DE69609191T2 - Vierdüsen-plasmaerzeugungsvorrichtung zur erzeugung eines aktivierter strahles - Google Patents

Vierdüsen-plasmaerzeugungsvorrichtung zur erzeugung eines aktivierter strahles

Info

Publication number
DE69609191T2
DE69609191T2 DE69609191T DE69609191T DE69609191T2 DE 69609191 T2 DE69609191 T2 DE 69609191T2 DE 69609191 T DE69609191 T DE 69609191T DE 69609191 T DE69609191 T DE 69609191T DE 69609191 T2 DE69609191 T2 DE 69609191T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
plasma
chambers
aperture
generator
electrode chambers
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE69609191T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69609191D1 (de
Inventor
Stanislav Begounov
Vladimir Enguelcht
Rudolph Konavko
Pavel Koulik
Anatolii Saitshenko
Mikhail Samsonov
Ioulia Tsvetkova
Evgenia Zorina
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tepla Ag 85551 Kirchheim De
Original Assignee
IST Instant Surface Tech SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by IST Instant Surface Tech SA filed Critical IST Instant Surface Tech SA
Publication of DE69609191D1 publication Critical patent/DE69609191D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69609191T2 publication Critical patent/DE69609191T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/26Plasma torches
    • H05H1/32Plasma torches using an arc
    • H05H1/44Plasma torches using an arc using more than one torch

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
  • Nozzles (AREA)

Description

  • Die Erfindung bezieht sich auf einen Vierdüsen- Plasmagenerator für die Erzeugung eines aktivierten Strahles gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruches 1.[0001]
  • Ein solcher Generator kann insbesondere für die Oberflächenbearbeitung (Sterilisation, Reinigung, Beizen, Modifizieren, Ablagerung von Abdeckungen und dünnen Schichten) von dispergierten oder monolithischen Materialien verwendet werden, ebenso für das Erzeugen von chemischen Produkten auf dem Gebiet der Elektronik, des Automobils, der Versorgung, der Medizin, der Chemie, der Herstellung von Maschinen und Werkzeugen, etc.[0002]
  • Es sind Plasmageneratoren mit vier Düsen bekannt, die zwei Kammern mit Anodenelektroden aufweisen, welche mit Gleichstromquellen verbunden sind und vier Plasmastrahlen erzeugen, deren Form und Bahn mit Hilfe eines äußeren Magnetfeldes in solcher Weise bestimmt werden, dass die Plasmastrahlen konvergierend einen einzigen Plasmastrom bilden, dessen Temperatur in der zentralen Zone, in die chemische Komponenten und/oder die zu behandelnden Materialien eingeführt werden, niedriger ist in Bezug zu den peripheren Zonen. Solche Vorrichtungen sind z. B. in dem Aufsatz "Bases de la realisation de la méthode de traitement dynamique par plasma de 1a surface d'un corps solide" von P. P. Koulik und anderen, "Plasmochimie 87", Moskau 1987, Band 2, Seiten 58-96 und ebenso in den Pantentanmeldungen FR 2 678 467 und GB 2 271 044 beschrieben.[0003]
  • Die Konstruktion der Kammern mit den Elektroden (Anode und Kathode) ist in dem Aufsatz "Plasmatron à deux jets Frounze", I. I. Lenbaiev, V. S. Enguelsht, "Ilim" 1983 beschrieben.[0004]
  • Der Vorteil derartiger Generatoren nach dem Stand der Technik ist auf der einen Seite bedingt durch die spezifische Konfiguration der Plasmaströme, die die Form eines Plasmatrichters hat, was es erlaubt, verschiedene Komponenten wirkungsvoll einzuführen und zu behandeln. Auf der anderen Seite bringt es der elektrische Strom, der den Plasmastrahl durchquert und ihn aufheizt und mit minimalen Verlusten aktiviert auf Grund des Fehlens von gekühlten Wänden mit sich, dass der Wirkungsgrad dieser Vorrichtung hoch ist.[0005]
  • Eine derartige Vorrichtung kann wirkungsvoll für die Sterilisation von Oberflächen, für deren Reinigung, Modifizierung, für das Beizen und für die Ablagerung von Abdeckungen und Schichten verwendet werden. Bei dem Betrieb wurden jedoch die folgenden Nachteile beobachtet:[0006]
  • 1. Die Erzeugung der Plasmastrahlen und des Plasmastromes wird von der Bildung von ringförmigen Wirbeln begleitet. Die heißen Gasströme, die daraus resultieren, heizen auf der einen Seite die Teile der Elektrodenkammern, deren Halteelemente und Versorgungselemente auf und führen zu empfindlichen Wärmeverlusten, die wiederum die Leistung des Generators vermindern. Auf der anderen Seite wird in einigen Fällen der Turbulenzgrad des Plasmas erhöht und es treten erhebliche Verluste der in den zentralen Teil des Plasmastromes eingeführten Komponenten auf, wodurch für die Lebensdauer des Generators negative Sekundäreffekte erzeugt werden, da sich diese Komponenten auf der Oberflä che der Elektrodenkammern, an den Befestigungsstücken und den Versorgungselementen ablagern. Die Plasmastrahlung, die während der Einführung von chemischen Produkten in den Plasmastrom deutlich erhöht ist, ist so eine überflüssige Aufheizquelle für verschiedene Teile des Generators, die dieser Strahlung ausgesetzt sind.
  • Das Ergebnis des gleichzeitigen Auftretens von Konvektionsströmen und Wärmeströmen ist, dass schließlich die Lebensdauer des Generators auf Grund der überflüssigen Aufheizung seiner Teile und auf Grund der Bildung von Ablageschichten mit schlechter thermischer Leitfähigkeit verringert wird, wodurch es gleichzeitig schwierig wird, diese Teile zu kühlen.
  • Darüber hinaus werden im Laufe der Zeit die Ablagerungsschichten zerstört und verschmutzen, mitgenommen durch die Gaswirbel, die behandelten Oberflächen und den Plasmastrom selbst, wodurch dieser eine praktisch unkontrollierbare Zusammensetzung erhält.
  • 2. Nach der Aufheizung und Aktivierung der eingeführten Komponenten hat der Plasmastrom seine Rolle beendet und sein Vorhandensein an der Peripherie des Stromes der aktivierten Komponenten ist nicht mehr notwendig. Wenn die aktivierte Komponente ein Gas ist (im Falle vieler Anwendungen, insbesondere bei der Reinigung, beim Beizen, bei der Ablagerung von Schichten und der Modifizierung von Oberflächen) wird die Gegenwart von originalem Plasma an der Peripherie des aktivierten Flusses sogar ein Nachteil für den Wirkungsgrad der Oberflächenbehandlung. Tatsächlich heizt nämlich das immer noch heiße Plasma die behandelte Oberfläche auf, was generell vermieden werden sollte. Darüber hinaus ist das Plasma an der Oberfläche nur eine passive Komponente, die nicht mit der Oberfläche in Aktion tritt, wobei die einzigen agierenden Teilchen diejenigen sind, die das Plasma aktiviert hat und die die Oberfläche durch Diffusion erreichen. Das restliche Plasma ist für diese Diffusion ein Hindernis, dahingehend, dass der wirksame Teil der betroffenen Teilchen, die das Plasma bilden, im Durchschnitt von einer Größenordnung ist, die höher als diejenige der neutralen (aktivierten) Teilchen ist, und daß daher die Anwesendheit dieser Teilchen sehr empfindlich den Diffusionskoeffizienten der aktivierten Partikel und damit auch den Diffusionsfluss reduziert und letztendlich auch den Wirkungsgrad der Behandlung.
  • [0007] Die Aufgabe der Erfindung ist es, einen Vierdüsen- Plasmagenerator vorzuschlagen, mit dem ein aktivierter Gasstrahl mit kontrollierbarer Zusammensetzung und mit einer stabilen Form bei langer Betriebsdauer und optimaler Auswirkung auf die zu behandelnden Objekte erreicht wird.
  • [0008] Daher betrifft die Erfindung ein Vierdüsen- Plasmagenerator, der zwei Kammern mit Anodenelektroden und zwei Kammern mit Kathodenelekroden aufweist, welche mit Gleichstromquellen verbunden sind und vier Plasmastrahlen erzeugen, deren Form und Bahn mit Hilfe eines äußeren Magnetfeldsystemes in solcher Weise bestimmt werden, dass die Plasmastrahlen einen einzigen Plasmastrom mit einer zentralen Zone mit verringerter Temperatur bilden, in welche die chemische Komponente und/oder das zu behandelnde Material eingeführt werden, wobei die Elektrodenkammern in einer Hülle angeordnet sind, in welcher ein Gas eingeführt wird, wobei diese Hülle aus einem konkaven Flansch, an welchem die Elektro denkammern befestigt sind, und aus einer ersten ebenen wassergekühlten Blende besteht, die eine zentrale kreisrunde Öffnung an der Zusammenflussstelle der von den Elektrodenkammern stammenden Plasmastrahlen aufweist, durch welche der Strom fließt.
  • [0009] Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung weist der Generator stromabwärts der ersten Blende eine zweite wassergekühlte Blende auf, deren Öffnung einen veränderbaren Durchmesser hat, welcher kleiner als der des Plasmastroms ist, wobei diese Blende an der Hülle über eine kreisrunde Wandung befestigt ist, und den Ablass eines Teiles des Plasmas und der in die Hülle eingeführten Gase erlaubt.
  • [0010] Die mit der Erfindung vorgeschlagene Lösung besteht somit darin, den aus dem Stand der Technik bekannten Vierdüsen-Plasmagenerator so zu modifizieren, dass ein aktiver Fluss mit kontrollierter Zusammensetzung und mit wirkungsvoller Bearbeitung der zu behandelnden Oberfläche erzeugt wird, wobei gleichzeitig die Lebensdauer des Generators erhöht wird. Hiermit werden auch die Nachteile des oben beschriebenen bekannten Vierdüsen-Generators vermieden, d. h. dass der Konvektionsfluss unterdrückt und die Strahlungsströme, die auf die Elektrodenkammern, deren Befestigungselemente und Versorgungselemente wirken, unterdrückt werden, wobei insgesammt die Bearbeitung der zu behandelnden Oberfläche durch die aktivierten Komponenten des durch den Generator erzeugten Flusses verstärkt und gleichzeitig die Menge des Plasmas verringert wird, das die zu behandelnde Oberfläche erreicht.
  • [0011] Im nachfolgenden wird der Generator gemäß der Erfindung anhand der Zeichnung näher beschrieben. In dieser stellen dar:
  • - Fig. 1a und 1b ein erstes Ausführungsbeispiel eines Generators gemäß der Erfindung, und zwar in einer Seitenansicht auf die Blende (wobei die Blende gestrichelt dargestellt ist) bzw. in einem Querschnitt; die Bezugszeichen in diesen beiden Figuren bedeuten folgendes:
  • 1. Elektrodenkammern
