DE69916773T2 - Heat-sensitive image recording material for producing positive-working planographic printing plates - Google Patents

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Description

TECHNISCHES GEBIET DER ERFINDUNGTECHNICAL FIELD OF THE INVENTION

Die vorliegende Erfindung betrifft ein zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte geeignetes wärmeempfindliches Bilderzeugungselement mit einer IR-empfindlichen Deckschicht.The The present invention relates to a process for producing a lithographic Pressure plate suitable heat-sensitive Image forming element with an IR-sensitive cover layer.

Die vorliegende Erfindung betrifft insbesondere ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte mit einer höheren Beständigkeit der Deckschicht gegen mechanische Beschädigung.The The present invention particularly relates to a heat-sensitive one Image forming element for producing a lithographic printing plate with a higher one resistance the cover layer against mechanical damage.

ALLGEMEINER STAND DER TECHNIKGENERAL STATE OF THE ART

Lithografischer Druck ist das Verfahren, bei dem das Drucken von speziell hergestellten Oberflächen her erfolgt, von denen bestimmte Bereiche lithografische Farbe anziehen und andere Bereiche nach Benetzung mit Wasser die Farbe abstoßen werden. Die farbanziehenden Bereiche bilden die druckenden Bildbereiche, die farbabstoßenden Bereiche die Hintergrundbereiche.lithographic Printing is the process by which the printing of specially made Surfaces of which certain areas attract lithographic color and other areas will repel color after wetting with water. The ink attracting areas form the printing image areas, the color repellent Areas the background areas.

Im Bereich der Fotolithografie wird ein fotografisches Material in den fotobelichteten Bereichen (negativarbeitend) oder in den nicht-belichteten Bereichen (positivarbeitend) auf einem hydrophilen Hintergrund bildmäßig ölige oder fette Farben anziehend gemacht.in the The field of photolithography becomes a photographic material in the photo-exposed areas (negative working) or in the unexposed areas Areas (positive) on a hydrophilic background imagewise oily or made bold colors attractive.

Bei der Herstellung üblicher lithografischer Druckplatten, ebenfalls als Oberflächenlithoplatten oder Flachdruckplatten bezeichnet, wird ein Träger, der eine Affinität zu Wasser aufweist oder solche Affinität durch eine chemische Verarbeitung erhalten hat, mit einer dünnen Schicht mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung überzogen. Als Schichten mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung eignen sich lichtempfindliche polymere Schichten, die Diazoverbindungen, dichromatsensibilisierte hydrophile Kolloide und eine Vielzahl synthetischer Fotopolymere enthalten. Insbesondere diazosensibilisierte Schichtverbände werden weit verbreitet eingesetzt.at the production of usual lithographic printing plates, also as surface litho plates or planographic printing plates, is a carrier that has an affinity to water or has such affinity obtained by a chemical processing, with a thin layer coated with a radiation-sensitive composition. As layers with a radiation-sensitive composition photosensitive polymeric layers, the diazo compounds, dichromate-sensitized hydrophilic colloids and a variety of synthetic Photopolymers included. In particular, diazosensitized layer dressings are widely used.

Während der bildmäßigen Belichtung der lichtempfindlichen Schicht werden die belichteten Bildbereiche unlöslich und bleiben die nicht-belichteten Bereiche löslich. Die Druckplatte wird anschließend mit einer geeigneten Flüssigkeit entwickelt, um das in den nicht-belichteten Bereichen enthaltene Diazoniumsalz oder Diazoharz zu entfernen.During the pictorial exposure the photosensitive layer becomes the exposed image areas insoluble and the non-exposed areas remain soluble. The printing plate will subsequently with a suitable liquid developed to contain that in the unexposed areas Diazonium salt or diazo resin to remove.

Es sind ebenfalls Druckplatten bekannt, die eine lichtempfindliche Schicht aufweisen, die bei bildmäßiger Belichtung in den belichteten Bereichen löslich gemacht wird. Während der darauf folgenden Entwicklung werden dann die belichteten Bereiche entfernt. Ein typisches Beispiel für eine solche lichtempfindliche Schicht ist eine Schicht auf Chinondiazidbasis.It are also printing plates known that a photosensitive Layer having the same imagewise exposure soluble in the exposed areas is done. While The subsequent development then becomes the exposed areas away. A typical example of such a photosensitive layer is a quinone diazide-based layer.

Die obenbeschriebenen fotografischen Materialien, die zur Herstellung der Druckplatten verwendet werden, belichtet man in der Regel in einer Kamera durch einen fotografischen Film, der das in einem lithografischen Druckverfahren zu reproduzierende Bild enthält. Eine solche Vorgehensweise ist zwar umständlich und arbeitsaufwendig, andererseits jedoch warten die so erhaltenen Druckplatten mit einer hervorragenden lithografischen Qualität auf.The above-described photographic materials used for the production the printing plates are used, one usually exposes in a camera through a photographic film that is in a lithographic Printing method to be reproduced image contains. Such an approach Although it is awkward and labor-intensive, on the other hand, however, await the obtained Printing plates with excellent lithographic quality.

Es sind denn auch Versuche gemacht worden, um auf den Einsatz eines fotografischen Films im obenbeschriebenen Verfahren verzichten zu können und insbesondere eine Druckplatte direkt auf der Basis von das zu reproduzierende Bild verkörpernden Computerdaten zu erzeugen. Die Empfindlichkeit der lichtempfindlichen Schicht ist aber nicht ausreichend für eine direkte Laserbelichtung. Demnach wurde vorgeschlagen, die lichtempfindliche Schicht mit einer Silberhalogenidschicht zu überziehen. Das Silberhalogenid kann dann direkt unter Rechnersteuerung mittels eines Lasers belichtet werden. Anschließend wird die Silberhalogenidschicht entwickelt und wird auf der lichtempfindlichen Schicht ein Silberbild erhalten. Dieses Silberbild dient dann als Maske während einer vollflächigen Belichtung der lichtempfindlichen Schicht. Nach der vollflächigen Belichtung wird das Silberbild entfernt und die lichtempfindliche Schicht entwickelt. Solch ein Verfahren ist beispielsweise in JP-A 60-61 752 beschrieben, beinhaltet jedoch den Nachteil, dass eine komplexe Entwicklung und zugehörige Entwicklerflüssigkeiten benötigt werden.It Since attempts have been made to the use of a photographic film in the above-described method can and in particular a printing plate directly on the basis of the reproducing image embodying To generate computer data. The sensitivity of the photosensitive Layer is not sufficient for a direct laser exposure. Accordingly, it has been proposed to provide the photosensitive layer with a To coat the silver halide layer. The silver halide can then be directly under computer control means be exposed to a laser. Subsequently, the silver halide layer develops and becomes a silver image on the photosensitive layer receive. This silver image then serves as a mask during a all-over Exposure of the photosensitive layer. After the full-surface exposure the silver image is removed and the photosensitive layer is developed. Such a method is described, for example, in JP-A 60-61,752, However, it has the disadvantage that a complex development and associated developing liquids needed become.

In GB 1 492 070 wird ein Verfahren offenbart, in dem eine Metallschicht oder eine Ruß enthaltende Schicht auf eine lichtempfindliche Schicht aufgetragen wird. Diese Metallschicht wird dann mittels eines Lasers ablatiert, wodurch auf der lichtempfindlichen Schicht eine Bildmaske erhalten wird. Die lichtempfindliche Schicht wird dann durch die Bildmaske hindurch einer vollflächigen Ultraviolettbelichtung unterzogen. Nach Entfernung der Bildmaske wird die lichtempfindliche Schicht entwickelt und eine Druckplatte erhalten. Dieses Verfahren beinhaltet aber noch immer den Nachteil, dass die Bildmaske auf umständlichem Wege vor der Entwicklung der lichtempfindlichen Schicht entfernt werden muss.GB 1 492 070 discloses a method in which a metal layer or a carbon black-containing layer is applied to a photosensitive layer. This metal layer is then by means of a laser ablated, whereby an image mask is obtained on the photosensitive layer. The photosensitive layer is then subjected to full area ultraviolet exposure through the image mask. After removal of the image mask, the photosensitive layer is developed and a printing plate is obtained. However, this method still involves the disadvantage that the image mask must be removed in a complicated way before the development of the photosensitive layer.

Andererseits gibt es ebenfalls Verfahren, bei denen zur Herstellung von Druckplatten Bilderzeugungselemente verwendet werden, die vielmehr wärmeempfindlich als strahlungsempfindlich sind. Mit den wie oben beschrieben zur Herstellung einer Druckplatte benutzten strahlungsempfindlichen Bilderzeugungselementen ist der besondere Nachteil verbunden, dass sie vor Licht geschützt werden müssen. Ferner ist auch die Empfindlichkeit hinsichtlich der Lagerbeständigkeit problematisch und weisen sie ein niedrigeres Auflösungsvermögen auf. Im Markt zeichnet sich deutlich eine Tendenz zu wärmeempfindlichen Druckplattenvorstufen ab.on the other hand There are also methods in which for the production of printing plates Image forming elements are used, which are rather sensitive to heat are sensitive to radiation. With the as described above for Preparation of a printing plate used radiation-sensitive Image forming elements has the particular disadvantage that protected from light Need to become. Furthermore, the sensitivity to storage stability is also problematic and have a lower resolving power. The market is clearly showing a tendency towards heat-sensitive ones From printing plate precursors.

So beschreibt zum Beispiel Research Disclosure Nr. 33303, Januar 1992, ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement, das auf einem Träger eine vernetzte hydrophile Schicht mit thermoplastischen polymeren Teilchen und einem Infrarotlicht absorbierenden Pigment wie z. B. Ruß enthält. Bei bildmäßiger Belichtung mit einem Infrarotlaser koagulieren die thermoplastischen polymeren Teilchen bildmäßig, wodurch die Oberfläche des Bilderzeugungselements an diesen Bereichen ohne weitere Entwicklung farbanziehend gemacht wird. Als Nachteil dieses Verfahrens gilt die hohe Beschädigungsanfälligkeit der erhaltenen Druckplatte, denn die nicht-druckenden Bereiche können bei Ausübung eines leichten Drucks auf diese Bereiche farbanziehend werden. Außerdem kann die lithografische Leistung einer solchen Druckplatte unter kritischen Bedingungen schwach sein und wird eine solche Druckplatte demnach einen beschränkten lithografischen Druckspielraum aufweisen.So describes, for example, Research Disclosure No. 33303, January 1992, a heat sensitive Image forming element on a support of a cross-linked hydrophilic Layer with thermoplastic polymeric particles and an infrared light absorbent pigment such. B. contains carbon black. For imagewise exposure with An infrared laser coagulates the thermoplastic polymers Particles imagewise, causing the surface of the imaging element at these areas without further development is made color attractive. As a disadvantage of this method applies the high susceptibility to damage the resulting printing plate, because the non-printing areas can at exercise a slight pressure on these areas become color-attracting. In addition, can the lithographic performance of such a printing plate below critical Conditions will be weak and is such a pressure plate accordingly a limited one have lithographic pressure margin.

