imaging element is exposed to a laser beam or a limited number of laser beams with a short pixel dwell time (0.01 µs to 0.07 µs).

Die gegenüber Infrarotstrahlung empfindliche Schicht enthält eine infrarotabsorbierende Verbindung und ein Bindemittelharz. Besonders nutzbare infrarotabsorbierende Verbindungen sind zum Beispiel Infrarotfarbstoffe, Metallcarbide, Metallboride, Metallnitride, Metallcarbonitride, Oxide mit einer Bronzestruktur und Oxide mit einer der Bronzefamilie verwandten Struktur, doch ohne den A-Bestandteil, z. B. WO2,9. Bevorzugt jedoch als infrarotabsorbierende Verbindung wird Gasruß. Als Bindemittelharz kommen Cellulose und Cellulose-Derivate, Celluloseester, z. B. Celluloseacetat, Cellulosenitrat usw., ein Copolymer aus Vinylidenchlorid und Acrylnitril, Poly(meth)acrylate, Polyvinylchlorid, Phenolharze, z. B. Phenolformaldehyd, Kresolformaldehyd, Novolak usw., (aromatische oder alifatische) Polyester, Polystyrole, Polycarbonate, z. B. Bisphenol A enthaltende Polycarbonate, und Copolymere oder Terpolymere der obigen Elemente in Frage.The layer sensitive to infrared radiation contains an infrared-absorbing compound and a binder resin. Particularly useful infrared-absorbing compounds are, for example, infrared dyes, metal carbides, metal borides, metal nitrides, metal carbonitrides, oxides with a bronze structure and oxides with a structure related to the bronze family but without the A component, e.g. WO2,9. Preferably, however, as Carbon black is an infrared-absorbing compound. Suitable binder resins are cellulose and cellulose derivatives, cellulose esters, e.g. cellulose acetate, cellulose nitrate, etc., a copolymer of vinylidene chloride and acrylonitrile, poly(meth)acrylates, polyvinyl chloride, phenolic resins, e.g. phenol formaldehyde, cresol formaldehyde, novolak, etc., (aromatic or aliphatic) polyesters, polystyrenes, polycarbonates, e.g. polycarbonates containing bisphenol A, and copolymers or terpolymers of the above elements.

Zwischen die gegenüber Infrarotstrahlung empfindliche Schicht und die lithografische Unterlage kann in der vorliegenden Erfindung eine thermisch härtbare Schicht eingefügt werden, die ein selbsthärtendes hydrophobes Polymer oder einen Härter und ein hydrophobes Polymer enthält und löslich ist in einer wäßrigen Entwicklerlösung, besonders bevorzugt in einer wäßrig-alkalischen Entwicklerlösung mit einem vorzugsweise zwischen 7,5 und 14 liegenden pH-Wert. Bei den in dieser Schicht verwendeten alkalilöslichen Bindemitteln handelt es sich vorzugsweise um hydrophobe Bindemittel wie die in herkömmlichen positiv- oder negativarbeitenden PS-Platten benutzten, z. B. Novolak, Polyvinylphenole, carboxylsubstituierte Polymere usw. Typische Beispiele für diese Polymere sind in DE-A 40 07 428, DE-A 40 27 301 und DE-A 4 445 820 beschrieben. Das in der vorliegenden Erfindung benutzte hydrophobe Bindemittel ist fernerhin durch Unlöslichkeit in Wasser und partielle Löslichkeit/Quellbarkeit in einer alkalischen Lösung und/oder durch partielle Löslichkeit in Wasser bei Kombination mit einem Cosolvens gekennzeichnet. Weiterhin ist diese in wäßrig-alkalischer Lösung lösliche Schicht vorzugsweise eine gegenüber sichtbarem Licht oder UV-Licht desensibilisierte Schicht, die thermisch härtbar und farbanziehend ist. Diese gegenüber sichtbarem Licht oder UV-Licht desensibilisierte Schicht enthält keine strahlungsempfindlichen Ingredienzien wie Diazoverbindungen, Fotosäuren, Fotoinitiatoren, Chinondiazide, Sensibilisatoren usw., die im Wellenlängenbereich zwischen 250 nm und 650 nm absorbieren.In the present invention, a thermally curable layer can be inserted between the infrared radiation-sensitive layer and the lithographic base, which layer contains a self-curing hydrophobic polymer or a hardener and a hydrophobic polymer and is soluble in an aqueous developer solution, particularly preferably in an aqueous alkaline developer solution with a pH value preferably between 7.5 and 14. The alkali-soluble binders used in this layer are preferably hydrophobic binders such as those used in conventional positive or negative working PS plates, e.g. novolak, polyvinylphenols, carboxyl-substituted polymers, etc. Typical examples of these polymers are described in DE-A 40 07 428, DE-A 40 27 301 and DE-A 4 445 820. The hydrophobic binder used in the present invention is further characterized by insolubility in water and partial solubility/swellability in an alkaline solution and/or partial solubility in water when combined with a cosolvent. Furthermore, this layer which is soluble in an aqueous alkaline solution is preferably a layer desensitized to visible light or UV light, which is thermally curable and ink-attracting. This layer desensitized to visible light or UV light does not contain any radiation-sensitive ingredients such as diazo compounds, photoacids, photoinitiators, quinonediazides, sensitizers, etc., which absorb in the wavelength range between 250 nm and 650 nm.