  • 2. Wassergekühlter konkaver Flansch der Hülle
  • 3. Düse zum Einführen der chemischen Komponenten und/oder der zu behandelnden Materialien
  • 4. Plasmastrahlen
  • 5. Wassergekühlte ebene Blende
  • 6. Resultierender Plasmastrom
  • 7. Magnetisches System
  • 8. Runde Öffnung der Blende
  • 9. Düsen zum Einführen von Gas.
  • Fig. 2a und 2b ein zweites Ausführungsbeispiel eines Generators gemäß der Erfindung, und zwar in einer Ansicht von Seiten der Blenden (die Blenden sind gestrichelt dargestellt) bzw. in einem Querschnitt; die Bezugszeichen in diesen beiden Figuren bedeuten folgendes:
  • 1. Elektrodenkammern
  • 2. Wassergekühlter konkaver Flansch der Hülle
  • 3. Düse zum Einbringen der chemischen Komponenten und/oder der zu behandeln den Materialien
  • 4. Plasmastrahlen
  • 5. Wassergekühlte ebene Blende
  • 6. Resultierender Plasmastrom
  • 7. Magnetisches System
  • 8. Kreisförmige Öffnung der Blende
  • 9. Düsen zum Einführen von Gas
  • 10. Zweite wassergekühlte und einstellbare Blende
  • 11. Kreisförmige Wand
  • 12. Öffnung zum Evakuieren des Plasmas und des in die Hülle eingeführten Gases
  • 13. Resultierender aktivierter Gasstrahl
  • - Fig. 3 eine schematische Darstellung der Funktion der Blenden in Abhängigkeit des Temperaturverlaufes (T) und der Zusammensetzung (C) des von dem Generator erzeugten Stromes bei unterschiedlichen Abständen der Elektrodenkammern
  • [0012] Die Vierdüsen-Generatoren, die in den Fig. 1 und 2 dargestellt sind, weisen wie der bekannte oben beschriebene Prototyp jeweils vier Elektrodenkammern 1 auf, ferner ein magnetisches System für die Steuerung der Form und der Bahn der Plasmaströme 7 sowie ein Rohr für die Einführung von chemischen Komponenten und/oder Produkten auf, die in dem Plasmatrichter aktiviert werden sollen. Ein neues Element bei der Konstruktion des Generators ist eine Hülle, die mit einem Gas belüftet wird, das über Düsen 9 zugeführt wird, wobei mit der Hülle die Elektrodenkammern 1 befestigt sind.
  • [0013] Die Hülle wird aus einem wassergekühlten konkaven Flansch und einem wassergekühlten Blendensystem gebildet.
  • [0014] Die Fig. 1a und 1b stellen den Fall dar, wo das Blendensystem eine Blende in Form eines ringförmigen Flansches 5 aufweist, dessen innerer Durchmesser so bemessen ist, dass der Plasmastrom in den Innenraum, in den über die Düse 3 die zu behandelnden Produkte eingeführt werden und der peri phere Gasstrom durchgelassen werden, der in die Hülle über die Düsen 9 eingeführt wird.
  • [0015] Dieses Gas stabilisiert den Plasmastrom und verhindert die Bildung von Wirbeln und deren Kontakt mit den Elektrodenkammern, mit deren Befestigungs- und Versorgungselementen. Die aus den Elektrodenkammern austretenden Plasmastrahlen konvergieren und vereinigen sich in der Ebene der Blende 8. Der begleitende Gasstrom, der im peripheren Bereich durch die Öffnung der Blende 5 hindurchtritt, stabilisiert den Plasmastrom, vermindert die Mischung des Plasmas mit den umgebenden Gasen und vermindert die radiale Wärmeübertragung aus dem Plasmastrom, wodurch der aus dem Plasma resultierende Strahl verlängert wird. Die Blende 5, deren Öffnung 8 relativ klein ist, reduziert die auf die Elektrodenkammern gerichtete Strahlung des Plasmaflusses 6 erheblich.
  • [0016] Die Fig. 2a und 2b stellen den Fall dar, wo das Blendensystem neben der Blende 5, deren Wirkungen oben erklärt wurden, eine weitere wassergekühlte Blende 10 aufweist, die eine einstellbare Öffnung aufweist, deren Durchmesser kleiner ist als derjenige des Plasmastromes und die nur den Strom des aktivierten Gases hindurchlässt.
  • [0017] Die Blende 10 ist in der Hülle mit Hilfe einer kreisförmigen Wand 11 befestigt. Das Gas, das von den Düsen abgegeben wird, wird ebenso wie das aktivierende Plasma über Öffnungen 12 abgesaugt. Mit dieser Blende können die peripheren Plasmagase und die begleitenden Gase, die ein Hindernis für die Diffusion der aktivierten Teilchen in Richtung auf die zu behandelnde Oberfläche sind, eliminiert werden. Wie das Schema gemäß der Fig. 3 zeigt, kann mit der Blende 10 ebenfalls eine gleichförmige Verteilung der Temperatur und der Zusammensetzung des aktivierten, aus dem vorgeschlagenen Generator abgegebenen Flusses erreicht werden.

Claims (2)

1. Ein Vierdüsen-Plasmagenerator, der zwei Kammern mit Anodenelektroden (1) und zwei Kammern mit Kathodenelektroden (1) aufweist, welche mit Gleichstromquellen verbunden sind und vier Plasmastrahlen (4) erzeugen, deren Form und Bahn mit Hilfe eines äußeren Magnetfeldsystemes (7) in solcher Weise bestimmt werden, dass die Plasmastrahlen einen einzigen Plasmastrom (6) mit einer zentralen Zone mit verringerter Temperatur bilden, in welche die chemische Komponente und/oder das zu behandelnde Material eingeführt werden, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektrodenkammern in einer Hülle angeordnet sind, in welche ein Gas eingeführt wird, wobei diese Hülle aus einem konkaven Flansch (2), an welchem die Elektrodenkammern befestigt sind, und aus einer ersten flachen waassergekühlten Blende (5), die eine zentrale kreisrunde Öffnung (8) an der Zusammenflussstelle der von den Elektrodenkammern stammenden Plasmastrahlen aufweist, durch welche der Strom fließt, besteht.
2. Generator gemäss Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass er, stromabwärts der ersten Blende, eine zweite wassergekühlte Blende (10) aufweist, deren Öffnung einen veränderbaren Durchmesser hat, welcher kleiner als der des Plasmasstromes ist, wobei diese Blende an der Hülle über eine kreisrunde Wandung (11) befestigt ist, und den Ablass eines Teiles des Plasmas und der in die Hülle eingeführten Gase erlaubt.
DE69609191T 1995-11-13 1996-11-12 Vierdüsen-plasmaerzeugungsvorrichtung zur erzeugung eines aktivierter strahles Expired - Fee Related DE69609191T2 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH320895 1995-11-13
PCT/CH1996/000401 WO1997018692A1 (fr) 1995-11-13 1996-11-12 Generateur de plasma a quatre buses pour la formation d'un jet active

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69609191D1 DE69609191D1 (de) 2000-08-10
DE69609191T2 true DE69609191T2 (de) 2001-03-22

Family

ID=4251004

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69609191T Expired - Fee Related DE69609191T2 (de) 1995-11-13 1996-11-12 Vierdüsen-plasmaerzeugungsvorrichtung zur erzeugung eines aktivierter strahles

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6278241B1 (de)
EP (1) EP0861575B1 (de)
DE (1) DE69609191T2 (de)
ES (1) ES2150693T3 (de)
WO (1) WO1997018692A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009045200A1 (de) * 2009-09-30 2011-04-21 Inter-Consult Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Bearbeiten von Bauteilen elektrischer Maschinen

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6287687B1 (en) 1998-05-08 2001-09-11 Asten, Inc. Structures and components thereof having a desired surface characteristic together with methods and apparatuses for producing the same
US6146462A (en) * 1998-05-08 2000-11-14 Astenjohnson, Inc. Structures and components thereof having a desired surface characteristic together with methods and apparatuses for producing the same
DE60116522T2 (de) * 2000-11-10 2006-08-03 Apit Corp. Sa Verfahren zur behandlung von elektrisch leitfähigen materialien durch atmosphärisches plasma und vorrichtung dazu
KR100464856B1 (ko) * 2002-11-07 2005-01-05 삼성전자주식회사 표면 식각 방법 및 실리콘 기판 이면 식각 방법.
CN1716557A (zh) * 2004-02-25 2006-01-04 库力索法投资公司 用于引线焊接机的激光清洁系统
JP4449645B2 (ja) * 2004-08-18 2010-04-14 島津工業有限会社 プラズマ溶射装置
FR2879933B1 (fr) * 2004-12-28 2007-03-30 Satelec Soc Dispositif de sterilisation par plasma gazeux forme a partir d'un melange d'azote et d'hydrogene
US20060219754A1 (en) * 2005-03-31 2006-10-05 Horst Clauberg Bonding wire cleaning unit and method of wire bonding using same
US9472382B2 (en) * 2007-04-23 2016-10-18 Plasmology4, Inc. Cold plasma annular array methods and apparatus
GB0902784D0 (en) * 2009-02-19 2009-04-08 Gasplas As Plasma reactor
US9036309B2 (en) 2010-09-16 2015-05-19 General Electric Company Electrode and plasma gun configuration for use with a circuit protection device
US8330069B2 (en) 2010-09-16 2012-12-11 General Electric Company Apparatus and system for arc elmination and method of assembly
FR3074048B1 (fr) * 2017-10-23 2024-08-30 Soc Pour La Conception Des Applications Des Techniques Electroniques Dispositif de sterilisation d’un objet avec deflecteur de flux