Die US-P 4 708 925 offenbart Bilderzeugungselemente mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung, die ein alkalilösliches Novolakharz und ein Oniumsalz und wahlweise einen IR-Sensibilisator enthält. Nach bildmäßiger Bestrahlung dieses Bilderzeugungselements mit UV-Licht – sichtbarem Licht – oder IR-Strahlung und einer anschließenden Entwicklungsstufe mit einer wässrig-alkalischen Flüssigkeit wird eine positivarbeitende oder negativarbeitende Druckplatte erhalten. Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen Druckplatte sind schwach.The U.S. Patent No. 4,708,925 discloses imaging elements having a radiation-sensitive surface Composition containing an alkali-soluble Novolak resin and an onium salt and optionally an IR sensitizer contains. To imagewise irradiation this imaging element with UV light - visible light - or IR radiation and a subsequent one Development stage with an aqueous-alkaline liquid a positive-working or negative-working printing plate is obtained. The printing results of a by irradiation and development of this Image forming element obtained lithographic printing plate are weak.

Die EP-A 625 728 offenbart ein Bilderzeugungselement mit einer Schicht, die gegenüber UV- und IR-Strahlung empfindlich ist und sowohl positivarbeitend als auch negativarbeitend sein kann. Diese Schicht enthält ein Resolharz, ein Novolakharz, eine latente Brönsted-Säure und eine Infrarotstrahlung absorbierende Substanz. Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen Druckplatte sind schwach.The EP-A-625 728 discloses an imaging element having a layer, the opposite UV and IR radiation is sensitive and both positive working as well as being negative working. This layer contains a resole resin, a novolak resin, a latent Bronsted acid and an infrared radiation absorbing substance. The printing results one by irradiation and development of this imaging element obtained lithographic printing plate are weak.

Die US-P 5 340 699 ist nahezu identisch zu der EP-A 625 728, jedoch mit dem Unterschied, dass sie ein Verfahren zum Erhalt eines negativarbeitenden, gegenüber Infrarotlaserlicht empfindlichen Bilderzeugungselements offenbart. Die IR-empfindliche Schicht enthält ein Resolharz, ein Novolakharz, eine latente Brönsted-Säure und eine Infrarotstrahlung absorbierende Substanz. Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen Druckplatte sind schwach.The US-P 5,340,699 is almost identical to EP-A 625 728, however with the difference that they have a procedure for obtaining a negative working, across from Infrared laser light sensitive imaging element disclosed. The IR-sensitive layer contains a resole resin, a novolak resin, a latent Bronsted acid and an infrared ray absorbing substance. The print results of one by irradiation and development of this imaging element obtained lithographic Pressure plate are weak.

In EP-A 678 380 wird ferner ein Verfahren offenbart, in dem eine Schutzschicht auf einen gekörnten Metallträger unter einer laserablatierbaren Oberflächenschicht angebracht wird. Bei bildmäßiger Belichtung wird die Oberflächenschicht zusammen mit bestimmten Teilen der Schutzschicht völlig ablatiert. Die Druckplatte wird anschließend mit einer Reinigungslösung verarbeitet, um den Rest der Schutzschicht zu entfernen und dadurch die hydrophile Oberflächenschicht freizulegen.In EP-A 678 380 further discloses a method in which a protective layer on a grained metal support underneath a laserablatierbaren surface layer is attached. For imagewise exposure is the surface layer completely ablated together with certain parts of the protective layer. The printing plate is then with a cleaning solution processed to remove the remainder of the protective layer and thereby the hydrophilic surface layer expose.

In EP-A 97 200 588.8 wird ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung lithografischer Druckplatten offenbart, das auf einer lithografischen Unterlage mit einer hydrophilen Oberfläche eine Zwischenschicht, die ein in einer wässrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer enthält, und eine IR-empfindliche Deckschicht enthält, wobei die Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit der Deckschicht in einer wässrig-alkalischen Lösung bei Belichtung mit Infrarotstrahlung zunimmt oder abnimmt.In EP-A 97 200 588.8 is a heat-sensitive Image-forming element for producing lithographic printing plates discloses that, on a lithographic base having a hydrophilic surface, an intermediate layer, the one in an aqueous alkaline solution soluble Contains polymer, and an IR-sensitive topcoat, wherein the penetrability and / or solubility of the topcoat in an aqueous-alkaline solution increases or decreases on exposure to infrared radiation.

In EP-A 97 203 129.8 und EP-A 97 203 132.2 wird ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselements offenbart, das aus einer lithografischen Unterlage mit einer hydrophilen Oberfläche und einer Deckschicht besteht, wobei die Deckschicht empfindlich gegenüber Infrarotstrahlung ist, ein in einer wässrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer enthält und undurchdringbar ist für einen alkalischen Entwickler, der Silikate als SiO2 enthält.EP-A 97 203 129.8 and EP-A 97 203 132.2 disclose a heat-sensitive imaging element consisting of a lithographic base having a hydrophilic surface and a cover layer, the cover layer being sensitive to infrared radiation, a solution soluble in an aqueous-alkaline solution Contains polymer and is impermeable to an alkaline developer containing silicates as SiO 2 contains.

Die drei letztbeschriebenen wärmeempfindlichen Bilderzeugungselemente beinhalten aber den Nachteil der hohen Beschädigungsanfälligkeit der Deckschicht. Diese Platten sind besonders anfällig gegenüber Oberflächenbeschädigung bei mechanischer Beanspruchung in Kombination mit einer Vakuumbehandelung. Diese Bedingungen kommen z. B. bei Plattentransport mittels Saugnäpfen vor. Infolge der bei einer Vakuumbehandlung entstehenden kleinen Kontaktoberfläche tritt eine starke mechanische Beanspruchung pro Flächeneinheit auf. Ein Überziehen der Deckschicht mit einer Schutzschicht wird sowohl die Auflösung als den Entwicklungsspielraum senken und zwar infolge des kleineren Unterschieds in der Durchdringungsgeschwindigkeit der Entwicklungsflüssigkeit zwischen belichteten und nicht-belichteten Bereichen. Eine Lösung zu diesem Problem würde sehr geschätzt werden.The three last-described heat-sensitive However, imaging elements have the disadvantage of high susceptibility to damage the topcoat. These plates are particularly susceptible to surface damage mechanical stress in combination with a vacuum treatment. These Conditions come z. B. in plate transport by suction cups before. As a result of the small contact surface resulting from a vacuum treatment a strong mechanical stress per unit area. A coating the cover layer with a protective layer will both the resolution as reduce the development latitude due to the smaller Difference in the rate of penetration of the developing fluid between exposed and unexposed areas. A solution too this problem would very appreciated become.

AUFGABEN DER VORLIEGENDEN ERFINDUNGTASKS OF PRESENT INVENTION

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte geeignetes wärmeempfindliches Bilderzeugungselement mit breitem Entwicklungsspielraum bereitzustellen.task It is the object of the present invention to provide a lithographic Pressure plate suitable heat-sensitive To provide imaging element with wide development latitude.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte geeignetes wärmeempfindliches Bilderzeugungselement mit hohem Auflösungsvermögen bereitzustellen.task It is the object of the present invention to provide a lithographic Pressure plate suitable heat-sensitive To provide imaging element with high resolution.

Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte mit Oberflächenschichten mit verbesserter Beständigkeit gegen Beschädigung bereitzustellen.A Another object of the present invention is to provide a heat-sensitive Image forming element for producing a lithographic printing plate with surface layers with improved durability against damage provide.

Weitere Aufgaben der vorliegenden Erfindung werden aus der nachstehenden Beschreibung ersichtlich.Further Objects of the present invention will become apparent from the following Description visible.

KURZE DARSTELLUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNGSHORT PRESENTATION THE PRESENT INVENTION

Gelöst werden die erfindungsgemäßen Aufgaben durch ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte, das auf einem lithografischen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche eine erste, ein in einer wässrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer enthaltende Schicht und auf derselben Seite des lithografischen Trägers wie die erste Schicht eine IR-empfindliche Deckschicht enthält, die undurchdringbar und unlöslich für einen alkalischen Entwickler ist, wobei die erste Schicht und die Deckschicht ein und dieselbe Schicht sein können, dadurch gekennzeichnet, dass die Bilderzeugungsschichten einen Einfrierpunkt von zumindest 57°C aufweisen.Be solved the tasks of the invention by a heat sensitive Imaging element for making a lithographic printing plate, that on a lithographic support with a hydrophilic surface a first, one soluble in an aqueous-alkaline solution Polymer-containing layer and on the same side of the lithographic carrier as the first layer contains an IR-sensitive topcoat, the impenetrable and insoluble for one alkaline developer, wherein the first layer and the topcoat can be one and the same layer, characterized in that the image forming layers have a glass transition point of at least 57 ° C exhibit.

AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNGDETAILED DESCRIPTION OF THE PRESENT INVENTION

Die Deckschicht wird ebenfalls als zweite Schicht bezeichnet.The Cover layer is also referred to as the second layer.

Der Einfrierpunkt (Tg) der Bilderzeugungsschichten beträgt zumindest 57°C, vorzugsweise zumindest 59°C. Der Einfrierpunkt der Bilderzeugungsschichten kann über die Trocknungsparameter der Oberflächenschicht, insbesondere die Trocknungstemperatur, eingestellt werden.Of the Freezing point (Tg) of the image forming layers is at least 57 ° C, preferably at least 59 ° C. The glass transition point of the imaging layers may be over the Drying parameters of the surface layer, in particular, the drying temperature can be adjusted.

In einer ersten Ausführungsform sind die erste Schicht und die Deckschicht unterschiedliche Schichten. In dieser Ausführungsform wird ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung lithografischer Druckplatten bereitgestellt, das auf einem lithografischen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche eine erste, ein in einer wässrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer enthaltende Schicht und auf derselben Seite des lithografischen Trägers wie die erste Schicht eine gegenüber IR-Strahlung empfindliche Deckschicht enthält, die undurchdringbar und unlöslich für einen alkalischen Entwickler ist.In a first embodiment Both the first layer and the top layer are different layers. In this embodiment becomes a heat sensitive Image-forming element for producing lithographic printing plates provided on a lithographic support having a hydrophilic surface a first, one in an aqueous alkaline solution soluble Polymer-containing layer and on the same side of the lithographic carrier like the first layer one opposite IR radiation sensitive topcoat contains, the impenetrable and insoluble for one alkaline developer is.

Die erfindungsgemäße Deckschicht enthält einen IR-Farbstoff oder ein IR-Pigment und vorzugsweise ein Bindeharz. Es kann zwar ein Gemisch aus IR-Farbstoffen oder IR-Pigmenten benutzt werden, bevorzugt aber wird der Einsatz eines einzelnen IR-Farbstoffes oder IR-Pigments. Bevorzugt als IR-Farbstoffe werden IR-Cyaninfarbstoffe. Besonders nutzbare IR-Cyaninfarbstoffe sind Cyaninfarbstoffe mit zumindest zwei Säuregruppen, besonders bevorzugt zumindest zwei Sulfonsäuregruppen. Besonders bevorzugt werden Cyaninfarbstoffe mit zwei Indolenin- und zumindest zwei Sulfonsäuregruppen. Ganz besonders bevorzugt wird Verbindung I der folgenden Struktur:The Covering layer according to the invention contains an IR dye or an IR pigment, and preferably a binder resin. Although it can use a mixture of IR dyes or IR pigments However, the use of a single IR dye is preferred or IR pigments. Preferred IR dyes are IR cyanine dyes. Particularly useful IR cyanine dyes are cyanine dyes with at least two acid groups, particularly preferably at least two sulfonic acid groups. Especially preferred are cyanine dyes having two indolenine and at least two sulfonic acid groups. Very particular preference is given to compound I of the following structure:

Figure 00070001
Figure 00070001

Besonders nutzbare IR-absorbierende Pigmente sind Russ, Metallcarbide, Metallboride, Metallnitride, Metallcarbonitride, Oxide mit einer Bronzestruktur und Oxide mit einer der Bronzefamilie verwandten Struktur, doch ohne den A-Bestandteil, z. B. WO2,9. Es können gleichfalls leitfähige polymere Dispersionen benutzt werden, wie leitfähige polymere Dispersionen auf der Basis von Polypyrrol oder Polyanilin. Die erzielte lithografische Leistung und insbesondere die erzielte Auflagenfestigkeit hängen von der Wärmeempfindlichkeit des Bilderzeugungselements ab. In dieser Hinsicht hat es sich herausgestellt, dass mit Russ sehr gute und günstige Ergebnisse erzielbar sind.Particularly useful IR absorbing pigments are carbon black, metal carbides, metal borides, metal nitrides, metal carbonitrides, bronze structure oxides, and bronze family related oxides, but without the A component, e.g. B. WO 2.9 . It is also possible to use conductive polymer dispersions, such as conductive polypyrrole or polyaniline-based polymer dispersions. The lithographic performance achieved, and in particular the print run stability, depends on the thermal sensitivity of the imaging member. In this regard, it has been found that very good and favorable results can be achieved with soot.

Der Anteil der IR-absorbierenden Farbstoffe oder Pigmente liegt vorzugsweise zwischen 1 und 99 Gewichtsteilen, besonders bevorzugt zwischen 50 und 95 Gewichtsteilen, bezogen auf die Gesamtmenge der IR-empfindlichen Deckschicht.Of the Proportion of the IR-absorbing dyes or pigments is preferably between 1 and 99 parts by weight, more preferably between 50 and and 95 parts by weight, based on the total amount of IR-sensitive Top layer.

Die Deckschicht kann vorzugsweise als Bindemittel ein wasserunlösliches Polymer wie einen Celluloseester, ein Copolymer aus Vinylidenchlorid und Acrylnitril, Poly(meth)acrylate, Polyvinylchlorid, Silikonharze usw. enthalten. Bevorzugt als Bindemittel wird Nitrocelluloseharz.The Cover layer may preferably be a water-insoluble binder Polymer such as a cellulose ester, a copolymer of vinylidene chloride and acrylonitrile, poly (meth) acrylates, polyvinyl chloride, silicone resins, etc. contain. Preferred as a binder is nitrocellulose resin.

Die Gesamtmenge der Deckschicht variiert vorzugsweise zwischen 0,05 und 10 g/m2, besonders bevorzugt zwischen 0,1 und 2 g/m2.The total amount of the topcoat preferably varies between 0.05 and 10 g / m 2 , more preferably between 0.1 and 2 g / m 2 .

In der Deckschicht wird während der bildmäßigen Belichtung ein Unterschied in Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit der Deckschicht in einer wässrig-alkalischen Lösung, in diesem Falle im erfindungsgemäßen alkalischen Entwickler, bewirkt.In the cover layer is during the pictorial exposure a difference in penetrability and / or solubility the topcoat in an aqueous-alkaline Solution, in this case in the alkaline according to the invention Developer, causes.

In der vorliegenden Erfindung wird die Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit während der bildmäßigen IR-Belichtung dermaßen erhöht, dass die bebilderten Teile während der Entwicklung entfernt werden, ohne die nicht-bebilderten Teile zu solubilisieren und/oder zu beschädigen.In The present invention provides penetrability and / or solubility while the imagewise IR exposure so elevated, that the imaged parts during the development are removed without the non-imaged parts to solubilize and / or damage.

Die Entwicklung mit der wässrig-alkalischen Lösung erfolgt vorzugsweise innerhalb eines Zeitraums zwischen 5 und 120 s.The Development with the aqueous-alkaline solution preferably takes place within a period between 5 and 120 s.

Zwischen der Deckschicht und dem lithografischen Träger liegt in der vorliegenden Erfindung eine erste Schicht vor, die in einer wässrig-alkalischen Entwicklerlösung mit vorzugsweise einem pH zwischen 7,5 und 14 löslich ist. Diese erste Schicht liegt zwar vorzugsweise an der Deckschicht an, jedoch können andere Schichten zwischen die Deckschicht und die erste Schicht eingefügt werden. Die in dieser Schicht benutzten alkalilöslichen Bindemittel sind vorzugsweise hydrophobe Bindemittel wie die in herkömmlichen positiv- oder negativarbeitenden PS-Platten verwendet werden, z. B. Novolakpolymere, Hydroxystyroleinheiten enthaltende Polymere, carboxylsubstituierte Polymere usw. Typische Beispiele für diese Polymere sind in DE-A 40 07 428, DE-A 40 27 301 und DE-A 44 45 820 beschrieben. Das in der vorliegenden Erfindung benutzte hydrophobe Bindemittel ist fernerhin durch Unlöslichkeit in Wasser und eine partielle Löslichkeit/Quellbarkeit in einer alkalischen Lösung und/oder durch partielle Löslichkeit in Wasser bei Kombination mit einem Cosolvens gekennzeichnet.In the present invention, there is present between the topcoat and the lithographic support a first layer which is soluble in an aqueous alkaline developing solution preferably having a pH of between 7.5 and 14. While this first layer is preferably adhered to the cover layer, other layers may be interposed between the cover layer and the first layer. The alkali-soluble binders used in this layer are preferably hydrophobic binders such as those used in conventional positive or negative working PS plates, e.g. B. Novolakpolymere, hydroxystyrene units containing polymers, carboxyl-substituted polymers, etc. Typical examples of these polymers are described in DE-A 40 07 428, DE-A 40 27 301 and DE-A 44 45 820. The hydrophobic. Used in the present invention Binder is further characterized by insolubility in water and partial solubility / swellability in an alkaline solution and / or by partial solubility in water when combined with a cosolvent.

Ferner ist diese in einer wässrig-alkalischen Lösung lösliche Schicht vorzugsweise eine gegenüber sichtbarem Licht und UV-Licht desensibilisierte Schicht. Die Schicht ist vorzugsweise wärmehärtbar. Diese vorzugsweise gegenüber sichtbarem Licht und UV desensibilisierte Schicht enthält keine strahlungsempfindlichen Ingredienzien wie Diazoverbindungen, Fotosäuren, Fotoinitiatoren, Chinondiazide, Sensibilisatoren usw., die im Wellenlängenbereich zwischen 250 nm und 650 nm absorbieren. Auf diese Weise kann eine gegenüber Tageslicht unempfindliche Druckplatte erhalten werden.Further this is in an aqueous alkaline solution soluble Layer preferably one opposite to visible Light and UV light desensitized layer. The layer is preferably thermosetting. These preferably opposite Visible light and UV desensitized layer contains none radiation-sensitive ingredients such as diazo compounds, photo acids, photoinitiators, Quinone diazides, sensitizers, etc., which are in the wavelength range absorb between 250 nm and 650 nm. This way a can across from Daylight insensitive printing plate can be obtained.

Die erste Schicht enthält vorzugsweise ebenfalls eine niedermolekulare Säure, vorzugsweise eine Carbonsäure, besonders bevorzugt eine Benzoesäure, ganz besonders bevorzugt eine 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure oder ein Benzophenon.The contains first layer preferably also a low molecular acid, preferably a carboxylic acid, especially preferably a benzoic acid, most preferably a 3,4,5-trimethoxybenzoic acid or a benzophenone.

Das Verhältnis zwischen der Gesamtmenge der niedermolekularen Säure oder des Benzophenons und dem Polymer in der ersten Schicht variiert vorzugsweise zwischen 2 : 98 und 40 : 60, besonders bevorzugt zwischen 5 : 95 und 20 : 80. Die Gesamtmenge der ersten Schicht variiert vorzugsweise zwischen 0,1 und 10 g/m2, besonders bevorzugt zwischen 0,3 und 2 g/m2.The ratio between the total amount of the low molecular weight acid or the benzophenone and the polymer in the first layer preferably varies between 2:98 and 40:60, more preferably between 5:95 and 20:80. The total amount of the first layer preferably varies between 0, 1 and 10 g / m 2 , more preferably between 0.3 and 2 g / m 2 .

Im Bilderzeugungselement der vorliegenden Erfindung kann der lithografische Träger für alle Ausführungsformen ein eloxierter Aluminiumträger sein. Ein besonders bevorzugter lithografischer Träger ist ein elektrochemisch gekörnter und eloxierter Aluminiumträger. Der eloxierte Aluminiumträger kann einer Verarbeitung zur Verbesserung der hydrophilen Eigenschaften der Trägeroberfläche unterzogen werden. So kann der Aluminiumträger zum Beispiel durch Verarbeitung der Trägeroberfläche mit einer Natriumsilikatlösung bei erhöhter Temperatur, z. B. 95°C, silikatiert werden. Als Alternative kann eine Phosphatverarbeitung vorgenommen werden, wobei die Aluminiumoxidoberfläche mit einer wahlweise ferner ein anorganisches Fluorid enthaltenden Phosphatlösung verarbeitet wird. Ferner kann die Aluminiumoxidoberfläche mit einer Zitronensäure- oder Citratlösung gespült werden. Diese Behandlung kann bei Zimmertemperatur oder bei einer leicht erhöhten Temperatur zwischen etwa 30°C und 50°C erfolgen. Eine andere interessante Methode besteht in einer Spülung der Aluminiumoxidoberfläche mit einer Bicarbonatlösung. Fernerhin kann die Aluminiumoxidoberfläche mit Polyvinylphosphonsäure, Polyvinylmethylphosphonsäure, Phosphorsäureestern von Polyvinylalkohol, Polyvinylsulfonsäure, Polyvinylbenzolsulfonsäure, Schwefelsäureestern von Polyvinylalkohol und Acetalen von Polyvinylalkoholen, die durch Reaktion mit einem sulfonierten alifatischen Aldehyd gebildet sind, verarbeitet werden. Ferner liegt es nahe, dass eine oder mehrere dieser Nachbehandlungen separat oder kombiniert vorgenommen werden können. Genauere Beschreibungen dieser Behandlungen finden sich in GB-A 1 084 070, DE-A 44 23 140, DE-A 44 17 907, EP-A 659 909, EP-A 537 633, DE-A 001 466, EP-A 292 801, EP-A 291 760 und US-P-4 458 005.in the Image-forming element of the present invention may be the lithographic carrier for all embodiments an anodised aluminum support be. A particularly preferred lithographic support is an electrochemically grained and anodised aluminum support. The anodised aluminum carrier can be a processing to improve the hydrophilic properties subjected to the support surface become. So can the aluminum carrier for example, by processing the support surface with a sodium silicate solution increased Temperature, z. B. 95 ° C, be silicated. As an alternative, a phosphate processing be made with the alumina surface with optionally further processing an inorganic fluoride-containing phosphate solution becomes. Further, the alumina surface may be rinsed with a citric acid or citrate solution. This treatment may be at room temperature or at an easy elevated temperature between about 30 ° C and 50 ° C respectively. Another interesting method is to rinse the aluminum oxide surface with a bicarbonate solution. Furthermore, the alumina surface may be polyvinylphosphonic acid, polyvinylmethylphosphonic acid, phosphoric acid esters of polyvinyl alcohol, polyvinylsulfonic acid, polyvinylbenzenesulfonic acid, sulfuric acid esters of polyvinyl alcohol and acetals of polyvinyl alcohols obtained by Reaction with a sulfonated aliphatic aldehyde are formed, are processed. Furthermore, it is obvious that one or more these post-treatments can be made separately or in combination can. More detailed descriptions of these treatments can be found in GB-A 1 084 070, DE-A 44 23 140, DE-A 44 17 907, EP-A 659 909, EP-A 537 633, DE-A 001 466, EP-A 292 801, EP-A 291 760 and US-P-4 458 005.

Nach einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung enthält der lithografische Träger mit einer hydrophilen Oberfläche einen biegsamen Träger, wie z. B. einen Papierträger oder eine Kunststofffolie, der (die) für alle Ausführungsformen mit einer vernetzten hydrophilen Schicht überzogen ist. Eine besonders geeignete vernetzte hydrophile Schicht kann aus einem hydrophilen, mit einem Vernetzungsmittel wie Formaldehyd, Glyoxal, Polyisocyanat oder einem hydrolysierten Tetraalkylorthosilikat vernetzten Bindemittel erhalten werden. Letzteres Vernetzungsmittel wird besonders bevorzugt.To a further embodiment of the present invention the lithographic support with a hydrophilic surface a flexible carrier, such as B. a paper carrier or a plastic film that is cross-linked to all embodiments coated hydrophilic layer is. A particularly suitable crosslinked hydrophilic layer can from a hydrophilic, with a crosslinking agent such as formaldehyde, Glyoxal, polyisocyanate or a hydrolyzed tetraalkyl orthosilicate crosslinked binder can be obtained. The latter crosslinking agent is particularly preferred.

Als hydrophiles Bindemittel kommen hydrophile (Co)polymere wie zum Beispiel Homopolymere und Copolymere von Vinylalkohol, Acrylamid, Methylolacrylamid, Methylolmethacrylamid, Acrylsäure, Methacrylsäure, Hydroxyethylacrylat, Hydroxyethylmethacrylat oder Maleinsäureanhydrid-Vinylmethylether-Copolymere in Frage. Die Hydrophilie des benutzten (Co)polymers oder (Co)polymergemisches ist vorzugsweise höher oder gleich der Hydrophilie von zu wenigstens 60 Gew.-%, vorzugsweise zu wenigstens 80 Gew.-% hydrolysiertem Polyvinylacetat.When hydrophilic binders are hydrophilic (co) polymers such as Homopolymers and copolymers of vinyl alcohol, acrylamide, methylolacrylamide, Methylolmethacrylamide, acrylic acid, methacrylic acid, Hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate or maleic anhydride vinylmethyl ether copolymers in question. The hydrophilicity of the used (co) polymer or (co) polymer mixture is preferably higher or equal to the hydrophilicity of at least 60% by weight, preferably at least 80% by weight hydrolyzed polyvinyl acetate.

Die Menge Vernetzungsmittel, insbesondere Tetraalkylorthosilikat, beträgt vorzugsweise zumindest 0,2 Gewichtsteile je Gewichtsteil hydrophiles Bindemittel, liegt vorzugsweise zwischen 0,5 und 5 Gewichtsteilen, besonders bevorzugt zwischen 1,0 Gewichtsteil und 3 Gewichtsteilen je Gewichtsteil hydrophiles Bindemittel.The Amount of crosslinking agent, in particular tetraalkyl orthosilicate, is preferably at least 0.2 parts by weight per part by weight of hydrophilic binder, is preferably between 0.5 and 5 parts by weight, especially preferably between 1.0 part by weight and 3 parts by weight per part by weight hydrophilic binder.

Eine vernetzte hydrophile Schicht in einem nach dieser Ausführungsform benutzten lithografischen Träger enthält vorzugsweise ebenfalls Substanzen, die die mechanische Festigkeit und Porosität der Schicht verbessern. Zu diesem Zweck kann kolloidale Kieselerde benutzt werden. Die kolloidale Kieselerde kann in Form einer beliebigen handelsüblichen wässrigen Dispersion von kolloidaler Kieselerde mit zum Beispiel einer mittleren Teilchengröße bis zu 40 nm, z. B. 20 nm, benutzt werden. Daneben können inerte Teilchen mit einer größeren Korngröße als die kolloidale Kieselerde zugesetzt werden, z. B. Kieselerde, die wie in J. Colloid and Interface Sci., Band 26, 1968, Seiten 62 bis 69, von Stöber beschrieben angefertigt ist, oder Tonerdeteilchen oder Teilchen mit einem mittleren Durchmesser von wenigstens 100 nm, wobei es sich um Teilchen von Titandioxid oder anderen Schwermetalloxiden handelt. Durch Einbettung dieser Teilchen erhält die Oberfläche der vernetzten hydrophilen Schicht eine gleichmäßige rauhe Beschaffenheit mit mikroskopischen Spitzen und Tälern, die als Lagerstellen für Wasser in Hintergrundbereichen dienen.A crosslinked hydrophilic layer in a lithographic support used in this embodiment also preferably contains substances that enhance the mechanical strength and porosity of the layer improve. Colloidal silica may be used for this purpose. The colloidal silica may be in the form of any commercial aqueous dispersion of colloidal silica having, for example, an average particle size of up to 40 nm, e.g. B. 20 nm, are used. In addition, inert particles having a larger grain size than the colloidal silica may be added, e.g. Silica, prepared as described in J. Colloid and Interface Sci., Vol. 26, 1968, pages 62 to 69, by Stober, or particles of toner or particles having an average diameter of at least 100 nm, which are particles of Titanium dioxide or other heavy metal oxides. By embedding these particles, the surface of the cross-linked hydrophilic layer is given a uniform rough texture with microscopic peaks and valleys serving as reservoirs for water in background areas.

Die Stärke einer vernetzten hydrophilen Schicht in einem nach dieser Ausführungsform benutzten lithografischen Träger kann zwischen 0,2 μm und 25 μm variieren und liegt vorzugsweise zwischen 1 μm und 10 μm.The Strength a crosslinked hydrophilic layer in one of this embodiment used lithographic support can be between 0.2 μm and 25 μm vary and is preferably between 1 .mu.m and 10 .mu.m.

Besondere Beispiele für erfindungsgemäß nutzbare geeignete vernetzte hydrophile Schichten sind in EP-A 601 240, GB-P 1 419 512, FR-P 2 300 354, US-P 3 971 660, US-P 4 284 705 und EP-A 514 490 beschrieben.Special examples for usable according to the invention suitable crosslinked hydrophilic layers are described in EP-A 601 240, GB-P 1 419 512, FR-P 2 300 354, US-P 3 971 660, US-P 4,284,705 and EP-A 514,490.

Als biegsamer Träger eines lithografischen Trägers nach dieser Ausführungsform bevorzugt man insbesondere eine Kunststofffolie, z. B. eine substrierte Polyethylenterephthalatfolie, eine substrierte Polyethylennaphthalatfolie, eine Celluloseacetatfolie, eine Polystyrolfolie, eine Polycarbonatfolie usw. Der Kunststofffolienträger kann lichtundurchlässig oder lichtdurchlässig sein.When flexible carrier a lithographic support according to this embodiment in particular one prefers a plastic film, z. B. Subbed Polyethylene terephthalate film, a subbed polyethylene naphthalate film, a cellulose acetate film, a polystyrene film, a polycarbonate film etc. The plastic film carrier can be opaque or translucent be.

Besonders bevorzugt ist ein mit einer haftungsverbessernden Schicht beschichteter Polyesterfilmträger. Zur erfindungsgemäßen Verwendung besonders geeignete haftungsverbessernde Schichten enthalten ein hydrophiles Bindemittel und kolloidale Kieselerde, wie in EP-A 619 524, EP-A 620 502 und EP-A 619 525 beschrieben. Die Menge Kieselerde in der haftungsverbessernden Schicht liegt vorzugsweise zwischen 200 mg/m2 und 750 mg/m2. Ferner liegt das Verhältnis von Kieselerde zu hydrophilem Bindemittel vorzugsweise über 1 und beträgt die spezifische Oberfläche der kolloidalen Kieselerde vorzugsweise wenigstens 300 m2/g, besonders bevorzugt wenigstens 500 m2/g.Particularly preferred is a polyester film support coated with an adhesion-promoting layer. Particularly suitable adhesion-enhancing layers for use according to the invention comprise a hydrophilic binder and colloidal silica, as described in EP-A 619 524, EP-A 620 502 and EP-A 619 525. The amount of silica in the adhesion-promoting layer is preferably between 200 mg / m 2 and 750 mg / m 2 . Further, the ratio of silica to hydrophilic binder is preferably greater than 1, and the specific surface area of the colloidal silica is preferably at least 300 m 2 / g, more preferably at least 500 m 2 / g.

In einer zweiten Ausführungsform sind die erste Schicht und die zweite Schicht ein und dieselbe Schicht. In dieser Ausführungsform wird ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung von lithografischen Druckplatten bereitgestellt, das auf einem lithografischen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche eine Deckschicht enthält, die gegenüber IR-Strahlung empfindlich ist, ein in einer wässrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer enthält und undurchdringbar und unlöslich für einen alkalischen Entwickler ist.In a second embodiment For example, the first layer and the second layer are one and the same layer. In this embodiment becomes a heat sensitive Image-forming element for the production of lithographic printing plates provided on a lithographic support having a hydrophilic surface Contains cover layer, the opposite IR radiation is sensitive, a soluble in an aqueous-alkaline solution Contains polymer and impenetrable and insoluble for one alkaline developer is.

Die IR-empfindliche Schicht der vorliegenden Erfindung enthält einen IR-Farbstoff oder ein IR-Pigment und ein in einer wässrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer. Es kann zwar ein Gemisch aus IR-Farbstoffen oder IR-Pigmenten benutzt werden, bevorzugt wird aber der Einsatz eines einzelnen IR-Farbstoffes oder IR-Pigments. Als geeignete IR-Farbstoffe und IR-Pigmente sind die in der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung genannten zu nennen.The IR-sensitive layer of the present invention contains a IR dye or an IR pigment and a soluble in an aqueous alkaline solution Polymer. It may be a mixture of IR dyes or IR pigments be used, but it is preferred to use a single IR dye or IR pigments. As suitable IR dyes and IR pigments are those in the first embodiment of the present invention Call mentioned invention.

Die IR-Farbstoffe sind vorzugsweise in einer Menge zwischen 1 und 60 Gewichtsteilen, besonders bevorzugt zwischen 3 und 50 Gewichtsteilen, bezogen auf die Gesamtmenge der IR-empfindlichen Deckschicht, in der Deckschicht enthalten.The IR dyes are preferably in an amount between 1 and 60 Parts by weight, more preferably between 3 and 50 parts by weight, based on the total amount of IR-sensitive topcoat, in the cover layer included.

Die in dieser Schicht benutzten alkalilöslichen Polymere sind vorzugsweise hydrophobe und farbanziehende Polymere wie die in herkömmlichen positiv- oder negativarbeitenden PS-Platten verwendet werden, z. B. carboxylsubstituierte Polymere usw. Besonders bevorzugt wird ein Phenolharz wie ein Hydroxystyrol-Einheiten enthaltendes Polymer oder ein Novolakpolymer. Ganz besonders bevorzugt wird ein Novolakpolymer. Typische Beispiele für diese Polymere sind in DE-A 40 07 428, DE-A 40 27 301 und DE-A 44 45 820 beschrieben. Das in der vorliegenden Erfindung benutzte hydrophobe Polymer ist ferner durch Unlöslichkeit in Wasser und eine zumindest partielle Löslichkeit/Quellbarkeit in einer alkalischen Lösung und/oder durch eine zumindest partielle Löslichkeit in Wasser bei Kombination mit einem Cosolvens gekennzeichnet.The Alkali-soluble polymers used in this layer are preferred hydrophobic and color attracting polymers like those in conventional positive or negative working PS plates are used, for. As carboxyl-substituted polymers, etc. Particularly preferred a phenolic resin such as a hydroxystyrene units-containing polymer or a novolac polymer. Very particular preference is given to a novolak polymer. typical examples for These polymers are described in DE-A 40 07 428, DE-A 40 27 301 and DE-A 44 45 820. The hydrophobic. Used in the present invention Polymer is also insoluble in water and at least partial solubility / swellability in one alkaline solution and / or by at least partial solubility in water when combined marked with a cosolvent.

Ferner ist diese IR-empfindliche Schicht vorzugsweise eine gegenüber sichtbarem Licht und UV-Licht desensibilisierte Schicht. Die Schicht ist fernerhin vorzugsweise wärmehärtbar. Diese vorzugsweise gegenüber sichtbarem Licht und UV desensibilisierte Schicht enthält keine strahlungsempfindlichen Ingredienzien wie Diazoverbindungen, Fotosäuren, Fotoinitiatoren, Chinondiazide, Sensibilisatoren usw., die im Wellenlängenbereich zwischen 250 nm und 650 nm absorbieren. Auf diese Weise kann eine gegenüber Tageslicht unempfindliche Druckplatte erhalten werden.Further, this IR-sensitive layer is preferably a visible-light and UV-light-desensitized layer. The layer is further preferably thermosetting. This preferably visible light and UV desensitised layer contains no radiation-sensitive ingredients such as diazo compounds, photo acids, photoinitiators, quinone diazides, sensitizers, etc. which are in wavelength range between 250 nm and 650 nm. In this way, an insensitive to daylight pressure plate can be obtained.

Die IR-empfindliche Schicht enthält vorzugsweise ebenfalls eine niedermolekulare Säure, vorzugsweise eine Carbonsäure, besonders bevorzugt eine Benzoesäure, ganz besonders bevorzugt 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure, oder ein Benzophenon, besonders bevorzugt Trihydroxybenzophenon.The Contains IR-sensitive layer preferably also a low molecular acid, preferably a carboxylic acid, especially preferably a benzoic acid, very particularly preferably 3,4,5-trimethoxybenzoic acid, or a benzophenone, especially preferred is trihydroxybenzophenone.

Das Verhältnis zwischen der Gesamtmenge der niedermolekularen Säure oder des Benzophenons und dem Polymer in der IR-empfindlichen Schicht variiert vorzugsweise zwischen 2 : 98 und 40 : 60, besonders bevorzugt zwischen 5 : 95 und 30 : 70. Die Gesamtmenge der IR-empfindlichen Schicht variiert vorzugsweise zwischen 0,1 und 10 g/m2, besonders bevorzugt zwischen 0,3 und 2 g/m2.The ratio between the total amount of the low molecular acid or the benzophenone and the polymer in the IR-sensitive layer preferably varies between 2:98 and 40:60, more preferably between 5:95 and 30:70. The total amount of the IR-sensitive layer varies preferably between 0.1 and 10 g / m 2 , more preferably between 0.3 and 2 g / m 2 .

In der IR-empfindlichen Schicht wird während der bildmäßigen Belichtung ein Unterschied in Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit der IR-empfindlichen Schicht im erfindungsgemäßen alkalischen Entwickler bewirkt.In The IR-sensitive layer is exposed during imagewise exposure a difference in penetrability and / or solubility the IR-sensitive layer in the alkaline developer according to the invention causes.

Zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte wird das wärmeempfindliche Bilderzeugungselement bildmäßig belichtet und entwickelt.to Making a lithographic printing plate becomes the heat-sensitive one Imaging element exposed imagewise and developed.

Die erfindungsgemäße bildmäßige Belichtung ist eine bildmäßige Abtastbelichtung unter Verwendung eines im Infrarotbereich (IR) und/oder nahen Infrarotbereich, d. h. im Wellenlängenbereich zwischen 700 und 1500 nm, emittierenden Lasers. Ganz besonders bevorzugt sind im nahen Infrarotbereich emittierende Laserdioden. Die Belichtung des Bilderzeugungselements kann mit Lasern mit sowohl kurzer als langer Pixelverweilzeit vorgenommen werden. Bevorzugt werden Laser mit einer Pixelverweilzeit zwischen 0,005 μs und 20 μs.The Image-wise exposure according to the invention is a pictorial scanning exposure using an infrared (IR) and / or near infrared range, d. H. in the wavelength range between 700 and 1500 nm, emitting laser. Very particularly preferred are near infrared emitting laser diodes. The exposure of the imaging member can be used with both shorter and longer lasers Pixel dwell time are made. Preference is given to using lasers a pixel dwell time between 0.005 μs and 20 μs.

Nach der bildmäßigen Entwicklung wird das wärmeempfindliche Bilderzeugungselement durch Spülung mit einer wässrig-alkalischen Lösung entwickelt. Als wässrig-alkalische Lösungen zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung verwendet man solche, die zum Entwickeln herkömmlicher positivarbeitender vorsensibilisierter Druckplatten eingesetzt werden, vorzugsweise SiO2 als Silikate enthalten und vorzugsweise einen pH zwischen 11,5 und 14 aufweisen. Somit werden die bebilderten Teile der Deckschicht, deren Durchdringbarkeit in der wässrig-alkalischen Lösung während der Belichtung erhöht ist, entfernt, wodurch eine positivarbeitende Druckplatte erhalten wird.After imagewise development, the heat-sensitive imaging element is developed by rinsing with an aqueous-alkaline solution. As aqueous-alkaline solutions for use in the present invention, those used for developing conventional positive-working presensitized printing plates, preferably containing SiO 2 as silicates and preferably having a pH between 11.5 and 14 are used. Thus, the imaged portions of the overcoat, whose permeability in the aqueous alkaline solution is increased during exposure, are removed, whereby a positive-working printing plate is obtained.

In der vorliegenden Erfindung ist auch die Zusammensetzung des benutzten Entwicklers von größter Bedeutung.In The composition of the present invention is also used Developer of the utmost importance.

Aus diesem Grund sind zum Erzielen einer Entwicklungsverarbeitung, die über einen langen Zeitraum stabil ist, Qualitäten wie die Stärke des Alkalis und das Verhältnis der Silikate im Entwickler besonders wichtig. Unter solchen Bedingungen haben die Erfinder der vorliegenden Erfindung gefunden, dass nur unter Verwendung des Entwicklers mit obiger Zusammensetzung eine Schnellverarbeitung bei hoher Temperatur möglich ist, die Menge der zuzuführenden Nachfülllösung niedrig ist und eine stabile Entwicklungsverarbeitung über einen langen Zeitraum von zumindest 3 Monaten ohne Ersetzen des Entwicklers vorgenommen werden kann.Out For this reason, in order to achieve development processing that has one long period is stable, qualities such as the strength of the Alkalis and the ratio Of the silicates in the developer particularly important. In such conditions The inventors of the present invention have found that only using the developer of the above composition Fast processing at high temperature is possible, the amount of supplied Refilling solution low is and stable development over a long period of time at least 3 months without replacing the developer can.

Die Entwickler und die Nachfülllösungen für den Entwickler, die in der vorliegenden Erfindung benutzt werden, sind vorzugsweise wässrige Lösungen, die als Hauptbestandteil Alkalimetallsilikate und Alkalimetallhydroxide der Formel MOH oder deren Oxid der Formel M2O enthalten, wobei der Entwickler SiO2 und M2O in einem Molverhältnis zwischen 0,5 und 1,5 und einem SiO2-Verhältnis zwischen 0,5 und 5 Gew.-% enthält. Als Alkalimetallsilikate werden zum Beispiel Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Lithiumsilikat und Natriummetasilikat bevorzugt. Als Alkalimetallhydroxide werden andererseits Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid bevorzugt.The developers and replenishers for the developer used in the present invention are preferably aqueous solutions containing as the main component alkali metal silicates and alkali metal hydroxides of the formula MOH or their oxide of the formula M 2 O, wherein the developer is SiO 2 and M 2 O in a molar ratio between 0.5 and 1.5 and a SiO 2 ratio between 0.5 and 5 wt .-%. As the alkali metal silicates, for example, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and sodium metasilicate are preferred. On the other hand, as alkali metal hydroxides, sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide are preferred.

Die erfindungsgemäß verwendeten Entwickler können gleichzeitig andere alkalische Mittel enthalten. Beispiele für solche anderen alkalischen Mittel sind anorganische alkalische Mittel wie Ammoniumhydroxid, tertiäres Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, tertiäres Kaliumphosphat, sekundäres Kaliumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat, sekundäres Ammoniumphosphat, Natriumbicarbonat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat und Ammoniumcarbonat, und organische alkalische Mittel wie Mono-, Di- oder Triethanolamin, Mono-, Di- oder Trimethylamin, Mono-, Di- oder Triethylamin, Mono- oder Diisopropylamin, n-Butylamin, Mono-, Di- oder Triisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiimin und Tetramethylammoniumhydroxid.The used according to the invention Developers can simultaneously contain other alkaline agents. Examples of such Other alkaline agents include inorganic alkaline agents such as Ammonium hydroxide, tertiary Sodium phosphate, secondary Sodium phosphate, tertiary Potassium phosphate, secondary Potassium phosphate, tertiary Ammonium phosphate, secondary Ammonium phosphate, sodium bicarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate and ammonium carbonate, and organic alkaline agents such as mono-, Di- or triethanolamine, mono-, di- or trimethylamine, mono-, di- or Triethylamine, mono- or diisopropylamine, n-butylamine, mono-, di- or triisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediimine and tetramethylammonium hydroxide.

Von grober Bedeutung in der vorliegenden Erfindung ist das Molverhältnis [SiO2]/[M2O] im Entwickler, das in der Regel zwischen 0,6 und 1,5, vorzugsweise zwischen 0,7 und 1,3 liegt. Liegt das Molverhältnis unter 0,6, ist eine merkliche Streuung der Wirkung zu beobachten, während bei einem Molverhältnis von mehr als 1,5 eine Schnellentwicklung schwierig zu erhalten wird und die lichtempfindliche Schicht auf den Nicht-Bildbereichen wahrscheinlich nicht völlig abgelöst oder entfernt werden kann. Darüber hinaus liegt das SiO2-Verhältnis im Entwickler und in der Nachfülllösung vorzugsweise zwischen 1 und 4 Gew.-%. Solche Beschränkung des SiO2-Verhältnisses ermöglicht es, in stabiler Weise lithografische Druckplatten mit guten Endqualitäten zu erhalten, sogar wenn über einen langen Zeitraum eine große Menge erfindungsgemäßer Druckplatten verarbeitet wird.Of major importance in the present invention is the molar ratio [SiO 2 ] / [M 2 O] in the developer, which is usually between 0.6 and 1.5, preferably between 0.7 and 1.3. If the molar ratio is less than 0.6, noticeable scattering of the effect is observed, while at a molar ratio of more than 1.5, rapid development is difficult to obtain and the photosensitive layer on the non-image areas is unlikely to be completely peeled off or removed , In addition, the SiO 2 ratio in the developer and in the replenisher is preferably between 1 and 4% by weight. Such limitation of the SiO 2 ratio makes it possible to stably obtain lithographic printing plates having good end qualities even when a large amount of printing plates of the invention are processed for a long period of time.

In einer besonders bevorzugten Ausführungsform wird als Entwickler eine wässrige Lösung eines Alkalimetallsilikats mit einem Molverhältnis [SiO2]/[M2O] zwischen 1,0 und 1,5 und einem SiO2-Verhältnis zwischen 1 und 4 Gew.-% benutzt. In diesem Falle muss selbstverständlich eine Nachfülllösung benutzt werden, deren alkalische Stärke größer oder gleich der alkalischen Stärke des benutzten Entwicklers ist. Um die Menge der zuzuführenden Nachfülllösung zu beschränken, ist es vorteilhaft, dass das Molverhältnis [SiO2]/[M2O] der Nachfülllösung kleiner oder gleich dem Molverhältnis [SiO2]/[M2O] des Entwicklers ist oder das SiO2-Verhältnis hoch ist, wenn das Molverhältnis des Entwicklers dem Molverhältnis der Nachfülllösung gleich ist.In a particularly preferred embodiment, the developer used is an aqueous solution of an alkali metal silicate with a molar ratio [SiO 2 ] / [M 2 O] of between 1.0 and 1.5 and an SiO 2 ratio of between 1 and 4% by weight. In this case, of course, a replenisher solution must be used whose alkaline strength is greater than or equal to the alkaline strength of the developer used. In order to limit the amount of the replenisher to be supplied, it is preferable that the molar ratio [SiO 2 ] / [M 2 O] of the replenisher is less than or equal to the molar ratio [SiO 2 ] / [M 2 O] of the developer or the SiO 2 Ratio is high when the molar ratio of the developer is equal to the molar ratio of the replenisher.

In den in der vorliegenden Erfindung benutzten Entwicklern und Nachfülllösungen können je nach Bedarf gleichzeitig organische Lösungsmittel mit einer Löslichkeit in Wasser bei 20°C von nicht mehr als 10 Gew.-% benutzt werden. Beispiele für solche organischen Lösungsmittel sind Carbonsäureester wie Ethylacetat, Propylacetat, Butylacetat, Amylacetat, Benzylacetat, Ethylenglycolmonobutylacetat, Butyllactat und Butyllevulinat, Ketone wie Ethylbutylketon, Methylisobutylketon und Cyclohexanon, Alkohole wie Ethylenglycolmonobutylether, Ethylenglycolbenzylether, Ethylenglycolmonophenylether, Benzylalkohol, Methylphenylcarbinol, n-Amylalkohol und Methylamylalkohol, alkylsubstituierte aromatische Kohlenwasserstoffe wie Xylol, halogenierte Kohlenwasserstoffe wie Methylendichlorid und Monochlorbenzol. Diese organischen Lösungsmittel können allein oder kombiniert benutzt werden. Erfindungsgemäß wird Benzylalkohol besonders bevorzugt. Diese organischen Lösungsmittel werden dem Entwickler oder der Nachfülllösung für den Entwickler in der Regel in einer Höchstmenge von 5 Gew.-% und vorzugsweise 4 Gew.-% zugesetzt.In The developers and replenishers used in the present invention may each be if necessary, organic solvents with a solubility at the same time in water at 20 ° C not more than 10% by weight. Examples of such organic solvents are carboxylic acid esters such as ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, Ethylene glycol monobutyl acetate, butyl lactate and butyl levulinate, ketones such as ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, alcohols such as ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol benzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, Benzyl alcohol, methylphenylcarbinol, n-amyl alcohol and methylamyl alcohol, alkyl-substituted aromatic hydrocarbons such as xylene, halogenated Hydrocarbons such as methylene dichloride and monochlorobenzene. These Organic solvents can be used alone or used in combination. In the present invention, benzyl alcohol becomes particularly prefers. These organic solvents Be the developer or the replenisher for the developer in general in a maximum amount of 5% by weight and preferably 4% by weight.

Es kann ebenfalls ein Tensid in die erfindungsgemäß verwendeten Entwickler und Nachfülllösungen eingebettet werden, um deren Entwicklungseigenschaften zu verbessern. Beispiele für solche Tenside sind u. a. Salze von Schwefelsäureestern mit höherem Alkohol (C8~C22) wie Natriumsalz von Laurylalkoholsulfat, Natriumsalz von Octylalkoholsulfat, Ammoniumsalz von Laurylalkoholsulfat, Teepol B-81 (Warenzeichen von Shell Chemicals Co., Ltd.) und Dinatriumalkylsulfate, Salze von Phosphorsäureestern mit alifatischem Alkohol wie Natriumsalz von Cetylalkoholphosphat, Alkylarylsulfonsäuresalze wie Natriumsalz von Dodecylbenzolsulfonat, Natriumsalz von Isopropylnapthalinsulfonat, Natriumsalz von Dinaphthalindisulfonat und Natriumsalz von Metanitrobenzolsulfonat, Sulfonsäuresalze von Alkylamiden wie C17H33CON(CH3)CH2CH2SO3Na und Sulfonsäuresalze von zweibasigen alifatischen Säureestern wie Natriumdioctylsulfosuccinat und Natriumdihexylsulfosuccinat. Diese Tenside können allein oder kombiniert benutzt werden. Besonders bevorzugt werden Sulfonsäuresalze. Diese Tenside können in einer in der Regel nicht über 5 Gew.-%, vorzugsweise nicht über 3 Gew.-% liegenden Menge verwendet werden.Also, a surfactant can be embedded in the developers and replenishers used in the present invention to improve their development properties. Examples of such surfactants include salts of higher alcohol (C 8 -C 22 ) sulfuric acid esters such as sodium salt of lauryl alcohol sulfate, sodium salt of octyl alcohol sulfate, ammonium salt of lauryl alcohol sulfate, Teepol B-81 (trademark of Shell Chemicals Co., Ltd.) and disodium alkyl sulfates. Salts of phosphoric acid esters with aliphatic alcohol, such as sodium salt of cetyl alcohol phosphate, alkylarylsulfonic acid salts, such as sodium dodecylbenzenesulfonate, sodium salt of isopropylnaphthalenesulfonate, sodium salt of dinaphthalenedisulfonate and sodium salt of metanitrobenzenesulfonate, sulfonic acid salts of alkylamides such as C 17 H 33 CON (CH 3 ) CH 2 CH 2 SO 3 Na and Sulfonic acid salts of dibasic aliphatic acid esters such as sodium dioctylsulfosuccinate and sodium dihexylsulfosuccinate. These surfactants can be used alone or in combination. Particularly preferred are sulfonic acid salts. These surfactants can be used in an amount which is generally not more than 5% by weight, preferably not more than 3% by weight.

Zur Verbesserung der Entwicklungsstabilität der in der vorliegenden Erfindung benutzten Entwickler und Nachfülllösungen können gleichzeitig die nachstehenden Verbindungen verwendet werden.to Improvement of the development stability of in the present invention used developers and replenishers can work simultaneously the following compounds are used.

Beispiele für solche Verbindungen sind neutrale Salze wie NaCl, KCl und KBr, wie in JN-A 58 75 152 beschrieben, Chelatbildner wie EDTA und NTA, wie in JN-A 58 190 952 (US-A 4 469 776) beschrieben, Komplexe wie [Co(NH3)6]C13, wie in JN-A 59 121 336 (US-A 4 606 995) beschrieben, ionisierbare Verbindungen von Elementen der Gruppe IIa, IIIa oder IIIb des Periodensystems, wie die in JN-A 55 25 100 beschriebenen, anionische oder amfotere Tenside wie Natriumalkylnaphthalinsulfonat und N-Tetradecyl-N,N-dihydroxythylbetain, wie in JN-A 50 51 324 beschrieben, Tetramethyldecyndiol, wie in US-A 4 374 920 beschrieben, nicht-ionische Tenside wie in JN-A 60 213 943 beschrieben, kationische Polymere wie quaternäre Methylchlorid-Produkte von p-Dimethylaminomethylpolystyrol, wie in JN-A 55 95 946 beschrieben, amfotere Polyelektrolyte wie ein Copolymer aus Vinylbenzyltrimethylammoniumchlorid und Natriumacrylat, wie in JN-A 56 142 528 beschrieben, anorganische Reduktionssalze wie Natriumsulfit, wie in JN-A 57 192 952 (US-A 4 467 027) beschrieben, und alkalilösliche Mercaptoverbindungen oder Thioetherverbindungen wie Thiosalicylsäure, Cystein und Thioglycolsäure, anorganische Lithiumverbindungen wie Lithiumchlorid, wie in JN-A 58 95 444 beschrieben, organische Lithiumverbindungen wie Lithiumbenzoat, wie in JN-A 50 34 442 beschrieben, Si, Ti oder ähnliche Substanzen enthaltende Organometall-Tenside, wie in JN-A 59 75 255 beschrieben, Organobor-Verbindungen, wie in JN-A 59 84 241 (US-A 4 500 625) beschrieben, quaternäre Ammoniumsalze wie Tetraalkylammoniumoxide, wie in EP-A 101 010 beschrieben, und Bakterizide wie Natriumdehydroacetat, wie in JN-A 63 226 657 beschrieben.Examples of such compounds are neutral salts such as NaCl, KCl and KBr as described in JN-A 58 75 152, chelating agents such as EDTA and NTA as described in JN-A 58 190 952 (US Pat. No. 4,469,776), complexes such as [Co (NH 3 ) 6 ] C 13 , as described in JN-A 59 121 336 (US Pat. No. 4,606,995), ionizable compounds of elements of group IIa, IIIa or IIIb of the Periodic Table, such as those in JN-A 55 25 100 described, anionic or amphoteric surfactants such as sodium alkylnaphthalenesulfonate and N-tetradecyl-N, N-dihydroxythylbetain, as described in JN-A 50 51 324, tetramethyldecyndiol, as described in US-A 4,374,920, nonionic surfactants as described in JN -A 60 213 943 describes cationic polymers such as quaternary methyl chloride products of p-dimethylaminomethyl polystyrene as described in JN-A 55 95 946, the more amphoteric polyelectrolytes such as a copolymer of vinylbenzyltrimethylammonium chloride and sodium acrylate as described in JN-A 56 142 528, inorganic Reduction salts such as sodium sulfite, wi in JN-A 57 192 952 (US Pat. No. 4,467,027), and alkali-soluble mercapto compounds or thioether compounds such as thiosalicylic acid, cysteine and thioglycolic acid, inorganic lithium compounds such as lithium chloride as described in JN-A 58 95 444, organic lithium compounds such as lithium benzoate, as described in JN-A 50 34 442, organometallic surfactants containing Si, Ti or similar substances, as described in JN-A 59 75 255 organoboron compounds, as described in JN-A 59 84 241 (US-A 4,500,625 ), quaternary ammonium salts such as Te traalkylammonium oxides as described in EP-A 101 010, and bactericides such as sodium dehydroacetate as described in JN-A 63 226 657.

Im erfindungsgemäßen Entwicklungsverarbeitungsverfahren kann ein beliebiges Mittel zum Zuführen einer Nachfülllösung für Entwickler benutzt werden. Beispiele für solche bevorzugten Verfahren sind ein Verfahren, in dem eine Nachfülllösung mit zeitlichen Unterbrechungen oder kontinuierlich als Funktion der Menge der verarbeiteten PS-Platten und der Zeit zugeführt wird, wie in JN-A-55-115 039 (GB-A-2 046 931) beschrieben, ein Verfahren, in dem ein Sensor angeordnet wird, um das Ausmaß nachzuweisen, in dem die lichtempfindliche Schicht im mittleren Bereich einer Entwicklungszone gelöst wird, und die Nachfülllösung proportional zum nachgewiesenen Ausmaß der Herauslösung der lichtempfindlichen Schicht zugeführt wird, wie in JN-A-58-95 349 (US-A 4 537 496) beschrieben, und ein Verfahren, in dem der Impedanzwert eines Entwicklers ermittelt und der ermittelte Impedanzwert durch einen Rechner verarbeitet wird, um die Zuführung einer Nachfülllösung durchzuführen, wie in GB-A 2 208 249 beschrieben.in the Inventive development processing method may be any means for supplying a replenisher for developers to be used. examples for Such preferred methods are a method in which a replenisher with time interruptions or continuously as a function of Amount of processed PS plates and time is supplied as described in JN-A-55-115 039 (GB-A-2 046 931), a process in which a sensor is arranged to detect the extent to which the Photosensitive layer in the middle region of a development zone solved and the refill solution is proportional to the proven extent of disentanglement the photosensitive layer is supplied as in JN-A-58-95 349 (US-A 4 537 496), and a method in which the Impedance value of a developer determined and the determined impedance value is processed by a computer to perform the supply of a replenishment solution, such as in GB-A 2 208 249.

Die erfindungsgemäße Druckplatte kann ebenfalls in Form einer nahtlosen hülsenförmigen Druckplatte in einem Druckzyklus eingesetzt werden. Bei dieser Anwendung wird die Druckplatte mittels eines Lasers zu einer zylindrischen Form zusammengelötet. Diese zylindrische Druckplatte, deren Durchmesser dem Durchmesser der Drucktrommel gleich ist, wird auf die Drucktrommel geschoben, anstatt auf herkömmlichem Wege als in herkömmlicher Weise angefertigte Druckplatte auf der Druckpresse angeordnet zu werden. Genauere Angaben über hülsenförmige Druckplatten finden sich in "Grafisch Nieuws", Herausgeber Keesing, 15, 1995, Seite 4 bis 6.The Pressure plate according to the invention can also be in the form of a seamless sleeve-shaped printing plate in one Pressure cycle can be used. In this application, the pressure plate soldered together to form a cylindrical shape by means of a laser. These cylindrical pressure plate whose diameter is equal to the diameter of Print drum is the same, is pushed onto the printing drum, instead by conventional means than in conventional Way prepared printing plate arranged on the printing press to become. More details about sleeve-shaped printing plates can be found in "Graphical Nieuws ", publisher Keesing, 15, 1995, pages 4 to 6.

Nach Entwicklung eines bildmäßig belichteten Bilderzeugungselements mit einer wässrig-alkalischen Lösung und Trocknung kann die erhaltene Druckplatte ohne weitere Verarbeitung als Druckplatte eingesetzt werden. Allerdings kann die Druckplatte zum Verbessern der Dauerhaftigkeit noch bei einer Temperatur zwischen 200°C und 300°C über einen Zeitraum von 30 Sekunden bis 5 Minuten eingebrannt werden. Das Bilderzeugungselement kann ebenfalls einer vollflächigen Nachbelichtung mit UV-Strahlung unterzogen werden, um das Bild zu härten und somit die Auflagenhöhe der Druckplatte zu steigern.To Development of a pictorial exposed Image forming element with an aqueous-alkaline solution and Drying can the resulting printing plate without further processing be used as a printing plate. However, the pressure plate can to improve the durability even at a temperature between 200 ° C and 300 ° C over a Period of 30 seconds to 5 minutes are burned. The imaging element can also be a full-surface After exposure to UV radiation, the image is subjected to harden and thus the circulation to increase the pressure plate.

Die vorliegende Erfindung wird jetzt anhand der folgenden Beispiele veranschaulicht, ohne sie jedoch darauf zu beschränken. Alle Teile und Prozentsätze bedeuten Gewichtsteile, wenn nichts anders vermerkt ist.The The present invention will now be apparent from the following examples illustrated but not limited thereto. All Parts and percentages mean parts by weight unless otherwise stated.

BEISPIEL 1EXAMPLE 1

Herstellung des lithografischen Trägersmanufacturing of the lithographic carrier

Eine 0,30 mm starke Aluminiumfolie wird durch Eintauchen der Folie in einer wässrigen, 5 g/l Natriumhydroxid enthaltenden Lösung bei 50°C entfettet und mit entmineralisiertem Wasser gespült. Die Folie wird dann bei einer Temperatur von 35°C und einer Stromdichte von 1.200 A/m2 in einer wässrigen Lösung, die 4 g/l Chlorwasserstoffsäure, 4 g/l Borwasserstoffsäure und 5 g/l Aluminiumionen enthält, mit Wechselstrom elektrochemisch gekörnt, um eine Oberflächentopografie mit einem arithmetischen Mittenrauhwert Ra von 0,5 μm zu erhalten.A 0.30 mm thick aluminum foil is degreased by immersing the foil in an aqueous solution containing 5 g / l of sodium hydroxide at 50 ° C and rinsed with demineralized water. The film is then electrochemically grained with AC at a temperature of 35 ° C. and a current density of 1200 A / m 2 in an aqueous solution containing 4 g / l hydrochloric acid, 4 g / l hydrobromic acid and 5 g / l aluminum ions. to obtain a surface topography with a center-line arithmetic mean Ra of 0.5 μm.

Nach Spülung mit entmineralisiertem Wasser wird die Aluminiumfolie mit einer wässrigen, 300 g/l Schwefelsäure enthaltenden Lösung 180 s bei 60°C geätzt und anschließend 30 s bei 25°C mit entmineralisiertem Wasser gespült.To flush with demineralized water, the aluminum foil with a aqueous, 300 g / l sulfuric acid containing solution 180 s at 60 ° C etched and subsequently 30 s at 25 ° C rinsed with demineralised water.

Anschließend wird die Folie bei einer Temperatur von 45°C, einer Spannung von etwa 10 V und einer Stromdichte von 150 A/m2 etwa 300 s in einer wässrigen, 200 g/l Schwefelsäure enthaltenden Lösung eloxiert, um eine anodische, 3,00 g/m2 Al2O3 enthaltende Oxidationsfolie zu erhalten, dann mit entmineralisiertem Wasser gewaschen, anschließend zuerst mit einer Polyvinylphosphonsäure enthaltenden Lösung und dann mit einer Aluminiumtrichlorid enthaltenden Lösung nachverarbeitet, dann mit entmineralisiertem Wasser 120 s bei 20°C gespült und getrocknet.Subsequently, the film is anodized at a temperature of 45 ° C, a voltage of about 10 V and a current density of 150 A / m 2 for about 300 s in an aqueous solution containing 200 g / l of sulfuric acid to give an anodic, 3.00 g / m 2 Al 2 O 3 containing oxidation film, then washed with demineralized water, then first with a solution containing polyvinylphosphine and then with a solution containing aluminum trichloride, then rinsed with demineralized water for 120 s at 20 ° C and dried.

Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements 1Production of heat-sensitive Image forming element 1

Auf den obenbeschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Nassschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452TM (vertrieben von Clariant, Deutschland) und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure und wird 40 s bei 120°C getrocknet.On top of the lithographic support described above, a layer of an 8.6% by weight solution in tetrahydrofuran / methoxypropanol (ratio 55/45) is first cast in a wet layer thickness of 14 μm. The layer thus obtained contains 88% ALNOVOL SPN452 (marketed by Clariant, Germany) and 12% 3,4,5-trimethoxybenzoic acid and is dried at 120 ° C for 40 s.

Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Nassschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 0,272 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 42 s lang bei einer Temperatur von zumindest 100°C getrocknet.On this layer sheds one then in a wet layer thickness of 20 μm the IR-sensitive layer of a 0.272 wt .-% solution in Methyl ethyl ketone / methoxypropanol (ratio 50/50). This layer is dried for at least 42 seconds at a temperature of at least 100 ° C.

Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 35 mg/m2 des Infrarotlicht absorbierenden Farbstoffes I, 12,5 mg/m2 FLEXO-BLAU 630TM, 2,0 mg/m2 TEGO WET 265 und 5,0 mg/m2 TEGO GLIDE 410TM (beide sind Siloxan-Tenside von Goldschmitt, Deutschland).
FLEXO-BLAU 630 wird von BASF, Ludwigshafen, Deutschland, vertrieben.
The IR-sensitive layer thus obtained contains 35 mg / m 2 of the infrared absorbing dye I, 12.5 mg / m 2 of FLEXO-BLAU 630 , 2.0 mg / m 2 of TEGO WET 265 and 5.0 mg / m 2 TEGO GLIDE 410 (both are siloxane surfactants from Goldschmitt, Germany).
FLEXO-BLUE 630 is marketed by BASF, Ludwigshafen, Germany.

BEISPIEL 2EXAMPLE 2

Es wird der gleiche Träger wie in Beispiel 1 benutzt.It becomes the same carrier as used in Example 1.

Es werden die gleichen Beschichtungen wie in Beispiel 1 vorgenommen, jedoch mit dem Unterschied, dass die IR-empfindliche Schicht 42 s bei 110°C getrocknet wird.It the same coatings are used as in Example 1, but with the difference that the IR-sensitive layer 42 s at 110 ° C is dried.

BEISPIEL 3EXAMPLE 3

Es wird der gleiche Träger wie in Beispiel 1 benutzt.It becomes the same carrier as used in Example 1.

Es werden die gleichen Beschichtungen wie in Beispiel 1 vorgenommen, jedoch mit dem Unterschied, dass die IR-empfindliche Schicht 42 s bei 120°C getrocknet wird.It the same coatings are used as in Example 1, but with the difference that the IR-sensitive layer 42 s at 120 ° C is dried.

BEISPIEL 4EXAMPLE 4

Es wird der gleiche Träger wie in Beispiel 1 benutzt.It becomes the same carrier as used in Example 1.

Es werden die gleichen Beschichtungen wie in Beispiel 1 vorgenommen, jedoch mit dem Unterschied, dass die IR-empfindliche Schicht 42 s bei 130°C getrocknet wird.It the same coatings are used as in Example 1, but with the difference that the IR-sensitive layer 42 s at 130 ° C is dried.

BEISPIEL 5EXAMPLE 5

Es wird der gleiche Träger wie in Beispiel 1 benutzt.It becomes the same carrier as used in Example 1.

Es werden die gleichen Beschichtungen wie in Beispiel 1 vorgenommen, jedoch mit dem Unterschied, dass die IR-empfindliche Schicht 42 s bei 140°C getrocknet wird.It the same coatings are used as in Example 1, but with the difference that the IR-sensitive layer 42 s at 140 ° C is dried.

Ermittlung des Einfrierpunktsdetection the freezing point

Bei diesen Materialien wird die Beschichtung vom Aluminiumsubstrat abgekratzt. Der Tg dieses Materials wird auf einer Sciko SSC 5200 DSC-Vorrichtung gemessen. Bei diesen Messungen wird die Heizgeschwindigkeit auf 20°C/Minute eingestellt. Die Messungen werden in einem Temperaturbereich von –20°C bis 120°C vorgenommen.at In these materials, the coating is scraped off the aluminum substrate. The Tg of this material is on a Sciko SSC 5200 DSC device measured. These measurements will increase the heating rate 20 ° C / minute set. The measurements are carried out in a temperature range of -20 ° C to 120 ° C.

Figure 00210001
Figure 00210001

Ermittlung der Beschädigungsanfälligkeit gegenüber Saugnäpfendetection the susceptibility to damage across from suckers

In einer Experimentvorrichtung mit Originalsaugnäpfen eines Laserbelichters wird folgende Prüfung durchgeführt. 12 Saugnäpfe werden unter einem Vakuum von 85 kPA gesetzt. Nach 30 s wird das Vakuum von 3 Saugnäpfen aufgehoben. Nach 60 s wird das Vakuum von 3 weiteren Saugnäpfen aufgehoben. Nach 2 und 5 Minuten wird das Vakuum der 3 folgenden Saugnäpfe bzw. der letzten 3 Saugnäpfe aufgehoben. Anschließend wird die Platte bei einer Geschwindigkeit von 1 m/Min. in einer EP26-Lösung in einem NPX-Entwicklungsgerät entwickelt.In an experimental device with original suction cups of a laser exposure the following check is carried out. 12 suckers are put under a vacuum of 85 kPa. After 30 s that will be Vacuum of 3 suction cups canceled. After 60 seconds, the vacuum is lifted by 3 more suction cups. After 2 and 5 minutes, the vacuum of the 3 following suction cups or the last 3 suckers canceled. Subsequently the plate is at a speed of 1 m / min. in a EP26 solution in an NPX development unit developed.

Nach Trocknung wird der durch die Saugnäpfe verursachte Schaden visuell mit einer Ziffer bewertet.To Drying causes visual damage to the damage caused by the suction cups rated with a numeral.

Figure 00220001
Figure 00220001

Anschließend werden die 12 Ziffern addiert.Then be the 12 digits added.

Belichtung des wärmeempfindlichen BilderzeugungselementsExposure of the heat-sensitive Imaging element

Alle die obenerwähnten Materialien werden mit einem Creo 3244TM-Außentrommel-Druckplattenbelichter bei 2400 dpi und den in nachstehender Tabelle angegebenen Leistungen bebildert.All of the above-mentioned materials are imaged with a Creo 3244 Outer Drum printing plate setter at 2400 dpi and the performances shown in the table below.

Figure 00220002
Figure 00220002

Entwicklung des bildmäßig belichteten ElementsDevelopment of the imagewise exposed element

Nach Belichtung des Bilderzeugungselements wird das Element in einer wässrig-alkalischen Entwicklerlösung entwickelt. Diese Entwicklung erfolgt bei einer Geschwindigkeit von 1 m/Min. und einer Temperatur von 25°C in einem TECHNIGRAPH NPX-32-Entwicklungsgerät, das mit OZASOL EP262A (OZASOL EP262A wird von Agfa vertrieben) und Wasser in der Spülzone und OZASOL RC795-Gummi im Gummierbereich gefüllt ist.To Exposure of the imaging element becomes the element in a aqueous alkaline developer solution developed. This development occurs at a speed from 1 m / min. and a temperature of 25 ° C in a TECHNIGRAPH NPX-32 processor equipped with OZASOL EP262A (OZASOL EP262A is sold by Agfa) and water in the rinsing zone and OZASOL RC795 rubber is filled in the gum area.

Figure 00230001
Figure 00230001

Ermittlung der Beschädigungsanfälligkeit gegenüber SaugnäpfenDetermination of susceptibility to damage across from suckers

All die Druckplatten werden gemäß dem obenbeschriebenen Testverfahren geprüft, um die Beschädigungsanfälligkeit gegenüber Saugnäpfen zu ermitteln. Je niedriger der erhaltene Wert, desto niedriger die Beschädigungsanfälligkeit gegenüber Saugnäpfen.Alles the printing plates are according to the above-described Test procedure checked, about the susceptibility to damage across from suckers to investigate. The lower the value obtained, the lower the susceptibility to damage across from Suction cups.

Figure 00230002
Figure 00230002

Zum Erhalten eines fehlerfreien Transports mittels Saugnäpfen ist ein Maximumswert von 15 akzeptabel.To the Getting a faultless transport by suction cups is a maximum of 15 acceptable.

Claims (9)

Ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte, das auf einem lithografischen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche eine erste, ein in einer wässrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer enthaltende Schicht und auf derselben Seite des lithografischen Trägers wie die erste Schicht eine IR-empfindliche Deckschicht enthält, die undurchdringbar und unlöslich für einen alkalischen Entwickler ist, wobei die erste Schicht und die Deckschicht ein und dieselbe Schicht sein können und die erste Schicht und die Deckschicht die Bilderzeugungsschichten sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Bilderzeugungsschichten einen Einfrierpunkt von zumindest 57°C aufweisen.A heat-sensitive imaging element for making a lithographic printing plate comprising on a lithographic support having a hydrophilic surface a first aqueous alkaline solution-soluble polymer-containing layer and on the same side of the lithographic support as the first layer an IR-sensitive cover layer; which is impenetrable and insoluble to an alkaline developer, wherein the first layer and the overcoat layer can be one and the same layer and the first layer and the overcoat layer are the image-forming layers, characterized in that the image-forming layers have a glass transition point of at least 57 ° C. Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Bilderzeugungsschichten einen Einfrierpunkt von zumindest 59°C aufweisen.thermosensitive Image forming element for producing a lithographic printing plate according to claim 1, characterized in that the image-forming layers have a glass transition point of at least 59 ° C. Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das in einer wässrig-alkalischen Lösung lösliche Polymer wärmehärtbar ist.thermosensitive Image forming element for producing a lithographic printing plate according to claim 1 or 2, characterized in that in a aqueous alkaline solution soluble Polymer is thermosetting. Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Polymer ein Polymer aus der Gruppe bestehend aus Novolak, Polyhydroxystyrol und einem carboxylsubstituierten Polymer ist.thermosensitive Image forming element for producing a lithographic printing plate according to claim 3, characterized in that the polymer is a polymer from the group consisting of novolak, polyhydroxystyrene and a carboxyl-substituted polymer. Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die das Polymer enthaltende Schicht eine löslich machende Verbindung für das Polymer enthält.Heat-sensitive imaging element for producing a lithographic printing plate according to one of claims 1 to 4, characterized in that the layer containing the polymer becomes soluble containing compound for the polymer. Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die löslich machende Verbindung eine Verbindung aus der Gruppe bestehend aus niedermolekularen Säuren und Benzophenonen ist.thermosensitive Image forming element for producing a lithographic printing plate according to claim 5, characterized in that the solubilizing Compound one of the group consisting of low molecular weight acids and benzophenones. Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die lithografische Unterlage mit einer hydrophilen Oberfläche ein elektrochemisch gekörntes und eloxiertes Aluminiumsubstrat ist.thermosensitive Image forming element for producing a lithographic printing plate according to one of the claims 1 to 6, characterized in that the lithographic base with a hydrophilic surface an electrochemically grained and anodized aluminum substrate. Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die lithografische Unterlage mit einer hydrophilen Oberfläche ein biegsamer, ein gehärtetes hydrophiles Bindemittel enthaltender Träger ist.thermosensitive Image forming element for producing a lithographic printing plate according to one of the claims 1 to 6, characterized in that the lithographic base with a hydrophilic surface a flexible, a hardened one hydrophilic binder containing carrier. Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte. nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Bilderzeugungselement einen Infrarotlicht absorbierenden Farbstoff oder ein Infrarotlicht absorbierendes Pigment enthält.thermosensitive Image forming element for producing a lithographic printing plate. according to one of the claims 1 to 8, characterized in that the imaging element an infrared absorbing dye or an infrared light contains absorbent pigment.
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