DE69526119T2 - Strahlungsempfindliche zusammensetzung und daraus hergestelltes aufzeichnungsmedium - Google Patents

Strahlungsempfindliche zusammensetzung und daraus hergestelltes aufzeichnungsmedium

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6528232B1 (en) * 1999-11-01 2003-03-04 Nec Corporation Sulfonium salt compound, photoresist composition and method for patterning by employing same
JP4070393B2 (ja) * 2000-01-17 2008-04-02 富士フイルム株式会社 ネガ型レジスト組成物
US6703169B2 (en) * 2001-07-23 2004-03-09 Applied Materials, Inc. Method of preparing optically imaged high performance photomasks
JP4029288B2 (ja) * 2003-05-21 2008-01-09 信越化学工業株式会社 レジスト材料及びパターン形成方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3987037A (en) * 1971-09-03 1976-10-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines
US3954475A (en) * 1971-09-03 1976-05-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosensitive elements containing chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines
US3912606A (en) * 1974-11-21 1975-10-14 Eastman Kodak Co Photosensitive compositions containing benzoxazole sensitizers
JPH0612448B2 (ja) * 1985-11-09 1994-02-16 コニカ株式会社 感光性組成物および感光性平版印刷版
DE3637717A1 (de) * 1986-11-05 1988-05-11 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch, dieses enthaltendes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von positiven oder negativen reliefkopien unter verwendung dieses materials
US4845011A (en) * 1987-10-23 1989-07-04 Hoechst Celanese Corporation Visible light photoinitiation compositions
DE3907953A1 (de) * 1989-03-11 1990-09-13 Hoechst Ag Strahlungshaertbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial fuer hochenergetische strahlung
DE3930086A1 (de) * 1989-09-09 1991-03-21 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
EP0423446B1 (de) * 1989-10-17 1998-03-04 Shipley Company Inc. Fotoresist für nahes U.V.
DE4003025A1 (de) * 1990-02-02 1991-08-08 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches gemisch, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen
JPH0446344A (ja) * 1990-06-14 1992-02-17 Mitsubishi Kasei Corp ネガ型感光性組成物
JPH0588366A (ja) * 1991-09-26 1993-04-09 Sumitomo Chem Co Ltd ネガ型フオトレジスト組成物
EP0501919A1 (de) * 1991-03-01 1992-09-02 Ciba-Geigy Ag Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen auf der Basis von Polyphenolen und Acetalen
DE4112972A1 (de) * 1991-04-20 1992-10-22 Hoechst Ag Negativ arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und damit hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
JP2973626B2 (ja) * 1991-08-20 1999-11-08 富士通株式会社 レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
DE59206289D1 (de) * 1991-09-27 1996-06-20 Siemens Ag Verfahren zur Erzeugung eines Bottom-Resists
EP0537524A1 (de) * 1991-10-17 1993-04-21 Shipley Company Inc. Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen und Verfahren
JPH05216233A (ja) * 1992-02-04 1993-08-27 Fujitsu Ltd 化学増幅系レジストとレジストパターンの形成方法
EP0620500A3 (de) * 1993-04-16 1996-01-03 Hitachi Ltd Photoresist und Verfahren zur Herstellung von Strukturen damit.
KR960015081A (ko) * 1993-07-15 1996-05-22 마쯔모또 에이이찌 화학증폭형 레지스트 조성물

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Publication number Publication date
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EP0801329A4 (de) 1999-07-21
EP0801329B1 (de) 2002-03-27
KR100402877B1 (ko) 2004-06-12
DE69526119D1 (de) 2002-05-02

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