Nach einer erfindungsgemäßen Ausführungsform kann der lithografische Träger ein eloxierter Aluminiumträger sein. Ein besonders bevorzugter lithografischer Träger ist ein elektrochemisch gekörnter und eloxierter Aluminiumträger. Der eloxierte Aluminiumträger kann in der vorliegenden Erfindung einer Verarbeitung zur Verbesserung der hydrophilen Eigenschaften der Trägeroberfläche unterzogen werden. So kann der Aluminiumträger zum Beispiel durch Verarbeitung der Trägeroberfläche mit einer Natriumsilikatlösung bei erhöhter Temperatur, z. B. 95ºC, silikatiert werden. Als Alternative kann eine Phosphatverarbeitung vorgenommen werden, wobei die Aluminiumoxidoberfläche mit einer wahlweise fernerhin ein anorganisches Fluorid enthaltenden Phosphatlösung verarbeitet wird. Ferner kann die Aluminiumoxidoberfläche mit einer Zitronensäure- oder Citratlösung gespült werden. Diese Behandlung kann bei Zimmertemperatur oder bei leicht erhöhter Temperatur zwischen etwa 30ºC und 50ºC erfolgen. Eine andere interessante Methode besteht in einer Spülung der Aluminiumoxidoberfläche mit einer Bicarbonatlösung. Ferner liegt es nahe, daß eine oder mehrere dieser Nachbehandlungen separat oder kombiniert vorgenommen werden können.According to an embodiment of the invention, the lithographic support may be an anodized aluminum support. A particularly preferred lithographic support is an electrochemically grained and anodized aluminum support. The anodized In the present invention, aluminum support can be subjected to processing to improve the hydrophilic properties of the support surface. For example, the aluminum support can be silicated by treating the support surface with a sodium silicate solution at an elevated temperature, e.g. 95°C. Alternatively, phosphate processing can be carried out, whereby the aluminum oxide surface is treated with a phosphate solution optionally further containing an inorganic fluoride. Furthermore, the aluminum oxide surface can be rinsed with a citric acid or citrate solution. This treatment can be carried out at room temperature or at a slightly elevated temperature between about 30°C and 50°C. Another interesting method is to rinse the aluminum oxide surface with a bicarbonate solution. Furthermore, it is obvious that one or more of these post-treatments can be carried out separately or in combination.

Nach einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung enthält der lithografische Träger einen biegsamen Träger, wie z. B. einen Papierträger oder eine Kunststoffolie, der (die) mit einer vernetzten hydrophilen Schicht überzogen ist. Eine besonders geeignete vernetzte hydrophile Schicht kann aus einem hydrophilen, mit einem Vernetzungsmittel wie Formaldehyd, Glyoxal, Polyisocyanat oder einem hydrolysierten Tetraalkylorthosilikat vernetzten Bindemittel erhalten werden. Letzteres Bindemittel wird bevorzugt.According to a further embodiment of the present invention, the lithographic support comprises a flexible support, such as a paper support or a plastic film, coated with a cross-linked hydrophilic layer. A particularly suitable cross-linked hydrophilic layer can be obtained from a hydrophilic binder cross-linked with a cross-linking agent such as formaldehyde, glyoxal, polyisocyanate or a hydrolyzed tetraalkyl orthosilicate. The latter binder is preferred.

Als hydrophiles Bindemittel kommen hydrophile (Co)polymere wie zum Beispiel Homopolymere und Copolymere von Vinylalkohol, Acrylamid, Methylolacrylamid, Methylolmethacrylamid, Acrylsäure, Methacrylsäure, Hydroxyethylacrylat, Hydroxyethylmethacrylat oder Maleinsäureanhydrid-Vinylmethylether-Copolymere in Frage. Die Hydrophilie des benutzten (Co)polymers oder (Co)polymergemisches ist vorzugsweise höher oder gleich der Hydrophilie von zu wenigstens 60 Gew.-%, vorzugsweise zu wenigstens 80 Gew.-% hydrolysiertem Polyvinylacetat.Hydrophilic (co)polymers such as homopolymers and copolymers of vinyl alcohol, acrylamide, methylolacrylamide, methylolmethacrylamide, acrylic acid, methacrylic acid, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate or maleic anhydride-vinyl methyl ether copolymers are suitable as hydrophilic binders. The hydrophilicity of the (co)polymer or (co)polymer mixture used is preferably higher than or equal to the hydrophilicity of at least 60% by weight, preferably at least 80% by weight, hydrolyzed polyvinyl acetate.

Die Menge Vernetzungsmittel, insbesondere Tetraalkylorthosilikat, beträgt vorzugsweise wenigstens 0,2 Gewichtsteile je Gewichtsteil hydrophiles Bindemittel, liegt vorzugsweise zwischen 0,5 und 5 Gewichtsteilen, besonders bevorzugt zwischen 1,0 Gewichtsteil und 3 Gewichtsteilen je Gewichtsteil hydrophiles Bindemittel.The amount of crosslinking agent, in particular tetraalkyl orthosilicate, is preferably at least 0.2 parts by weight per part by weight of hydrophilic binder, preferably between 0.5 and 5 parts by weight, particularly preferably between 1.0 part by weight and 3 parts by weight per part by weight of hydrophilic binder.

Eine vernetzte hydrophile Schicht in einem nach dieser Ausführungsform benutzten lithografischen Träger enthält vorzugsweise ebenfalls Substanzen, die die mechanische Festigkeit und Porosität der Schicht verbessern. Zu diesem Zweck kann kolloidale Kieselsäure benutzt werden. Die kolloidale Kieselsäure kann in Form einer beliebigen handelsüblichen Wasserdispersion von kolloidaler Kieselsäure mit zum Beispiel einer mittleren Teilchengröße bis zu 40 nm, z. B. 20 nm, benutzt werden. Daneben können inerte Teilchen mit einer größeren Korngröße als die kolloidale Kieselsäure zugesetzt werden, z. B. Kieselsäure, die wie in J. Colloid and Interface Sci., Band 26, 1968, Seiten 62 bis 69, von Stöber beschrieben angefertigt ist, oder Tonerdeteilchen oder Teilchen mit einem mittleren Durchmesser von wenigstens 100 nm, wobei es sich um Teilchen von Titandioxid oder anderen Schwermetalloxiden handelt. Durch Einbettung dieser Teilchen wird der Oberfläche der vernetzten hydrophilen Schicht eine gleichmäßige rauhe Beschaffenheit mit mikroskopischen Spitzen und Tälern vermittelt, die als Lagerstellen für Wasser in Hintergrundbereichen dienen.A cross-linked hydrophilic layer in a lithographic support used according to this embodiment preferably also contains substances which improve the mechanical strength and porosity of the layer. For this purpose, colloidal silica can be used. The colloidal silica can be used in the form of any commercially available water dispersion of colloidal silica with, for example, an average particle size of up to 40 nm, e.g. 20 nm. In addition, inert particles with a larger grain size than the colloidal silica can be added, e.g. silica prepared as described in J. Colloid and Interface Sci., Volume 26, 1968, pages 62 to 69, by Stöber, or alumina particles or particles with an average diameter of at least 100 nm, which are particles of titanium dioxide or other heavy metal oxides. By embedding these particles, the surface of the cross-linked hydrophilic layer is given a uniform rough texture with microscopic peaks and valleys that serve as storage sites for water in background areas.

Die Stärke einer vernetzten hydrophilen Schicht in einem nach dieser Ausführungsform benutzten lithografischen Träger kann zwischen 0,2 um und 25 um variieren und liegt vorzugsweise zwischen 1 um und 10 um.The thickness of a cross-linked hydrophilic layer in a lithographic support used according to this embodiment can vary between 0.2 µm and 25 µm and is preferably between 1 µm and 10 µm.

Besondere Beispiele für erfindungsgemäß nutzbare geeignete vernetzte hydrophile Schichten sind in EP-A 601 240, GB-P 1 419 512, FR-P 2 300 354, US-P 3 971 660, US-P 4 284 705 und EP-A 514 490 beschrieben.Particular examples of suitable crosslinked hydrophilic layers usable according to the invention are described in EP-A 601 240, GB-P 1 419 512, FR-P 2 300 354, US-P 3 971 660, US-P 4 284 705 and EP-A 514 490.

Als biegsamer Träger eines lithografischen Trägers nach dieser Ausführungsform bevorzugt man insbesondere eine Kunststoffolie, z. B. eine substrierte Polyethylenterephthalatfolie, Celluloseacetatfolie, Polystyrolfolie, Polycarbonatfolie usw. Der Kunststoffolienträger kann lichtundurchlässig oder lichtdurchlässig sein.As a flexible support of a lithographic support according to this embodiment, a plastic film is particularly preferred, e.g. a subbed polyethylene terephthalate film, cellulose acetate film, polystyrene film, polycarbonate film, etc. The plastic film support can be opaque or translucent.

Besonders bevorzugt ist ein mit einer haftungsverbessernden Schicht beschichteter Polyesterfilmträger. Zur erfindungsgemäßen Verwendung besonders geeignete haftungsverbessernde Schichten enthalten ein hydrophiles Bindemittel und kolloidale Kieselsäure, wie in den EP-A 619 524, EP-A 620 502 und EP-A 619 525 beschrieben. Die Menge Kieselsäure in der haftungsverbessernden Schicht liegt vorzugsweise zwischen 200 mg/m² und 750 mg/m². Weiterhin liegt das Verhältnis von Kieselsäure zu hydrophilem Bindemittel vorzugsweise über 1 und beträgt die spezifische Oberfläche der kolloidalen Kieselsäure vorzugsweise wenigstens 300 m²/g, besonders bevorzugt zumindest 500 m²/g.A polyester film carrier coated with an adhesion-improving layer is particularly preferred. Adhesion-improving layers particularly suitable for use according to the invention contain a hydrophilic binder and colloidal silica, as described in EP-A 619 524, EP-A 620 502 and EP-A 619 525. The amount of silica in the adhesion-improving layer is preferably between 200 mg/m² and 750 mg/m². Furthermore, the ratio of silica to hydrophilic binder is preferably above 1 and the specific surface area of the colloidal silica is preferably at least 300 m²/g, particularly preferably at least 500 m²/g.

Nach der bildmäßigen Belichtung wird das wärmeempfindliche Bilderzeugungselement ohne irgendwelche zusätzliche Verarbeitung, ausgenommen eine Wärmeverarbeitung, durch Spülung mit einer wäßrigalkalischen Entwicklerlösung entwickelt. Diese Entwicklung ist ein einfacher Reinigungsvorgang unter Verwendung von Entwicklerlösungen mit einem pH zwischen 7,5 und 14, wie die für die Entwicklung von herkömmlichen positiv- oder negativarbeitenden vorsensibilisierten Druckplatten benutzten Entwicklerlösungen. Es werden keine zusätzlichen Vorverarbeitungsstufen wie Voreinbrennen durchgeführt.After image-wise exposure, the heat-sensitive imaging element is developed by rinsing with an aqueous alkaline developer solution without any additional processing other than heat processing. This development is a simple cleaning process using developer solutions with a pH between 7.5 and 14, such as the developer solutions used for developing conventional positive or negative working presensitized printing plates. No additional preprocessing steps such as prebaking are carried out.

Nach der Naßentwicklung des bildmäßig belichteten Bilderzeugungselements mit einer wäßrig-alkalischen Lösung und Trocknung kann die erhaltene Druckplatte ohne weitere Verarbeitung als Druckplatte eingesetzt werden. Allerdings kann die Druckplatte zum Verbessern der Auflagenfestigkeit noch bei einer Temperatur zwischen 200ºC und 250ºC über einen Zeitraum von 5 Minuten bis 1 Minute eingebrannt werden.After wet development of the image-wise exposed imaging element with an aqueous alkaline solution and drying, the resulting printing plate can be used as a printing plate without further processing. However, to improve the print run stability, the printing plate can be baked at a temperature between 200ºC and 250ºC for a period of 5 minutes to 1 minute.

Die vorliegende Erfindung wird jetzt anhand der folgenden Beispiele veranschaulicht, ohne sie jedoch darauf zu beschränken. Alle Teile und Prozentsätze bedeuten Gewichtsteile, wenn nichts anders vermerkt ist.The present invention will now be illustrated by the following examples, but is not limited thereto. All parts and percentages are by weight unless otherwise indicated.

BEISPIELEEXAMPLES Beispiel 1: positivarbeitende Thermoplatte, die mit einer Pixelverweilzeit < 0,075 us bebilderbar istExample 1: positive-working thermal plate that can be imaged with a pixel dwell time < 0.075 us Herstellung der lithografischen DruckplatteProduction of the lithographic printing plate

Auf eine Ozasol N61-Druckplatte (negativarbeitende Druckplatte von AGFA) vergießt man eine IR-empfindliche Zusammensetzung auf der Basis einer Gasrußdispersion, die die folgenden Ingredienzien in Gewichtsteilen enthält.An IR-sensitive composition based on a gas black dispersion containing the following ingredients in parts by weight is coated onto an Ozasol N61 printing plate (negative-working printing plate from AGFA).

Ethylacetat 579,7Ethyl acetate 579.7

Butylacetat 386,5Butyl acetate 386.5

Special Schwarz 250 (Gasruß von Degussa) 16,7Special Black 250 (gas black from Degussa) 16.7

Nitrocellulose E950 (erhältlich durch Wolff Walsrode) 12,3Nitrocellulose E950 (available from Wolff Walsrode) 12.3

Solsperse 5000 (Netzmittel erhältlich durch ICI) 0,3Solsperse 5000 (wetting agent available from ICI) 0.3

Solsperse 28000 (Netzmittel erhältlich durch ICI) 1,7Solsperse 28000 (wetting agent available from ICI) 1.7

Cymel 301 (Melamin-Härter erhältlich durch Dyno Cyanamid) 2,3Cymel 301 (melamine hardener available from Dyno Cyanamid) 2.3

p-Toluolsulfonsäure 0,5p-Toluenesulfonic acid 0.5

Die UV-empfindliche Schicht der Ozasol N61-Druckplatte wird zusammen mit der IR-empfindlichen Zusammensetzung mittels einer Walzenstreichmaschine in einer Naßschichtstärke von 20 um aufgetragen.The UV-sensitive layer of the Ozasol N61 printing plate is applied together with the IR-sensitive composition using a roller coater in a wet film thickness of 20 µm.

Belichtung mit einer Pixelverweilzeit < 0,075 usExposure with a pixel dwell time < 0.075 us

Die IR-empfindliche Druckplatte wird mit einem bei 1064 nm emittierenden Nd-YAG-Infrarotlaser in einer Innentrommelkonfiguration (Abtastgeschwindigkeit 218 m/s, Pixelverweilzeit 0,05 us, Strahlbreite 14 um und Laserleiste auf der Oberfläche des Bilderzeugungselements variierend zwischen 2 und 6 W) abgetastet. Nach dieser Belichtung ist ein Teil der IR-empfindlichen Maske in den Bereichen, auf die die Laserstrahlung aufgetroffen ist, verschwunden.The IR-sensitive printing plate is scanned with a Nd-YAG infrared laser emitting at 1064 nm in an internal drum configuration (scanning speed 218 m/s, pixel dwell time 0.05 us, beam width 14 um and laser bar on the surface of the imaging element varying between 2 and 6 W). After this exposure, part of the IR-sensitive mask has disappeared in the areas where the laser radiation has struck.

Anschließend wird das Bilderzeugungselement mit Ozasol EN143 (Entwicklerlösung von AGFA) entwickelt, wobei die IR-bebilderten Teile entfernt werden und dabei eine positive Druckplatte erhalten wird. Die gemessene Empfindlichkeit beträgt 60 mJ/cm².The imaging element is then developed with Ozasol EN143 (AGFA developer solution), removing the IR-imaged parts and obtaining a positive printing plate. The measured sensitivity is 60 mJ/cm².

Nach Verarbeitung wird die Druckplatte in eine GTO46-Offsetpresse eingespannt und unter Verwendung von K + E 123W als Druckfarbe und Rotamatic als Feuchtwasser in einem Druckzyklus eingesetzt. Es wird eine gute Druckqualität ohne Farbaufnahme in den IR-bebilderten Bereichen erhalten.After processing, the printing plate is clamped into a GTO46 offset press and used in a printing cycle using K + E 123W as printing ink and Rotamatic as fountain solution. Good printing quality is achieved without ink absorption in the IR-imaged areas.

Beispiel 2: positivarbeitende Thermoplatte auf der Basis eines alkalilöslichen Bindemittels Infrarotlaserbelichtung mit kurzer Pixelverweilzeit (0,05 us)Example 2: positive-working thermal plate based on an alkali-soluble binder Infrared laser exposure with short pixel dwell time (0.05 us) Herstellung der lithografischen UnterlageProduction of the lithographic base

Eine 0,20 mm starke Aluminiumfolie wird durch Eintauchen der Folie in einer wäßrigen, 5 g/l Natriumhydroxid enthaltenden Lösung bei 50ºC entfettet und mit entmineralisiertem Wasser gespült. Die Folie wird dann bei einer Temperatur von 35ºC und einer Stromdichte von 1.200 A/m² in einer wäßrigen Lösung, die 4 g/l Chlorwasserstoffsäure, 4 g/l Borwasserstoffsäure und 5 g/l Aluminiumionen enthält, mit Wechselstrom elektrochemisch gekörnt, um eine Oberflächentopografie mit einem arithmetischen Mittenrauhwert Ra von 0,5 um zu erhalten.A 0.20 mm thick aluminium foil is degreased by immersing the foil in an aqueous solution containing 5 g/l sodium hydroxide at 50ºC and rinsed with demineralised water. The foil is then electrochemically grained with alternating current at a temperature of 35ºC and a current density of 1,200 A/m² in an aqueous solution containing 4 g/l hydrochloric acid, 4 g/l hydroboric acid and 5 g/l aluminium ions to obtain a surface topography with an arithmetic mean roughness Ra of 0.5 µm.

Nach Spülung mit entmineralisiertem Wasser wird die Aluminiumfolie mit einer wäßrigen, 300 g/l Schwefelsäure enthaltenden Lösung 180 s bei 60ºC geätzt und anschließend 30 s bei 25ºC mit entmineralisiertem Wasser gespült.After rinsing with demineralized water, the aluminium foil is etched with an aqueous solution containing 300 g/l sulfuric acid for 180 s at 60ºC and then rinsed with demineralized water for 30 s at 25ºC.

Anschließend wird die Folie bei einer Temperatur von 45ºC, einer Spannung von etwa 10 V und einer Stromdichte von 150 A/m² etwa 300 s in einer wäßrigen, 200 g/l Schwefelsäure enthaltenden Lösung eloxiert, um eine anodische, 3,00 g/m² Al&sub2;O&sub3; enthaltende Oxidationsfolie zu erhalten, anschließend mit entmineralisiertem Wasser gewaschen, mit einer 20 g/l Natriumbicarbonat enthaltenden Lösung 30 s bei 40ºC verarbeitet, danach mit entmineralisiertem Wasser 120 s bei 20ºC gespült und getrocknet.The foil is then anodised at a temperature of 45ºC, a voltage of about 10 V and a current density of 150 A/m² for about 300 s in an aqueous solution containing 200 g/l of sulphuric acid to obtain an anodic oxidation foil containing 3.00 g/m² of Al₂O₃, then washed with demineralised water, treated with a solution containing 20 g/l of sodium bicarbonate Solution processed for 30 s at 40ºC, then rinsed with demineralized water for 120 s at 20ºC and dried.

Herstellung des BilderzeugungselementsManufacturing of the imaging element

Auf eine lithografische Unterlage wird zunächst in einer Naßschichtstärke von 20 um eine 5 gew.-%ige Lösung von MARUKA LYNCUR M H-2 (Homopolymer von Polyvinylphenol von Maruzen Co.) in Methylethylketon aufgetragen. Diese Schicht wird 10 Minuten bei 40ºC getrocknet.A 5 wt.% solution of MARUKA LYNCUR M H-2 (homopolymer of polyvinylphenol from Maruzen Co.) in methyl ethyl ketone is first applied to a lithographic base in a wet film thickness of 20 μm. This film is dried for 10 minutes at 40ºC.

Auf diese Schicht vergießt man anschließend in einer Naßschichtstärke von 20 um die IR-empfindliche Zusammensetzung auf der Basis einer Gasrußdispersion, die die folgenden Ingredienzien in Gewichtsteilen enthält.The IR-sensitive composition based on a gas black dispersion containing the following ingredients in parts by weight is then poured onto this layer in a wet layer thickness of 20 μm.

Ethylacetat 579,7Ethyl acetate 579.7

Butylacetat 386,5Butyl acetate 386.5

Special Schwarz 250 (Gasruß von Degussa) 16,7Special Black 250 (gas black from Degussa) 16.7

Nitrocellulose E950 (erhältlich durch Wolff Walsrode) 12,3Nitrocellulose E950 (available from Wolff Walsrode) 12.3

Solsperse 5000 (Netzmittel erhältlich durch ICI) 0,3Solsperse 5000 (wetting agent available from ICI) 0.3

Solsperse 28000 (Netzmittel erhältlich durch ICI) 1,7Solsperse 28000 (wetting agent available from ICI) 1.7

Cymel 301 (Melamin-Härter erhältlich durch Dyno Cyanamid) 2,3Cymel 301 (melamine hardener available from Dyno Cyanamid) 2.3

p-Toluolsulfonsäure 0,5p-Toluenesulfonic acid 0.5

Die IR-empfindliche Schicht wird 2 Minuten bei 120ºC getrocknet.The IR-sensitive layer is dried at 120ºC for 2 minutes.

Bildmäßige Belichtung und Verarbeitung des BilderzeugungselementsImage-wise exposure and processing of the imaging element

Die IR-empfindliche Druckplatte wird mit einem bei 1064 nm emittierenden Nd-YAG-Infrarotlaser in einer Innentrommelkonfiguration (Abtastgeschwindigkeit 218 m/s, Pixelverweilzeit 0,05 us, Strahlbreite 14 um und Laserleiste auf der Oberfläche des Bilderzeugungselements variierend zwischen 2 und 6 W) abgetastet. Nach dieser Belichtung ist ein Teil der IR-empfindlichen Maske in den Bereichen, auf die die Laserstrahlung aufgetroffen ist, verschwunden.The IR-sensitive printing plate is scanned with a Nd-YAG infrared laser emitting at 1064 nm in an inner drum configuration (scanning speed 218 m/s, pixel dwell time 0.05 us, beam width 14 um and laser bar on the surface of the imaging element varying between 2 and 6 W). After this exposure, a part of the IR-sensitive mask is in the areas where the laser radiation hit.

Anschließend wird das Bilderzeugungselement mit Ozasol EP26 (Entwicklerlösung von AGFA) entwickelt, wobei die IR-bebilderten Teile entfernt werden und dabei eine positive Druckplatte erhalten wird. Die gemessene Empfindlichkeit beträgt 45 mJ/cm².The imaging element is then developed with Ozasol EP26 (AGFA developer solution), removing the IR-imaged parts and obtaining a positive printing plate. The measured sensitivity is 45 mJ/cm².

Nach Verarbeitung wird die Druckplatte in eine GTO46-Offsetpresse eingespannt und unter Verwendung von K + E 123W als Druckfarbe und Rotamatic als Feuchtwasser in einem Druckzyklus eingesetzt. Es wird eine gute Druckqualität ohne Farbaufnahme in den IR-bebilderten Bereichen erhalten.After processing, the printing plate is clamped into a GTO46 offset press and used in a printing cycle using K + E 123W as printing ink and Rotamatic as fountain solution. Good printing quality is achieved without ink absorption in the IR-imaged areas.

Claims (10)

1. Ein durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnetes Verfahren zur Herstellung von hochempfindlichen lithografischen Druckplatten: bildmäßige Belichtung eines positiven wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements, das auf einer lithografischen Unterlage mit einer hydrophilen Oberfläche eine hydrophobe, gegenüber Infrarotstrahlung empfindliche strahlungsempfindliche Schicht enthält, mit einem im Wellenlängenbereich zwischen 700 und 1500 nm emittierenden Laser und, ohne irgendwelche weitere Verarbeitung, ausgenommen eine eventuelle Wärmeverarbeitung, Entwicklung des Bilderzeugungselements in einer wäßrig-alkalischen Lösung, dadurch gekennzeichnet, daß der Infrarotlaser eine Pixelverweilzeit von weniger als 0,075 us aufweist.1. A process for producing high-sensitivity lithographic printing plates characterized by the following steps: imagewise exposure of a positive heat-sensitive imaging element containing a hydrophobic radiation-sensitive layer sensitive to infrared radiation on a lithographic base with a hydrophilic surface with a laser emitting in the wavelength range between 700 and 1500 nm and, without any further processing except for any heat processing, developing the imaging element in an aqueous alkaline solution, characterized in that the infrared laser has a pixel residence time of less than 0.075 µs. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Wärmeempfindliche Bilderzeugungselement auf einem Innentrommelabtaster oder Flachbettabtaster belichtet wird.2. Method according to claim 1, characterized in that the heat-sensitive imaging element is exposed on an internal drum scanner or flatbed scanner. 3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das wärmeempfindliche Bilderzeugungselement in einem einfachen Naßreinigungsvorgang durch Spülung mit einer wäßrig-alkalischen Entwicklerlösung entwickelt wird.3. Method according to one of claims 1 or 2, characterized in that the heat-sensitive imaging element is developed in a simple wet cleaning process by rinsing with an aqueous alkaline developer solution. 4. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die hydrophobe, gegenüber Infrarotstrahlung empfindliche Schicht eine infrarotabsorbierende Verbindung und ein Bindemittelharz enthält.4. Method according to one of the preceding claims, characterized in that the hydrophobic layer sensitive to infrared radiation contains an infrared-absorbing compound and a binder resin. 5. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die hydrophobe, gegenüber Infrarotstrahlung empfindliche Schicht Nitrocellulose enthält.5. Process according to one of the preceding claims, characterized in that the hydrophobic layer sensitive to infrared radiation contains nitrocellulose. 6. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Bilderzeugungselement zwischen der lithografischen Unterlage und der hydrophoben, gegenüber Infrarotstrahlung empfindlichen Schicht eine thermisch härtbare Schicht enthält, die löslich ist meiner wäßrigen Entwicklerlösung und ein selbsthärtendes hydrophobes Polymer oder einen Härter und ein hydrophobes Polymer enthält.6. A method according to any one of the preceding claims, characterized in that the imaging element is disposed between the lithographic base and the hydrophobic Infrared radiation sensitive layer contains a thermally curable layer which is soluble in an aqueous developer solution and contains a self-curing hydrophobic polymer or a hardener and a hydrophobic polymer. 7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das selbsthärtende hydrophobe Polymer ein Phenolharz ist.7. Process according to claim 6, characterized in that the self-curing hydrophobic polymer is a phenolic resin. 8. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß die thermisch härtbare Schicht eine gegenüber sichtbarem Licht oder UV-Licht desensibilisierte Schicht ist.8. Process according to one of claims 6 or 7, characterized in that the thermally curable layer is a layer desensitized to visible light or UV light. 9. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die thermisch härtbare Schicht farbanziehend ist.9. Process according to one of claims 6 to 8, characterized in that the thermally curable layer is ink-attracting. 10. Ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die thermisch härtbare Schicht farbanziehend ist.10. A heat-sensitive imaging element according to any one of claims 7 to 9, characterized in that the thermally curable layer is ink-accepting.
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