DE69723433T2 - Feldemissionsanzeigevorrichtungen mit praseodym-mangan-oxid-schicht - Google Patents

Feldemissionsanzeigevorrichtungen mit praseodym-mangan-oxid-schicht Download PDF

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S. Surjit CHADHA
T. Robert RASMUSSEN
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/86Vessels; Containers; Vacuum locks
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Description

  • Diese Erfindung wurde mit der Förderung der Regierung unter der Vertragsnummer DABT63-93-C0025 durchgeführt, die von der Advanced Research Projects Agency (ARPA) zur Verfügung gestellt wurde. Die Regierung hält bestimmte Rechte an dieser Erfindung.
  • Technisches Feld
  • Die Erfindung betrifft im allgemeinen Feldemissionsanzeigen und insbesondere eine leitende, lichtabsorbierende Praseodym-Manganoxidschicht, die auf der Oberfläche einer Basisplatte in einer Feldemissionsanzeige aufgebracht ist, um Oberflächenladung abzuziehen und Streuelektronen zu absorbieren.
  • Hintergrund der Erfindung
  • Bei vielen Geräten, beispielsweise Computern und Fernsehern, ist die Verwendung einer Anzeige notwendig. Typischerweise wurden Kathodenstrahlröhren (CRT) verwendet, um diese Aufgabe zu erfüllen. Die CRT besteht aus einer abtastenden Elektronenkanone, die auf einen leuchtstoffbeschichteten Schirm gerichtet ist. Die Elektronenkanone emittiert einen Elektronenstrahl, der auf einzelne Leuchtstoffbildelemente oder auf Bildpunkte (pixel) auf dem Schirm auftrifft. Wenn die Elektronen die Bildpunkte treffen, erhöhen sie dadurch das Energieniveau des Leuchtstoffs. Mit dem Abfallen des Energieniveaus von diesem angeregten Zustand emittieren die Bildpunkte Photonen. Diese Photonen passieren den Schirm und werden von einem Betrachter als Lichtpunkt gesehen. Die CRT hat jedoch eine Reihe von Nachteilen. Um die gesamte Breite des Schirms abzutasten, muß zwischen dem CRT-Schirm und der Elektronenkanone ein Abstand vorgesehen sein. Dadurch wird die ganze Einheit groß und unhandlich. Zudem verbraucht die CRT im Betrieb viel Energie.
  • Modernere Geräte, wie Laptop-Computer, benötigen einen tragbaren leichten Bildschirm., Zur Zeit verwenden solche Bildschirme Elektrolumineszenz- oder Flüssigkristall-(LCD)-Technik. Eine vielversprechende Technik zum Ersetzen solcher Bildschirme ist die Feldemissionsanzeigetechnik. Die Feldemissionsanzeige (field emission display, FED) verwendet als Elektronenquelle statt der abtastenden Elektronenkanone in der CRT eine Basisplatte mit kalten Kathoden-Emitterspitzen. Wenn diese Emitterspitzen einem elektrischen Feld ausge setzt werden, emittieren diese einen Elektronenstrahl in Richtung einer Frontplatte, an der Leuchtstoffbildpunkte haften. Statt einer einzelnen Kanone, die Elektronen auf die Bildpunkte feuert, weist die FED eine Anordnung von Emitterspitzen auf. Jede Emitterspitze ist einzeln ansteuerbar und eine oder mehrere Emitterspitzen sind einem einzelnen Leuchtstoffbildpunkt auf der Frontplatte zugeordnet.
  • Eines der Probleme bei einer FED besteht darin, daß nicht alle Photonen, die von den Bildpunkten freigesetzt werden, die Frontplatte passieren, um von dem Betrachter als Bildpunkt gesehen zu werden. Vielmehr fliegt nahezu die Hälfte der Photonen allgemein in Richtung auf die Basisplatte, und die Photonen können innerhalb der FED auf die Emitterspitzen und/oder auf Schaltkreise treffen. Dadurch kann ein unerwünschter photoelektrischer Effekt ausgelöst werden, wobei jegliches von der Basisplatte reflektierte Licht den Kontrast der FED verringert. Ein weiteres Problem ist, daß nicht alle von den Emitterspitzen freigesetzten Elektronen tatsächlich deren Zielbildpunkt anregen. Stattdessen werden einige dieser Elektronen intern reflektiert und können einen Bildpunkt anregen, der nicht Zielbildpunkt ist.
  • Daher besteht auf dem Gebiet der Feldemissionsanzeigen ein Bedarf nach einer Feldemissionsanzeige, welch den photoelektrischen Effekt und die Probleme mit den intern reflektierten Elektronen minimieren kann. Die vorliegende Erfindung erfüllt diesen Bedarf und bietet weitere damit verbundene Vorteile.