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4982067A (en) * 1988-11-04 1991-01-01 Marantz Daniel Richard Plasma generating apparatus and method
GB2271044B (en) * 1990-12-26 1995-06-21 Opa Apparatus for plasma-arc machining
GB2271124B (en) 1990-12-26 1995-09-27 Opa Method and apparatus for plasma treatment of a material
JP3166226B2 (ja) 1991-07-10 2001-05-14 住友電気工業株式会社 ダイヤモンドの製造法及び製造装置
KR20000016138A (ko) * 1996-05-31 2000-03-25 피터 무몰라 플라즈마 제트 발생 및 편향 장치

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009045200A1 (de) * 2009-09-30 2011-04-21 Inter-Consult Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Bearbeiten von Bauteilen elektrischer Maschinen
DE102009045200B4 (de) * 2009-09-30 2021-02-11 Inter-Consult Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Bearbeiten von Bauteilen elektrischer Maschinen

Also Published As

Publication number Publication date
ES2150693T3 (es) 2000-12-01
DE69609191D1 (de) 2000-08-10
EP0861575A1 (de) 1998-09-02
WO1997018692A1 (fr) 1997-05-22
US6278241B1 (en) 2001-08-21
EP0861575B1 (de) 2000-07-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69609191T2 (de) Vierdüsen-plasmaerzeugungsvorrichtung zur erzeugung eines aktivierter strahles
DE4125365C1 (de)
DE69528836T2 (de) Vorrichtung und verfahren zur herstellung von gleichen dünnen beschichtungen auf breiten substraten
DE69809943T2 (de) Glimmentladungs-plasmavorrichung
DE3783432T2 (de) End-hall-ionenquelle.
EP2206417B1 (de) Verfahren und vorrichtung zur behandlung oder beschichtung von oberflachen
EP2716139B1 (de) Vorrichtung und verfahren zur erzeugung eines kalten, homogenen plasmas unter atmosphärendruckbedingungen
DE4235953C2 (de) Sputterquelle mit einer linearen Hohlkathode zum reaktiven Beschichten von Substraten
DE69216637T2 (de) Verfahren zur oberflächenbehandlung eines werkstückes
DE3331707A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum reaktiven aufstaeuben von verbindungen von metallen und halbleitern
DE69203127T2 (de) Verfahren zur Behandlung zum Beispiel einer Substratoberfläche durch Spritzen eines Plasmaflusses und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens.
DE69421157T2 (de) Plasmastrahl-Erzeugungsverfahren und Vorrichtung die einen Hochleistungsplasmastrahl erzeugen Kann
DE2412928A1 (de) Vorrichtung zur herstellung von duennen mineralstoffschichten
EP0851720A1 (de) Indirektes Plasmatron
DE69410964T2 (de) Begasungsvorrichtung und -verfahren zur Erzeugung einer kontrollierten Atmosphäre in einem geschlossenen Raum
DE10145131A1 (de) Vorrichtung zum Erzeugen eines Aktivgasstrahls
DE2241972A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur thermischen bearbeitung und verarbeitung hochschmelzender materialien
EP1759036A1 (de) Beschichtungsvorrichtung zum beschichten eines substrats, sowie ein verfahren zum beschichten
DE102004029081A1 (de) Vorrichtung zur Bearbeitung eines Substrates mittels mindestens eines Plasma-Jets
WO2008061602A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum erzeugen eines plasmas und anwendungen des plasmas
DE4210125C2 (de) Vorrichtung zum Gasflußsputtern
EP0438627B1 (de) Bogenentladungsverdampfer mit mehreren Verdampfertiegeln
EP0257620B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Ausbilden einer Schicht durch plasmachemischen Prozess
DE3244691A1 (de) Zerstaeuber- bzw. aufspruehvorrichtung
DE3620214A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur schaffung eines chemisch aktiven milieus fuer plasmochemische reaktionen, vor allem fuer die abscheidung duenner schichten

Legal Events

Date Code Title Description
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: TEPLA AG, 85551 KIRCHHEIM, DE

8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee