DE69107649T2 - Einrichtung zum Erzeugen von blauem Laserlicht. - Google Patents

Einrichtung zum Erzeugen von blauem Laserlicht.

Info

Publication number
DE69107649T2
DE69107649T2 DE69107649T DE69107649T DE69107649T2 DE 69107649 T2 DE69107649 T2 DE 69107649T2 DE 69107649 T DE69107649 T DE 69107649T DE 69107649 T DE69107649 T DE 69107649T DE 69107649 T2 DE69107649 T2 DE 69107649T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
wavelength
light
laser
glass composition
mol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE69107649T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69107649D1 (de
Inventor
Emmanuel Wilhelmus Johan Oomen
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Electronics NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Electronics NV filed Critical Philips Electronics NV
Application granted granted Critical
Publication of DE69107649D1 publication Critical patent/DE69107649D1/de
Publication of DE69107649T2 publication Critical patent/DE69107649T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/026Monolithically integrated components, e.g. waveguides, monitoring photo-detectors, drivers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06Construction or shape of active medium
    • H01S3/063Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
    • H01S3/067Fibre lasers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/16Solid materials
    • H01S3/17Solid materials amorphous, e.g. glass
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/12Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/20Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers
    • H01S5/24Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers having a grooved structure, e.g. V-grooved, crescent active layer in groove, VSIS laser
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/091Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
    • H01S3/094Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
    • H01S3/094003Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light the pumped medium being a fibre
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/091Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
    • H01S3/094Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
    • H01S3/094092Upconversion pumping
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/16Solid materials
    • H01S3/1601Solid materials characterised by an active (lasing) ion
    • H01S3/1603Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
    • H01S3/1616Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth thulium
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/16Solid materials
    • H01S3/17Solid materials amorphous, e.g. glass
    • H01S3/173Solid materials amorphous, e.g. glass fluoride glass, e.g. fluorozirconate or ZBLAN [ ZrF4-BaF2-LaF3-AlF3-NaF]

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Description

  • Die Erfindung bezieht sich auf eine Anordnung zum Erzeugen von blauem Laserlicht mit einer Wellenlänge von 445 bis 455 nm in einem Aufwärtsmischverfahren, wobei diese Anordnung einen Pumplaser und einen Schwingungsraum mit eine Glaszusammensetzung von Schwermetallfluoriden mit dreiwertigen Thuliumionen aufweist.
  • Die Erfindung bezieht sich weiterhin auf ein Verfahren zum Erzeugen von blauem Laserlicht in einem Aufwärtsmischverfahren, wobei ein Pumplaser und ein Schwingungsraum verwendet werden, wobei dieser Schwingungsraum eine Glaszusammensetzung von Schwermetallfluoriden mit dreiwertigen Thuliumionen aufweist.
  • Die erfindungsgemäße Anordnung läßt sich beispielsweise als gedrängte Lichtquelle zur optischen Speicherung von Information und zur Telekommunikation mittels Glasfaser verwendet. Durch Anwendung kurzwelligen Lichtes kann die Informationsdichte gesteigert werden und die Möglichkeiten Information zu schreiben und zu lesen lassen sich durch die größere Photonenergie erweitern.
  • In einem Artikel von D.C. Nguyen u.a. in "Applied Optics 28 (17), Seiten 3553 bis 3555 (1989) werden ein Aufwärtsmischverfahren und eine Anordnung zum Durchführen desselben beschrieben, wobei ein Einkristall von Yttriumlithiumfluorid verwendet wird, der mit 1 Atom% dreiwertigem Thuliumioden dotiert ist. Der Kristall wird mittels zweier Laserlichtquellen mit Wellenlängen von etwa 781 nm und 649 nm bestrahlt. Es wird kohärentes blaues Laserlicht erzeugt mit einer Wellenlänge von etwa 450 nm. Das Licht wird in Form von Impulsen erzeugt.
  • In einem Artikel von J.Y. Allain u.a. in "Electronics Letters 26 (3), Seiten 166 bis 168 (1990) wird ein Aufwärtsmischverfahren in einer thuliumdotierten Fluorzirconatfaser beschrieben. Die genannte Faser wird mit zusammenarbeitenden Pumpwellenlängen von 647, 1 nm und 676,4 nm bestrahlt, wobei die Strahlen von einem Kr-Ionenlaser erzeugt werden. Es wird eine inkohärente fluoreszierende und impulsförmige Emission festgestellt bei 455 nm und 480 nm. Ein Nachteil der bekannten Anordnungen ist, daß gepulste Laserwirkung zur Anwendung bei Apparatur für optische Aufzeichung von Information ungeeignet ist. Ein Nachteil ist weiterhin, daß die Verwendung zweier (verschiedener) Laserlichtquellen zu einem komplizierten Entwurf und zu einer wenig gedrängten Anordnung führt.
  • Ein Problem bei der Herstellung der ersten Anordnung ist die Notwendigkeit, daß eine große Absorbtionslänge des Halbleiterlichtes geschaffen wird, was sich bei einem einzigen Kristall nur schwer verwirklichen läßt. Dies ist notwendig, weil die Konzentration der Thuliumionen relativ niedrig sein muß (weniger als 1 Mol%), weil angeregte Thuliumionen schnell zu wirksamen Kreuzrelaxationsverfahren führen, wodurch die Wirksamkeit des Aufwärtsmischverfahrens verringert wird.
  • Aufgabe der Erfindung ist u.a. eine Anordnung zum Erzeugen von blauem Laserlicht in einem Aufwärtsmischverfahren zu schaffen, wobei diese Anordnung einen einfachen und gedrängten Aufbau hat, sich auf einfache Weise herstellen läßt und geeignet ist zum kontinuierlichen Erzeugen von blauem Laserlicht.
  • Nach der Erfindung wird diese Aufgabe erfüllt such eine Anordnung der eingangs beschriebenen Art, die das Kennzeichen aufweist, daß ein einziger Halbleiterlaser verwendet wird als Punplaser, der Licht einer Wellenlänge von 650 bis 665 nm ausstrahlt.
  • Ebenfalls nach der Erfindung kann diese Aufgabe erfüllt werden mit einer Anordnung der eingangs beschriebenen Art, wobei diese Anordnung das Kennzeichen aufweist, daß die Glaszusammensetzung außerdem Terbiumfluorid TbF&sub3; aufweist, und/oder Praseodymiumfluorid PrF&sub3;, in einer Gesamtmenge von 0,01 bis 1 Mol%, und daß ein einziger Halbleiterlaser als Pumplaser verwendet wird, der Licht einer Wellenlänge von 640 bis 700 nm ausstrahlt.
  • Glaszusammensetzungen auf Basis von Schwermetallfluoriden, die zum Gebrauch bei der Anordnung und dem Verfahren nach der Erfindung geeignet sind, sind beispielsweise von J. Lucas in dem "Journal of Materials Science, 24, Seiten 1 bis 13 (1989) und in der US-Patentschrift US 4749666 beschrieben. Ein geeignetes Verfahren zum Herstellen fluoridhaltiger Glaszusammensetzungen ist in der US Patentschrift US 4666486 beschrieben. Durch die relativ geringe Menge verwendeten Thuliumfluorids, das in der Glaszusammensetzung beispielsweise Lanthanfluorid ersetzen kann, werden die Eigenschaften der Glaszusammensetzung kaum beeinflußt.
  • Ein wirksames Aufwärtsmischverfahren ist möglich bei der erfindungsgemäßen Anordnung, bei der der Schwingungsraum eine Glasfaser umfaßt, mit einem Kern aus einer Glaszusammensetzung aus Schwermetallfluoriden und mit einem Mantel mit einer niedrigeren Brechzahl als der kern. Andere Vorteile der Verwendung einer Glasfaser liegen in der Tatsache, daß das blaue Licht in einem gut definierten Eellenleiter erzeugt wird und daß es möglich ist, die Absorbtionsweglänge innerhalb weiter Grenzen zu wählen. Außerdem sind mehrere Möglichkeiten bekannt, Licht von einem Halbleiterlaser in eine Glasfaser einzukoppeln und der austretende Lichtpunkt bei einer Glasfaser gut definiert, bei einer Monomode-Glasfaser beispielsweise zu einem Punktdurchmesser von 5um.
  • Ein geeignetes Verfahren zum Herstellen optischer Glasfasern aus Fluoridglaszusammensetzungen ist von H.W. Schneider in "Critical Reports on Applied Chemistry", 27 "Fluoride Glasses" (ed. A.E. Comyns), John Wiley & Sons, Chichester, Seiten 185 bis 199 (1989) und in der US Patentschrift US 4842627 beschrieben.
  • In einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Anordnung weist die Glaszusammensetzung 0,01 bis 1 Mol% Thuliumfluorid TmF&sub3; auf. Bei Mengen über 1 Mol% wird die Wirksamkeit des Aufwärtsmischverfahrens durch Kreuzrelaxationsverfahren zu gering. Dieses Phänomen wird in einem Artikel von C.Guery u.a. in "Journal of Luminescence" 42, Seiten 181-189 (1988) beschrieben. Bei Mengen von weniger als 0,01 Mol% wird die erforderliche Absorptionslänge unprkatisch groß, beispielsweise über 1 Meter. Außerdem finden zwischen den Thuliumatomen Energieübertrageungsprozesse statt, die zu dem Aufwärtsmischverfahren beitragen können. Bei einer zu geringen Konzentration wird die Gefahr von derartigen Energieübertragungsprozesse zu gering.
  • Eine weiter Aufgabe der Erfindung ist, ein einfaches und wirtschaftliches Verfahren zu schaffen zum Erzeugen von Blaulaserlicht unter Anwendung einfacher optischer Mittel.
  • Nach der Erfindung wird dies erreicht durch ein Verfahren, wie dies in dem zweiten Abschnitt beschrieben worden ist, wobei dieses Verfahren das Kennzeichen aufweist, daß zum Ausstrahlen von Licht einer Wellenlänge von 650 bis 665 nm ein einziger Halbleiterlaser verwendet wird, wobei Laserlicht einer Wellenlänge von 445 bis 455 nm erhalten wird.
  • Nach einem weiteren Aspekt der Erfindung läßt sich diese Aufgabe ebenfalls erfüllen durch ein Verfahren, wie dies in dem zweiten Abschnitte beschrieben worden ist, wobei dieses Verfahren das Kennzeichen aufweist, daß die Glaszusammensetzung außerdem Terbiumfluorid TbF&sub3; und/oder Praseodymiumfluorid PrF&sub3; aufweist, und zwar in einer Menge von 0,01 bis 1 Mol%, und daß zum Ausstrahlen von Licht einer Wellenlänge von 640 bis 700 nm ein einziger Halbleiterlaser verwendet wird, wobei Laserlicht einer Wellenlänge von 445 bis 455 nm erhalten wird.
  • Die Anwendung eines fluorhaltigen Glases bietet eine Anzahl spezifischer Vorteile. Bei Glaszusammensetzungen auf Basis von Fluoriden ist ein wirtschaftlicheres Aufwärtsmischverfahren möglich als bei anderen Glaszusammensetzungen, beispielsweise bei Silikatgläsern. Bei den Glaszusammensetzungen befinden sich die Thuliumatome an verschiedenen energetischen Stallen, wodurch über einen etwas verbreiterten Wellenlängenbereich Absorption möglich ist. Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, daß dadurch und durch das kontrollierte Auftreten von strahlungslosen Prozessen die Möglichkeit geboten wird, mit einer einzigen Strahlungsquelle ein Elektron in einem Thuliumatom in zwei Schritten auf einen höheren Energiepegel zu bringen. Glaszusammensetzungen auf Basis von Schwermetallfluoriden sind, im Gegensatz zu Glaszusammensetzungen auf Basis von BeF&sub2;, nicht giftig und nicht hygroskopisch und sind in einer normalen Atmosphäre stabil. Zum Schluß hat die Verwendung von Glas den Vorteil, daß es sich auf einfache Weise verarbeiten läßt und beispielsweise in Form von Fasern herstellbar ist.
  • Zwar wird in der US Patentschrift US 3958970 die Anwendung von Aufwärtsmischverfahren bei fluoridhaltigem Glas oder bei Keramik mit Yb und Er oder Tm beschrieben, es wird aber mit Licht einer Wellenlänge von 980 nm gepumpt, was zum Gebrauch bei Halbleiterlasern ungünstig ist. Es tritt keine Laserwirkung auf und der Prozeß mit Tm ist wenig wirtschaftlich, weil es sich um ein 3-Photon-Verfahren handelt. Außerdem ist die Wellenlänge des erhaltenen Lichtes (470 nm) größer als bei dem erfindungsgemäßen Verfahren. Der Prozeß mit Er ist ein 2-Photon-Verfahren, liefert aber Licht einer Wellenlänge von 540 nm.
  • Es sei bemerkt, daß in dem bereits genannten Artikel von C. Guery u.a. und von J. Sanz u.a. in "Journal of Non-Crystalline Solids" 93, Seiten 377-386 (1987) optische und spektroskopische Eigenschaften der thuliumhaltigen Fluoridglaszusammensetzungen beschrieben werden. Die Vorrichtung udn das Verfahren nach der Erfindung werden darin aber nicht beschrieben.
  • Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und werden im folgenden näher beschrieben. Es zeigen:
  • Fig. 1 eine schematische Darstellung einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Anordnung,
  • Fig. 2 eine schematische Darstellung des Aufwärtsmischverfahrens nach dem Stand der Technik (a) und nach der Erfindung (b),
  • Fig. 3 Emissionsspektren, gemessen an einer Glaszusammensetzung, die sich zum Gebrauch in einer Anordnung nach der Erfindung eignet.
  • Ausführungsbeispiel
  • Fig. 1 zeigt schematisch eine Anordnung zum Erzeugen von blauem Laserlich in einem Aufwärtsmischverfahren mit einem Halbleiterlaser 1, der einen Lichtstrahl 2 einer Wellenlänge von 650 nm und einer Leistung von 10 mW aussendet. Zwischen zwei Spiegeln 3 und 4 befindet sich ein Schwingungsraum, in dem sich eine Glasfaser 5 befindet. Der austretende Lichtstrahl 6 hat eine Wellenlänge von 450 nm und eine Dauerleistung von maximal 0,5 nM.
  • Der Spiegel 3 ist transparent für das aus dem Halbleiterlaser 1 heraustretende Licht und reflektiert die gesamte blaue Lichtmenge. Der Spiegel 4 ist teildurchlässig (etwa 5%) für das in der Glasfaser 5 erzeugte blaue Licht.
  • Ein geeigneter Halbleiterlaser ist beispielsweise ein GaInP/AlGaInP-Laser. Andere geeignete Halbleiterlaser nach dem Stand der Technik lassen sich durchaus anwenden. Als Spiegel lassen sich handelsübliche Spiegel verwendem. Es ist ggf. möglich. die Spiegel in Form dünner Schichten auf einem Quarzglasträger oder an den Enden der Glasfaser 5 aufzudampfen. Der Spiegel 4 kann eine Durchlässigkeit von 0,2 bis 20% haben für das erzeugte blaue Licht. Geeignete Spiegel, die durch Aufdampfen bei einer Temperatur von weniger als 100ºC erhalten werden können, bestehen aus abwechselnden Schichten aus HfO&sub2; und SiO&sub2;, mit je einer Schichtdicke von λ/4, wobei λ die Wellenlänge des zu reflektierenden Lichtes ist. Bei diesen Spiegeln bestehen die äußeren Schichten aus HfO&sub2;. Bei Verwendung von insgesamt 31 abwechselnden Schichten hat der Spiegel 3 eine Reflexionsleistung von 99,98% für blaues Licht mit einer Wellenlänge von 450 nm. Bei Verwendung von 11 abwechselnden Schichten weist der Spiegel 4 eine Transmission von 8% auf für Licht einer Wellenlänge von 450 nm. In beiden Fällen beträgt die Transmission für rotes Licht einer Wellenlänge von 650 nm über 95%.
  • Der Kern der Glasfaser 5 besteht nach dem beispiel aus 53 Mol% ZrF&sub4;, 20 Mol% BaF&sub2;, 20 Mol% NaF, 3 Mol% A1F&sub3;, 3,9 Mol% LaF3 und 0,1 Mol% TmF&sub3;. In einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Anordnung weist die Glaszusammensetzung außerdem etwa 0,1 Mol% TbF&sub3; auf, wobei die menge LaF&sub3; entsprechend kleiner gewählt wird.
  • Glaszusammensetzungen auf Basis von Schwermetallfluoriden, die bei der erfindungsgemäßen Anordnung und bei dem erfindungsgemäßen Verfahren angewandt werden können, sind Glaszusammensetzungen auf Basis von ZrF&sub4;, beispielsweise ZBLA und ZBLAN, und auf Basis von InF&sub3;, beispielsweise BIZYT. Diese Glaszusammensetzungen sind in dem Artikel von J. Lucas in "Journal of Materials Science" 24, Seiten 1 bis 13 (1989) sowie in der US Patentschrift US 4749666 beschrieben. Bei diesen Glaszusammensetzungen wird eine der vorhandenen Seltenermetallfluoride teilweise durch TmF&sub3; ersetzt.
  • Die Glasfaser nach dem Beispiel ist eine Monomodefaser mit einem kreisförmigen Querschnitt, mit einem Kern mit einem Durchmesser von 5um aus der genannten Schwermetallfluoridglaszusammensetzung und mit einem Mantel mit einem Durchmesser von etwa 125um. Der Mantel besteht aus einer fluorhaltigen Glaszusammensetzung mit einer Brechzahl, die niedriger ist als die des Kerns. Nach dem Beispiel besteht der Mantel aus 40 Mol% ZrF&sub4;, 20 Mol% BaF&sub2;, 13 Mol% HfF&sub4;, 20 Mol% NaF, 3 Mol% A1F&sub3; und 4 Mol% LaF&sub3;. Dabei ist in der Glaszusammensetzung, wie diese für den Kern verwendet wird, ein Teil des ZrF&sub4; durch HfF&sub4; ersetzt worden. In dem bereits genannten Artikel von J. Lucas wird angegeben, wie die Brechzahl durch Anpassung der Zusammensetzung der fluoridhaltigen Glaszusammensetzung geändert werden kann. Die Glasfaser wurde gemäß dem in dem bereits genannten Artikel beschriebenen "Rotational Casting"-Verfahren gefertigt. Auch andere an sich bekannte Verfahren lassen sich anwenden, eine geeignete Glasfaser zu schaffen.
  • Die Anordnung läßt sich in vielen anderen Ausführungsformen gestalten. Statt einer Glasfaser kann gewünschtenfalls ein Glasblöckchen verwendet werden. Die Anordnung kann mit Filtern versehen werden um das rote Licht und das Blaulicht einer größeren wellenlänge als etwa 455 nm aus dem heraustretenden Blaulichtstrahl herauszufiltern.
  • Fig. 2 zeigt einige Energiepegel der Elektronen in einem Thuliumatom In Fig. 2 ist ein Aufwärtsmischverfahren nach dem Stand der Technik dargestellt, wobei ein Elektron aus dem Bodenpegel ³H&sub6; mittels eines absorbierten Photons in einen angeregten Zustand ³F&sub4; gebracht wird. Für diesen Schritt, der in Fig. 2a mit dem Pfeil 10 angegeben ist, ist Licht einer Wellenlänge von etwa 780 nm erforderlich. Durch gleichzeitige Bestrahlung mit Licht einer Wellenlänge von etwa 650 nm kann das angeregte Elektron in einem zweiten Schritt 11 auf den ¹D&sub2; Pegel gebracht werden. Aus diesem Zustand kann das Elektron auf den ³H&sub4; Pegel zurückfallen unter Ausstrahlung eines Photons von 450 nm. Dieser Schritt ist in der Figur durch den Pfeil 12 angegeben. Weil das Elektron nicht in die Ausgangslage zurückfällt, ist die Laserwirkung einfach verwirklichbar. Der ³H&sub4; Pegel hat eine Lebensdauer von etwa 1 ins. Der ¹D&sub2; Pegel hat eine Lebensdauer von etwa 0,05 ms, siehe den bereits genannten Artikel von J. Sanz u.a.. Dadurch, daß der ³H&sub4; Pegel voll wird, ist nur gepulste Laserwirkung möglich.
  • Fig. 2b zeigt die Wirkung des Aufwärtsmischverfahrens nach der Erfindung. Ein Elektron wird aus dem Ausgangspegel ³H&sub6; mittels eines absorbierten Photons in einen angeregten Zustand ³F&sub2; gebracht. Für diesen Schritt, der in Fig. 2b mit dem Pfeil 13 angegeben ist, kann Licht mit Wellenlängen von 640 bis 700 nm verwendet werden. Die Breite des nutzbaren Wellenlängengebietes läßt sich dadurch erklären, daß die Thuliumatome in einer Glaszusammensetzung an einer Vielzahl energetisch unterschiedlicher Stellen vorhanden ist. Durch strahlungslose Verfahren, in der Figur durch den Pfeil 14 angegeben, fällt das Elektron auf den ³F&sub4; Pegel zurück. Es hat sich herausgestellt, daß derartige strahlungslose Prozesse bei Glaszusammensetzungen auf Basis von Schwermetallfluoriden im richtigen Ausmaß auftreten. Einerseits wird der ³F&sub4; Pegel aus den höheren Pegeln ³F&sub2; und ³F&sub3; schnell genug gefüllt. Andererseits wird dieser Pegel nicht zu schnell wieder geleert durch nachfolgende strahlungslose Prozesse zu den niedrigeren Energiepegeln ³H&sub5; und niedriger. Aus dem ³F&sub4; Pegel wird das angeregte Elektron in einem zweiten Absorptionsschritt 15 auf den ¹D&sub2; Pegel gebracht, wozu ebenso wie in dem ersten Schritt Licht mit einer Wellenlänge von 640 bis 700 nm geeignet ist. Aus diesem Zustand kann das Elektron zug den ³H&sub4; Pegel zurückfallen unter Ausstrahlung eines Photons von 450 nm. Dieser Schritt ist in der Figur durch den Pfeil 16 angegeben. Weil das Elektron dabei nicht in die Ausgangslage zurückfällt, ist Laserwirkung auf einfache Weise verwirklichbar.
  • Die Erfindung bietet die Möglichkeit, ständig Laserwirkung zu erhalten. Wenn der verwendete Pumplaser Licht einer Wellenlänge zwischen 640 und 665 nm ausstrahlt, können die Elektronen aus dem ³H&sub4; Pegel auf wirtschaffliche Weise zu dem ¹G&sub4; Pegel übertragen werden, siehe Pfeil 17, von woraus die Elektronen in die Ausgangslage ³H&sub6; zurückfallen, siehe Pfeil 18, unter Ausstrahlung eines Photons von 470 nm. Durch dieses Verfahren wird der ³H&sub4; Pegel geleert, wodurch die relativ lange Lebensdauer von Elektronen in dem ³H&sub4; Pegel (1 ms) kein Hemmung mehr für ständige Laserwirkung bildet. Die Belegung des ¹D&sub2; Pegels kann ständig größer sein als die des ³H&sub4; Pegels.
  • Ein anderes Verfahren zur Verkürzung der Lebensdauer von Elektronen in dem ³H&sub4; Pegel besteht darin, daß die Glaszusammensetzung mit Tb und/oder Pr dotiert wird, außer dem bereits vorhandenen Tm. Durch Energieübertragung von Thuliumatomen zu Terbiumatomen oder Praseodymiumatomen wird das Zurückbringen von Elektronen in die Ausgangslage gefördert. Die kleinste wirksame Menge dieser Dotierungen beträgt etwa 0,01 Mol%. Mengen über 1 Mol% tragen nicht zu einem besseren Ergebnis bei und verursachen Entleerung des ¹D&sub2; Pegels durch Absorption. Der in Fig. 2b durch die Pfeile 17 und 18 angegebene Prozeß und die Hinzufügung von Tb und/oder Pr können einzeln sowie gleichzeitig verwendet werden um dafür zu sorgen, daß der ³H&sub4; Pegel geleert wird.
  • Fig. 3 zeigt Emissionsspektren, in denen die Intensität I je nach der Wellenlänge λ des ausgestrahlten Lichtes wiedergegeben ist. Es wurde an einem Glasblöckchen mit der Zusammensetzung wie bereits für das Kernmaterial der Glasfaser beschrieben wurde, unter Bestrahlung mit einem Kryptonlaser gemessen.
  • Die Kurve 20 ist bei Bestrahlung mit Licht einer Wellenlänge von 676 nm gemessen. Die Spitze bei 450 nm wird durch den Übergang von ¹D&sub2; zu ³H&sub4; verursacht, die Spitze bei 470 nm durch den Übergang von ¹G&sub4; zu ³H&sub4;. Die Kurve 21 ist bei Bestrahlung mit Licht einer Wellenlänge von 647 nm gemessen. Die Spitze bei 470 nm hat gegenüber der in der Kurve 20 relativ stark zugenommen, woraus es sich zeigt, daß Bestrahlung mit Licht einer Wellenlänge von 647 nm auf wirtschaftliche Weise zu der Entleerung des ³H&sub4; Pegels beiträgt.
  • Um festzustellen, welche mengen TmF&sub3; in der Schwermetallfuoridglaszusammensetzung zum Erhalten von Aufwärtsmischung geeignet sind, wurd ein Blöckchen Glas mit Licht von 700 nm bestrahlt. Bei dieser Wellenlänge gibt es kaum Anregung von dem ³H&sub4; Pegel zu dem ¹G&sub4; Pegel. Die Zusammensetzung des Glasblöckchens war 53 Mol% ZrF&sub4;, 20 Mol% BaF&sub2;m 3 Mol% AlF&sub3;, 20 Mol% NaF, (4-x) Mol% LaF&sub3; und x Mol% TmF&sub3;, in der x Werte aufwies, wie diese in der naxchfolgenden Tabelle angegeben sind. In der Tabelle ist I die relative Effektivität der Aufwärtsmischverfahrens, wobei blaues Licht einer Wellenlänge von 450 nm erhalten wird. TABELLE
  • Aus der Tabelle geht hervor, daß durch das Auftreten von Kreuzrelaxiation die Effektivität des Aufwärtsmischverfahrens über etwa 0,5 Mol% TmF&sub3; stark abnimmt und von etwa 1 Mol% einen kaum verwendbaren Wert hat. Die untere Grenze der geeigneten Menge TmF&sub3; wird durch die erforderliche Absorptionslänge bestimmt, die bei 0,01 Mol% TmF&sub3; etwa 1 m betragen kann.