  • Abriß der Erfindung
  • Kurz gesagt, betrifft die Erfindung eine leitende, lichtabsorbierende Praseodym-Manganoxidschicht, die auf der Innenfläche einer FED-Basisplatte aufgetragen ist. Die Praseodym-Manganoxidschicht verringert den photoelektrischen Effekt und die Beeinträchtigungen, die mit den von der Frontplatte reflektierten Elektronen verbunden sind und verbessert das Anzeigebild sowie den Kontrast durch Absorption jeglichen Umgebungslichtes, das die Basisplatte erreicht, und/oder durch Absorption jeglicher Photonen, die in Richtung der Basisplatte emittiert werden.
  • In einer Ausführung ist eine leitende und lichtabsorbierende Basisplatte einer Feldemissionsanzeige vorgesehen. Zumindest ein Abschnitt der Innenfläche der Basisplatte (d. h. die Oberfläche, die der Frontplatte gegenüberliegt) ist mit einer Praseodym-Manganoxidschicht beschichtet, die einen spezifischen Widerstand aufweist, der 1 × 105 Ωcm, vorzugsweise 1 × 104 Ωcm, besonders bevorzugt 1 × 103 Ωcm, nicht übersteigt. Die Praseodym-Mangangoxidschicht ist auf der Basisplatte mit einer Dicke zwischen 100 nm und 1500 nm (1000 Å bis 15000 Å) aufgetragen und hat bei einer Wellenlänge von 500 nm einen Lichtabsorptionskoeffizienten von zumindest 1 × 105 cm–1.
  • Eine Ausführung betrifft eine FED, welche die leitende und lichtabsorbierende Basisplatte dieser Erfindung enthält. Solche Anzeigen sind insbesondere zur Verwendung in Produkten geeignet, die bei starkem Umgebungslicht verwendet werden, einschließlich (aber nicht darauf beschränkt) der Verwendung als Bildschirm eines Laptop-Computers.
  • Ferner ist ein Verfahren zur Herstellung einer leitenden und licht-absorbierenden Basisplatte offenbart. Das Verfahren umfaßt die Beschichtung der Innenfläche der Basisplatte mit einer Schicht aus Praseodym-Manganoxid mit einem spezifischen Widerstand, der 1 × 105 Ωcm nicht übersteigt. Geeignete Beschichtungstechniken umfassen (sind jedoch nicht beschränkt auf) das Aufbringen durch Hochfrequenzbedampfen (RF-Sputtering).
  • Es ist ferner ein Verfahren zur Herstellung eines leitenden und lichtabsobierenden Praseodym-Manganoxidmaterials offenbart. Dieses Verfahren umfaßt das Erhitzen einer Mischung aus einer Praseodymverbindung und einer Manganverbindung bei einer Temperatur im Bereich zwischen 1200°C und 1500°C für eine Zeitdauer, die ausreicht, um das Praseodym-Manganoxidmaterial zu erzeugen. Die Praseodymverbindung ist Pr6O11 und die Manganverbindung ist aus MnO2 und Mn(CO3)2 ausgewählt. Ferner ist in dem Praseodym-Manganoxidmaterial das Verhältnis von Praseodym zu Mangan derart, daß das Material (nach dem Auftragen einer Schicht des Materials auf eine Basisplatte) einen spezifischen Widerstand aufweist, der 1 × 105 Ωcm nicht überschreitet.
  • Diese und andere Aspekte der Erfindung werden unter Bezug auf die beigefügten Zeichnungen aus der folgenden detaillierten Beschreibung evident.
  • Kurzbeschreibung der Zeichnungen
  • 1 ist eine Querschnittsansicht eines Feldemissionsanzeigeschirms nach dem Stand der Technik und zeigt sowohl die emittierten als auch rückemittierten Photonen sowie intern reflektierte Elektronen.
  • 2 ist eine Querschnittsansicht einer erfindungsgemäßen repräsentativen Feldemissionsanzeige.
  • Detaillierte Beschreibung der Erfindung
  • Wie oben erwähnt, betrifft die vorliegende Erfindung eine leitende lichtabsorbierenden Praseodym-Manganoxidschicht zur Verwendung innerhalb einer FED. Diese Schicht dient dazu, Oberflächenladungen abzuziehen, welche mit Streuelektronen innerhalb der FED assoziiert sind, und muß einen spezifischen Widerstand aufweisen, der nicht größer als 1 × 105 Ωcm, vorzugsweise nicht größer als 1 × 104 Ωcm und besonders bevorzugt nicht größer als 1 × 103 Ωcm ist. Ferner dient die Praseodym-Manganoxidschicht auch der Absorption von rückemittierten Photonen (d. h. Photonen, die von der Frontplatte in Richtung der Basisplatte emittiert werden). Wegen der dunklen Farbe der Phaseodym-Manganoxidschicht absorbiert diese Licht gut (d. h. der Lichtabsorptionskoeffizient von Praseodym-Manganoxid liegt in der Größenordnung von 1 × 105 cm–1), woraus für die FED einige Vorteile resultieren. Einer dieser Vorteile ist, daß der photoelektrische Effekt in den darunterliegenden Schaltkreisen minimiert ist, der sich durch die Streuphotonen ergibt, welche auf die Basisplatte der FED treffen. Eine weitere vorteilhafte Eigenschaft ist, daß ein bessere Kontrast zwischen dem emittierten Licht und der von der Kathodenoberfläche verursachten Hintergrundreflektion von Umgebungslicht erzielt ist.
  • Die mit existierenden FED-Schirmen verbundenen Probleme sind mit Bezug auf den Bildschirm nach dem Stand der Technik in 1 dargestellt. Die 1 zeigt eine Querschnittsansicht eines FED-Bildschirms 2, der aus einer Basisplatte 3 und einer Frontplatte 4 besteht. Die Frontplatte 4 umfaßt eine Pixelanordnung 6, die in Kontakt mit der leitenden Schicht 9 steht, welche wiederum mit einem transparenten Material 5 verbunden ist. Die Basisplatte 3 umfaßt eine Emitterspitzenanordnung 10, die aus einem Siliziumsubstrat 12 herausragt. Eine leitende Schicht 14 verbindet die Emitterspitzen mit einem Adressierungssystem (nicht gezeigt), welches jede Emitterspitze mit einer Stromversorgung (nicht gezeigt) selektiv verbindet. Eine isolierende Schicht 16 umgibt jede Emitterspitze 10. Die Emitterspitzen sind ferner von einer leitenden Steuerelektrode (gate) 18 umgeben, welche durch die isolierende Schicht 16 von der leitenden Schicht 14 und von dem Substrat 12 getrennt ist. Eine leitende, gitterartige Steuerelektrode 18 ist mit dem positiven Anschluß einer Stromversorgung durch ein ähnliches Adressiersystem (nicht gezeigt) verbunden, welches dem Adressiersystem der Emitterspitzen ähnelt. Wenn eine bestimmte Emitterspitze, beispielsweise die Emitterspitze 11 in 1 angesteuert wird, entsteht ein elektrisches Feld zwischen der entsprechenden leitenden Steuerelektrode und der Emitterspitze. Dieses elektrische Feld veranlaßt die Emitterspitze 11 dazu, einen Elektronenstrahl (durch die Pfeile 17 und 19 dargestellt) in Richtung Bildpunkt 7 abzufeuern, der auf der Frontplatte 4 angeordnet ist.
  • Zum Zwecke der Klarheit zeigt die 1 einen einzelnen Bildpunkt, der jeder Emitterspitze zugeordnet ist. Jedoch ist klar, daß mehr als eine Emitterspitze mit einem einzelnen Bildpunkt assoziiert sein kann. Ferner kann der Abstand zwischen der Frontplatte 4 und der Basisplatte 3 durch die Verwendung von entsprechenden Stützelementen (nicht gezeigt) fixiert werden, und die Frontplatte 4 und die Basisplatte 3 sind entlang ihren Kanten abgedichtet und halten ein Hochvakuum (beispielsweise 1,333 × 10–3 Pa bis 1,333 × 10–6 Pa (1 × 10–5 torr bis 1 × 10–8 torr)).
  • Wenn ein Elektron (wie durch Pfeil 19 von 1 angedeutet) den Leuchtstoffbildpunkt 7 trifft, wird der Leuchstoff auf einen angeregten Zustand gehoben und emittiert das Photon 8, wenn es zurück in den Grundzustand fällt. Das Photon 8 wird von dem Betrachter als Lichtpunkt gesehen. Jedoch ist es genau so möglich, daß das Photon zurück in Richtung Basisplatte 3 freigesetzt wird, wie durch Photon 15 dargestellt. In diesem Fall kann das Photon 15 einen photoelektrischen Effekt erzeugen, der zu unerwünschten Elektronen und Löchern in den Komponenten der Basisplatte 3 führt.
  • 1 verdeutlicht ein weiteres Problem bei existierenden FED-Bildschirmen. Statt den Leuchtstoffbildpunkt anzuregen und dadurch Photonen freizusetzen, können Elektronen, die auf einen Zielbildpunkt gerichtet sind, von dem Bildpunkt reflektiert, gestreut oder absorbiert werden. Einige dieser reflektierten Elektronen (wie durch Pfeil 13 in 1 dargestellt) und/oder diejenigen, welche von sekundären Emissionen erzeugt werden, können in die Richtung auf die Basisplatte 3 zurücklaufen, wodurch wiederum unerwünschte Elektronen entstehen und Löcher in den Komponenten der Basisplatte 3 Löcher erzeugen.
  • Die Erfindung überwindet diese Probleme, indem eine Basisplatte mit einer Praseodym-Manganoxidschicht auf der Innenseite der Basisplatte (d. h. der Oberfläche, die der Frontplatte gegenüberliegt) verwendet wird. Wie in 2 dargestellt, enthält ein FED-Bildschirm 20 gemäß der Erfindung eine Frontplatte 4 und eine Basisplatte 3. Eine Praseodym-Manganoxidschicht 22 ist mit der leitenden Steuerelektrode (gate) 18 verbunden, die wiederum mit der isolierenden Schicht 16 auf der leitenden Schicht 14 und mit dem Substrat 12 verbunden ist. Die Emitterspitzen 10 und die Frontplatte 4 (welche die Bildpunkte 6, die leitende Schicht 9 und das transparente Material 5 enthält) sind gleich den oben unter Bezugnahme auf die 1 beschriebenen.
  • Wenn ein Photon (wie durch Pfeil 15 in 2 dargestellt) auf die Praseodym-Manganoxidschicht 22 trifft, wird es absorbiert, wodurch ein photoelektrische Effekt verhindert und der Kontrast der FED verbessert wird. Elektronen, die zurück in Richtung Basisplatte 3 reflektiert werden (wie durch Pfeil 13 in 2 dargestellt) treffen ebenfalls auf die Praseodym-Manganoxidschicht. Da die Praseodym-Manganoxidschicht 22 leitend ist, werden eingefangene Elektronen durch die leitende Steuerelektrode 18 entladen, wenn die leitenden Steuerelektrode 18 eine positive Vorspannung aufweist. Alternativ könnte die Praseodym-Manganoxidschicht 22 geerdet werden, wenn die Praseodym-Manganoxidschicht 22 von der leitenden Steuerelektrode 18 elektrisch isoliert ist, beispielsweise durch eine zwischenliegende isolierende Schicht (nicht gezeigt). In jedem Fall reduziert die Praseodym-Manganoxidschicht die Anzahl derjenigen Elektronen deutlich, die auf die Komponenten der Basisplatte 3 auftreffen, wodurch in dieser unerwünschte Elektronenlöcher eliminiert werden.
  • Dementsprechend ist ein Praseodym-Manganoxidmaterial offenbart, das zum Aufbringen auf der Innenfläche einer Basisplatte einer FED dient. Das Praseodym-Manganoxidmaterial kann durch die Formel Pr : Mn : O3 dargestellt werden, wobei das Molverhältnis von Praseodym zu Mangan (Pr : Mn) im allgemeinen in einem Bereich zwischen 0,1 : 1 und 1 : 0,1 und vorzugsweise zwischen 0,5 : 1 und 1 : 0,5 liegt. Es wurde festgestellt, daß mit diesem Molverhältnis ein geeigneter spezifischer Widerstand für die sich ergebende Praseodym-Manganoxidschicht erreicht wird. Ferner wird die Leitfähigkeit erhöht (d. h. der spezifische Widerstand wird verringert), wenn die Manganmenge im Verhältnis zur Praseodymmenge erhöht wird.
  • Das Praseodym-Manganoxidmaterial kann hergestellt werden, indem Pr6O11 und MnO2 (oder MnCO3) in einem Mahlgefäß zusammengebracht und zu einem Pulver gemahlen werden, das Partikel enthält, welche einen durchschnittlichen Durchmesser von ungefähr 2 um aufweisen. Dieses Pulver wird daraufhin auf eine Temperatur zwischen 1200 und 1500°C und vorzugsweise zwischen 1250 und 1430°C für ungefähr 4 Stunden erhitzt. Nach dem Erhitzen hat das resultierende Material eine sehr dunkle Farbe und ist im wesentlichen mattschwarz. Das erhitzte Material kann dann ein weiteres Mal zerkleinert und gemahlen werden, um so ein Pulver zu bekommen, das einen durchschnittlichen Partikeldurchmesser von ungefähr 2 μm aufweist.
  • Wie oben bemerkt, beeinflußt das Verhältnis von Pr zu Mn die Leitfähigkeit der resultierenden Praseodym-Manganoxidschicht. Ein solches Verhältnis kann durch die relativen Mengen der Komponenten Pr6O11 und MnO2 (oder MnCO3) gesteuert werden. Daher werden diese Komponenten in Mengen gemischt, die ausreichen, um das oben offenbarte Pr : Mn-Verhältnis zu erhalten.
  • Das Praseodym-Manganoxidmaterial kann auf der Innenfläche der Basisplatte mit einer Dicke im Bereich zwischen 100 und 1500 nm (1000 Å bis 15000 Å) mittels verschiedener Abscheidetechniken aufgetragen werden. Dem Fachmann sind solche Abscheidetechniken bekannt und umfassen (sind aber nicht beschränkt auf) Hochfrequenzbedampfung (RF-Sputtering), Laserabscheidung, Plasmaabscheidung, chemische Dampfabscheidung (chemical vapor deposition, CVD) und Elektronenstrahlzerstäubung. Beispielsweise wird im Fall des Hochfrequenzbedampfens das Praseodym-Manganoxidmaterial komprimiert, um ein ebenes Ziel zu erzeugen, welches da-raufhin auf eine für Hochfrequenzbedampfung geeignete Trägerplatte montiert wird. Das Hochfrequenzbedampfen kann dann in einem Hochfrequenzbedampfer (RF-Sputterer) durchgeführt werden, der Argon oder Argon- und Sauerstoffgas bei einer Substrattemperatur von 200 bis 350°C und bei einem Bedampfungsdruck (sputtering pressure) zwischen ungefähr 0,799 Pa (6 × 10–3 torr) und ungefähr 3,99 Pa (3 × 10–2 torr) verwendet wird. Hinsichtlich der chemischen Dampfabscheidung (CVD) würde für Pr und Mn ein organometallischer Zwischenstoff verwendet werden, beispielsweise Pr-Acetat, Pr-Oxalat oder Pr(Thd)3 sowie Mn-Acetat, Mn-Carbonyl, Mn-Methoxid und Mn-Oxalat.
  • Der spezifische Widerstand des Praseodym-Manganoxidmaterials kann ebenfalls beispielsweise durch Brennen des Materials (nachdem es als Schicht auf der Innenfläche der Basisplatte aufgetragen wurde) in einer reduzierenden Atmosphäre, beispielsweise Wasserstoff und/oder Kohlenmonoxid, gesteuert werden. Eine solche Behandlung dient der Erhöhung der Leitfähigkeit (Verringerung des spezifischen Widerstands) auf ein Niveau, das zur Verwendung bei der Ausführung dieser Erfindung geeignet ist. Alternativ können zusätzliche Komponenten, beispielsweise leitende Ionen und/oder Metalle, dem Material hinzugefügt werden, um die Leitfähigkeit weiter zu verbessern.
  • Die resultierende Praseodym-Manganoxidschicht auf der Innenseite der Basisplatte schirmt die darunterliegenden Schaltkreise von Photonen und Streuelektronen ab, wie oben beschrieben. Da die Praseodym-Manganoxidschicht eine sehr dunkle Farbe aufweist, wird für die FED ferner einen hohen Kontrast erreicht. Ferner verfügt eine FED, bei welcher die Erfindung realisiert ist, bei Bedingungen mit Umfeldbeleuchtung über eine höhere Lesbarkeit und ist insbesondere dafür geeignet, als Bildschirm für Fernseher, tragbare Computer und als Anzeige für den Gebrauch außer Haus, beispielsweise im Flugzeugbereich und für Automobile, eingesetzt zu werden.
  • Die folgenden Beispiele dienen der Illustration und sind nicht einschränkend zu verstehen.
  • BEISPIELE
  • Beispiel 1
  • Herstellung von Praseodym-Manganoxidmaterial
  • Die Stoffe Pr6O11 und MnO2 wurden von einer kommerziellen Quelle (Cerac, La Puente, Kalifornien) gekauft und ohne weitere Reinigung verwendet. Beide Komponenten wurden in ein Mahlgefäß gegeben (510,72 g Pr6O11 und 86,94 g MnO2), 500 ml Isopropanolalkohol wurden hinzugefügt und die resultierende Aufschlämmung wurde 24 Stunden lang bei 100 Umdrehungen pro Minute gemahlen. Die Aufschlämmung wurde in einem Ofen unter einer Stickstoffatmosphäre getrocknet. Das getrocknete Material wurde bei 1350°C 4 Stunden lang gebrannt und dann abgekühlt. Das abgekühlte Material wurde mittels einer geeigneten Pulverisierungstechnik in kleine Partikel (durchschnittlicher Durchmesser ungefähr 2 μm) pulverisiert.
  • Beispiel 2
  • Aufbringen von Praseodym-Manganoxidmaterial auf die Basisplatte
  • Das resultierende pulverisierte Material von Beispiel 1 kann durch eine Vielzahl von möglichen Techniken auf die Basisplatte aufgebracht werden. Beispielsweise kann das pulverisierte Material im Falle des Hochfrequenzbedampfens gesintert werden, um ein ebenes Bedampfungsziel (sputter target) zu bilden. Das Bedampfen kann in einem Hochfrequenzbedampfer unter Verwendung von Argon oder Argon- und Sauerstoffgas bei einer Substrattemperatur von 200°C bis 350°C und bei einem Druck von ungefähr 0,799 Pa bis 3,99 Pa (6 × 10–3 torr bis 3 × 10–2 torr) durchgeführt werden.
  • Beispiel 3
  • Herstellung eines FED-Bildschirms
  • Die Basisplatte von Beispiel 2 kann bei der Herstellung eines FED-Bildschirms mittels bekannter Techniken verwendet werden. Die resultierende FED hat eine Anzahl von Vorteilen gegenüber bestehenden Produkten, einschließlich verringerter photoelektrischer Effekt; verringerte Beeinträchtigung durch Elektronen, die von der Frontplatte auf die Basisplattenkomponenten reflektiert werden und ein verbessertes Anzeigebild sowie verbesserter Kontrast durch die Absorption jeglichen Umgebungslichtes, das auf die Basisplatte trifft und/oder durch die Absorption jeglicher Photonen, die von der Frontplatte in Richtung der Basisplatte emittiert werden.
  • Aus dem Vorangegangenen ist ersichtlich, daß verschiedene Modifikationen durchgeführt werden können, ohne sich von dem Grundgedanken und dem Umfang dieser Erfindung zu entfernen, auch wenn hier zum Zwecke der Illustration spezielle Ausführungen dieser Erfindung beschrieben wurden. Dementsprechend ist diese Erfindung ausschließlich durch die beigefügten Ansprüche beschränkt.

Claims (56)

  1. Leitende und lichtabsorbierende Basisplatte (3) einer Feldemissionsanzeigevorrichtung, wobei die Basisplatte (3) eine Innenfläche an der Feldemissionsanzeigevorrichtung (20) aufweist und zumindest ein Abschnitt dieser Innenfläche mit einer Praseodym-Manganoxidschicht (22) beschichtet ist, deren spezifischer Widerstand 1 × 105 Ωcm nicht übersteigt.
  2. Basisplatte (3) nach Anspruch 1, wobei der spezifische Widerstand der Praseodym-Manganoxidschicht (22) 1 × 104 Ωcm nicht übersteigt.
  3. Basisplatte (3) nach Anspruch 1, wobei der spezifische Widerstand der Praseodym-Manganoxidschicht (22) 1 × 103 Ωcm nicht übersteigt.
  4. Basisplatte (3) nach Anspruch 1, wobei die Praseodym-Manganoxidschicht (22) eine Dicke im Bereich zwischen 100 und 1500 nm (1.000 Å bis 15.000 Å) aufweist.
  5. Basisplatte (3) nach Anspruch 1, wobei die Praseodym-Manganoxidschicht (22) bei einer Wellenlänge von 500 nm einen Lichtabsorptionskoeffizient von mindestens 1 × 105 cm–1 aufweist.
  6. Feldemissionsanzeigevorrichtung (20) mit einer leitenden und lichtabsorbierenden Basisplatte (3), wobei die Basisplatte (3) eine Innenfläche an der Feldemissionsanzeigevorrichtung (20) aufweist und wobei zumindest ein Abschnitt der Innenfläche mit einer Praseodym-Mangangoxidschicht (22) beschichtet ist, deren spezifischer Widerstand 1 × 105 Ωcm nicht übersteigt.
  7. Feldemissionsanzeigevorrichtung (20) nach Anspruch 6, wobei der spezifische Widerstand der Praseodym-Manganoxidschicht (22) 1 × 104 Ωcm nicht übersteigt.
  8. Feldemissionsanzeigevorrichtung (20) nach Anspruch 6, wobei der spezifische Widerstand der Praseodym-Mangangoxidschicht (22) 1 × 103 Ωcm nicht übersteigt.
  9. Feldemissionsanzeigevorrichtung (20) nach Anspruch 6, wobei die Praseodym-Manganoxid-schicht (22) eine Dicke zwischen 100 und 1500 nm (1000 Å und 15000 Å) aufweist.
  10. Feldemissionsanzeigevorrichtung (20) nach Anspruch 6, wobei die Praseodym-Manganoxid-schicht (22) bei einer Wellenlänge von 500 nm einen Lichtabsorptionskoeffizienten von mindestens 1 × 105 cm–1 hat.
  11. Verfahren zur Herstellung einer leitenden und lichtabsorbierenden Basisplatte (3) einer Feldemissionsanzeigevorrichtung (20), die das Beschichten zumindest eines Abschnitts der Innenfläche der Basisplatte (3) mit einer Schicht (22) umfaßt, die im wesentlichen aus Praseodym-Manganoxid besteht, wobei der spezifische Widerstand der Schicht 1 × 105 Ωcm nicht übersteigt.
  12. Verfahren nach Anspruch 11, wobei der spezifische Widerstand der Schicht 1 × 104 Ωcm nicht übersteigt.
  13. Verfahren nach Anspruch 11, wobei der spezifische Widerstand der Schicht 1 × 103 Ωcm nicht übersteigt.
  14. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die Schicht (22) mit einer Dicke aufgetragen ist, die im Bereich zwischen 100 und 1500 nm (1000 Å und 15000 Å) liegt.
  15. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die Schicht (22) bei einer Wellenlänge von 500 nm einen Lichtabsorptionskoeffizienten von mindestens 1 × 105 cm–1 hat.
  16. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die Schicht (22) auf der Innenfläche der Basisplatte (3) durch Hochfrequenzbedampfen (RF-Sputtering), Laserabtragung, Plasmaabscheidung, chemische Dampfabscheidung oder Elektronenstrahlzerstäubung aufgetragen ist.
  17. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die Schicht (22) auf der Innenfläche der Basisplatte (3) durch Hochfrequenzbedampfen (RF-Sputtering) aufgetragen wird.
  18. Verfahren nach Anspruch 17, wobei Pr6O11 und eine aus MnO2 und MnCO3 ausgewählte Manganquelle ein Bedampfungsziel des Hochfrequenzbedampfens bilden.
  19. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die Schicht (22) auf der Innenfläche der Basisplatte (3) durch chemische Dampfabscheidung aufgetragen wird.
  20. Verfahren nach Anspruch 19, wobei eine aus Praseodymacetat, Praseodymoxalat und Pr(Thd)3 ausgewählte Praseodymquelle dazu verwendet wird, die Schicht (22) zu bilden.
  21. Verfahren nach Anspruch 19, wobei die aus Manganacetat, Mangankarbonyl, Manganmethoxid, und Manganoxalat gewählte Manganquelle dazu verwendet wird; die Schicht (22) zu bilden.
  22. Verfahren nach Anspruch 11, das nach dem Schritt des Beschichtens den Schritt des Erhitzens der Schicht (22) in einer reduzierenden Atmosphäre umfaßt, um deren spezifischen Widerstand zu verringern, so daß dieser 1 × 105 Ωcm nicht übersteigt.
  23. Verfahren nach Anspruch 22, wobei die reduzierende Atmosphäre aus Wasserstoff, Kohlenmonoxid oder einer Mischung davon gebildet wird.
  24. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die Schicht (22) ferner ein leitendes Ion umfaßt.
  25. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die Schicht (22) ferner ein Metall umfaßt.
  26. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die Schicht (22) aus Partikeln mit einem durchschnittlichen Partikeldurchmesser von 2 um gebildet ist.
  27. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die Schicht (22) in Kontakt mit einem leitenden Gitter (18) ist.
  28. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die Schicht (22) in Kontakt mit einer isolierenden Schicht (16) ist.
  29. Verfahren nach Anspruch 11; wobei die Schicht (22) ein molares Verhältnis von Praseodym und Mangan zwischen 0,1 : 1 und 1 : 0,1 hat.
  30. Verfahren nach Anspruch 29, wobei das molare Verhältnis zwischen 0,5 : 1 und 1 : 0,5 liegt.
  31. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die Schicht (22) PrMnO3 umfaßt.
  32. Verfahren nach Anspruch 11, das ferner den Schritt des Zusammensetzens einer Feldemissionsanzeigevorrichtung (20) umfaßt, wobei die leitende und lichtabsorbierende Basisplatte (3) verwendet wird.
  33. Verfahren zum Betreiben einer Feldemissionsanzeige (2) mit einer Frontplatte (4) und einer Basisplatte (3), wobei das Verfahren ein Absorbieren von Photonen mittels einer Schicht (22) umfaßt, von der zumindest ein Abschnitt im wesentlichen aus Praseodym-Manganoxid besteht und wobei die Schicht (22) zwischen der Frontplatte (4) und der Basisplatte (3) auf der Innenfläche der Basisplatte (3) aufgebracht ist.
  34. Verfahren nach Anspruch 33, wobei die von der Frontplatte (4) in Richtung der Basisplatte (3) emittierten Photonen absorbiert werden.
  35. Verfahren nach Anspruch 33, wobei der spezifische Widerstand der Schicht (22) 1 × 105 Ωcm nicht übersteigt.
  36. Verfahren nach Anspruch 33, wobei die Schicht (22) eine Beschichtung auf der Innenfläche der Basisplatte (3) ist.
  37. Verfahren nach Anspruch (36), wobei die Schicht (22) auf der Innenfläche der Basisplatte (3) durch Hochfrequenzbedampfen (RF-Sputtering), Laserabtragung, Plasmaabscheidung, chemische Dampfabscheidung oder Elektronenstrahlzerstäubung aufgetragen ist.
  38. Verfahren nach Anspruch 33, wobei die Schicht (22) ferner ein leitendes Ion umfaßt.
  39. Verfahren nach Anspruch 33, wobei die Schicht (22) ferner ein Metall umfaßt.
  40. Verfahren nach Anspruch 33, wobei die Schicht (22) ein Molverhältnis von Praseodym zu Mangan zwischen 0,1 : 1 und 1 : 0,1 aufweist.
  41. Verfahren nach Anspruch 33, wobei die Schicht (22) PrMnO3 umfaßt.
  42. Verwendung einer Schicht (22) aus Praseodym-Manganoxid, deren spezifischer Widerstand 1 × 105 Ωcm nicht übersteigt, als Beschichtung zumindest eines Abschnittes einer leitenden und lichtabsorbierenden Basisplatte (3) einer Feldemissionsanzeigevorrichtung (20).
  43. Verwendung nach Anspruch 42, wobei der spezifische Widerstand der Schicht (22) 1 × 104 Ωcm nicht übersteigt.
  44. Verwendung nach Anspruch 42, wobei der spezifische Widerstand der Schicht (22) 1 × 103 Ωcm nicht übersteigt.
  45. Verwendung nach Anspruch 42, wobei die Schicht (22) mit einer Dicke zwischen 100 und 1500 nm (1000 Å und 15000 Å) aufgetragen ist.
  46. Verwendung nach Anspruch 42, wobei die Schicht (22) bei einer Wellenlänge von 500 nm einen Lichtabsorptionskoeffizienten von mindestens 1 × 105 cm–1 hat.
  47. Verfahren zur Herstellung einer leitenden und lichtabsorbierenden Praseodym-Manganoxidbeschichtung auf einer Basisplatte (3) einer Feldemissionsanzeigevorrichtung (20), das die Schritte umfaßt: Erhitzen eines Gemischs aus einer Praseodymverbindung und einer Manganverbindung auf eine Temperatur zwischen 1200°C und 1500°C für eine Zeitperiode, die ausreicht, das Praseodym-Manganoxidbeschichtungsmaterial zu erhalten, wobei das molare Verhältnis der Praseodymverbindung und der Manganverbindung in dem Gemisch vor dem Erhitzen so ist, daß das Praseodym-Manganoxidmaterial einen spezifischen Widerstand hat, der nach dem Schritt des Erhitzens 1 × 105 Ωcm nicht übersteigt, und Ablagern des Praseodym-Manganoxidmaterials auf der Innenfläche der Basisplatte.
  48. Verfahren nach Anspruch 47, wobei der spezifische Widerstand 1 × 104 Ωcm nicht übersteigt.
  49. Verfahren nach Anspruch 47, wobei der spezifische Widerstand 1 × 103 Ωcm nicht übersteigt.
  50. Verfahren nach Anspruch 47, wobei vor dem Schritt des Erhitzens das Gemisch aus der Praseodymverbindung und der Manganverbindung auf eine durchschnittliche Partikelgröße von ungefähr 2 μm gemahlen wird.
  51. Verfahren nach Anspruch 47, wobei nach dem Schritt des Erhitzens das Praseodym-Manganoxidmaterial auf eine durchschnittliche Partikelgröße von ungefähr 2 μm gemahlen wird.
  52. Verfahren nach Anspruch 47, wobei die Praseodymverbindung Pr6O49 ist.
  53. Verfahren nach Anspruch 47, wobei die Manganverbindung MnO2 oder MnCO3 ist.
  54. Verfahren nach Anspruch 47, wobei das molare Verhältnis zwischen 0,1 : 1 und 1 : 0,1 liegt.
  55. Verfahren nach Anspruch 47, wobei das molare Verhältnis zwischen 0,5 : 1 und 1 : 0,5 liegt.
  56. Verfahren nach Anspruch 47, wobei das Praseodym-Manganoxidmaterial PrMnO3 umfaßt.
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