Claims (6)

1. Anordnung zum Erzeugen von blauem Laserlicht mit einer Wellenlänge von 445 bis 455 nm in einem Aufwärtsmischverfahren, wobei diese Anordnung einen Pumplaser und einen Schwingungsraum mit einer Glaszusammensetzung von Schwermetallfluoriden mit dreiwertigen Thuliumionen aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß ein einziger Halbleiterlaser verwendet wird als Pumplaser, der Licht einer Wellenlänge von 650 bis 665 nm ausstrahlt.
2. Anordnung zum Erzeugen von blauem Laserlicht mit einer Wellenlänge von 445 bis 455 nm in einem Aufwärtsmischverfahren, wobei diese Anordnung einen Pumplaser und einen Schwingungsraum mit einer Glaszusammensetzung von Schwermetallfluoriden mit dreiwertigen Thuliumionen aufweist, dadurch gekennzeichnet daß die Glaszusammensetzung außerdem Terbiumfluorid TbF&sub3; aufweist, und/oder Praseodymiumfluorid PrF&sub3;, in einer Gesamtmenge von 0,01 bis 1 Mol%, und daß ein einziger Halbleiterlaser als Pumplaser verwendet wird, der Licht einer Wellenlänge von 640 bis 700 nm ausstrahlt.
3. Anordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Schwingungsraum eine Glasfaser umfaßt, mit einem Kern aus einer Glaszusammensetzung aus Schwermetallfluoriden und mit einem Mantel mit einer niedrigeren Brechzahl als der Kern.
4. Anordnung nach Anspruch 1 bis 3, Glaszusammensetzung 0,01 bis 1 Mol% Thuliumfluorid TmF&sub3; aufweist.
5. Verfahren zum Erzeugen von blauem Laserlicht in einem Aufwärtsmischverfahren, wobei ein Pumplaser und ein Schwingungsraum verwendet werden, wobei dieser Schwingungsraum eine Glaszusammensetzung von Schwermetallfluoriden mit dreiwertigen Thuliumionen aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß zum Ausstrahlen von Licht einer Wellenlänge von 650 bis 665 nm ein einziger Halbleiterlaser verwendet wird, wobei Laserlicht einer Wellenlänge von 445 bis 455 nm erhalten wird.
6. Verfahren zum Erzeugen von blauem Laserlicht in einem Aufwärtsmischverfahren, wobei ein Pumplaser und ein Schwingungsraum verwendet werden, wobei dieser Schwingungsraum eine Glaszusammensetzung von Schwermetallfluoriden mit dreiwertigen Thuliumionen aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß die Glaszusammensetzung außerdem Terbiumfluorid TbF&sub3; aufweist, und/oder Praseodymiumfluorid PrF&sub3;, in einer Gesamtmenge von 0,01 bis 1 Mol%, und daß ein einziger Halbleiterlaser als Pumplaser verwendet wird, der Licht einer Wellenlänge von 640 bis 700 nm ausstrahlt, wobei Laserlicht einer Wellenlänge von 445 bis 455 nm erhalten wird.
DE69107649T 1990-03-08 1991-03-04 Einrichtung zum Erzeugen von blauem Laserlicht. Expired - Fee Related DE69107649T2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL9000532A NL9000532A (nl) 1990-03-08 1990-03-08 Inrichting voor het opwekken van blauw laserlicht.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69107649D1 DE69107649D1 (de) 1995-04-06
DE69107649T2 true DE69107649T2 (de) 1995-09-14

Family

ID=19856715

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69107649T Expired - Fee Related DE69107649T2 (de) 1990-03-08 1991-03-04 Einrichtung zum Erzeugen von blauem Laserlicht.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5067134A (de)
EP (1) EP0450677B1 (de)
JP (1) JPH04218986A (de)
KR (1) KR910017702A (de)
DE (1) DE69107649T2 (de)
NL (1) NL9000532A (de)

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04131805A (ja) * 1990-09-25 1992-05-06 Sumitomo Electric Ind Ltd 石英系光導波路及びその製造方法
JP2634525B2 (ja) * 1991-09-27 1997-07-30 松下電器産業株式会社 希土類イオン添加固体光素子、希土類イオン添加光ファイバ素子、希土類イオン添加レーザ素子及び希土類イオン添加光増幅素子
US5226049A (en) * 1992-02-06 1993-07-06 Amoco Corporation Optical fiber rare earth ion upconversion laser system
US5222181A (en) * 1992-07-01 1993-06-22 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Fraunhofer line laser transmitting system
US5412674A (en) * 1992-10-26 1995-05-02 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Compact rapidly modulatable diode-pumped visible laser
US5426656A (en) * 1993-01-25 1995-06-20 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Laser element doped with rare earth ions, optical amplifier element doped with rare earth ions and rare-earth-ion-doped short-wavelength laser light source apparatus
GB9305604D0 (en) * 1993-03-18 1993-05-05 British Telecomm Optical amplifier and laser
US5754570A (en) * 1993-05-19 1998-05-19 Telstra Corporation Limited Co-doped optical material emitting visible/IR light
KR100243313B1 (ko) * 1994-05-11 2000-02-01 윤종용 청록색 레이저 발진방법 및 소자 그리고 이를 적용한 장치
US5530709A (en) * 1994-09-06 1996-06-25 Sdl, Inc. Double-clad upconversion fiber laser
US5539758A (en) * 1995-01-20 1996-07-23 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Upconversion pumped thulium fiber amplifier and laser operating at 790 to 830 nm
US5621749A (en) * 1995-09-06 1997-04-15 Hewlett-Packard Company Praseodymium-doped fluoride fiber upconversion laser for the generation of blue light
US7576909B2 (en) 1998-07-16 2009-08-18 Imra America, Inc. Multimode amplifier for amplifying single mode light
US7656578B2 (en) 1997-03-21 2010-02-02 Imra America, Inc. Microchip-Yb fiber hybrid optical amplifier for micro-machining and marking
US5912915A (en) * 1997-05-19 1999-06-15 Coherent, Inc. Ultrafast laser with multiply-folded resonant cavity
US6154598A (en) * 1997-12-22 2000-11-28 Polaroid Corporation Laser composition for preventing photo-induced damage
US6252892B1 (en) 1998-09-08 2001-06-26 Imra America, Inc. Resonant fabry-perot semiconductor saturable absorbers and two photon absorption power limiters
US6275512B1 (en) 1998-11-25 2001-08-14 Imra America, Inc. Mode-locked multimode fiber laser pulse source
US6414973B1 (en) 1999-08-31 2002-07-02 Ruey-Jen Hwu High-power blue and green light laser generation from high powered diode lasers
US20030026314A1 (en) * 1999-08-31 2003-02-06 Ruey-Jen Hwu High-power blue and green light laser generation from high-powered diode lasers
DE19941836C2 (de) * 1999-09-02 2001-09-13 Toshiba Kawasaki Kk Upconversion-Faserlaser-Vorrichtung
US6650677B1 (en) * 2000-04-11 2003-11-18 Kabushiki Kaisha Toshiba Up-conversion laser
US7190705B2 (en) 2000-05-23 2007-03-13 Imra America. Inc. Pulsed laser sources
US7088756B2 (en) * 2003-07-25 2006-08-08 Imra America, Inc. Polarization maintaining dispersion controlled fiber laser source of ultrashort pulses
US6795455B2 (en) * 2001-08-14 2004-09-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy All solid-state RGB and white light generator
KR100477802B1 (ko) * 2002-05-06 2005-03-22 한국전자통신연구원 툴륨 이온 첨가 규산염 유리 및 그 용도
EP1487071B1 (de) * 2003-06-02 2006-12-20 Fujikura Ltd. Faserlaser und Verfahren zu dessen Betrieb
US7280567B2 (en) * 2004-03-12 2007-10-09 Pavilion Integration Corporation High-power red, orange, green, blue (ROGB) fiber lasers and applications thereof
US7804864B2 (en) 2004-03-31 2010-09-28 Imra America, Inc. High power short pulse fiber laser
US7298768B1 (en) 2004-11-16 2007-11-20 Np Photonics, Inc Thulium-doped heavy metal oxide glasses for 2UM lasers
JP2007165762A (ja) * 2005-12-16 2007-06-28 Central Glass Co Ltd 可視光発光材料および可視光発光装置
EP2011205A2 (de) * 2006-04-27 2009-01-07 Philips Intellectual Property & Standards GmbH Intrakavitärer aufwärtsumsetzungslaser

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3958970A (en) * 1970-02-10 1976-05-25 Auzel Francois E Method of casting fluorescent lenses
US4666486A (en) * 1985-09-24 1987-05-19 Hutta Joseph J Process for making bulk heavy metal fluoride glasses
FR2592372B1 (fr) * 1985-12-27 1992-01-24 Centre Nat Rech Scient Nouveaux verres fluores a base d'indium et leur preparation
EP0247322A3 (de) * 1986-05-27 1989-02-01 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung einer Vorform zum Ziehen von optischen Glasfasern
US4949348A (en) * 1989-08-25 1990-08-14 The United States Of America As Represented By The Department Of Energy Blue-green upconversion laser
US4967416A (en) * 1990-02-28 1990-10-30 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Thulium-doped fluorozirconate fiber laser pumped by a diode laser source
US4965803A (en) * 1990-03-30 1990-10-23 The United Stats Of America As Represented By The Scretary Of The Navy Room-temperature, laser diode-pumped, q-switched, 2 micron, thulium-doped, solid state laser

Also Published As

Publication number Publication date
NL9000532A (nl) 1991-10-01
EP0450677A1 (de) 1991-10-09
JPH04218986A (ja) 1992-08-10
KR910017702A (ko) 1991-11-05
US5067134A (en) 1991-11-19
DE69107649D1 (de) 1995-04-06
EP0450677B1 (de) 1995-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69107649T2 (de) Einrichtung zum Erzeugen von blauem Laserlicht.
DE69506689T2 (de) Laser
DE3874701T2 (de) Faserlaser und verstaerker.
DE69303857T2 (de) Optischen Faserlaser enthaltender Artikel
DE60304029T2 (de) Mit seltenen erden dotierter einmodiger phosphatglas-faserlaser
DE69801405T2 (de) Mantelgepumpte Faserlaser
DE69224690T2 (de) Sensibilisierte Er-dotierte Glasfaser als optischer Verstärker und Lichtquelle
DE69920251T2 (de) Lichtverstärkendes glas, lichtverstärkendes mediumund harzbeschichtetes lichtverstärkendes medium
DE69121794T2 (de) Optisch aktives Glas und Faserverstärker
DE69231094T2 (de) Faserlaser
DE4444844C2 (de) Glaskeramik-Materialien insbesondere für Laser und optische Verstärker, die mit Elementen der Seltenen Erden dotiert sind, und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE69206640T2 (de) Optisch aktives Glas und dieses nutzende Vorrichtung
DE1921937C3 (de) Anregungsanordnung für einen Laser
DE3781098T2 (de) Methode fuer den kontinuierlichen betrieb eines lasers.
DE1916073A1 (de) Erbium-Laser-Material
DE69718686T2 (de) Laser, optische Verstärker und Verstärkungsverfahren
DE69407400T2 (de) Optischer verstärker und laser
DE69503495T2 (de) Optischer verstärker mit dotiertem wellenleiter
DE60316929T2 (de) Festkörperlaservorrichtung mit radialem valenzdotierungsprofil
DE60106122T2 (de) Quarzglaszusammensetzung mit Lasereigenschaften, optischer Wellenreiter und Verstärkungsverfahren für optische Signale
DE69126090T2 (de) Optisch aktives Glas, optische Wellenleiterfaservorrichtung und optisch aktive Vorrichtung
DE69320657T2 (de) EIN DIODENGEPUMPTER,KONTINUIERLICH ARBEITENDER OPTISCHER EINZELMODEN-FASERLASER, der bei 976 nm emittiert
DE2908039C3 (de) Als Laser geeignetes Glas, das Alkalimetall-, Beryllium-, Aluminium- und Phosphor-Kationen und Sauerstoff- und Fluor-Anionen enthält und eine verbesserte Kombination von langer Leuchtabklingzeit, hohem Querschnitt induzierter Emission und niedrigem nicht linearem Berechnungsindex aufweist
DE1295109B (de) Stimulierbares Festkoerpermedium fuer optische Sender oder Verstaerker (Laser)
DE69120877T2 (de) Glasfaser, optischer Wellenleiter und optisch aktive Anordnung

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee